CN108878317B - 一种激光退火装置和方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种激光退火装置和方法，该装置包括：腔室、镜片、移动结构以及固定结构，其中：腔室设置有开口；固定结构位于开口的边缘，且固定在腔室上；镜片固定在移动结构上，且位于开口上方；移动结构固定在固定结构上，且移动结构与固定结构的固定位置可调，使得镜片相对于开口的位置可调。在对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火时，如果激光透过镜片的位置处产生痕迹或损坏，那么，可以通过改变移动结构与固定结构的固定位置，改变镜片的位置，使得激光可以透过镜片中没有被破坏的部分，这样，在保证照射至非晶硅膜层上激光的均匀性，进而保证激光退火工艺效果的情况下，可以无需更换镜片，相较于现有技术，可以增加镜片的使用寿命。

Description

一种激光退火装置和方法

技术领域

本申请涉及薄膜晶体管的制备领域，尤其涉及一种激光退火装置和方法。

背景技术

多晶硅薄膜晶体管是液晶显示屏的一个重要部件，通常，在多晶硅薄膜晶体管的制备过程中，首先，可以在玻璃基板上形成非晶硅膜层；其次，使用准分子激光照射玻璃基板，并对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火，使得玻璃基板上的非晶硅膜层在激光的作用下，可以重结晶生成多晶硅；最后，进一步制备得到多晶硅薄膜晶体管。

通常，在对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火时，为了隔绝不良气体(例如氧气)对激光退火的影响，保证激光退火的工艺效果，可以将玻璃基板放置在充满惰性气体或氮气的腔室内，同时，为了保证激光可以照射至玻璃基板的非晶硅膜层上以及腔室的密封性，可以使用设置有镜片的退火窗口对腔室进行密封。这样，在对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火时，可以控制激光照射至退火窗口，并透过该镜片照射至非晶硅膜层上，实现对非晶硅膜层的退火处理。

然而，在实际应用中，在长期使用激光透过镜片时，镜片的表面会由于激光的照射产生痕迹，该痕迹不易擦除，同时，镜片激光透过处的镀膜层也会受到破坏，对镜片造成永久性的损伤。这样，在镜片表面产生痕迹或镜片受损的情况下，激光透过镜片时，将会影响最终照射至非晶硅膜层的激光的均匀性，进而影响激光退火的工艺效果。

在现有技术中，为了不影响激光退火的工艺效果，在镜片表面产生痕迹或镜片受损时，通常选择更换镜片，这样，激光可以透过新的镜片均匀地照射在玻璃基板的非晶硅膜层上，进而保证激光退火的工艺效果。但是，这种方式将会导致镜片的更换频率较高，使用寿命较短。

发明内容

本申请实施例提供一种激光退火装置和方法，用于解决现有技术中，在对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火时，由于退火窗口中的镜片上容易产生痕迹或受损，影响激光退火的工艺效果，因此需要经常更换镜片，导致镜片的使用寿命较短的问题。

本申请实施例提供一种激光退火装置，包括：腔室、镜片、移动结构以及固定结构，其中：

所述腔室设置有开口；

所述固定结构位于所述开口的边缘，且固定在所述腔室上；

所述镜片固定在所述移动结构上，且位于所述开口上方；

所述移动结构固定在所述固定结构上，且所述移动结构与所述固定结构的固定位置可调，使得所述镜片相对于所述开口的位置可调。

优选地，所述移动结构位于所述固定结构内侧，且与所述固定结构之间存在间隙，使得所述移动结构相对于所述固定结构移动。

优选地，所述激光退火装置还包括：锁紧件，其中：

所述移动结构中设置有多个第一固定位置，所述固定结构中设置有一个第二固定位置，所述锁紧件通过其中一个所述第一固定位置与所述第二固定位置，将所述移动结构固定在所述固定结构上。

优选地，所述激光退火装置还包括：旋钮结构，其中：

所述旋钮结构的一端与所述移动结构连接，另一端穿过所述固定结构并延伸至所述固定结构的外侧。

优选地，所述固定结构设置有通孔，所述旋钮结构的另一端穿过所述通孔并延伸至所述固定结构外侧，其中，所述通孔为椭圆形通孔，所述旋钮结构在所述通孔内的上下位置可调。

优选地，所述旋钮结构上标有刻度，所述旋钮结构根据所述刻度移动所述移动结构。

优选地，所述激光退火装置还包括：支撑结构和固定稍，其中：

所述固定稍将所述支撑结构固定在所述固定结构上；

所述支撑结构位于所述旋钮结构下方，用于支撑所述旋钮结构。

优选地，所述激光退火装置还包括：密封圈，其中：

所述镜片与所述移动结构之间设置有一个或多个所述密封圈；

所述移动结构与所述固定结构之间设置有一个或多个所述密封圈；

所述固定结构与所述腔室之间设置有一个或多个所述密封圈。

优选地，所述移动结构设置有凹槽，所述凹槽用于放置所述密封圈，所述移动结构相对所述固定结构移动时，所述凹槽内的所述密封圈跟随所述移动结构移动。

本申请实施例还提供一种激光退火方法，包括：

确定所述镜片中未被破坏的区域；

通过改变所述移动结构与所述固定结构的固定位置，移动所述镜片，使得激光透过所述镜片中未被破坏的区域；

使用所述激光进行退火处理。

本申请实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：

本申请实施例提供的激光退火装置，在对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火时，如果激光透过镜片的位置处产生痕迹或损坏，那么，可以通过改变移动结构与固定结构的固定位置，改变镜片的位置，使得激光可以透过镜片中未被破坏的部分，这样，在保证照射至非晶硅膜层上激光的均匀性，进而保证激光退火工艺效果的情况下，可以无需更换镜片，相较于现有技术而言，可以降低镜片的更换频率，增加镜片的使用寿命。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1为现有技术中使用的激光退火装置的结构示意图；

图2为现有技术中镜片表面产生的痕迹的示意图；

图3为本申请实施例提供的一种激光退火装置的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的一种锁紧件的示意图；

图5为本申请实施例提供的一种旋钮结构的示意图；

图6为本申请实施例提供的一种支撑结构以及固定稍的主视图；

图7为本申请实施例提供的一种支撑结构以及固定稍的剖视图；

图8为本申请实施例提供的一种移动结构中凹槽的结构示意图；

图9为本申请实施例提供的一种激光退火方法的流程示意图。

具体实施方式

现有技术中，在对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火时，为了隔绝不良气体(例如氧气)对激光退火的影响，保证激光退火的工艺效果，可以使用图1所示的激光退火装置进行退火。

图1中，11为镜片，12为玻璃基板，玻璃基板12上覆盖有需要进行激光退火的非晶硅膜层，13为载台，用于放置玻璃基板12，14为腔室，15为夹具，16为压块，17为密封圈。其中，镜片11固定在夹具15上，并由压块16进行固定，夹具15固定在腔室14上，腔室14设置有开口，开口上方对应镜片11，腔室14内部可以充满氮气，为了保证腔室14的密封性以隔绝不良气体，可以在镜片11与夹具15之间，以及夹具15与腔室14之间分别设置一个或多个密封圈17。

在使用图1所示的激光退火装置对玻璃基板12上的非晶硅膜层进行激光退火时，可以令激光透过镜片11照射至玻璃基板12的非晶硅膜层上，在激光的作用下，可以实现对非晶硅膜层的激光退火，将非晶硅重结晶得到多晶硅。

然而，在长期使用激光透过镜片11时，镜片11表面的局部区域会产生痕迹。如图2所示，图2为镜片11的俯视图，其中，镜片11是尺寸为530mm×100mm×10mm的长方体(对应图1中镜片11的宽度为100mm，高度为10mm)，在长期使用光斑面积为380mm×400μm的激光透过镜片11时，镜片11上会产生大小为400mm×10mm的痕迹22(参见图2)。同时，镜片11的激光透过处也会被损坏，损坏的区域可以是图2所示的痕迹区域。这样，当镜片11表面产生痕迹或被损坏时，将会影响激光在镜片11上的透光率，导致照射至非晶硅膜层上的激光不均匀，进而影响非晶硅膜层激光退火的工艺效果。

在现有技术中，为了避免镜片中的痕迹或镜片损坏对激光退火的影响，在镜片表面产生痕迹或被损坏时，通常会选择更换镜片，并使用新的镜片进行激光退火。但是，这种方式会增加镜片的更换频率，导致镜片的使用寿命较短。

基于上述存在的问题，本申请实施例提供一种激光退火装置和方法，该装置包括：腔室、镜片、移动结构以及固定结构，其中：所述腔室设置有开口；所述固定结构位于所述开口的边缘，且固定在所述腔室上；所述镜片固定在所述移动结构上，且位于所述开口上方；所述移动结构固定在所述固定结构上，且所述移动结构与所述固定结构的固定位置可调，使得所述镜片相对于所述开口的位置可调。

这样，在对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火时，如果激光透过镜片的位置处产生痕迹或损坏时，那么，可以通过改变移动结构与固定结构的固定位置，改变镜片的位置，使得激光可以透过镜片中没有被破坏的部分，这样，在保证照射至非晶硅膜层上激光的均匀性，进而保证激光退火工艺效果的情况下，可以无需更换镜片，相较于现有技术而言，可以降低镜片的更换频率，增加镜片的使用寿命。

以上述图2所述的镜片为例，假如使用现有技术的激光退火装置，该镜片的使用寿命是一年，那么，使用本申请实施例提供的激光退火装置，在该镜片的一年使用寿命之后，可以移动该镜片，并使用该镜片中未被激光破坏的部分(可以是未产生痕迹的部分)。这样，在理论上，可以使得该镜片的使用寿命为十年(镜片的宽度为100mm，镜片表面产生的痕迹的宽度为10mm)，如果考虑实际应用场景，除去镜片边缘不可以使用的部分，该镜片的使用寿命至少可以是八年。也就是说，本申请实施例提供的激光退火装置可以有效延长镜片的使用寿命。

下面结合本申请具体实施例及相应的附图对本申请技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明的是，本申请实施例提供的所述激光退火装置，可以应用在TFT薄膜晶体管背板技术中的LTPS(低温多晶硅技术)工艺中，并用于对化学气相沉积在玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火，使得非晶硅膜层在激光作用在重结晶生成多晶硅，进而制作得到多晶硅薄膜晶体管。所述激光退火装置使用的激光可以是准分子激光。

本申请实施例的主要思想为：在不改变激光入射位置的情况下，通过改变镜片的位置，可以充分利用镜片的其他未被破坏的区域，这样，可以在保证激光退火工艺效果的前提下，有效减少镜片的更换次数，延长镜片的使用寿命。

以下结合附图，详细说明本申请各实施例提供的技术方案。

实施例1

图3为本申请实施例提供的一种激光退火装置的结构示意图。所述激光退火装置如下所述。

如图3所示，本申请实施例提供的激光退火装置可以包括：腔室31、镜片32、移动结构33以及固定结构34，其中：

腔室31的内部可以放置玻璃基板37，以及用于放置玻璃基板37的载台38，其中，玻璃基板37表面上覆盖有需要进行激光退火的非晶硅膜层，腔室31的上端可以设置一开口，所述开口的位置可以与玻璃基板37的位置相对应，这样，激光可以通过所述开口照射至所述非晶硅膜层上，在实际应用中，所述开口的大小可以根据实际需要确定，只要激光可以通过开口照射至所述非晶硅膜层上即可。

固定结构34可以位于所述开口的边缘，并固定在腔室31上，从图3可以看出，固定结构34可以通过螺钉311固定在腔室31上。

镜片32可以固定在移动结构33上，从图3可以看出，镜片32可以通过压块321水平固定在移动结构33上。本申请实施例中，镜片32可以位于所述开口的上方，这样，激光可以透过镜片32并通过所述开口照射至所述非晶硅膜层上。

移动结构33可以固定在固定结构34上，且移动结构33与固定结构34的固定位置可调。本申请实施例中，由于镜片32固定在移动结构33上，因此，移动结构33与固定结构34的固定位置发生变化时，即移动结构33移动时，镜片33会跟随移动结构33移动，这样，镜片32相对于所述开口的位置将会发生变化，此时，激光可以透过镜片32中的其他区域，并通过所述开口照射至所述非晶硅膜层上。

这样，当镜片32表面的部分区域产生痕迹或被损坏时，可以通过改变移动结构33与固定结构34的固定位置，改变镜片32的位置，使得激光可以透过镜片32的其他未被破坏的区域，并通过所述开口照射至所述非晶硅膜层上，不仅可以保证照射至所述非晶硅膜层上的激光的均匀性，而且，可以减少镜片32的更换次数，延长镜片32的使用寿命。

作为一种优选地方式，移动结构33可以位于固定结构34内侧，且与固定结构34之间存在一定的缝隙，如图3所示，这样，在移动结构33与固定结构34的固定位置发生变化时，移动结构33可以相对于固定结构35移动。

其中，移动结构33与固定结构34之间的缝隙，可以允许移动结构33相对于固定结构34水平左右移动，所述缝隙的大小可以根据镜片32的大小确定，只要保证在移动结构33的移动范围内，激光可以透过镜片32中所有可以使用的区域即可。

本申请实施例中，所述激光退火装置还可以包括：锁紧件35，其中，锁紧件35可以用于将移动结构33固定在固定结构34上。

具体地，移动结构33可以设置有多个第一固定位置，固定结构34可以设置有一个第二固定位置，锁紧件35可以通过其中任意一个所述第一固定位置以及所述第二固定位置，将移动结构33固定在固定结构34上。

如图3所示，移动结构33可以具有延伸至固定结构34上方的构件，该构件可以设置有多个所述第一固定位置，固定结构34可以在与该构件对应的位置设置一个所述第二固定位置，这样，锁紧件35可以通过其中任意一个所述第一固定位置以及所述第二固定位置将移动结构33固定在固定结构34上。

由于移动结构33上设置有多个第一固定位置，固定结构34上仅设置有一个第二固定位置，因此，可以通过改变锁紧件35锁紧的所述第一固定位置，调整移动结构33与固定结构34的固定位置，即可以通过改变锁紧件35锁紧的所述第一固定位置，使得移动结构33相对于固定结构34移动。

图4为本申请实施例提供的一种锁紧件的示意图。图4可以是图3所示的锁紧件35的俯视图。

图4中，移动结构33延伸至固定结构34上方的构件41中，可以设置一椭圆形的通孔42，该通孔42可以视为包括多个所述第一固定位置，该通孔42可以允许锁紧件35在移动结构33上的固定位置左右可调。其中，锁紧件35在该通孔上的固定位置发生变化时，移动结构33可以相对固定结构34左右移动。

在本申请实施例中，移动结构33延伸至固定结构34上方的构件中，还可以设置多个通孔，每一个通孔可以视为一个所述第一固定位置，锁紧件35可以通过其中一个所述第一固定位置将移动结构33固定在固定结构35上。

需要说明的是，在实际应用中，针对图3所示的移动结构33，可以将移动结构33分为移动体以及移动体压合机构，其中，所述移动体可以与所述移动体压合机构固定连接，所述移动体压合机构上可以设置有多个所述第一固定位置，锁紧件35可以通过其中任意一个所述第一固定位置将所述移动体压合机构固定在固定结构34上，进而将移动结构33固定在固定结构34上。

在本申请的另一实施例中，所述激光退火装置还可以包括：旋钮结构36，其中：

旋钮结构36的一端可以与移动结构33连接，另一端可以穿过固定结构34并延伸至固定结构34的外侧。

需要说明的是，本申请实施例中，旋钮结构36的作用可以是将移动结构33与固定结构34分离，并在此基础上，将移动结构33相对固定结构34移动。具体地，由于旋钮结构36与移动结构33连接，因此，可以通过上下移动旋钮结构36将移动结构33抬起，这样，可以将移动结构33与固定结构34相互分离，在移动结构33与固定结构34相互分离的基础上，旋钮结构36可以左右移动，进而带动移动结构33相对于固定结构34左右移动。

具体地，固定结构34中可以设置一通孔，这样，旋钮结构36的另一端可以穿过该通孔延伸至固定结构34的外侧。在本申请实施例中，该通孔的形状可以是椭圆形，且旋钮结构36在该通孔内可以上下移动，这样，旋钮结构36通过与移动结构33连接，可以带动移动结构33上下移动，进而可以将移动结构33与固定结构34分离，左右移动所述移动结构33。

在实际应用中，旋钮结构36的一端可以通过焊接的方式与移动结构33连接，也可以是在移动结构33中设置一盲孔(可以是螺纹结构)，旋钮结构36可以通过旋入该盲孔与移动结构33连接。其中，若旋钮结构36与移动结构33通过盲孔的方式连接，则在不需要使用旋钮结构36移动所述移动结构33时，可以将旋钮结构36旋出。

本申请实施例中，作为一种优选地方式，旋钮结构36上还可以标注刻度，这样，可以根据旋钮结构36上标注的刻度移动所述移动结构33，具体标注的刻度的精度可以根据移动结构33移动的精度确定，例如，移动结构33移动的精度为毫米，那么，旋钮结构36中标注的刻度的精度最少为毫米。

在实际应用中，为了便于对旋钮结构36进行操作，旋钮结构36延伸至固定结构34外侧的一端可以设置成圆形结构，如图3所示。

需要说明的是，旋钮结构36在抬起移动结构33，或移动该移动结构33时，为了保证移动结构33的平衡，旋钮结构36的个数可以是两个或多个(具体个数可以根据实际情况确定，这里不做具体限定)，两个或多个旋钮结构36可以位于同一水平面。

图5为本申请实施例提供的一种旋钮结构的示意图。图5可以是图3所示的旋钮结构36的右视图。

图5中，旋钮结构36的另一端延伸至固定结构34的外侧，旋钮结构36的个数可以是两个，两个旋钮结构36在移动所述移动结构33时，可以用于平衡移动结构33。

本申请实施例中，所述激光退火装置还可以包括：支撑结构和固定稍，其中：

所述固定稍将所述支撑结构固定在固定结构34上；

所述支撑结构位于旋钮结构36下方，可以用于支撑旋钮结构36。

图6为本申请实施例提供的一种支撑结构以及固定稍的主视图。

图6中，固定结构34中设置有通孔61，旋钮结构36可以在通孔61中上下移动，固定稍62可以将支撑结构63固定在固定结构34上，支撑结构63位于旋钮结构36下方，用于将旋钮结构36固定在通孔61的任意位置。

图7为本申请实施例提供的一种支撑结构以及固定稍的剖视图。

图7中，旋钮结构36的一端与移动结构33连接，另一端穿过通孔71(相当于图6中的通孔61)延伸至固定结构34外侧，旋钮结构36可以在通孔71上下移动，固定稍72将支撑结构73固定在固定结构34上，支撑结构73位于旋钮结构36下方，用于固定旋钮结构36。

本申请实施例中，在对所述非晶硅膜层进行激光退火时，腔室31内部可以充满氮气或者其他惰性气体，以避免不良气体的对激光退火的影响。为了保证腔室31内气体的密封性，本申请实施例提供的所述激光退火装置还可以包括：密封圈39，其中：

可以在镜片32与移动结构33之间设置有一个或多个密封圈39，可以在移动结构33与固定结构34之间设置有一个或多个密封圈39，还可以在固定结构34与腔室31之间设置有一个或多个密封圈39。这样，通过设置密封圈39，可以保证腔室31、固定结构34、移动结构33以及镜片32构成的空间的密封性，有效避免不良气体对激光退火的影响。

本申请实施例中，移动结构33可以设置有凹槽，具体可以在图3所示的移动结构33的底部与固定结构34接触的位置设置所述凹槽，所述凹槽可以用于放置一个或多个所述密封圈，这样，移动结构33在相对固定结构34移动时，位于所述凹槽的一个或多个所述密封圈可以跟随移动结构33移动，保证在移动结构33的移动过程中，腔室31、固定结构34、移动结构33以及镜片32构成的空间的密封性。

图8为本申请实施例提供的一种移动结构中凹槽的结构示意图。

如图8所示，移动结构33底部与固定结构34接触的位置可以设置一凹槽81，该凹槽81可以用于放置一个密封圈39，在移动结构33移动时，凹槽81内的密封圈39可以跟随移动结构33移动。

本申请实施例提供的激光退火装置，包括：腔室、镜片、移动结构以及固定结构，所述腔室设置有开口；所述固定结构位于所述开口的边缘，且固定在所述腔室上；所述镜片固定在所述移动结构上，且位于所述开口上方；所述移动结构固定在所述固定结构上，且所述移动结构与所述固定结构的固定位置可调，使得所述镜片相对于所述开口的位置可调。这样，在对玻璃基板上的非晶硅膜层进行激光退火时，如果激光透过镜片的位置处产生痕迹或损坏，那么，可以通过改变移动结构与固定结构的固定位置，改变镜片的位置，使得激光可以透过镜片中没有被破坏的部分，这样，在保证照射至非晶硅膜层上激光的均匀性，进而保证激光退火工艺效果的情况下，可以无需更换镜片，相较于现有技术而言，可以降低镜片的更换频率，增加镜片的使用寿命。

实施例2

图9为本申请实施例提供的一种激光退火方法的流程示意图，所述激光退火方法可以通过上述实施例1记载的所述激光退火装置实现。所述方法如下所述。

步骤901：确定所述镜片中未被破坏的区域。

在步骤901中，在所述激光退火装置中的所述镜片的表面出现痕迹或损坏时，或者，激光透过所述镜片位置的使用寿命到期时，可以确定镜片中没有被破坏的区域，其中，所述未被破坏的区域可以是所述镜片中未产生痕迹的区域。

需要说明的是，在实际应用中，所述镜片通常为长宽高为设定比例的长方体，激光透过所述镜片，所述镜片表面产生的痕迹或损坏的区域通常为长方形区域，为了保证激光退火的工艺效果，本申请实施例中确定的所述镜片中未被破坏的区域也可以为长方形区域。

步骤902：通过改变所述移动结构与所述固定结构的固定位置，移动所述镜片，使得激光透过所述镜片中未被破坏的区域。

在步骤902中，在确定所述镜片中未被破坏的区域后，可以移动所述镜片，使得激光可以透过所述镜片中的未被破坏的区域，具体地，可以通过改变所述移动结构与所述固定结构的固定位置来移动所述镜片。

本申请实施例中，基于上述图3记载所述激光退火装置，可通过以下步骤改变所述移动结构与所述固定结构的固定位置，包括：

第一步：松动所述锁紧件；

第二步：使用所述旋钮结构将所述移动结构托起，使得所述移动结构与所述固定结构分离；

第三步：固定所述旋钮结构；

具体地，可以使用图6或图7所示的所述固定稍以及所述支撑结构固定所述旋钮结构。

第四步：通过移动所述旋钮结构，移动所述移动结构，使得激光透过所述镜片中未被破坏的区域。

具体地，可以计算得到需要移动的距离，并根据所述旋钮结构上标注的刻度移动所述旋钮结构。

第五步：去除所述固定稍以及所述支撑结构，并使用所述旋钮结构将所述移动结构放下；

第六步：将所述移动结构固定在所述固定结构上。

在移动所述镜片，并使得激光透过所述镜片中未被破坏的区域后，可以执行步骤903。

步骤903：使用所述激光进行退火处理。

在步骤903中，激光可以透过所述镜片中未被破坏的区域，并照射至所述腔室内部的玻璃基板的非晶硅膜层上，进而实现对所述非晶硅膜层的激光退火。

本申请实施例提供的激光退火方法，在镜片表面出现痕迹或损坏时，或者，激光透过所述镜片位置的使用寿命到期时，可以确定镜片中未被破坏的区域，通过改变移动结构与固定结构的固定位置，来移动该镜片，使得激光可以透过该镜片中未被破坏的区域，并进行激光退火。这样，在保证照射至玻璃基板的非晶硅膜层上激光的均匀性，进而保证激光退火工艺效果的情况下，可以无需更换镜片，相较于现有技术而言，可以降低镜片的更换频率，增加镜片的使用寿命。

本领域的技术人员应明白，尽管已描述了本申请的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本申请范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (8)

1.一种激光退火装置，其特征在于，包括：腔室、镜片、移动结构、固定结构以及旋钮结构，其中：

所述腔室设置有开口；

所述固定结构位于所述开口的边缘，且固定在所述腔室上，所述固定结构设置有通孔；

所述镜片固定在所述移动结构上，且位于所述开口上方；

所述移动结构固定在所述固定结构上，且所述移动结构与所述固定结构的固定位置可调，使得所述镜片相对于所述开口的位置可调；

所述旋钮结构的一端与所述移动结构连接，所述旋钮结构的另一端穿过所述通孔并延伸至所述固定结构的外侧，其中，所述通孔为椭圆形通孔，所述旋钮结构在所述通孔内的上下位置可调。

2.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，

所述移动结构位于所述固定结构内侧，且与所述固定结构之间存在间隙，使得所述移动结构相对于所述固定结构移动。

3.如权利要求2所述的激光退火装置，其特征在于，所述激光退火装置还包括：锁紧件，其中：

所述移动结构中设置有多个第一固定位置，所述固定结构中设置有一个第二固定位置，所述锁紧件通过其中一个所述第一固定位置与所述第二固定位置，将所述移动结构固定在所述固定结构上。

4.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，

所述旋钮结构上标有刻度，所述旋钮结构根据所述刻度移动所述移动结构。

5.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述激光退火装置还包括：支撑结构和固定稍，其中：

所述固定稍将所述支撑结构固定在所述固定结构上；

所述支撑结构位于所述旋钮结构下方，用于支撑所述旋钮结构。

6.如权利要求5所述的激光退火装置，其特征在于，所述激光退火装置还包括：密封圈，其中：

所述镜片与所述移动结构之间设置有一个或多个所述密封圈；

所述移动结构与所述固定结构之间设置有一个或多个所述密封圈；

所述固定结构与所述腔室之间设置有一个或多个所述密封圈。

7.如权利要求6所述的激光退火装置，其特征在于，

所述移动结构设置有凹槽，所述凹槽用于放置所述密封圈，所述移动结构相对所述固定结构移动时，所述凹槽内的所述密封圈跟随所述移动结构移动。

8.一种使用如权利要求1至7任一项所述的激光退火装置的激光退火方法，其特征在于，包括：

确定所述镜片中未被破坏的区域；

通过改变所述移动结构与所述固定结构的固定位置，移动所述镜片，使得激光透过所述镜片中未被破坏的区域；

使用所述激光进行退火处理。

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