CN108885411A - 显影装置和电路基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的课题在于提供电路基板的制造方法和显影装置，在长条膜的喷淋方式的显影工序中能够消除显影不均，能够在不使用气割机的情况下防止显影液流入到清洗液槽中。一种电路基板的制造方法，依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并将显影液散布至所述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序，并且在所述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液，所述制造方法中，在设所述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时，从所述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿所述Y方向投影在XZ平面上的直线O’XZ与所述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下，连结所述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’与所述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。

Description

显影装置和电路基板的制造方法

技术领域

本发明涉及显影装置和电路基板的制造方法，例如涉及在触控面板的制造中在基材上形成规定的布线电极而制成电路基板时所使用的显影装置以及使用了该显影装置的电路基板的制造方法。

背景技术

触控面板是显示屏显示设备与触控板之类的触摸坐标检测装置组合而成的电子部件，多被组装到主要要求直观处置的设备中。具体而言，其被搭载于移动电话、平板电脑等移动终端，近年来要求触控面板的薄膜化、轻量化、窄边框化、低成本化。

在此之前，作为触控板之类的触摸坐标检测装置中使用的触控模块的基材19，采用的是具有锡掺杂氧化铟(以下记为ITO)的玻璃，但基于薄膜化、低廉化这样的客户需求，目前，具有ITO的长条的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(以下记为PET膜)成为主流。

另一方面，对于触控模块的引出布线采用了导电油墨的图案印刷方法，但该方法中引出布线的分辨率有限，因而基于窄边框化这样的客户需求，目前，使用感光性导电油墨的光刻法成为主流。

在作为该导电油墨的光刻法的制造工序之一的显影工序中，使用旋转式、浸渍式、喷淋式等各种方式。其中，在喷淋式的显影方式中，一边利用输送机等移动基材，一边将高压且大流量的显影液以喷淋状供给至基材的被处理面，因而能够连续地实施显影处理和清洗工序，具有生产率高的优点。

其中，在使用长条的PET膜的喷淋式显影方法中，如上所述将显影液散布供给至基材上，因而显影液容易在膜基材上滞留，显影液的置换效率降低，产生显影不充分的部分和显影过多的部分。另外，所滞留的显影液会流入到作为下一工序的清洗工序中，具有清洗液受到污染的问题。

作为公开了喷淋式显影装置的文献，例如有专利文献1、专利文献2。

在专利文献1中，通过在显影部的下游部分设置气割机91、并使用该气割机向基材表面喷吹空气来针对该流出采取对策。

另外，在专利文献2中，通过向倾斜状态的基材喷出显影液来进行显影、控制显影喷出量来控制显影液的滞留，由此来谋求对策。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-261013号公报

专利文献2：日本特开2009-8886号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，在专利文献1中，在实施该对策的情况下，通过对显影液喷吹空气，显影液发生干燥，使得显影液中包含的成分残留在基材上。

另外，在专利文献2的对策中，为了以倾斜状态搬运基材，需要进行显影装置的大幅改造。

本发明的课题在于提供一种显影装置和电路基板的制造方法，其能够解决这些问题，即，在长条膜的喷淋方式的显影工序中能够消除显影不均，能够在不使用气割机的情况下防止显影液向清洗液槽中的流入。

用于解决课题的手段

本发明人针对该课题进行了深入研究，结果发现，通过将显影液以特定范围的角度对基材进行散布，显影液不会在基材上滞留，产生与基材移动方向相反的方向的均匀流动，可抑制显影液流入到清洗液槽中，能够进行不存在不均的均匀的显影，从而完成了本发明。

本发明涉及一种电路基板的制造方法，依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并从上游侧将显影液散布至上述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序，并且在上述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液，该制造方法中，在设上述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时，从上述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿上述Y方向投影在XZ平面上的直线O’_XZ与上述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下，平行于上述供给管的方向的直线P’与上述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。

另外，本发明涉及一种显影装置，其是具有形成了潜像的涂膜的基材的显影装置，依次具有：具有大致水平的搬运面的基材的搬运单元、从该搬运单元的上游侧将显影液散布至上述基材上的显影单元、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗单元、以及除去液体成分的干燥单元，并且将作为上述显影单元的具有复数个散液喷嘴的显影液的供给管按照供给管的轴向大致平行于该搬运面的方式配置在搬运面的上侧，该显影装置中，上述散液喷嘴的开孔面朝向上游侧，在设上述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时，垂直于上述散液喷嘴的开孔面的方向的直线O沿上述Y方向投影在XZ平面上的直线O_XZ与上述X方向所形成的锐角侧的角度α为45°以上85°以下，平行于上述供给管的方向的直线P与上述X方向所形成的锐角侧的角度β为45°以上80°以下。

发明的效果

若使用本发明的显影装置、显影方法，则在显影时在基材上沿基材搬入口方向形成显影液的均匀流动，因而能够防止因显影液的滞留所致的显影不均、显影液向清洗液槽中的流入。

附图说明

图1是示出本发明的显影装置的一例的示意图。

图2是示出基材的搬运面与X、Y、Z方向的关系的图。

图3是示出显影液的散液喷嘴与直线P、O的关系的图。

图4是示出显影液的供给管的配置的俯视图(XY俯视图)。

图5是示出散液喷嘴的配置的侧视图(XZ俯视图)。

图6是示出散液喷嘴的配置的从搬运方向观察的图(ZY俯视图)。

图7是示出本发明中使用的显影液的散液喷嘴的开孔面的示意图。

图8是示出显影工序中的显影液的散布方向的图。

图9是示出显影工序中的显影液的散布方向的侧视图(XZ俯视图)。

图10是示出显影工序中的显影液的散布方向的侧视图(ZY俯视图)。

图11是示出显影工序中的显影液的散布状况的一例的立体图。

图12是显影工序中的显影液的散液部的xy平面投影图(XY俯视图)。

图13是比较例6的显影装置的示意图。

具体实施方式

以下参照附图对本发明的显影装置、电路基板的制造方法进行详细说明。

[显影装置的概要]

本发明的显影装置是具有形成了潜像的涂膜的基材的显影装置，是散液喷嘴沿特定方向进行配置的显影装置，该显影装置依次具有：具有大致水平的搬运面的基材的搬运单元、从该搬运单元的上游侧将显影液散布至上述基材上的显影单元、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗单元、以及除去液体成分的干燥单元，并且将作为上述显影单元的具有复数个散液喷嘴的显影液的供给管按照供给管的轴向大致平行于该搬运面的方式配置在搬运面的上侧。需要说明的是，在本说明书中，有时也将“具有形成了潜像的涂膜的基材”简记为基材。

图1是示出本发明的显影装置的一例的截面图。图1中，搬运单元由卷出辊13、卷取辊14和输送机15构成，能够将基材沿图中所示的搬运方向搬运。本发明的显影装置从搬运单元的上游侧(即卷出辊13侧)起依次具有：配置有向基材散布显影液的显影单元的显影区域10、配置有散布清洗液的清洗单元的清洗区域11、以及配置有除去液体成分的干燥单元的干燥区域12。通过采用该构成，对具有形成了潜像的涂膜的基材19连续地进行显影、清洗、干燥各处理。需要说明的是，关于各区域(显影区域10、清洗区域11、干燥区域12)，以方便的方式示出了装置中的各单元(显影单元、清洗单元、干燥单元)各自的作用所涉及的大致范围，不必具有严格的边界。

[搬运单元]

本发明的显影装置中的搬运单元是为了对具有形成了潜像的涂膜的基材连续地进行上述利用各单元(显影单元、清洗单元、干燥单元)的处理而进行搬运的单元。此处，连续搬运是指基材在上述各单元之间不停止而以相同的速度搬运基材。作为该搬运单元，可以举出例如辊式输送机、带式输送机等搬运单元，但并不特别限定于这些。

另外，该搬运单元具有大致水平的搬运面。此处，大致水平定义为包含以水平为中心倾斜±10°的范围。

另外，搬运面是使基材移动的搬运单元的上表面，例如在辊式输送机中为辊的上部接触面。

利用该搬运单元，具有形成了潜像的涂膜的基材被连续搬运至配置有将显影液散布至基材上的显影单元的显影区域10、配置有散布清洗液的清洗单元的清洗区域11、配置有除去液体成分的干燥单元的干燥区域12，实施显影、清洗、干燥各处理。

[X、Y以及Z各方向]

接着，对本发明的显影装置的显影区域中的显影液的供给管和散液喷嘴进行说明，在说明时，如图2所示，将上述基材的搬运方向定义为X方向、将铅直方向定义为Z方向、将机宽方向定义为Y方向，使用这些方向和以它们为坐标所定义的平面(例如图4～6和图8～12)来表示散液喷嘴的方向和上述喷嘴的散液孔等的配置方向。

[显影液的供给管的配置]

在本发明的显影装置中，在上述显影区域中，将作为显影单元的具有复数个散液喷嘴的显影液的供给管按照供给管的轴向大致平行于该搬运面的方式配置在搬运面的上侧。具体而言，例如，在图1中的显影区域10中，将图3所示的具有复数个散液喷嘴16的显影液的供给管20按照与显影液的供给管20的轴向平行的直线P大致平行于搬运面的方式配置在搬运面(图1中与基材19的面重叠)的上侧。此处，大致平行表示以平行面为基准向任意方向倾斜±5°以内的范围。通过按照与显影液的供给管20的轴向平行的直线P大致平行于搬运面的方式进行配置，能够使基材与散液喷嘴间的距离恒定而进行均匀的散液。在图3中，将散液喷嘴16以从显影液的供给管20分支并突出的形态进行了记述，但不一定需要从显影液的供给管20突出，也可以按照能够朝向规定方向散液的方式在显影液的供液管20本身上形成散液孔。另外，关于散液喷嘴的数量，在图3中示出了为3个的示例，但也可以根据显影的宽度适当设定，根据显影液辐射区71的尺寸和形状，按照显影液在显影的宽度方向上均匀地供给的方式进行设定。

图4是示出本发明的显影装置的显影区域中的显影液的供给管20的配置的俯视图(XY俯视图)。如图4所示，显影液的供给管20按照与显影液的供给管20的轴向平行的直线P相对于基材19的搬运方向(X方向)交叉的方式进行配置。需要说明的是，图4是为了说明供给管的方向，因而未图示出散液喷嘴。此处，在设直线P与上述X方向所形成的锐角侧的角度为β时，按照角度β为45°以上80°以下的方式配置显影液的供给管20。β若小于45°，则在基材19的宽度方向上发生显影液的散液不均，由此产生显影不均；另一方面，β若大于80°，则由同一显影液的供给管20中相邻的散液喷嘴16供给的显影液的流动互相干扰，显影液在基材19上滞留，发生显影不均。基于这些理由，上述X方向与上述直线P所形成的锐角侧的角度β优选为45°以上80°以下的范围。

[散液喷嘴的配置]

在本发明的显影装置中，上述散液喷嘴的开孔面朝向上游侧。通过使上述散液喷嘴的开孔面朝向上游侧，形成显影液向上游方向的流动，能够防止显影液流入到清洗液槽中。

另外，在设垂直于上述散液喷嘴的开孔面的方向的直线为直线O时，垂直于上述散液喷嘴的开孔面的方向的直线O沿上述Y方向投影在XZ平面上的直线O_XZ与上述X方向所形成的锐角侧的角度α为45°以上85°以下。

此处，如图3所示，垂直于散液喷嘴的开孔面的方向的直线O与喷嘴的散布方向相对应。

图5是示出本发明的显影装置的显影区域中的散液喷嘴16的配置的侧视图(XZ俯视图)。需要说明的是，图5中，对于散液喷嘴16，仅图示出了显影液的各供给管中最靠前的1个散液喷嘴。如图5所示，垂直于散液喷嘴的开孔面的方向的直线O沿上述Y方向投影在XZ平面上的直线O_XZ与上述X方向所形成的锐角侧的角度α为45°以上85°以下的范围。α若小于45°，则被散布的显影液的打压减小，不能很好地进行涂布膜的溶解、除去，会产生残渣。另一方面，α若大于85°，则显影液滞留在基材19上，显影液流入到作为下一工序的清洗工序中，会污染清洗液，因而上述X方向与上述直线O_XZ所形成的锐角侧的角度α优选为45°以上80°以下的范围，为了防止显影液流入到清洗工序中，该角度α更优选为75°以下。

另外，上述直线O沿上述X轴方向投影在ZY平面上的直线O_ZY与上述Y方向所形成的锐角侧的角度γ优选为60°以上且小于90°。

图6是从搬运方向对本发明的显影装置的显影区域中的散液喷嘴16进行观察的图(ZY俯视图)。需要说明的是，图6中，仅图示出了1根显影液的供给管20。如图6所示，通过使直线O沿上述X轴方向投影在ZY平面上的直线O_ZY与上述Y方向所形成的锐角侧的角度γ倾斜至60°以上且小于90°，可消除显影液在基材上的滞留、在基材宽度方向上产生显影液的流动，由此能够改善显影液的新液更换效率、能够实施更均匀的显影，因而优选。另一方面，若γ小于60°，则被散布的显影液的打压减小，不能很好地进行涂布膜的溶解、除去，有时会产生残渣；若γ为90°，则不能形成显影液向上游方向的流动，显影液有时会流入到清洗液槽中，因而优选直线O沿上述X轴方向投影在ZY平面上的直线O_ZY与上述Y方向所形成的锐角侧的角度γ为60°以上且小于90°的范围。

[喷嘴的散液孔的详细情况]

图7是示出本发明中使用的显影液的散液喷嘴的开孔面的示意图。对上述喷嘴的散液孔的形状没有特别限定，如图7所示，为了提高显影效率，优选为扁平形状、更优选为椭圆形状。另外，该散液孔的长径R沿上述Z方向投影在XY平面上的直线R_XY与上述X方向所形成的锐角侧的角度λ优选为5°～90°。此处的长径为通过与散液孔外接的面积最小的长方形的重心且平行于长边的线段。另外，角度β和λ更优选为-10<β-λ<10的范围。通过将显影液的散液角度λ相对于供给管的配置角度β设定为-10<β-λ<10，显影液不会滞留在基材19上而形成均匀的流动，能够实施无显影不均的更均匀的显影。

[清洗区域、干燥区域]

在清洗区域11中配置有散布清洗液对基材19上的显影液进行稀释的清洗单元，其目的在于将残留在基材上的显影液成分稀释到几乎不存在的程度。需要说明的是，显影液成分几乎不存在的程度是指显影液成分的浓度为0.05质量％以下，更优选为0.01质量％以下。为此，在清洗区域11中，作为清洗单元，为了向基材19供给清洗液，在基材19上部设置具有复数个散液喷嘴16的清洗液的供给管21，通过从清洗液喷嘴17散布清洗液，对残留在基材19上的显影液进行稀释。作为此时使用的清洗液没有特别限定，例如，从清洗性或成本方面、环境方面出发，纯水是最佳的，但也可以使用电解离子水、臭氧溶解液等特殊功能加工水等。

在干燥区域12中配置除去液体成分的干燥单元。对干燥单元没有特别限定，例如可以使用通过利用干燥风机18等喷吹空气而除去液体的方式或利用热风使液体成分干燥的干燥单元等。

[卷出辊、卷取辊]

对基材19的材质没有特别限定，可以使用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(以下称为“PET膜”)、聚酰亚胺膜、聚酯膜、芳族聚酰胺膜等，其中，从成本方面出发，优选使用PET膜。

另外，关于基材19的形态，从生产率的方面出发，优选不是单片而是连续的膜，更优选使用长条膜。

优选在上述显影单元的上游具备卷出辊、在干燥单元的下游具备卷取辊。这是由于，通过采用该构成，能够应用长条的膜，以所谓的辊对辊(RtoR)(连续地进行从辊卷出-一系列的处理-卷取到辊上)方式进行处理。

[电路基板的制造方法]

本发明的电路基板的制造方法依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并将显影液散布至上述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序，并且在显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液，该制造方法中，

在设上述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时，

从上述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿上述Y方向投影在XZ平面上的直线O’_XZ与上述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下，

连结上述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’与上述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。

为了在该条件下散布显影液，优选使用例如图1所示那样的显影装置，在该显影装置中，从显影液的供给管20所具备的复数个散液喷嘴16散布显影液，该显影液的供给管20在基材的搬运面的上侧按照供给管的轴向大致平行于该搬运面的方式配置有复数个。

[直线O’、R’等的定义]

使用图2对本发明的电路基板的制造方法中的显影工序的基材19、输送机15、供给管20、散液喷嘴16的配置状况进行说明。如图2所示，将基材19的搬运方向定义为X方向、将铅直方向定义为Z方向、将机宽方向定义为Y方向。即，与X方向和Z方向呈直角的方向为Y方向。

另外，如图3、图8所示，将连结上述散液喷嘴的一系列散液孔的直线定义为P’、将从上述散液喷嘴散布的显影液的散布方向定义为O’，如图9所示，将直线O’投影在XZ平面上的直线定义为O’_XZ，如图10所示，将直线O’投影在ZY平面上的直线定义为O’_ZY，如图12所示，将显影液的散液部的长径定义为R’_XY。此处，连结上述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’的含义表示从散液喷嘴散布的显影液的散液源、即作为散液距离的起点的位置的排列，通常，平行于供给管的直线P与直线P’是平行的。

[显影液的散布方向]

在显影工序中，优选使用下述装置进行显影，该装置在搬运面的上侧按照供给管的轴向大致平行于该搬运面的方式配置复数个显影液的供给管20，该显影液的供给管20具有用于将显影液供给至基材19上的复数个散液喷嘴16，直线P与直线P’平行。图4是示出本发明的电路基板的制造方法的显影工序中的显影液的供给管的配置的俯视图(XY俯视图)。需要说明的是，如上所述，在图4中省略了散液喷嘴，本说明是基于直线P与直线P’平行的示例进行的说明。另外，在本说明中，将图4中的P换称作P’、将β换称作β’。如图4所示，显影液按照下述方式进行散布：设置有未图示的散液喷嘴的显影液的供给管的平行方向即上述直线P(即，相当于直线P’)与上述X方向所形成的锐角侧的角度β(即，相当于β’)为45°以上80°以下。若β’小于45°，则在显影液的基材19的宽度方向上发生散液不均，由此产生显影不均；另一方面，若β’大于80°，则相邻的显影液彼此的流动相互干扰，显影液滞留在基材19上而发生显影不均。因此，上述X方向与上述直线P所形成的锐角侧的角度β优选为45°以上80°以下的范围。

图9是示出本发明的电路基板的制造方法的显影工序中的显影液的散布方向的侧视图(XZ俯视图)。如图9所示，散布方向的直线O’沿上述Y方向投影在XZ平面上的直线O’_XZ与上述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下的范围，上述直线O’_XZ以散液孔作为起点位于上游侧。α’若小于45°，则被散布的显影液的打压减小，不能很好地进行涂布膜的溶解、除去，会产生残渣。另一方面，α’若大于85°，则显影液滞留在基材19上，显影液流入到作为下一工序的清洗工序中，会污染清洗液，因而上述X方向与上述直线O’_XZ所形成的锐角侧的角度α’优选为45°以上80°以下的范围。

图10是示出本发明的电路基板的制造方法的显影工序中的显影液的散布方向的侧视图(XZ俯视图)。如图10所示，通过使直线O’沿上述X轴方向投影在ZY平面上的直线O’_ZY与上述Y方向所形成的锐角侧的角度γ’倾斜至60°以上且小于90°，可消除显影液在基材上的滞留、在基材宽度方向上产生显影液的流动，由此能够改善显影液的新液更换效率、能够实施均匀的显影。另一方面，若γ’小于60°，则被散布的显影液的打压减小，不能很好地进行涂布膜的溶解、除去，会产生残渣，因而直线O’沿上述X轴方向投影在ZY平面上的直线O’_ZY与上述Y方向所形成的锐角侧的角度γ’优选为60°以上且小于90°的范围。

[显影液的散液部的形状]

图11是示出本发明的电路基板的制造方法的显影工序中的显影液的散液状况的一例的立体图，图12是显影液的散液部的俯视图(XY俯视图)。对上述显影液的散液部的形状没有特别限定，为了提高显影效率，优选扁平形状，如图12所示，更优选椭圆形状。另外，设散液部的长径为R’_XY时，直线R’_XY与上述X方向所形成的锐角侧的角度λ’优选为5°～90°。此处的长径为通过与散液部外接的面积最小的长方形的重心且平行于长边的线段。另外，角度β’和λ’更优选为-10<β’-λ’<10的范围。通过将显影液的散液角度λ’相对于连结上述散液喷嘴的一系列的散液孔的直线P’投影在XY平面上的角度β’设定为-10<β’-λ’<10，显影液不会滞留在基材19上而形成更均匀的流动，能够实施无显影不均的更均匀的显影。

[显影液散液量]

对于从散液喷嘴16散布的显影液的散液量没有特别限定，优选为0.2～5L/分钟的范围、更优选为0.4～1.0L/分钟的范围。这是由于，从散液喷嘴16散布的散液量若少于0.2L/分钟，则在基材19上不进行显影液的更换、有时会发生显影不均；另一方面，该散液量若多于5L/分钟，则有时因被散布的显影液的打压而使图案剥离。

[搬运速度]

对于基材19的搬运速度没有特别限定，优选为0.5～7m/分钟、更优选为2～5m/分钟的范围。这是由于，基材19的搬运速度若高于7m/分钟，则显影液暴露时间变短，有时在图案间发生残留；该搬运速度若低于0.5m/分钟，则显影液暴露时间变长，有时发生图案剥离。

[显影液的种类]

在形成了潜像的涂膜是通过对负型感光性树脂组合物进行曝光而形成了图案的潜像的情况下，作为显影工序中使用的显影液，优选碱性显影液。作为该显影液，可以举出例如四甲基氢氧化铵、二乙醇胺、二乙基氨基乙醇、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、三乙胺、二乙胺、甲胺、二甲胺、二甲氨基乙基乙酸酯、二甲氨基乙醇、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、环己胺、乙二胺或1,6-己二胺的水溶液，也可以在这些水溶液中添加N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜或γ-丁内酯等极性溶剂、甲醇、乙醇或异丙醇等醇类、乳酸乙酯或丙二醇单甲醚乙酸酯等酯类、环戊酮、环己酮、异丁基酮或甲基异丁基酮等酮类或者表面活性剂。作为进行有机显影的情况下的显影液，可以使用例如N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙酰基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜或六甲基磷酰三胺等极性溶剂、或者这些极性溶剂与甲醇、乙醇、异丙醇、二甲苯、水、甲基卡必醇或乙基卡必醇的混合溶液，从通用性、显影能力的稳定性的方面出发，更优选使用碳酸钠。

[辊对辊方式]

对基材19的材质没有特别限定，可以使用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(以下称为“PET膜”)、聚酰亚胺膜、聚酯膜、芳族聚酰胺膜等，其中优选使用PET膜。

另外，关于基材19的形态，从生产率的方面出发，优选使用长条膜，更优选使用长条膜。这种情况下，优选利用所谓的辊对辊方式(RtoR方式)进行处理，在该辊对辊方式中，从卷出辊将长条膜供给到显影工序中，卷出并进行显影处理，在清洗处理、干燥处理后，卷绕到卷取辊上。

[涂膜]

在本发明中，在形成了潜像的涂膜是通过对负型感光性树脂组合物进行曝光而形成了图案的潜像的情况下，作为所使用的负型感光性树脂组合物，优选使用含有(a)导电性颗粒、(b)具有羧基的感光性化合物以及(c)光聚合引发剂的负型感光性树脂组合物。

作为导电性颗粒(a)，可以举出银(以下称为“Ag”)、金(以下称为“Au”)、铜、铂、铅、锡、镍、铝、钨、钼、铬、钛或铟或者这些金属的合金，从导电性的方面出发，优选Ag、Au或铜，从成本和稳定性的方面出发，更优选Ag。

导电性颗粒的体积平均粒径优选为0.1～10μm、更优选为0.5～6μm。体积平均粒径为0.1μm以上时，熟化工序中的导电性颗粒(a)彼此的接触概率提高，所制造的导电图案的电阻率和断路概率降低。此外，在曝光工序中，曝光光能够顺利地在涂布负型感光性树脂组合物而得到的涂膜中透过，容易形成微细图案。另一方面，体积平均粒径为10μm以下时，所制造的导电图案的表面平滑度、图案精度和尺寸精度提高。需要说明的是，导电性颗粒(a)的体积平均粒径可以通过库尔特计数器法进行测定。

导电性颗粒的含量相对于负型感光性树脂组合物中的总固体成分优选为60～95质量％。导电性颗粒相对于总固体成分的含量为60质量％以上时，熟化时的导电性颗粒(a)彼此的接触概率提高，所制造的导电图案的电阻率和断路概率降低。另一方面，导电性颗粒相对于总固体成分的含量为95质量％以下时，在曝光工序中，曝光光能够顺利地在涂布负型感光性树脂组合物而得到的涂布膜中透过，容易形成微细的图案。此处的总固体成分是指除溶剂以外的负型感光性树脂组合物的全部构成成分。

作为具有羧基的感光性化合物(b)，包括在分子内具有聚合性不饱和基团的单体、低聚物或聚合物。

可以举出例如苯乙烯、对甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯或羟甲基苯乙烯等苯乙烯类、丙烯酸系单体、1-乙烯基-2-吡咯烷酮、丙烯酸系共聚物或者环氧羧酸酯化合物。

作为丙烯酸系单体，可以举出例如丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸缩水甘油酯、丁氧基三乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸双环戊酯、丙烯酸双环戊烯酯、丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、丙烯酸异癸酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸-2-甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸八氟戊酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸三氟乙酯、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸-1-萘酯、丙烯酸-2-萘酯、苯硫酚丙烯酸酯或苄硫醇丙烯酸酯、烯丙基化环己基二丙烯酸酯、甲氧基化环己基二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯或三甘油二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯或二季戊四醇六丙烯酸酯、丙烯酰胺、N-甲氧基甲基丙烯酰胺、N-乙氧基甲基丙烯酰胺、N-正丁氧基甲基丙烯酰胺或N-异丁氧基甲基丙烯酰胺、将环氧基用不饱和酸开环而成的具有羟基的乙二醇二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、二乙二醇二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、新戊二醇二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、甘油二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、双酚A二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、双酚F的丙烯酸加成物或甲酚线型酚醛的丙烯酸加成物等环氧丙烯酸酯单体或者γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、或者将上述化合物的丙烯酰基置换成甲基丙烯酰基而成的化合物。

丙烯酸系共聚物是指在所使用的单体即共聚成分中包含丙烯酸系单体的共聚物。

具有羧基的碱溶性丙烯酸系共聚物通过使用不饱和羧酸等不饱和酸作为单体而得到。作为不饱和酸，可以举出例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、马来酸、富马酸或乙酸乙烯酯或者它们的酸酐。可以通过所使用的不饱和酸的多少来调整所得到的丙烯酸系共聚物的酸值。

另外，通过使上述丙烯酸系共聚物所具有的羧基与(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等具有不饱和双键的化合物发生反应，可得到在侧链中具有反应性不饱和双键的碱溶性丙烯酸系共聚物。

环氧羧酸酯化合物是指可以将环氧化合物和具有不饱和双键的羧基化合物作为起始原料而合成的化合物。作为可用作起始原料的环氧化合物，可以举出例如缩水甘油醚类、脂环式环氧树脂、缩水甘油酯类、缩水甘油胺类或者环氧树脂，更具体而言，可以举出甲基缩水甘油醚、乙基缩水甘油醚、丁基缩水甘油醚、乙二醇二缩水甘油醚、二乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、三丙二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、双酚芴二缩水甘油醚、联苯酚二缩水甘油醚、四甲基联苯酚缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、3’,4’-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己基羧酸酯或者叔丁基缩水甘油胺。另外，作为具有不饱和双键的羧基化合物，可以举出例如(甲基)丙烯酸、丁烯酸、肉桂酸或α-氰基肉桂酸。

可以使环氧羧酸酯化合物与多元酸酐反应来调整环氧羧酸酯化合物的酸值。作为多元酸酐，可以举出例如琥珀酸酐、邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、衣康酸酐、3-甲基四氢邻苯二甲酸酐、4-甲基-六氢邻苯二甲酸酐、偏苯三酸酐或马来酸酐。

可以通过使与上述多元酸酐反应后的环氧羧酸酯化合物所具有的羧基和(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等具有不饱和双键的化合物发生反应来调整环氧羧酸酯化合物所具有的反应性不饱和双键的量。

可以通过使环氧羧酸酯化合物所具有的羟基与二异氰酸酯化合物发生反应来进行氨基甲酸酯化。作为二异氰酸酯化合物，可以举出例如六亚甲基二异氰酸酯、四甲基二甲苯二异氰酸酯、萘-1,5-二异氰酸酯、联甲苯胺二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、烯丙基腈二异氰酸酯或降莰烷二异氰酸酯。

为了使碱溶性达到最佳，具有羧基的感光性化合物(b)的酸值优选为30～250mgKOH/g。酸值若小于30mgKOH/g，则有时可溶部分的溶解性降低。另一方面，酸值若超过250mgKOH/g，则有时显影容许宽度变窄。需要说明的是，含羧基化合物(B)的酸值可以根据JIS K 0070:1992进行测定。

本发明中，在形成了潜像的涂膜是通过对负型感光性树脂组合物进行曝光而形成了图案的潜像的情况下，所使用的负型感光性树脂组合物含有在分子内具有聚合性不饱和基团的单体、低聚物或聚合物，但由于这些成分均不具有吸收活性光线能量的能力，因而为了进行光固化，需要使用光聚合引发剂(c)。光聚合引发剂(c)根据光固化所使用的光源进行选择，可以使用光自由基聚合引发剂、光阳离子聚合引发剂等。

作为光聚合引发剂(c)，可以举出例如1,2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰肟)]、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦、乙酮-1-[9-乙基-6-2(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙酰肟)、二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4,4’-双(二甲氨基)二苯甲酮、4,4’-双(二乙氨基)二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、4-苯甲酰基-4’-甲基二苯基甲酮、二苄基酮、芴酮、2,2’-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、苯偶酰、苯偶酰二甲基缩酮、苯偶酰-β-甲氧基乙基乙缩醛、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻丁醚、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-戊基蒽醌、β-氯蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并环庚酮、亚甲基蒽酮、4-叠氮苯亚甲基苯乙酮、2,6-双(对叠氮亚苄基)环己酮、6-双(对叠氮亚苄基)-4-甲基环己酮、1-苯基-1,2-丁二酮-2-(O-甲氧基羰基)肟、1-苯基丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、1-苯基丙二酮-2-(O-苯甲酰基)肟、1,3-二苯基丙三酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、1-苯基-3-乙氧基丙三酮-2-(O-苯甲酰基)肟、米希勒酮、2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-1-丙酮、萘磺酰氯、喹啉磺酰氯、N-苯基硫代吖啶酮、4,4’-偶氮二异丁腈、二苯二硫醚、苯并噻唑二硫醚、三苯基膦、樟脑醌、2,4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、四溴化碳、三溴苯砜、过氧化苯偶姻、曙红或亚甲基蓝等光还原性色素与抗坏血酸或三乙醇胺等还原剂的组合，优选光敏度高的肟酯系化合物。

相对于具有羧基的感光性化合物(b)100质量份，光聚合引发剂(c)的含量优选为0.05～30质量份。光聚合引发剂(c)相对于具有羧基的感光性化合物(b)100质量份的含量为0.05质量份以上时，曝光部的固化密度增加，能够提高显影后的残膜率。另一方面，光聚合引发剂(c)相对于具有羧基的感光性化合物(b)100质量份的含量为30质量份以下时，可抑制涂布负型感光性树脂组合物而得到的涂布膜上部的、因光聚合引发剂(c)所致的过量的光吸收。其结果，可抑制由于所制造的导电图案呈倒锥形状而导致的与基材的密合性降低。

在本发明中，在形成了潜像的涂膜是通过对负型感光性树脂组合物进行曝光而形成了图案的潜像的情况下，所使用的负型感光性树脂组合物中可以与光聚合引发剂(c)一起含有增敏剂。

作为增敏剂，可以举出例如2,4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,3-双(4-二乙基氨基苯亚甲基)环戊酮、2,6-双(4-二甲氨基苯亚甲基)环己酮、2,6-双(4-二甲氨基苯亚甲基)-4-甲基环己酮、米希勒酮、4,4-双(二乙氨基)二苯甲酮、4,4-双(二甲氨基)查耳酮、4,4-双(二乙基氨基)查耳酮、对二甲氨基亚肉桂基茚满酮、对二甲氨基亚苄基茚满酮、2-(对二甲氨基苯基亚乙烯基)异萘并噻唑、1,3-双(4-二甲氨基苯基亚乙烯基)异萘并噻唑、1,3-双(4-二甲氨基苯亚甲基)丙酮、1,3-羰基双(4-二乙氨基苯亚甲基)丙酮、3,3-羰基双(7-二乙氨基香豆素)、N-苯基-N-乙基乙醇胺、N-苯基乙醇胺、N-甲苯基二乙醇胺、二甲氨基苯甲酸异戊酯、二乙氨基苯甲酸异戊酯、3-苯基-5-苯甲酰基噻四唑或1-苯基-5-乙氧基羰基噻四唑。

相对于具有羧基的感光性化合物(b)100质量份，增敏剂的含量优选为0.05～10质量份。增敏剂相对于具有羧基的感光性化合物(b)100质量份的含量为0.05质量份以上时，光敏度提高。另一方面，增敏剂相对于具有羧基的感光性化合物(b)100质量份的含量为10质量份以下时，可抑制涂布负型感光性树脂组合物而得到的涂布膜上部的过量的光吸收。其结果，可抑制由于所制造的导电图案呈倒锥形状而导致的与基材的密合性降低。

在本发明中，在形成了潜像的涂膜是通过对负型感光性树脂组合物进行曝光而形成了图案的潜像的情况下，所使用的负型感光性树脂组合物优选含有有机溶剂。作为溶剂，可以举出例如N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基咪唑啉酮、二甲基亚砜、γ-丁内酯、乳酸乙酯、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、乙二醇单正丙醚、二丙酮醇、四氢糠醇、丙二醇单甲醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚乙酸酯(以下称为“DMEA”)、二乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚乙酸酯、三乙二醇二甲醚或者2,2,4,-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯，优选沸点为150℃以上的溶剂。沸点为150℃以上时，溶剂的挥发受到抑制，能够抑制负型感光性树脂组合物的增稠。

在本发明中，在形成了潜像的涂膜是通过对负型感光性树脂组合物进行曝光而形成了图案的潜像的情况下，所使用的负型感光性树脂组合物可以在无损于其所期望的特性的范围内含有在分子内不具有不饱和双键的非感光性聚合物或者增塑剂、流平剂、表面活性剂、硅烷偶联剂、消泡剂或颜料等添加剂。

作为上述非感光性聚合物，可以举出例如环氧树脂、酚醛清漆树脂、酚树脂、聚酰亚胺前体或已闭环的聚酰亚胺。

作为增塑剂，可以举出例如邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二辛酯、聚乙二醇或甘油。

作为流平剂，可以举出例如特殊乙烯基系聚合物或特殊丙烯酸系聚合物。

作为硅烷偶联剂，可以举出例如甲基三甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷或乙烯基三甲氧基硅烷。

[实施例]

下面对本发明的实施例进行说明，但本发明并不受这些实施例的限定。

(实施例1)

在具备搅拌装置、温度计的三口烧瓶中称量在50℃真空干燥48小时后的粘结剂聚合物(根上工业公司制造TR-2500)60g、二乙二醇单丁醚乙酸酯100g，在60℃进行加热溶解。将烧瓶冷却至30℃，加入丙烯酸异辛酯5g、二季戊四醇六丙烯酸酯25g、1,6-己二醇双[(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]0.1g、1-羟基环己基苯基甲酮5g、分散剂(共荣社化学公司制造，“Flowlen(注册商标)”G-700DMEA)2g，搅拌2小时。将所得到的有机成分120g与通过湿式还原法制造的平均粒径为1.19μm、比表面积为1.12m²/g、振实密度为4.8g/cm³的Ag粉末用三辊磨机进行混炼，得到了负型感光性树脂组合物。

使用聚酯制丝网将该负型感光性树脂组合物在辊上的PET膜基材19(宽500mm、厚200um)上均匀地涂布成8μm的厚度，之后用箱式烘炉于100℃加热10分钟使其干燥。干燥后，使用具有所期望的条纹状图案(间距40μm、线宽25μm)的光掩模以400mJ/cm²(按波长365nm换算)的曝光量进行曝光。之后，在显影工序中利用图1所示的显影装置进行显影处理，除去未发生光固化的间隔部分的涂布膜，形成条纹状的图案。

如图1所示，该实施例的显影装置中具有：用于将涂布了负型感光性树脂组合物并进行了曝光的、卷成卷状的基材19卷出的卷出辊13；用于散布显影液的复数个散液喷嘴16；配置有具备用于回收散布后的显影液的显影槽的显影单元的显影区域10；用于散布清洗液(纯水)而对显影液进行稀释的复数个清洗液喷嘴17；配置有具备用于回收散液后的清洗液的清洗槽的清洗单元的清洗区域11；去除残留在膜上的液体成分而进行干燥的干燥区域12；将进行显影处理后的膜卷取成卷状的膜卷取辊14，利用从上述各部通过而设置的输送机15将宽20cm的基材19以4m/分钟的速度搬运而进行显影。在显影区域中，作为显影单元，配置有总计18个用于散布显影液的显影液散液喷嘴16。具体而言，如图3所示(图示的喷嘴数与实施例中的数量不同)，每1根显影液的供给管20以5cm间隔设置各6个显影液的散液喷嘴，将该显影液的供给管20如图4所示配置3列。此处，按照平行于该显影液的供给管的直线P(以及连结散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’)与x轴所形成的角度β(以及β’)为70°的方式进行配置。另外，如图5、图6所示，该显影液的散液喷嘴16在X方向、Y方向具有倾斜，按照垂直于开孔面的方向的直线O(以及与其相对应的显影液的散布方向O’)与X轴所形成的角度α(以及α’)为70°、与Y轴所形成的角度γ(以及γ’)为80°的方式进行调整。另外，所设置的显影液的散液喷嘴16的喷嘴的散液孔为椭圆形状，从散液喷嘴16喷出的显影液的散液部的形状呈椭圆状进行散布。另外，将显影液的散液喷嘴16按照沿该散液部的长度方向连结的直线R与Y轴所形成的锐角侧的角度λ(以及λ’)为70°的方式进行设置。作为显影液，使用保持于30℃的碳酸钠的0.2质量％水溶液，将显影液从各显影液的散液喷嘴16中以2L/分钟的散液量散布至膜上，溶解、除去未发生光固化的间隔部分的涂布膜。在显影区域中散布至基材19上的显影液不会流入到清洗区域方向，而是被回收到显影部内的显影槽中。接着，在清洗区域中，通过从清洗液喷嘴17中散布纯水而将基材19上的显影液稀释、除去，对基材19进行清洗，在干燥区域中，对基材19实施热处理，使清洗液干燥。将显影后的图案用箱式烘炉在140℃实施60分钟热处理，形成了导电图案。

(实施例2)

在实施例1中，将搬运速度设定为7.5m/分钟，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(实施例3)

在实施例1中，将搬运速度设定为0.2m/分钟，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(实施例4)

在实施例1中，将从各显影液的散液喷嘴16散布的散液量设定为0.1L/分钟，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(实施例5)

在实施例1中，将从各显影液的散液喷嘴16散布的散液量设定为6.0L/分钟，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(实施例6)

在实施例1中，将γ(以及γ’)的角度设定为45°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(实施例7)

在实施例1中，将γ(以及γ’)的角度设定为90°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(实施例8)

在实施例1中，将λ(以及λ’)的角度设定为40°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(实施例9)

在实施例1中，将α(以及α’)的角度设定为45°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(实施例10)

在实施例1中，将α(以及α’)的角度设定为80°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(比较例1)

在实施例1中，将α(以及α’)的角度设定为90°、β(以及β’)的角度设定为90°、γ(以及γ’)的角度设定为90°、λ(以及λ’)的角度设定为90°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(比较例2)

在实施例1中，将α(以及α’)的角度设定为30°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(比较例3)

在实施例1中，将α(以及α’)的角度设定为90°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(比较例4)

在实施例1中，将β(以及β’)的角度设定为30°、λ(以及λ’)的角度设定为30°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(比较例5)

在实施例1中，将β(以及β’)的角度设定为90°、λ(以及λ’)的角度设定为90°，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(比较例6)

在实施例1中，按照使γ(以及γ’)为90°、λ(以及λ’)为90°的方式朝向下游方向设置/配置显影液的散液喷嘴16，如图13所示在显影区域与清洗区域之间设置用于防止显影液向清洗区域流入的气割机91，除此以外的条件与实施例1同样地进行导电图案的制作。

(评价方法)

利用光学显微镜(VHX-500)对如上述实施例、比较例所示得到的导电图案进行确认，以残渣、图案剥离、布线的直线性为基准进行评价。将无残渣、无剥离、图案的直线性也良好的情况评价为“A”，将无残渣、无剥离、但图案的直线性稍微变差的情况评价为“B”，将产生了残渣或剥离的情况评价为“C”。将其结果示于表1。

另外，在实施了相当于20张板的显影处理后，使用PH测定仪测定在清洗工序中使用的纯水的PH，由此进行显影液的流入程度的评价。将PH≤7.8的情况评价为“A”，将7.8<PH≤8.0的情况评价为“B”，将PH>8.0的情况评价为“C”。将其结果示于表1。

符号的说明

10 显影区域

11 清洗区域

12 干燥区域

13 卷出辊

14 卷取辊

15 输送机

16 散液喷嘴

17 清洗液喷嘴

18 干燥风机

19 基材

20 显影液的供给管

21 清洗液的供给管

71 显影液辐射区

91 气割机

Claims (13)

1.一种电路基板的制造方法，依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并将显影液散布至所述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序，并且在所述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液，所述制造方法中，

在设所述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时，从所述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿所述Y方向投影在XZ平面上的直线O’XZ与所述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下，连结所述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’与所述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。

2.如权利要求1所述的电路基板的制造方法，其中，所述直线O’沿所述X轴方向投影在ZY平面上的直线O’ZY与所述Y方向所形成的锐角侧的角度γ’为60°以上且小于90°。

3.如权利要求1或2所述的电路基板的制造方法，其中，所述显影液的散液部的长径R’XY与所述X方向所形成的锐角侧的角度λ为5°以上且小于90°。

4.如权利要求1～3中任一项所述的电路基板的制造方法，其中，所述基材为膜，在设该膜的搬运方向的长度为A、将所述复数个喷嘴的散液孔的重心彼此连结的X方向的最大宽度为B时，满足1<A/B的关系。

5.如权利要求1～3中任一项所述的电路基板的制造方法，其中，将所述基材以辊对辊方式进行搬运。

6.如权利要求1～5中任一项所述的电路基板的制造方法，其中，每个所述散液喷嘴的显影液的散液量为0.2L/分钟～5L/分钟。

7.如权利要求1～6中任一项所述的电路基板的制造方法，其中，将所述基材进行搬运的速度为0.5m/分钟～7m/分钟。

8.如权利要求1～7中任一项所述的电路基板的制造方法，其中，所述显影液为碱性显影液，所述涂膜是将负型感光性树脂组合物通过曝光在涂布膜上实施图案形成而成的。

9.如权利要求8所述的电路基板的制造方法，其中，所述负型感光性树脂组合物含有(a)导电性颗粒、(b)具有羧基的感光性化合物、以及(c)光聚合引发剂。

10.一种显影装置，其是具有形成了潜像的涂膜的基材的显影装置，依次具有：具有大致水平的搬运面的基材的搬运单元、从该搬运单元的上游侧将显影液散布至所述基材上的显影单元、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗单元、以及除去液体成分的干燥单元，并且将作为所述显影单元的具有复数个散液喷嘴的显影液的供给管按照供给管的轴向大致平行于该搬运面的方式配置在搬运面的上侧，所述显影装置中，

所述散液喷嘴的开孔面朝向上游侧，在设所述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时，垂直于所述散液喷嘴的开孔面的方向的直线O沿所述Y方向投影在XZ平面上的直线OXZ与所述X方向所形成的锐角侧的角度α为45°以上85°以下，平行于所述供给管的直线P与所述X方向所形成的锐角侧的角度β为45°以上80°以下。

11.如权利要求10所述的显影装置，其中，所述直线O沿所述X轴方向投影在ZY平面上的直线OZY与所述Y方向所形成的锐角侧的角度γ为60°以上且小于90°。

12.如权利要求10或11所述的显影装置，其中，所述喷嘴的散液孔为椭圆形，该散液孔的长径R沿所述Z方向投影在XY平面上的直线RXY与所述X方向所形成的锐角侧的角度λ为5°～90°。

13.如权利要求10～12中任一项所述的显影装置，其中，具备在所述显影单元的上游的卷出辊、以及在干燥单元的下游的卷取辊。