JPH06130390A - 配向膜の配向処理方法 - Google Patents
配向膜の配向処理方法Info
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- JPH06130390A JPH06130390A JP4306463A JP30646392A JPH06130390A JP H06130390 A JPH06130390 A JP H06130390A JP 4306463 A JP4306463 A JP 4306463A JP 30646392 A JP30646392 A JP 30646392A JP H06130390 A JPH06130390 A JP H06130390A
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
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-
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 配向処理の際のパーティクルおよび静電気の
発生を抑えることができる配向膜の配向処理方法を提供
する。 【構成】 真空容器１２内においてその内部を真空排気
装置１４によって真空排気しながら、ガラス基板４上に
形成された配向膜８に対して、エキシマレーザ光源１６
から出力されたエキシマレーザ光１８を、多数の互いに
平行なスリット穴２４を有するマスク２２およびレンズ
２６を通して照射する。
発生を抑えることができる配向膜の配向処理方法を提供
する。 【構成】 真空容器１２内においてその内部を真空排気
装置１４によって真空排気しながら、ガラス基板４上に
形成された配向膜８に対して、エキシマレーザ光源１６
から出力されたエキシマレーザ光１８を、多数の互いに
平行なスリット穴２４を有するマスク２２およびレンズ
２６を通して照射する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば液晶ディスプ
レイの製造等に利用されるものであって、液晶分子を一
定方向に配向させるための配向膜に対して配向処理を施
す、配向膜の配向処理方法に関する。
レイの製造等に利用されるものであって、液晶分子を一
定方向に配向させるための配向膜に対して配向処理を施
す、配向膜の配向処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶分子を基板の表面に平行に配向させ
るために、基板の表面に、ポリイミド等の高分子有機材
料から成る配向膜を塗布することが行われている。
るために、基板の表面に、ポリイミド等の高分子有機材
料から成る配向膜を塗布することが行われている。
【０００３】この場合、基板の表面に単に配向膜を塗布
しただけでは、液晶分子が基板の表面に対して平行に配
列するだけで、液晶分子を一定方向に配列させることは
できない。
しただけでは、液晶分子が基板の表面に対して平行に配
列するだけで、液晶分子を一定方向に配列させることは
できない。
【０００４】そこで従来は、配向膜に、その表面をナイ
ロンやレーヨン等の布で一定方向に機械的にラビング
（摩擦）することによって配向処理を施し、これによっ
て液晶分子をラビングした方向に配列させることが行わ
れている。
ロンやレーヨン等の布で一定方向に機械的にラビング
（摩擦）することによって配向処理を施し、これによっ
て液晶分子をラビングした方向に配列させることが行わ
れている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
にラビングによって配向膜に配向処理を施す方法では、
パーティクル（ゴミ）および静電気が発生して、これが
液晶ディスプレイの特性を悪化させ、ひいては歩留まり
を低下させる要因になるという問題がある。例えば、パ
ーティクルが発生し付着すると、それによって表示むら
が生じたり、電気的にショートする個所が生じたりす
る。また、静電気が発生すると、それによって液晶分子
の配向が阻害されたり、ＴＦＴ−ＬＣＤ（薄膜トランジ
スタ液晶ディスプレイ）の場合は薄膜トランジスタが壊
れたりする。
にラビングによって配向膜に配向処理を施す方法では、
パーティクル（ゴミ）および静電気が発生して、これが
液晶ディスプレイの特性を悪化させ、ひいては歩留まり
を低下させる要因になるという問題がある。例えば、パ
ーティクルが発生し付着すると、それによって表示むら
が生じたり、電気的にショートする個所が生じたりす
る。また、静電気が発生すると、それによって液晶分子
の配向が阻害されたり、ＴＦＴ−ＬＣＤ（薄膜トランジ
スタ液晶ディスプレイ）の場合は薄膜トランジスタが壊
れたりする。
【０００６】そこでこの発明は、配向処理の際のパーテ
ィクルおよび静電気の発生を抑えることができる配向膜
の配向処理方法を提供することを主たる目的とする。
ィクルおよび静電気の発生を抑えることができる配向膜
の配向処理方法を提供することを主たる目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の配向膜の配向処理方法は、真空容器内に
おいてその内部を真空排気しながら、基板上に形成され
ていて液晶分子を一定方向に配向させるための配向膜に
対して、多数の互いに平行なスリット穴を有するマスク
を通してエキシマレーザ光を照射することを特徴とす
る。
め、この発明の配向膜の配向処理方法は、真空容器内に
おいてその内部を真空排気しながら、基板上に形成され
ていて液晶分子を一定方向に配向させるための配向膜に
対して、多数の互いに平行なスリット穴を有するマスク
を通してエキシマレーザ光を照射することを特徴とす
る。
【０００８】
【作用】上記のように配向膜に、多数の互いに平行なス
リット穴を有するマスクを通してエキシマレーザ光を照
射すると、このエキシマレーザ光による物理的なアブレ
ーション（物質除去作用）によって光エネルギーが加工
エネルギーに変換され、配向膜の表面に多数の微小な溝
が形成される。また、このアブレーションによる配向膜
物質は気体状になって放出されるので、真空容器内を真
空排気しながら処理することによって、それを外部へ排
出してそれが配向膜の表面に付着するのを抑制すること
ができる。このようにして配向膜の表面に多数の溝を形
成すると、液晶分子は、その溝に沿って配向するように
なる。このように上記方法では、従来の機械的ラビング
法と違って、エキシマレーザ光の光エネルギーを加工エ
ネルギーに変える方法で非接触で配向膜に配向処理を施
すことができるので、パーティクルおよび静電気の発生
を抑えることができる。
リット穴を有するマスクを通してエキシマレーザ光を照
射すると、このエキシマレーザ光による物理的なアブレ
ーション（物質除去作用）によって光エネルギーが加工
エネルギーに変換され、配向膜の表面に多数の微小な溝
が形成される。また、このアブレーションによる配向膜
物質は気体状になって放出されるので、真空容器内を真
空排気しながら処理することによって、それを外部へ排
出してそれが配向膜の表面に付着するのを抑制すること
ができる。このようにして配向膜の表面に多数の溝を形
成すると、液晶分子は、その溝に沿って配向するように
なる。このように上記方法では、従来の機械的ラビング
法と違って、エキシマレーザ光の光エネルギーを加工エ
ネルギーに変える方法で非接触で配向膜に配向処理を施
すことができるので、パーティクルおよび静電気の発生
を抑えることができる。
【０００９】
【実施例】図１は、この発明に係る配向処理方法を実施
する装置の一例を示す概略断面図である。真空排気装置
１４によって真空排気される真空容器１２内にホルダ１
３が設けられており、その上に、配向処理を施そうとす
る配向膜付基板２が載せられている。また、このホルダ
１３の上方にはレンズ２６およびマスク２２が設けられ
ており、更にその上方に、外部のエキシマレーザ光源１
６から出力されたエキシマレーザ光１８を導入するレー
ザ光導入窓２０が設けられている。
する装置の一例を示す概略断面図である。真空排気装置
１４によって真空排気される真空容器１２内にホルダ１
３が設けられており、その上に、配向処理を施そうとす
る配向膜付基板２が載せられている。また、このホルダ
１３の上方にはレンズ２６およびマスク２２が設けられ
ており、更にその上方に、外部のエキシマレーザ光源１
６から出力されたエキシマレーザ光１８を導入するレー
ザ光導入窓２０が設けられている。
【００１０】配向膜付基板２は、図２も参照して、この
例ではガラス基板４の表面にＩＴＯ（スズをドープした
酸化インジウム）から成る透明電極膜６を形成し、更に
その上にポリイミドから成る配向膜８を塗布したもので
ある。なお、この例で透明電極膜６を図２に示すように
四角形にしているのは試験用のためであり、実際の液晶
ディスプレイでは透明電極膜は例えば細線状にされる。
例ではガラス基板４の表面にＩＴＯ（スズをドープした
酸化インジウム）から成る透明電極膜６を形成し、更に
その上にポリイミドから成る配向膜８を塗布したもので
ある。なお、この例で透明電極膜６を図２に示すように
四角形にしているのは試験用のためであり、実際の液晶
ディスプレイでは透明電極膜は例えば細線状にされる。
【００１１】マスク２２は、図３も参照して、この例で
は金属から成り、多数の互いに平行なスリット穴２４を
有している。この各スリット穴２４（スペース）および
それらの間の各ライン２３の幅は、この例ではいずれも
５０μｍである。
は金属から成り、多数の互いに平行なスリット穴２４を
有している。この各スリット穴２４（スペース）および
それらの間の各ライン２３の幅は、この例ではいずれも
５０μｍである。
【００１２】エキシマレーザ光源１６は、例えばＡrＦ
エキシマレーザ、ＫrＦエキシマレーザ、ＸeＣlエキシ
マレーザであり、それぞれ１９２ｎｍ、２４８ｎｍ、３
０８ｎｍといった紫外領域の波長のエキシマレーザ光１
８を出力することができ、これによって微細加工を行う
ことができる。エキシマレーザによるアブレーション
は、非熱的メカニズムであり、溶融・気化といった熱的
加工プロセスと異なり、極めて熱的影響の少ない加工が
行える。この実施例ではエキシマレーザ光源１６として
ＫrＦエキシマレーザを用いた。
エキシマレーザ、ＫrＦエキシマレーザ、ＸeＣlエキシ
マレーザであり、それぞれ１９２ｎｍ、２４８ｎｍ、３
０８ｎｍといった紫外領域の波長のエキシマレーザ光１
８を出力することができ、これによって微細加工を行う
ことができる。エキシマレーザによるアブレーション
は、非熱的メカニズムであり、溶融・気化といった熱的
加工プロセスと異なり、極めて熱的影響の少ない加工が
行える。この実施例ではエキシマレーザ光源１６として
ＫrＦエキシマレーザを用いた。
【００１３】レンズ２６は、マスク２２のパターンを縮
小して配向膜８上に投影することにより、配向膜８上に
本来のマスク２２のパターンより微細なパターンで溝を
形成するためのものである。但しこのレンズ２６は、マ
スク２２のパターン自体を細かくすることによって省略
することもできる。
小して配向膜８上に投影することにより、配向膜８上に
本来のマスク２２のパターンより微細なパターンで溝を
形成するためのものである。但しこのレンズ２６は、マ
スク２２のパターン自体を細かくすることによって省略
することもできる。
【００１４】上記のような装置を用いて、真空排気装置
１４によって真空容器１２内を真空排気しながら、エキ
シマレーザ光源１６から出力されたエキシマレーザ光１
８をマスク２２およびレンズ２６を通してホルダ１３上
の配向膜付基板２の配向膜８に照射した。
１４によって真空容器１２内を真空排気しながら、エキ
シマレーザ光源１６から出力されたエキシマレーザ光１
８をマスク２２およびレンズ２６を通してホルダ１３上
の配向膜付基板２の配向膜８に照射した。
【００１５】上記のような方法で、表１に示すようなエ
キシマレーザ光１８のエネルギーで、試料（試験用の配
向膜付基板）２ａ〜２ｅおよび２ａ′〜２ｅ′に対して
エキシマレーザ光１８の照射を行った。ここで試料２ａ
〜２ｅは、マスク２２のスリット穴２４が例えば図４に
示すような方向でエキシマレーザ光１８を照射したもの
であり、試料２ａ′〜２ｅ′は図５に示すように図４と
はスリット穴２４が直交する方向でエキシマレーザ光１
８を照射したものであり、これによって、エキシマレー
ザ光１８のアブレーションによって配向膜８の表面に形
成される溝は、試料２ａ〜２ｅ側と試料２ａ′〜２ｅ′
側とでは互いに直交するようになる。
キシマレーザ光１８のエネルギーで、試料（試験用の配
向膜付基板）２ａ〜２ｅおよび２ａ′〜２ｅ′に対して
エキシマレーザ光１８の照射を行った。ここで試料２ａ
〜２ｅは、マスク２２のスリット穴２４が例えば図４に
示すような方向でエキシマレーザ光１８を照射したもの
であり、試料２ａ′〜２ｅ′は図５に示すように図４と
はスリット穴２４が直交する方向でエキシマレーザ光１
８を照射したものであり、これによって、エキシマレー
ザ光１８のアブレーションによって配向膜８の表面に形
成される溝は、試料２ａ〜２ｅ側と試料２ａ′〜２ｅ′
側とでは互いに直交するようになる。
【００１６】
【表１】
【００１７】そして、同じ処理条件の試料２ａ〜２ｅと
２ａ′〜２ｅ′とを、図６に示すように配向膜８を内側
にして、しかも配向膜８の表面の溝が互いに直交するよ
うにそれぞれ重ね合わせ、かつ両者間に右回りのカイラ
ル剤を添加した液晶１０を注入して、ＴＮ（ツイストネ
マティック）モードの液晶セルをそれぞれ構成し、この
液晶セルの上下に配向膜８の配向方向に合わせた偏光板
をそれぞれ貼り、このようにして液晶１０の配向状態を
調べた。
２ａ′〜２ｅ′とを、図６に示すように配向膜８を内側
にして、しかも配向膜８の表面の溝が互いに直交するよ
うにそれぞれ重ね合わせ、かつ両者間に右回りのカイラ
ル剤を添加した液晶１０を注入して、ＴＮ（ツイストネ
マティック）モードの液晶セルをそれぞれ構成し、この
液晶セルの上下に配向膜８の配向方向に合わせた偏光板
をそれぞれ貼り、このようにして液晶１０の配向状態を
調べた。
【００１８】その結果、エキシマレーザ光１８のエネル
ギーが１００ｍＪ／ｃｍ2 の場合は、液晶１０の配向は
確認できなかった。これは、エキシマレーザ光１８のエ
ネルギーが弱すぎて、配向膜８の表面に溝を掘ることが
できなかったためである。
ギーが１００ｍＪ／ｃｍ2 の場合は、液晶１０の配向は
確認できなかった。これは、エキシマレーザ光１８のエ
ネルギーが弱すぎて、配向膜８の表面に溝を掘ることが
できなかったためである。
【００１９】エキシマレーザ光１８のエネルギーが１５
０ｍＪ／ｃｍ2 の場合は、上記液晶セルが光学的異方性
を示しており、液晶１０の配向が確認できた。またこの
場合の液晶分子のプレティルト角（液晶分子が配向膜の
表面より起き上がった角度）を測定したところ、約１度
であった。
０ｍＪ／ｃｍ2 の場合は、上記液晶セルが光学的異方性
を示しており、液晶１０の配向が確認できた。またこの
場合の液晶分子のプレティルト角（液晶分子が配向膜の
表面より起き上がった角度）を測定したところ、約１度
であった。
【００２０】エキシマレーザ光１８のエネルギーが２０
０ｍＪ／ｃｍ2 の場合も、液晶１０の配向が確認でき
た。またこの場合の液晶分子のプレティルト角は約７度
と、比較的大きい値が得られた。
０ｍＪ／ｃｍ2 の場合も、液晶１０の配向が確認でき
た。またこの場合の液晶分子のプレティルト角は約７度
と、比較的大きい値が得られた。
【００２１】エキシマレーザ光１８のエネルギーが２５
０ｍＪ／ｃｍ2 の場合は、液晶１０の配向は確認できな
かった。これは、エキシマレーザ光１８のエネルギーが
強すぎて、配向膜８の表面の溝が深くなり過ぎ、液晶分
子が乱れたためである。
０ｍＪ／ｃｍ2 の場合は、液晶１０の配向は確認できな
かった。これは、エキシマレーザ光１８のエネルギーが
強すぎて、配向膜８の表面の溝が深くなり過ぎ、液晶分
子が乱れたためである。
【００２２】エキシマレーザ光１８のエネルギーが３０
０ｍＪ／ｃｍ2 の場合も、液晶１０の配向は確認できな
かった。これは、エキシマレーザ光１８のエネルギーが
強すぎて、配向膜８の表面が溶解し、溝を掘ることがで
きなかったためである。
０ｍＪ／ｃｍ2 の場合も、液晶１０の配向は確認できな
かった。これは、エキシマレーザ光１８のエネルギーが
強すぎて、配向膜８の表面が溶解し、溝を掘ることがで
きなかったためである。
【００２３】このように、上記方法によれば、エキシマ
レーザ光１８を配向膜８に照射することによって、しか
もそのときのエキシマレーザ光１８のエネルギーを１５
０ｍＪ／ｃｍ2 から２００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内に選定
することによって、従来の機械的ラビング法によらず非
接触で、配向膜８に配向処理を施すことができることが
確認できた。
レーザ光１８を配向膜８に照射することによって、しか
もそのときのエキシマレーザ光１８のエネルギーを１５
０ｍＪ／ｃｍ2 から２００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内に選定
することによって、従来の機械的ラビング法によらず非
接触で、配向膜８に配向処理を施すことができることが
確認できた。
【００２４】また、上記範囲内でエキシマレーザ光１８
のエネルギーを変化させることによって、液晶分子のプ
レティルト角を約１度から約７度という比較的広い範囲
に亘って制御することができることも確認できた。ちな
みに、従来のラビング法による場合はプレティルト角は
せいぜい１〜３度程度しか得られず、またその制御も困
難であった。プレティルト角の制御は、液晶ディスプレ
イにおいては、特にＳＴＮ−ＬＣＤ（スーパーツイスト
ネマティック液晶ディスプレイ）においては、また最近
ではＴＦＴ−ＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレ
イ）においても、液晶の配向不良を防止する等のために
重要である。
のエネルギーを変化させることによって、液晶分子のプ
レティルト角を約１度から約７度という比較的広い範囲
に亘って制御することができることも確認できた。ちな
みに、従来のラビング法による場合はプレティルト角は
せいぜい１〜３度程度しか得られず、またその制御も困
難であった。プレティルト角の制御は、液晶ディスプレ
イにおいては、特にＳＴＮ−ＬＣＤ（スーパーツイスト
ネマティック液晶ディスプレイ）においては、また最近
ではＴＦＴ−ＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレ
イ）においても、液晶の配向不良を防止する等のために
重要である。
【００２５】なお、上記配向膜８は、ポリイミド以外の
有機高分子材料で形成されていても良い。
有機高分子材料で形成されていても良い。
【００２６】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、従来の
機械的ラビング法と違って、エキシマレーザ光の光エネ
ルギーを加工エネルギーに変える方法で非接触で配向膜
に配向処理を施すことができるので、配向処理の際のパ
ーティクルおよび静電気の発生を抑えることができる。
その結果例えば、液晶ディスプレイの特性を悪化させる
要因が少なくなるので、液晶ディスプレイの歩留まりを
向上させることができるようになる。
機械的ラビング法と違って、エキシマレーザ光の光エネ
ルギーを加工エネルギーに変える方法で非接触で配向膜
に配向処理を施すことができるので、配向処理の際のパ
ーティクルおよび静電気の発生を抑えることができる。
その結果例えば、液晶ディスプレイの特性を悪化させる
要因が少なくなるので、液晶ディスプレイの歩留まりを
向上させることができるようになる。
【００２７】しかも、照射するエキシマレーザ光のエネ
ルギーを変化させることによって、液晶分子のプレティ
ルト角を制御することができる。その結果例えば、液晶
の配向不良を無くして、特性の良好な液晶ディスプレイ
を実現することができるようになる。
ルギーを変化させることによって、液晶分子のプレティ
ルト角を制御することができる。その結果例えば、液晶
の配向不良を無くして、特性の良好な液晶ディスプレイ
を実現することができるようになる。
【図１】この発明に係る配向処理方法を実施する装置の
一例を示す概略断面図である。
一例を示す概略断面図である。
【図２】図１中の配向膜付基板の拡大平面図である。
【図３】図１中のマスクの拡大部分平面図である。
【図４】マスクと配向膜付基板との関係の一例を示す平
面図である。
面図である。
【図５】マスクと配向膜付基板との関係の他の例を示す
平面図である。
平面図である。
【図６】液晶セルの一例を示す概略断面図である。
２ 配向膜付基板 ４ ガラス基板 ６ 透明電極膜 ８ 配向膜 １２ 真空容器 １４ 真空排気装置 １６ エキシマレーザ光源 １８ エキシマレーザ光 ２２ マスク ２４ スリット穴
フロントページの続き (72)発明者 江原 泰蔵 東京都日野市日野1164番地 株式会社イ ー・エッチ・シー内
Claims (1)
- 【請求項１】 真空容器内においてその内部を真空排気
しながら、基板上に形成されていて液晶分子を一定方向
に配向させるための配向膜に対して、多数の互いに平行
なスリット穴を有するマスクを通してエキシマレーザ光
を照射することを特徴とする配向膜の配向処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4306463A JPH06130390A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 配向膜の配向処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4306463A JPH06130390A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 配向膜の配向処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06130390A true JPH06130390A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17957319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4306463A Pending JPH06130390A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 配向膜の配向処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06130390A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5587822A (en) * | 1994-01-28 | 1996-12-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal orientation control layer method and apparatus for manufacturing the same and mask for use in the manufacturing |
| US6312769B1 (en) | 1997-04-30 | 2001-11-06 | Jsr Corporation | Liquid crystal alignment layer, production method for the same, and liquid crystal display device comprising the same |
| KR100539581B1 (ko) * | 1998-09-22 | 2006-02-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
| KR100615835B1 (ko) * | 1999-06-08 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치용 배향패턴 형성장치 및 이를 이용한 배향패턴 형성방법 |
| KR100634755B1 (ko) * | 1999-08-25 | 2006-10-16 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치용 배향패턴 형성장치 및 이를 이용한 배향패턴형성방법 |
| US7440074B2 (en) | 2004-09-06 | 2008-10-21 | Seiko Epson Corporation | Method for repair of liquid crystal display device light point defects using detection of corrective laser light in real time |
-
1992
- 1992-10-19 JP JP4306463A patent/JPH06130390A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5587822A (en) * | 1994-01-28 | 1996-12-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal orientation control layer method and apparatus for manufacturing the same and mask for use in the manufacturing |
| US6312769B1 (en) | 1997-04-30 | 2001-11-06 | Jsr Corporation | Liquid crystal alignment layer, production method for the same, and liquid crystal display device comprising the same |
| KR100539581B1 (ko) * | 1998-09-22 | 2006-02-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
| KR100615835B1 (ko) * | 1999-06-08 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치용 배향패턴 형성장치 및 이를 이용한 배향패턴 형성방법 |
| KR100634755B1 (ko) * | 1999-08-25 | 2006-10-16 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치용 배향패턴 형성장치 및 이를 이용한 배향패턴형성방법 |
| US7440074B2 (en) | 2004-09-06 | 2008-10-21 | Seiko Epson Corporation | Method for repair of liquid crystal display device light point defects using detection of corrective laser light in real time |
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