JPH06130391A - 配向膜の配向処理方法 - Google Patents
配向膜の配向処理方法Info
- Publication number
- JPH06130391A JPH06130391A JP4306464A JP30646492A JPH06130391A JP H06130391 A JPH06130391 A JP H06130391A JP 4306464 A JP4306464 A JP 4306464A JP 30646492 A JP30646492 A JP 30646492A JP H06130391 A JPH06130391 A JP H06130391A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion beam
- liquid crystal
- film
- alignment film
- oriented film
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133765—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers without a surface treatment
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 配向処理の際のパーティクルおよび静電気の
発生を抑えることができる配向膜の配向処理方法を提供
する。 【構成】 ガラス基板４上に形成された配向膜８に対し
て、真空容器１２内で、イオン源１４から引き出したイ
オンビーム１６を照射する。しかもそれと同時に、同配
向膜８に対して、イオンビーム１６による正電荷を中和
させる電子２０をフィラメント１８から供給する。
発生を抑えることができる配向膜の配向処理方法を提供
する。 【構成】 ガラス基板４上に形成された配向膜８に対し
て、真空容器１２内で、イオン源１４から引き出したイ
オンビーム１６を照射する。しかもそれと同時に、同配
向膜８に対して、イオンビーム１６による正電荷を中和
させる電子２０をフィラメント１８から供給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば液晶ディスプ
レイの製造等に利用されるものであって、液晶分子を一
定方向に配向させるための配向膜に対して配向処理を施
す、配向膜の配向処理方法に関する。
レイの製造等に利用されるものであって、液晶分子を一
定方向に配向させるための配向膜に対して配向処理を施
す、配向膜の配向処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶分子を基板の表面に平行に配向させ
るために、基板の表面に、ポリイミド等の高分子有機材
料から成る配向膜を塗布することが行われている。
るために、基板の表面に、ポリイミド等の高分子有機材
料から成る配向膜を塗布することが行われている。
【０００３】この場合、基板の表面に単に配向膜を塗布
しただけでは、液晶分子が基板の表面に対して平行に配
列するだけで、液晶分子を一定方向に配列させることは
できない。
しただけでは、液晶分子が基板の表面に対して平行に配
列するだけで、液晶分子を一定方向に配列させることは
できない。
【０００４】そこで従来は、配向膜に、その表面をナイ
ロンやレーヨン等の布で一定方向に機械的にラビング
（摩擦）することによって配向処理を施し、これによっ
て液晶分子をラビングした方向に配列させることが行わ
れている。
ロンやレーヨン等の布で一定方向に機械的にラビング
（摩擦）することによって配向処理を施し、これによっ
て液晶分子をラビングした方向に配列させることが行わ
れている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
にラビングによって配向膜に配向処理を施す方法では、
パーティクル（ゴミ）および静電気が発生して、これが
液晶ディスプレイの特性を悪化させ、ひいては歩留まり
を低下させる要因になるという問題がある。例えば、パ
ーティクルが発生し付着すると、それによって表示むら
が生じたり、電気的にショートする個所が生じたりす
る。また、静電気が発生すると、それによって液晶分子
の配向が阻害されたり、ＴＦＴ−ＬＣＤ（薄膜トランジ
スタ液晶ディスプレイ）の場合は薄膜トランジスタが壊
れたりする。
にラビングによって配向膜に配向処理を施す方法では、
パーティクル（ゴミ）および静電気が発生して、これが
液晶ディスプレイの特性を悪化させ、ひいては歩留まり
を低下させる要因になるという問題がある。例えば、パ
ーティクルが発生し付着すると、それによって表示むら
が生じたり、電気的にショートする個所が生じたりす
る。また、静電気が発生すると、それによって液晶分子
の配向が阻害されたり、ＴＦＴ−ＬＣＤ（薄膜トランジ
スタ液晶ディスプレイ）の場合は薄膜トランジスタが壊
れたりする。
【０００６】そこでこの発明は、配向処理の際のパーテ
ィクルおよび静電気の発生を抑えることができる配向膜
の配向処理方法を提供することを主たる目的とする。
ィクルおよび静電気の発生を抑えることができる配向膜
の配向処理方法を提供することを主たる目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の配向膜の配向処理方法は、真空中で、基
板上に形成されていて液晶分子を一定方向に配向させる
ための配向膜に対してイオンビームを照射すると共に、
同配向膜に対してこのイオンビームによる正電荷を中和
させる電子を供給することを特徴とする。
め、この発明の配向膜の配向処理方法は、真空中で、基
板上に形成されていて液晶分子を一定方向に配向させる
ための配向膜に対してイオンビームを照射すると共に、
同配向膜に対してこのイオンビームによる正電荷を中和
させる電子を供給することを特徴とする。
【０００８】
【作用】上記のように配向膜にイオンビームを照射する
ことで、配向膜に配向処理を施すことができることが確
かめられた。これは、ミクロ的に見ると、イオンビーム
の照射によって配向膜の表面に多数の微小な溝状の歪の
ようなものが形成され、それに沿って液晶分子が配向す
るようになるためであると考えられる。
ことで、配向膜に配向処理を施すことができることが確
かめられた。これは、ミクロ的に見ると、イオンビーム
の照射によって配向膜の表面に多数の微小な溝状の歪の
ようなものが形成され、それに沿って液晶分子が配向す
るようになるためであると考えられる。
【０００９】イオンビーム照射の際、電子によってイオ
ンビームの正電荷を中和させるのは、イオンビームによ
る正電荷が配向膜の表面に溜まると、それがイオンビー
ムの飛来を邪魔して、配向膜の処理が困難になったり不
均一になったりするので、更には配向処理後に液晶セル
を構成したときに電荷によって液晶分子の配向が乱され
たりするので、それを防止するためである。
ンビームの正電荷を中和させるのは、イオンビームによ
る正電荷が配向膜の表面に溜まると、それがイオンビー
ムの飛来を邪魔して、配向膜の処理が困難になったり不
均一になったりするので、更には配向処理後に液晶セル
を構成したときに電荷によって液晶分子の配向が乱され
たりするので、それを防止するためである。
【００１０】このように上記方法では、従来の機械的ラ
ビング法と違って、非接触で配向膜に配向処理を施すこ
とができるので、パーティクルおよび静電気の発生を抑
えることができる。
ビング法と違って、非接触で配向膜に配向処理を施すこ
とができるので、パーティクルおよび静電気の発生を抑
えることができる。
【００１１】
【実施例】図１は、この発明に係る配向処理方法を実施
する装置の一例を示す概略断面図である。図示しない真
空排気装置によって真空排気される真空容器１２内にホ
ルダ１３が設けられており、その上に、配向処理を施そ
うとする配向膜付基板２が載せられている。また、この
ホルダ１３の上方には、ホルダ１３の方に向けてフィラ
メント１８およびイオン源１４が設けられている。
する装置の一例を示す概略断面図である。図示しない真
空排気装置によって真空排気される真空容器１２内にホ
ルダ１３が設けられており、その上に、配向処理を施そ
うとする配向膜付基板２が載せられている。また、この
ホルダ１３の上方には、ホルダ１３の方に向けてフィラ
メント１８およびイオン源１４が設けられている。
【００１２】配向膜付基板２は、図２も参照して、この
例ではガラス基板４の表面にＩＴＯ（スズをドープした
酸化インジウム）から成る透明電極膜６を形成し、更に
その上にポリイミドから成る配向膜８を塗布したもので
ある。なお、この例で透明電極膜６を図２に示すように
四角形にしているのは試験用のためであり、実際の液晶
ディスプレイでは透明電極膜は例えば細線状にされる。
例ではガラス基板４の表面にＩＴＯ（スズをドープした
酸化インジウム）から成る透明電極膜６を形成し、更に
その上にポリイミドから成る配向膜８を塗布したもので
ある。なお、この例で透明電極膜６を図２に示すように
四角形にしているのは試験用のためであり、実際の液晶
ディスプレイでは透明電極膜は例えば細線状にされる。
【００１３】上記のような装置を用いて、真空容器１２
内を所定の真空度（この例の場合は５×１０-7Ｔｏｒｒ
程度）に保ちながら、イオン源１４から引き出したイオ
ンビーム１６をホルダ１３上の配向膜付基板２の配向膜
８に照射すると同時に、フィラメント１８から電子２０
を引き出してそれを配向膜付基板２の配向膜８に供給し
て、イオンビーム１６による正電荷を中和させるように
した。
内を所定の真空度（この例の場合は５×１０-7Ｔｏｒｒ
程度）に保ちながら、イオン源１４から引き出したイオ
ンビーム１６をホルダ１３上の配向膜付基板２の配向膜
８に照射すると同時に、フィラメント１８から電子２０
を引き出してそれを配向膜付基板２の配向膜８に供給し
て、イオンビーム１６による正電荷を中和させるように
した。
【００１４】この電子２０によってイオンビーム１６の
正電荷を中和させるのは、イオンビーム１６による正電
荷が配向膜８の表面に溜まると、それがイオンビーム１
６の飛来を邪魔して、配向膜８の処理が困難になったり
不均一になったりするので、更には配向処理後に液晶セ
ルを構成したときに電荷によって液晶分子の配向が乱さ
れたりするので、それを防止するためである。
正電荷を中和させるのは、イオンビーム１６による正電
荷が配向膜８の表面に溜まると、それがイオンビーム１
６の飛来を邪魔して、配向膜８の処理が困難になったり
不均一になったりするので、更には配向処理後に液晶セ
ルを構成したときに電荷によって液晶分子の配向が乱さ
れたりするので、それを防止するためである。
【００１５】上記イオンビーム１６には、そのイオンが
配向膜８と反応して配向膜８の性質を変えないようにす
るために、ヘリウム、ネオン、アルゴン等の不活性ガス
イオンビームを用いるのが好ましい。この例では、アル
ゴンイオンビームを用いた。
配向膜８と反応して配向膜８の性質を変えないようにす
るために、ヘリウム、ネオン、アルゴン等の不活性ガス
イオンビームを用いるのが好ましい。この例では、アル
ゴンイオンビームを用いた。
【００１６】上記のような方法で、イオンビーム１６の
加速エネルギーが２００ｅＶ、ビーム電流が１０ｍＡの
条件で、２枚の配向膜付基板２に対してイオンビーム照
射を行った。
加速エネルギーが２００ｅＶ、ビーム電流が１０ｍＡの
条件で、２枚の配向膜付基板２に対してイオンビーム照
射を行った。
【００１７】そして、上記のようにして処理された２枚
の配向膜付基板２を、図３に示すように配向膜８を内側
にして、しかも一方の配向膜付基板２を９０度右回りに
回転させて重ね合わせ、かつ両者間に右回りのカイラル
剤を添加した液晶１０を注入して、ＴＮ（ツイストネマ
ティック）モードの液晶セルを構成し、その液晶１０の
配向状況を調べた。
の配向膜付基板２を、図３に示すように配向膜８を内側
にして、しかも一方の配向膜付基板２を９０度右回りに
回転させて重ね合わせ、かつ両者間に右回りのカイラル
剤を添加した液晶１０を注入して、ＴＮ（ツイストネマ
ティック）モードの液晶セルを構成し、その液晶１０の
配向状況を調べた。
【００１８】その結果、上記液晶セルは光学的異方性を
示しており、液晶１０の配向が確認できた。
示しており、液晶１０の配向が確認できた。
【００１９】なお、上記配向膜８は、ポリイミド以外の
有機高分子材料で形成されていても良い。
有機高分子材料で形成されていても良い。
【００２０】また、配向膜８への電子２０の供給は、例
えば電子銃のようなフィラメント１８以外の電子供給手
段によって行っても良い。
えば電子銃のようなフィラメント１８以外の電子供給手
段によって行っても良い。
【００２１】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、イオン
ビーム照射によって非接触で配向膜に配向処理を施すこ
とができるので、配向処理の際のパーティクルおよび静
電気の発生を抑えることができる。その結果例えば、液
晶ディスプレイの特性を悪化させる要因が少なくなるの
で、液晶ディスプレイの歩留まりを向上させることがで
きるようになる。
ビーム照射によって非接触で配向膜に配向処理を施すこ
とができるので、配向処理の際のパーティクルおよび静
電気の発生を抑えることができる。その結果例えば、液
晶ディスプレイの特性を悪化させる要因が少なくなるの
で、液晶ディスプレイの歩留まりを向上させることがで
きるようになる。
【図１】この発明に係る配向処理方法を実施する装置の
一例を示す概略断面図である。
一例を示す概略断面図である。
【図２】図１中の配向膜付基板の平面図である。
【図３】液晶セルの一例を示す概略断面図である。
２ 配向膜付基板 ４ ガラス基板 ６ 透明電極膜 ８ 配向膜 １２ 真空容器 １４ イオン源 １６ イオンビーム １８ フィラメント ２０ 電子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江原 泰蔵 東京都日野市日野1164番地 株式会社イ ー・エッチ・シー内
Claims (1)
- 【請求項１】 真空中で、基板上に形成されていて液晶
分子を一定方向に配向させるための配向膜に対してイオ
ンビームを照射すると共に、同配向膜に対してこのイオ
ンビームによる正電荷を中和させる電子を供給すること
を特徴とする配向膜の配向処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4306464A JPH06130391A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 配向膜の配向処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4306464A JPH06130391A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 配向膜の配向処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06130391A true JPH06130391A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17957333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4306464A Pending JPH06130391A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 配向膜の配向処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06130391A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5770826A (en) * | 1996-05-10 | 1998-06-23 | International Business Machines Corporation | Atomic beam alignment of liquid crystals |
| US6124914A (en) * | 1996-05-10 | 2000-09-26 | International Business Machines Corporation | Method an apparatus for forming an alignment pattern on a surface using a particle beam useful for a liquid crystal |
| KR100443873B1 (ko) * | 1997-11-17 | 2004-11-17 | 주식회사 엘지화학 | 미세기공막및그의제조방법 |
| US6912031B2 (en) | 2002-07-18 | 2005-06-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
| JP2006072324A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 横電界方式の液晶表示装置及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-10-19 JP JP4306464A patent/JPH06130391A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5770826A (en) * | 1996-05-10 | 1998-06-23 | International Business Machines Corporation | Atomic beam alignment of liquid crystals |
| US6124914A (en) * | 1996-05-10 | 2000-09-26 | International Business Machines Corporation | Method an apparatus for forming an alignment pattern on a surface using a particle beam useful for a liquid crystal |
| KR100443873B1 (ko) * | 1997-11-17 | 2004-11-17 | 주식회사 엘지화학 | 미세기공막및그의제조방법 |
| US6912031B2 (en) | 2002-07-18 | 2005-06-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
| US7164459B2 (en) | 2002-07-18 | 2007-01-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for fabricating a liquid crystal display device having inorganic alignment film made of crystalline conductive film |
| JP2006072324A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 横電界方式の液晶表示装置及びその製造方法 |
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