CN108463750B - 带粘合剂层的单侧保护偏振膜、图像显示装置及其连续制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜中，起偏镜含有聚乙烯醇类树脂，含有相对于起偏镜总量为20重量％以下的硼酸，其厚度为10μm以下，且具有给定光学特性，上述粘合剂层的膜厚小于50μm，将上述粘合剂层在23℃下的储能模量设为G(Pa)、将膜厚设为H(μm)时，50＞H≥32时满足G＞210e^0.2035H，32＞H＞0时满足G＞35000e^0.0433H。上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜中，起偏镜具有给定的光学特性，且可抑制贯穿裂纹及由纳米狭缝引起的缺陷。

Description

带粘合剂层的单侧保护偏振膜、图像显示装置及其连续制造 方法

技术领域

本发明涉及具有仅在起偏镜的单面设置有保护膜的单侧保护偏振膜及粘合剂层的带粘合剂层的单侧保护偏振膜。上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜可以单独、或以层叠有上述偏振膜的光学膜的形式形成液晶显示装置 (LCD)、有机EL显示装置等图像显示装置。

背景技术

对于液晶显示装置而言，从其图像形成方式来看，在形成液晶面板表面的玻璃基板的两侧配置偏振膜是必不可少的。就偏振膜而言，通常使用的是在由聚乙烯醇类膜和碘等二色性材料形成的起偏镜的单面或两面利用聚乙烯醇类粘接剂等贴合保护膜而成的偏振膜。

在将上述偏振膜贴合于液晶单元等时，通常要使用粘合剂。另外，由于具有能够瞬时地固定偏振膜、无需进行用于使偏振膜粘固的干燥工序等优点，因此粘合剂可预先以粘合剂层的形式被设置于偏振膜的单面。即，在偏振膜的贴合中，通常要使用带粘合剂层的单侧保护偏振膜.

另外，偏振膜、带粘合剂层的单侧保护偏振膜在热冲击(例如，重复-30℃和80℃的温度条件的热冲击试验、100℃的高温下试验)的苛刻环境中，存在容易因起偏镜的收缩应力的变化而在起偏镜的整个吸收轴方向产生裂纹(贯穿裂纹)的问题。即，带粘合剂层的单侧保护偏振膜在上述苛刻环境中的相对于热冲击的耐久性不足。特别是，对于从薄型化的观点出发而使用了仅在起偏镜的单面设置保护膜的单侧保护偏振膜的带粘合剂层的单侧保护偏振膜而言，上述相对于热冲击的耐久性不足。另外，由上述热冲击引发的贯穿裂纹在偏振膜的尺寸变大的情况下更容易产生。

例如，为了赋予高温环境下的高耐久性，已提出了使用23℃下的储能模量为0.2～10MPa、且厚度为2μm以上且小于25μm的粘合剂层作为带粘合剂层的单侧保护偏振膜的粘合剂层(专利文献1)。另外，为了抑制上述贯穿裂纹的产生，已提出了将与起偏镜的吸收轴正交的方向的收缩力控制为较小水平、且粘合剂层在23℃下的储能模量为0.20MPa以上的粘合剂层作为带粘合剂层的单侧保护偏振膜的粘合剂层(专利文献2)。另外，对起偏镜也进行了薄型化，例如，已提出了对单体透射率、偏振度这样的光学特性进行了控制且显示高取向性的薄型起偏镜(专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-44211号公报

专利文献2：日本特开2013-72951号公报

专利文献3：日本专利第4751481号说明书

发明内容

发明所要解决的问题

然而，在专利文献1中，为了满足耐久性而使起偏镜的厚度增大为25μm，因此，无法防止由起偏镜的收缩应力导致的贯穿裂纹的产生。另外，专利文献1、2以提高带粘合剂层的单侧保护偏振膜的耐久性为课题，因此，在起偏镜中使用的硼酸比较多。还已知：起偏镜中所含的硼酸多于特定数值的情况下，加热时会因硼酸而促进交联，起偏镜的收缩应力变大，因此，从抑制贯穿裂纹的产生的观点出发并不优选。即，在专利文献1、2中，虽然通过控制粘合剂层的储能模量而在某种程度上防止了贯穿裂纹，但不能说可充分抑制贯穿裂纹的产生。

另一方面，对起偏镜也进行了薄型化。在减薄了带粘合剂层的单侧保护偏振膜中使用的起偏镜的情况下，起偏镜的收缩应力的变化变小。由此可知，如果采用经过了薄型化的起偏镜，则能够抑制上述贯穿裂纹的产生。

然而，在上述贯穿裂纹的产生得到抑制的带粘合剂层的单侧保护偏振膜中，在如专利文献3那样控制光学特性、并减薄了起偏镜的情况下(例如，使厚度为10μm以下的情况下)，已知在对带粘合剂层的单侧保护偏振膜负载机械冲击时(包括起偏镜侧凸折而施加负荷的情况)，会在起偏镜的吸收轴方向局部性地产生极细的缝隙(以下也称为纳米狭缝)。还已知，上述纳米狭缝的产生与偏振膜的尺寸并无关系。进一步还已知，使用在起偏镜的两面具有保护膜的两侧保护偏振膜的情况下，不会产生上述纳米狭缝。另外，在起偏镜产生了贯穿裂纹的情况下，贯穿裂纹周边的应力将被释放，因此贯穿裂纹不会邻接地产生，但就纳米狭缝而言，已知不仅会单独地产生，而且会邻接地产生。另外还已知，贯穿裂纹具有沿着产生了裂纹的起偏镜的吸收轴方向延伸的进展性，但纳米狭缝不具有上述进展性。因此可知，上述纳米狭缝是在贯穿裂纹的产生得到了抑制的单侧保护偏振膜中，在减薄了起偏镜、并且将光学特性控制于给定范围的情况下产生的新的课题，是由与传统已知的上述贯穿裂纹不同的现象引发的课题。

另外，上述纳米狭缝是极细的，因此无法在通常的环境中检测出来。因此，即使在起偏镜上产生了纳米狭缝，也难以仅通过简单观察而根据漏光来确认到带粘合剂层的单侧保护偏振膜的缺陷。即，通常是将单侧保护偏振膜制作成长条膜状、并利用自动光学检查而进行缺陷检查，但通过该缺陷检查是难以将纳米狭缝作为缺陷而检测出来的。还已知，上述由纳米狭缝引起的缺陷可以通过在将带粘合剂层的单侧保护偏振膜贴合于图像显示面板的玻璃基板等并置于加热环境中的情况下，纳米狭缝发生向宽度方向的扩展而检测到(例如，上述漏光的有无)。

因此，在使用了薄型起偏镜的带粘合剂层的单侧保护偏振膜中，不仅要抑制贯穿裂纹，还期待抑制由纳米狭缝引起的缺陷。进一步，对于带粘合剂层的单侧保护偏振膜而言，由于与两侧具有保护膜的两侧保护结构的偏振膜相比较薄，因此容易在操作时导致偏振膜发生折曲、断裂。

本发明的目的在于，提供一种带粘合剂层的单侧保护偏振膜，其具有仅在薄型起偏镜的单面具有保护膜的单侧保护偏振膜及粘合剂层，其中，起偏镜具有给定光学特性，且能够抑制贯穿裂纹及由纳米狭缝引起的缺陷。

另外，本发明的目的在于，提供具有上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜的图像显示装置、以及其连续制造方法。

解决问题的方法

本申请发明人等经过深入研究的结果发现，利用下述的带粘合剂层的单侧保护偏振膜等，可解决上述课题，进而完成了本发明。

即，本发明涉及一种带粘合剂层的单侧保护偏振膜，其具有仅在起偏镜的单面具有保护膜的单侧保护偏振膜、且在上述单侧保护偏振膜的起偏镜侧具有粘合剂层，

上述起偏镜含有聚乙烯醇类树脂，含有相对于起偏镜总量为20重量％以下的硼酸，其厚度为10μm以下，并且以由单体透射率T及偏振度P表示的光学特性满足下式的条件的方式构成：

P＞－(10^0.929T-42.4－1)×100(其中，T＜42.3)、或

P≥99.9(其中，T≥42.3)，

上述粘合剂层的膜厚小于50μm，

将上述粘合剂层在23℃下的储能模量设为G(Pa)、将膜厚设为H(μm)时，

50＞H≥32时满足：

G＞210e^0.2035H，

32＞H＞0时满足：

G＞35000e^0.0433H。

在上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜中，优选上述膜厚H(μm)为32＞H ＞0、储能模量G(Pa)满足G＞35000e^0.0433H。

在上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜中，优选上述粘合剂层的储能模量为3.5×10⁴Pa以上。

另外，可以在上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜的粘合剂层上设置隔膜。设置有隔膜的带粘合剂层的单侧保护偏振膜可以以卷绕体的形式使用。

另外，本发明涉及具有上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜的图像显示装置。

另外，本发明涉及一种图像显示装置的连续制造方法，该方法包括下述工序：将从上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜的卷绕体连续抽出、并通过上述隔膜运送的上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜通过上述粘合剂层连续地贴合于图像显示面板的表面。

发明的效果

本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜使用了厚度10μm以下的起偏镜，是经过了薄型化的偏振膜。另外，与起偏镜的厚度大的情况相比，上述厚度10μm以下的薄型的起偏镜的由于热冲击而施加于起偏镜的收缩应力的变化小，因此能够抑制贯穿裂纹的产生。

另一方面，具有给定光学特性的薄型的起偏镜容易在起偏镜上产生纳米狭缝。纳米狭缝被认为是在单侧保护偏振膜的制造工序、在单侧保护偏振膜上设置粘合剂层的带粘合剂层的单侧保护偏振膜的制造工序、制造了带粘合剂层的单侧保护偏振膜后的各种工序中，在对上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜负载机械冲击时产生的，被设想为基于与由于热冲击而产生的贯穿裂纹不同的机理而产生的。另外，由上述纳米狭缝引起的缺陷可以通过在将带粘合剂层的单侧保护偏振膜贴合于图像显示面板的玻璃基板等并置于加热环境中的情况下，纳米狭缝发生向宽度方向的扩展而检测到(例如，上述漏光的有无)。

对于本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜而言，厚度小于50μm的粘合剂层中，使用了以膜厚和储能模量满足给定关系式的方式进行了控制的粘合剂层，使得在粘合剂层薄的情况下粘合剂层变硬。这样一来，通过使用考虑了膜厚和储能模量而进行了调整的粘合剂层，从而即使在单侧保护偏振膜的状态的起偏镜上产生了上述纳米狭缝的情况下，也能够抑制由于纳米狭缝向宽度方向扩展而引起的缺陷的产生。

如上所述，本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜通过控制粘合剂层的膜厚和储能模量而能够满足薄型化，并且能够抑制在起偏镜上产生的贯穿裂纹及由纳米狭缝引起的缺陷。

附图说明

图1是本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜的剖面简图的一例。

图2是示出本发明的粘合剂层中的储能模量G(Pa)与膜厚H(μm)的关系的图表。

图3是对起偏镜上产生的纳米狭缝和贯穿裂纹进行对比的示意图的一例。

图4是对实施例及比较例的涉及纳米狭缝的评价项目进行说明的示意图。

图5是示出实施例及比较例的评价中涉及的由纳米狭缝引发的裂纹的照片的一例。

图6是示出实施例及比较例的评价中涉及的贯穿裂纹的进展的照片的一例。

图7是图像显示装置的连续制造系统的剖面简图的一例。

符号说明

1 起偏镜

2 保护膜

3 粘接剂层等

4 粘合剂层

5、5a、5b 隔膜

6、6a、6b 表面保护膜

10 单侧保护偏振膜

11 带粘合剂层的单侧保护偏振膜

20a、20b 带粘合剂层的单侧保护偏振膜的卷绕体(卷)

21a、21b 带粘合剂层的单侧保护偏振膜(带表面保护膜)

100 图像显示装置的连续制造系统

101a、101b 偏振膜供给部

151a、151b 连续抽出部

152a、152b 切割部

153a、153b 剥离部

154a、154b 卷取部

201a、201b 贴合部

300 配置更换部

P 图像显示面板

X 图像显示面板的运送部

具体实施方式

以下，参照图1对本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜进行说明。本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜11例如具有单侧保护偏振膜10及粘合剂层4。如图1所示，单侧保护偏振膜10仅在起偏镜1的单面具有保护膜2。起偏镜1和保护膜2隔着粘接剂层3(以及粘合剂层、下涂层(底涂层)等夹隔层)而被层叠在一起。需要说明的是，虽未图示，但对于单侧保护偏振膜10、 10′而言，可以在保护膜2上设置易粘接层、或实施活性化处理后，层叠该易粘接层和粘接剂层。另外，虽未图示，但可以设置多片保护膜2。多片保护膜2可以通过粘接剂层3(以及粘合剂层、下涂层(底涂层)等夹隔层)而层叠。

另外，如图1所示，本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜11中的粘合剂层4设置于单侧保护偏振膜10的起偏镜1一侧。需要说明的是，可以在本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜11的粘合剂层4上设置隔膜5，在其相反侧上，可以设置表面保护膜6。图1的带粘合剂层的单侧保护偏振膜11中，示出的是既设置有隔膜5又设置有表面保护膜6的情况。至少具有隔膜5的带粘合剂层的单侧保护偏振膜11(进一步具有表面保护膜6的偏振膜)可以以卷绕体的形式使用，如后面所述，对于例如将从卷绕体连续抽出、并利用隔膜5运送的带粘合剂层的单侧保护偏振膜11，将其应用于通过该粘合剂层4 贴合于图像显示面板的表面的方式(以下也称为“卷对板(roll-to-panel)方式”，典型的情况可参照日本专利第4406043号说明书)中是有利的。从抑制贴合后的显示面板的翘曲、抑制纳米狭缝的产生等观点出发，优选使用图1中记载的带粘合剂层的单侧保护偏振膜。

如上所述，上述粘合剂层的膜厚小于50μm，

将上述粘合剂层在23℃下的储能模量设为G(Pa)、将膜厚设为H(μm)时，按照在50＞H≥32的情况下满足G＞210e^0.2035H、

在32＞H＞0的情况下满足G＞35000e^0.0433H的方式进行设计。在图2中，关于上式，示出了将储能模量：G(Pa)作为y轴、将膜厚：H(μm)作为x轴表示的图表。该图表中，以膜厚32μm的边界点p1为基准，示出了表示y＝ 210e^0.2035x、y＝35000e^0.0433x的第1关系式的直线。图表中的区域(1)～(3)是满足本发明的粘合剂层的第1关系式的范围。需要说明的是，区域(4)是不满足本发明的粘合剂层的范围。图表中，对实施例及比较例绘制了几个点。

另外，从抑制纳米狭缝的产生的观点出发，优选在上述粘合剂层的膜厚小于45μm的范围中，

按照在45＞H≥26的情况下满足G＞711.9e^0.2035H、

在26＞H＞0的情况下满足G＞45389e^0.0433H的方式进行设计。在图2的图表中，以膜厚26μm的边界点p2为基准，示出了表示y＝711.9e^0.2035x、y ＝45389e^0.0433x的第2关系式的直线。图表中的区域(2)～(3)是满足本发明的粘合剂层的第2关系式的范围。

另外，从抑制纳米狭缝的产生的观点出发，更优选在上述粘合剂层的膜厚小于40μm的范围中，

按照在40＞H≥26的情况下满足G＞2975.6e^0.2035H、

在19＞H＞0的情况下满足G＞61469e^0.0433H的方式进行设计。在图2的图表中，以膜厚19μm的边界点p3为基准，示出了表示y＝2975.6e^0.2035x、y ＝61469e^0.0433x的第3关系式的直线。图表中的区域(3)是满足本发明的粘合剂层的第3关系式的范围。

图3是将在起偏镜上产生的纳米狭缝a和贯穿裂纹b进行对比的示意图。图3(A)中示出了在起偏镜1上产生的纳米狭缝a，图3(B)示出了在起偏镜1 上产生的贯穿裂纹b。纳米狭缝a因机械冲击而产生，沿起偏镜1的吸收轴方向局部地产生的纳米狭缝a在最初产生时无法被确认到，但可在热环境中 (例如，80℃、60℃，90％RH)通过在宽度方向上的扩展而确认。另一方面，纳米狭缝a被认为不具有沿起偏镜的吸收轴方向延伸的进展性。另外，上述纳米狭缝a的产生被认为与偏振膜的尺寸并无关系。纳米狭缝a不仅会单独地产生，而且有时也会邻接地产生。另一方面，贯穿裂纹b因热冲击(例如，热冲击试验)而产生。贯穿裂纹具有沿着产生了裂纹的起偏镜的吸收轴方向延伸的进展性。在产生了贯穿裂纹b的情况下，其周边的应力被释放，因此贯穿裂纹不会邻接地产生。

<起偏镜>

在本发明中，使用厚度10μm以下的起偏镜。从薄型化及抑制贯穿裂纹的产生的观点出发，起偏镜的厚度优选为8μm以下，进一步优选为7μm以下、更进一步优选为6μm以下。另一方面，起偏镜的厚度优选为2μm以上、更优选为3μm以上。这样的薄型起偏镜由于厚度不均少、视觉辨认性优异，并且尺寸变化少，因此相对于热冲击的耐久性优异。

起偏镜可采用使用了聚乙烯醇类树脂的起偏镜。作为起偏镜，可列举例如使碘、二色性染料这样的二色性物质吸附于聚乙烯醇类膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇类膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物类部分皂化膜等亲水性高分子膜并进行单向拉伸而得到的膜、聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯类取向膜等。这些中，优选由聚乙烯醇类膜和碘等二色性物质形成的起偏镜。

用碘对聚乙烯醇类膜染色并进行单向拉伸而成的起偏镜例如可通过将聚乙烯醇浸渍于碘的水溶液中来染色、并拉伸至原长的3～7倍而制作。根据需要，也可以包含硼酸、或硫酸锌、氯化锌等，还可以浸渍于碘化钾等的水溶液中。进一步，也可以根据需要而在染色前将聚乙烯醇类膜浸渍于水中进行水洗。通过对聚乙烯醇类膜进行水洗，除了可以洗去聚乙烯醇类膜表面的污垢、抗粘连剂以外，还具有使聚乙烯醇类膜溶胀从而防止染色不均等不均的效果。拉伸可以在利用碘进行染色之后进行，也可以边染色边拉伸，另外还可以在进行拉伸之后利用碘进行染色。在硼酸、碘化钾等的水溶液或水浴中也可以进行拉伸。

从拉伸稳定性、光学耐久性方面出发，起偏镜可以含有硼酸，但在本发明中，从抑制贯穿裂纹及纳米狭缝的产生、抑制扩张的观点出发，优选使用将起偏镜中所含的硼酸含量调整为相对于起偏镜总量为20重量％以下的起偏镜。起偏镜中所含的硼酸含量优选为18重量％以下，进一步优选为16重量％以下。起偏镜中所含的硼酸含量超过20重量％时，在将起偏镜的厚度控制于10μm以下的情况下，也会导致起偏镜的收缩应力升高、容易产生贯穿裂纹，因此不优选。另一方面，从起偏镜的拉伸稳定性、光学耐久性的观点出发，相对于起偏镜总量的硼酸含量优选为10重量％以上、更优选为12重量％以上。

作为代表性的薄型起偏镜，可列举在日本专利第4751486号说明书、日本专利第4751481号说明书、日本专利第4815544号说明书、日本专利第 5048120号说明书、日本专利第5587517号说明书、国际公开第2014/077599 号小册子、国际公开第2014/077636号小册子等中记载的薄型起偏镜或由这些文献中记载的制造方法得到的薄型起偏镜。

上述起偏镜以由单体透射率T及偏振度P表示的光学特性满足下式的条件的方式构成：

P＞－(10^0.929T-42.4－1)×100(其中，T＜42.3)、或

P≥99.9(其中，T≥42.3)。

主要是，以满足上述条件的方式构成的起偏镜具有作为使用了大型显示元件的液晶电视用显示器所要求的性能。具体而言，对比度为1000:1以上且最大亮度为500cd/m²以上。作为其它用途，例如可贴合于有机EL显示装置的可视侧。

另一方面，以满足上述条件的方式构成的起偏镜由于构成其的高分子(例如聚乙烯醇类高分子)显示高取向性，因此与厚度为10μm以下相互结合，会使得与起偏镜的吸收轴方向正交的方向的拉伸断裂应力显著变小。其结果，例如在偏振膜的制造过程中暴露于超过该拉伸断裂应力的机械冲击时，在起偏镜的吸收轴方向产生纳米狭缝的可能性极高。因此，本发明特别适用于采用了该起偏镜的单侧保护偏振膜(或使用了该起偏镜的带粘合剂层的单侧保护偏振膜)。

作为上述薄型起偏镜，在包括以层叠体的状态进行拉伸的工序和进行染色的工序的制法中，从能够拉伸至高倍率从而使偏光性能提高的观点出发，优选利用如日本专利第4751486号说明书、日本专利第4751481号说明书、日本专利4815544号说明书中记载的那样的包括在硼酸水溶液中进行拉伸的工序的制法而得到的薄型起偏镜，特别优选为通过记载于日本专利第 4751481号说明书、日本专利4815544号说明书中的包括在硼酸水溶液中进行拉伸之前辅助性地进行气体氛围中拉伸的工序的制法而得到的薄型起偏镜。这些薄型起偏镜可通过包括将聚乙烯醇类树脂(以下也称为PVA类树脂) 层和拉伸用树脂基材以层叠体的状态进行拉伸的工序、和进行染色的工序的制法而得到。如果是该制法，则即使PVA类树脂层较薄，由于被拉伸用树脂基材所支撑，也能够不产生由拉伸导致的断裂等不良情况而进行拉伸。

<保护膜>

作为构成上述保护膜的材料，优选为透明性、机械强度、热稳定性、水分阻隔性、各向同性等优异的材料。可列举例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯类聚合物、二乙酸纤维素、三乙酸纤维素等纤维素类聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类聚合物、聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS树脂)等苯乙烯类聚合物、聚碳酸酯类聚合物等。另外，作为形成上述保护膜的聚合物的例子，还可列举：聚乙烯、聚丙烯、环系或具有降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物这样的聚烯烃类聚合物、氯乙烯类聚合物、尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺类聚合物、酰亚胺类聚合物、砜类聚合物、聚醚砜类聚合物、聚醚醚酮类聚合物、聚苯硫醚类聚合物、乙烯醇类聚合物、偏氯乙烯类聚合物、乙烯醇缩丁醛类聚合物、芳酯类聚合物、聚甲醛类聚合物、环氧类聚合物、或上述聚合物的共混物等。

需要说明的是，保护膜中也可以包含1种以上任意适当的添加剂。作为添加剂，可列举例如：紫外线吸收剂、抗氧剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料、着色剂等。保护膜中的上述热塑性树脂的含量优选为50～100重量％、更优选为50～99重量％、进一步优选为60～98重量％、特别优选为70～97重量％。保护膜中的上述热塑性树脂的含量为50重量％以下的情况下，存在无法充分显示出热塑性树脂所固有的高透明性等的隐患。

作为上述保护膜，也可以使用相位差膜、亮度增强膜、扩散膜等。作为相位差膜，可列举具有正面相位差为40nm以上和/或厚度方向相位差为80nm 以上相位差的相位差膜。正面相位差通常控制于40～200nm的范围，厚度方向相位差通常控制于80～300nm的范围。使用相位差膜作为保护膜的情况下，该相位差膜也作为起偏镜保护膜发挥功能，因此能够谋求薄型化。

作为相位差膜，可列举将热塑性树脂膜进行单向拉伸处理或双向拉伸处理而成的双折射性膜。上述拉伸的温度、拉伸倍率等可根据相位差值、膜的材料、厚度而适当设定。

保护膜的厚度可适当确定，但从强度、操作性等作业性、薄层性等方面出发，通常为1～500μm左右。优选为1～300μm，更优选为5～200μm，进一步优选为5～150μm，特别优选为5～80μm的薄型的情况。

可以在上述保护膜的不与起偏镜粘接的一面设置硬涂层、防反射层、防粘附层、扩散层或防眩层等功能层。需要说明的是，上述硬涂层、防反射层、防粘附层、扩散层、防眩层等功能层除了可以设置为保护膜本身以外，也可以另外地设置成与保护膜不同的层。

<夹隔层>

上述保护膜和起偏镜可隔着粘接剂层、粘合剂层、下涂层(底涂层)等夹隔层而层叠。此时，优选利用夹隔层将两者以无空气间隙的方式层叠。上述保护膜和起偏镜优选隔着粘接剂层而层叠。

粘接剂层可利用粘接剂形成。粘接剂的种类没有特殊限制，可使用各种粘接剂。上述粘接剂层只要是在光学上透明的层则没有特殊限制，作为粘接剂，可使用水性、溶剂性、热熔性、活性能量射线固化型等各种形态的粘接剂，但优选为水性粘接剂或活性能量射线固化型粘接剂。

作为水性粘接剂，可列举异氰酸酯类粘接剂、聚乙烯醇类粘接剂、明胶类粘接剂、乙烯基系胶乳类、水性聚酯等。水性粘接剂通常以由水溶液形成的粘接剂的形式被使用，通常含有0.5～60重量％的固体成分。

活性能量射线固化型粘接剂是通过电子束、紫外线(自由基固化型、阳离子固化型)等活性能量射线来进行固化的粘接剂，可以以例如电子束固化型、紫外线固化型的形态使用。活性能量射线固化型粘接剂例如可使用自由基光固化型粘接剂。将自由基光固化型的活性能量射线固化型粘接剂作为紫外线固化型而使用的情况下，该粘接剂含有自由基聚合性化合物及光聚合引发剂。

粘接剂的涂敷方式可根据粘接剂的粘度、目标的厚度而适当选择。作为涂敷方式的例子，可列举例如：逆向涂布器、凹版涂布器(直接、反向、或胶版)、棒式逆向涂布器、辊涂机、模涂机、绕线棒涂布器、棒涂机等。此外，涂敷可以适当采用浸渍方式等方式。

另外，上述粘接剂的涂敷使用水性粘接剂等的情况下，优选以使最终形成的粘接剂层的厚度达到30～300nm的方式进行。上述粘接剂层的厚度进一步优选为60～250nm。另一方面，使用活性能量射线固化型粘接剂的情况下，优选以使上述粘接剂层的厚度达到0.1～200μm的方式进行。更优选为 0.5～50μm、进一步优选为0.5～10μm。

需要说明的是，在进行起偏镜和保护膜的层叠时，可以在保护膜和粘接剂层之间设置易粘接层。易粘接层可利用例如具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚氨酯骨架、有机硅类、聚酰胺骨架、聚酰亚胺骨架、聚乙烯醇骨架等的各种树脂形成。这些聚合物树脂可以单独使用1种、或者将2种以上组合使用。另外，在易粘接层的形成中，也可以加入其它添加剂。具体而言，可以进一步使用增粘剂、紫外线吸收剂、抗氧剂、耐热稳定剂等稳定剂等。

通常，将易粘接层预先设置于保护膜上，并通过粘接剂层使该保护膜的易粘接层侧与起偏镜层叠。易粘接层的形成可通过将易粘接层的形成材料利用公知的技术涂敷于保护膜上并进行干燥来进行。对于易粘接层的形成材料，通常可以考虑到干燥后的厚度、涂敷的顺畅性等而将其制备成稀释至适当浓度的溶液。易粘接层的干燥后的厚度优选为0.01～5μm、更优选为0.02～2μm、进一步优选为0.05～1μm。需要说明的是，易粘接层可以设置多层，在该情况下，也优选使易粘接层的总厚度落在上述范围。

粘合剂层由粘合剂形成。作为粘合剂，可使用各种粘合剂，可列举例如：橡胶类粘合剂、丙烯酸类粘合剂、有机硅类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂、乙烯基烷基醚类粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮类粘合剂、聚丙烯酰胺类粘合剂、纤维素类粘合剂等。可对应于上述粘合剂的种类而选择粘合性的基础聚合物。在上述粘合剂中，从光学透明性优异、显示出适宜的润湿性、凝聚性及粘接性这样的粘合特性、且耐候性、耐热性等优异方面出发，优选使用丙烯酸类粘合剂。

下涂层(底涂层)是为了使起偏镜和保护膜的密合性提高而形成的。作为构成底涂层的材料，只要是对基材膜和聚乙烯醇类树脂层这两者均发挥出一定程度的强密合力的材料则没有特殊限定。例如，可使用透明性、热稳定性、拉伸性等优异的热塑性树脂等。作为热塑性树脂，可列举例如：丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂、聚酯类树脂、聚乙烯醇类树脂、或它们的混合物。

<粘合剂层>

如上所述，以膜厚和储能模量满足上述式的方式控制本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜中的粘合剂层。粘合剂层的膜厚小于50μm。

从再操作(rework)性及加热耐久性(加热时的剥离抑制)的观点出发，优选柔软的粘合剂层，粘合剂层的膜厚例如优选为30μm以下，更优选为25μm 以下。需要说明的是，从抑制剥离的观点出发，粘合剂层的膜厚优选为1μm 以上，更优选为5μm以上。此外，从抑制贴合于面板等时的异物的咬入不良的观点出发，优选厚的粘合剂层，例如更优选为10μm以上，进一步优选为 15μm以上。

另外，根据图2的图表可知，上述粘合剂层在23℃下的储能模量为3.5 ×10⁴Pa以上时，带粘合剂层的单侧保护偏振膜不会因凸折而对起偏镜侧施加负载，从而确保耐裂纹性(抑制纳米狭缝的产生)，在这方面是优选的。进一步优选上述粘合剂层的储能模量为1.0×10⁵Pa以上。另一方面，上述粘合剂层的储能模量变大时，变得过硬，再操作性有变差的倾向，因此，上述粘合剂层的储能模量优选为1×10⁸Pa以下，更优选为1×10⁷Pa以下，进一步优选为1×10⁶Pa以下。

形成上述粘合剂层时，可使用适宜的粘合剂，对于其种类没有特殊限制。作为粘合剂，可列举：橡胶类粘合剂、丙烯酸类粘合剂、有机硅类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂、乙烯基烷基醚类粘合剂、聚乙烯醇类粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮类粘合剂、聚丙烯酰胺类粘合剂、纤维素类粘合剂等。

这些粘合剂中，可优选使用光学透明性优异、显示出适宜的润湿性、凝聚性及粘接性这样的粘合特性、且耐候性、耐热性等优异的粘合剂。作为显示出这样的特征的粘合剂，可优选使用丙烯酸类粘合剂。

作为上述丙烯酸类粘合剂，可使用将以(甲基)丙烯酸烷基酯的单体单元为主骨架的丙烯酸类聚合物作为基础聚合物的粘合剂。需要说明的是，(甲基) 丙烯酸酯是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯，与本发明的(甲基)的意义相同。

构成丙烯酸类聚合物的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基的碳原子数为1～14左右，作为(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例，可列举(甲基)丙烯酸甲酯、 (甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基) 丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯，它们可以单独使用或组合使用。其中，优选烷基的碳原子数为1～9的(甲基)丙烯酸烷基酯。

以改善粘接性、耐热性为目的，可以将1种以上的各种单体通过共聚导入上述丙烯酸类聚合物中。作为这样的共聚单体的具体例，可列举含羧基单体、含羟基单体、含氮单体(包括含有杂环的单体)、含芳香族单体等。

作为含羧基单体，可举例例如：丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸等。其中，优选丙烯酸、甲基丙烯酸。

作为含羟基单体，可列举：(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2- 羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基十二烷基酯、丙烯酸(4-羟基甲基环己基)甲酯等。

另外，作为含氮单体，可列举例如：马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、 N-苯基马来酰亚胺；N-丙烯酰基吗啉；(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基) 丙烯酰胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-己基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基丙烷(甲基)丙烯酰胺等(N-取代)酰胺类单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基) 丙烯酸氨基丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸3-(3-吡啶基)丙酯等(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯类单体；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类单体；N-(甲基)丙烯酰氧基亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-6-氧基六亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-8-氧基八亚甲基琥珀酰亚胺、N-丙烯酰基吗啉等琥珀酰亚胺类单体等作为改性目的的单体的例子。

作为含芳香族单体，可列举例如：(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、 (甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等。

除上述单体以外，还可以列举马来酸酐、衣康酸酐等含酸酐基单体；丙烯酸的己内酯加成物；苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺酸丙酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基单体；2-羟基乙基丙烯酰基磷酸酯等含磷酸基单体等。

还可以使用：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌嗪、乙烯基吡嗪、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基

唑、乙烯基吗啉、N-乙烯基羧酸酰胺类、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己内酰胺等乙烯基类单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯类单体；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等含环氧基的丙烯酸类单体；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、 (甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等聚乙二醇类丙烯酸酯单体；(甲基)丙烯酸四氢糠酯、含氟(甲基)丙烯酸酯、有机硅(甲基) 丙烯酸酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯类单体等。

通过丙烯酸类粘合剂形成粘合剂层的情况下，作为与构成丙烯酸类聚合物的主骨架的单体、即烷基的碳原子数为1～9的(甲基)丙烯酸烷基酯组合的共聚单体，优选含羟基单体。例如，从使120℃下的粘合剂层的储能模量降低方面考虑，优选使用(甲基)丙烯酸丁酯作为构成主骨架的单体、使用(甲基) 丙烯酸2-羟基乙酯作为含羟基单体。

其中，从与交联剂反应性良好的方面出发，优选使用含羟基单体。另外，从粘接性、粘接耐久性方面出发，优选使用丙烯酸等含羧基单体。

上述共聚单体在丙烯酸类聚合物中的比例没有特殊限制，以重量比率计为50重量％以下。优选为0.1～10重量％，更优选为0.5～8重量％，进一步优选为1～6重量％。

丙烯酸类聚合物的平均分子量没有特殊限制，重均分子量优选为30万～250万左右。上述丙烯酸类聚合物的制造可以通过各种公知的方法制造，例如，可适宜选择本体聚合法、溶液聚合法、悬浮聚合法等自由基聚合法。作为自由基聚合引发剂，可使用偶氮类、过氧化物类这样的各种公知的引发剂。反应温度通常设为50～80℃左右、反应时间设为1～8小时。另外，上述制造法中，优选溶液聚合法，作为丙烯酸类聚合物的溶剂，通常使用乙酸乙酯、甲苯等。

可以在上述丙烯酸类聚合物中配合交联剂。利用交联剂，可提高密合性、耐久性，而且能实现高温下的可靠性及粘合剂自身形状的保持。作为交联剂，可以适宜使用异氰酸酯类、环氧类、过氧化物类、金属螯合物类、

唑啉类等。这些交联剂可以使用1种或组合使用2种以上。

异氰酸酯类交联剂使用异氰酸酯化合物。作为异氰酸酯化合物，可列举甲苯二异氰酸酯、氯亚苯基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、四亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯等异氰酸酯单体及使这些异氰酸酯单体与三羟甲基丙烷等加成而得到的加合系异氰酸酯化合物；异氰脲酸酯化物、缩二脲型化合物，还可以列举公知的聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇等经加成反应而得到的氨基甲酸酯预聚物型的异氰酸酯。

上述异氰酸酯类交联剂可以单独使用一种，另外也可以混合两种以上使用，相对于上述(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份，所含的上述多异氰酸酯化合物交联剂的总含量优选为0.01～2重量份，更优选为0.02～2重量份，进一步优选为0.05～1.5重量份。可以考虑在凝聚力、耐久性试验中阻止剥离等而适宜地含有。

作为过氧化物类交联剂，使用各种过氧化物。作为过氧化物，可列举过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁基酯、过氧化特戊酸叔己基酯、过氧化新戊酸叔丁基酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化异丁酸1,1,3,3- 四甲基丁酯、过氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、二(4-甲基苯甲酰基)过氧化物、过氧化二苯甲酰、过氧化异丁酸叔丁酯等。其中，特别优选使用交联反应效率优异的、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二月桂酰、过氧化二苯甲酰。

上述过氧化物可以单独使用一种，另外也可以混合两种以上使用，相对于上述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)100重量份，所含的上述过氧化物的总含量优选为0.01～2重量份，更优选为0.04～1.5重量份，进一步优选为0.05～1重量份。可以在该范围内适宜选择以调整加工性、再操作性、交联稳定性、剥离性等。

此外，可以在粘合剂中含有硅烷偶联剂。通过使用硅烷偶联剂，能够提高耐久性。作为硅烷偶联剂，可使用具有任意合适的官能团的硅烷偶联剂。具体而言，作为官能团，可列举例如：乙烯基、环氧基、氨基、巯基、(甲基) 丙烯酰氧基、乙酰乙酰基、异氰酸酯基、苯乙烯基、多硫化物基等。具体而言，可列举例如：乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三丁氧基硅烷等含乙烯基硅烷偶联剂；γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等含环氧基硅烷偶联剂；γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、 N-(2-氨基乙基)3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-三乙氧基甲硅烷基-N-(1,3- 二甲基丁叉基)丙基胺、N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷等含氨基硅烷偶联剂；γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷等含巯基硅烷偶联剂；对苯乙烯基三甲氧基硅烷等含苯乙烯基硅烷偶联剂；γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷等含(甲基)丙烯酸基硅烷偶联剂；3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等含异氰酸酯基硅烷偶联剂；双(三乙氧基甲硅烷基丙基)四硫化物等含多硫化物基硅烷偶联剂等。

上述硅烷偶联剂可以单独使用，另外也可以混合两种以上使用。相对于上述丙烯酸类聚合物100重量份，上述硅烷偶联剂的总含量优选为0.001～5 重量份，更优选为0.01～1重量份，进一步优选为0.02～1重量份，更进一步优选为0.05～0.6重量份。

作为形成粘合剂层的方法，可利用如下的方法制作：例如，将上述粘合剂涂布于经过了剥离处理的隔膜等，在干燥除去聚合溶剂等而形成粘合剂层之后，在单侧保护偏振膜的起偏镜侧(图1的方式中为起偏镜)上转印的方法；或者涂布上述粘合剂，干燥除去聚合溶剂等而在起偏镜上形成粘合剂层的方法；等等。需要说明的是，在涂布粘合剂时，也可以适当地新加入聚合溶剂以外的一种以上溶剂。

作为经过了剥离处理的隔膜，可优选使用有机硅剥离衬。在将本发明的粘合剂涂布于这样的衬垫上并使其干燥而形成粘合剂层的工序中，作为使粘合剂干燥的方法，可根据目的而适当地采用适宜的方法。优选采用对上述涂布膜进行加热干燥的方法。加热干燥温度优选为40℃～200℃、进一步优选为 50℃～180℃、特别优选为70℃～170℃。通过使加热温度在上述的范围，可以获得具有优异粘合特性的粘合剂。

干燥时间可适当地采用适宜的时间。上述干燥时间优选为5秒钟～20分钟、进一步优选为5秒钟～10分钟、特别优选为10秒钟～5分钟。

作为粘合剂层的形成方法，可采用各种方法。具体可列举例如：辊涂法、辊舐涂布法、凹版涂布法、反向涂布法、辊刷法、喷涂法、浸渍辊涂法、棒涂法、刮涂法、气刀涂布法、淋涂法、模唇涂布法、利用模涂机等的挤出涂布法等方法。

在上述粘合剂层露出的情况下，可以利用经过了剥离处理的片(隔膜)保护粘合剂层直到实际使用为止。

作为隔膜的构成材料，可列举例如：聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯膜等塑料膜、纸、布、无纺布等多孔性材料、网、发泡片、金属箔、及它们的层压体等适宜的薄片物等，但从表面平滑性优异的方面出发，优选使用塑料膜。

作为该塑料膜，只要是能够保护上述粘合剂层的膜则没有特殊限定，可列举例如：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚氨酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。

上述隔膜的厚度通常为5～200μm、优选为5～100μm左右。还可以根据需要采用有机硅类、氟类、长链烷基类或脂肪酸酰胺类的脱模剂、二氧化硅粉等对上述隔膜进行脱模及防污处理、或者对上述隔膜进行涂布型、混入型、蒸镀型等的防静电处理。特别是，可以通过对上述隔膜的表面适当进行有机硅处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理而进一步提高相对于上述粘合剂层的剥离性。

<表面保护膜>

可以在带粘合剂层的单侧保护偏振膜上设置表面保护膜。表面保护膜通常具有基材膜及粘合剂层，并通过该粘合剂层而保护起偏镜。

作为表面保护膜的基材膜，从检查性、管理性等观点出发，可选择具有各向同性或接近于各向同性的膜材料。作为其膜材料，可列举例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等聚酯类树脂、纤维素类树脂、乙酸酯类树脂、聚醚砜类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚烯烃类树脂、丙烯酸类树脂这样的透明的聚合物。这些材料中，优选聚酯类树脂。基材膜也可以使用1种或2种以上的膜材料的层压体，另外，还可以使用上述膜的拉伸物。基材膜的厚度通常为500μm以下、优选为10～200μm。

作为形成表面保护膜的粘合剂层的粘合剂，可适当选择使用以(甲基)丙烯酸类聚合物、有机硅类聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟类、橡胶类等聚合物为基础聚合物的粘合剂。从透明性、耐候性、耐热性等观点出发，优选以丙烯酸类聚合物为基础聚合物的丙烯酸类粘合剂。粘合剂层的厚度(干燥膜厚)可以根据所需要的粘合力来确定。通常为1～100μm左右、优选为5～50μm。

需要说明的是，在表面保护膜中，可以在基材膜的与设置有粘合剂层的面相反的一面，利用经过了有机硅处理、长链烷基处理、氟处理等的低粘接性材料来设置剥离处理层。

<其它光学层>

本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜可以在实际使用时制成与其它光学层层叠的光学膜而使用。关于该光学层，没有特别限定，可以使用1层或2层以上的例如反射板、半透射板、相位差板(包括1/2波片、1/4波片等)、视角补偿膜等有时被用于液晶显示装置等的形成的光学层。特别是，优选在本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜上进一步层叠反射板或半透射反射板而成的反射型偏振膜或半透射型偏振膜、在带粘合剂层的单侧保护偏振膜上进一步层叠相位差板而成的椭圆偏振膜或圆偏振膜、在带粘合剂层的单侧保护偏振膜上进一步层叠视角补偿膜而成的宽视场角偏振膜、或在带粘合剂层的单侧保护偏振膜上进一步层叠亮度增强膜而成的偏振膜。

在带粘合剂层的单侧保护偏振膜上层叠上述光学层而成的光学膜也可以采用在液晶显示装置等的制造过程中依次分别进行层叠的方式来形成，但在预先层叠而制成光学膜时，具有品质的稳定性、组装作业等优异、能够使液晶显示装置等的制造工序改善的优点。层叠可采用粘合剂层等适宜的粘接方式。在进行上述的带粘合剂层的单侧保护偏振膜、其它光学膜的粘接时，它们的光学轴可以根据目标的相位差特性等而形成为适宜的配置角度。

本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜或光学膜可优选用于液晶显示装置、有机EL显示装置等各种图像显示装置的形成等。液晶显示装置的形成可基于现有的方式来进行。即，液晶显示装置通常可通过将液晶单元和带粘合剂层的单侧保护偏振膜或光学膜、以及根据需要而使用的照明系统等构成部件适当地组装并导入驱动电路等而形成，在本发明中，除了使用本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜或光学膜这点以外，并没有特殊限定，可按照现有的方式来形成。对于液晶单元，也可以使用例如IPS型、VA型等任意类型的液晶单元，特别优选IPS型。

可以形成在液晶单元的单侧或两侧配置有带粘合剂层的单侧保护偏振膜或光学膜的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光灯或反射板的液晶显示装置等适宜的液晶显示装置。此时，本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜或光学膜可以设置于液晶单元的单侧或两侧。在两侧设置带粘合剂层的单侧保护偏振膜或光学膜的情况下，它们可以是相同的材料，也可以是不同的材料。进一步，在形成液晶显示装置时，可以在适当的位置配置1层或2层以上的例如扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列片、光扩散板、背光灯等适宜的部件。

<图像显示装置的连续制造方法>

上述的图像显示装置优选通过连续制造方法(卷对板(roll-to-panel)方式) 来制造，所述连续制造方法(卷对板(roll-to-panel)方式)包括：将从本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜的卷绕体(卷)连续抽出、并通过上述隔膜运送的上述带粘合剂层的单侧保护偏振膜通过上述粘合剂层连续地贴合于图像显示面板的表面。本发明的带粘合剂层的单侧保护偏振膜是非常薄的膜，因此在利用切割(单张切割)成片状并一片一片地贴合于图像显示面板的方式(也称为“片对板(sheet-to-panel)方式”)时，片的运送、对显示面板贴合时的操作困难，在这些过程中，带粘合剂层的单侧保护偏振膜(片)受到大的机械性冲击(例如，基于吸附的挠曲等)的风险增高。为了降低这样的风险，需要另外地采取例如使用基材膜的厚度为50μm以上较厚的表面保护膜等的对策。另一方面，如果利用卷对板(roll-to-panel)方式，则带粘合剂层的单侧保护偏振膜无需切割 (单张切割)成片状，可通过连续状的隔膜而稳定地从卷运送至图像显示面板、并保持该状态贴合于图像显示面板，因此无需使用较厚的表面保护膜，可大幅降低上述风险。其结果，与能够利用以膜厚和储能模量满足给定关系式的方式控制的粘合剂层缓和机械的冲击相辅相成，能够实现纳米狭缝的产生得到了有效抑制的图像显示面板的高速连续生产。

图7是示出了采用卷对板(roll-to-panel)方式的液晶显示装置的连续制造系统的一例的简图。

如图7所示，液晶显示装置的连续制造系统100包含：运送液晶显示面板 P的一系列运送部X、第1偏振膜供给部101a、第1贴合部201a、第2偏振膜供给部101b、及第2贴合部201b。

需要说明的是，作为第1带粘合剂层的单侧保护偏振膜的卷绕体(第1 卷)20a及第2带粘合剂层的单侧保护偏振膜的卷绕体(第2卷)20b，使用的是沿长度方向具有吸收轴、且图3的(A)中记载的形式的偏振膜的卷绕体。

(运送部)

运送部X运送液晶显示面板P。运送部X可具有多个运送辊及吸附板等而构成。运送部X包含在第1贴合部201a和第2贴合部201b之间相对于液晶显示面板P的运送方向而更换液晶显示面板P的长边与短边的配置关系的配置更换部(例如，使液晶显示面板P进行90°水平旋转)300。由此，可以使第1带粘合剂层的单侧保护偏振膜21a及第2带粘合剂层的单侧保护偏振膜21b相对于液晶显示面板P以正交尼科尔的关系贴合。

(第1偏振膜供给部)

第1偏振膜供给部101a将从第1卷20a连续抽出、并通过隔膜5a运送的第1 带粘合剂层的单侧保护偏振膜(带表面保护膜)21a连续地供给至第1贴合部 201a。第1偏振膜供给部101a具有：第1连续抽出部151a、第1切割部152a、第 1剥离部153a、第1卷取部154a、及多个运送辊部、张力调节辊(dancer roll)等储能部等。

第1连续抽出部151a具有设置第1卷20a的连续抽出轴，从第1卷20a连续抽出设有隔膜5a的带状的带粘合剂层的单侧保护偏振膜21a。

第1切割部152a具有切刀、激光装置等切割机构及吸附机构。第1切割部 152a将带状的第1带粘合剂层的单侧保护偏振膜21a以给定长度沿宽度方向进行切割并残留隔膜5a。需要说明的是，作为第1卷20a，在使用了在隔膜5a上层叠有以给定长度沿宽度方向形成有多根切入线的带状的带粘合剂层的单侧保护偏振膜21a的卷(刻入有切痕的光学膜卷)的情况下，不需要第1切割部 152a(关于后面叙述的第2切割部152b也同样)。

第1剥离部153a通过以隔膜5a为内侧进行折回而将第1带粘合剂层的单侧保护偏振膜21a从隔膜5a上剥离。作为第1剥离部153a，可列举楔型构件、辊等。

第1卷取部154a对剥离了第1带粘合剂层的单侧保护偏振膜21a后的隔膜 5a进行卷取。第1卷取部154a具有设置用于卷取隔膜5a的卷的卷轴。

(第1贴合部)

第1贴合部201a将利用第1剥离部153a剥离后的第1带粘合剂层的单侧保护偏振膜21a隔着第1带粘合剂层的单侧保护偏振膜21a的粘合剂层而连续地贴合于利用运送部X运送的液晶显示面板P(第1贴合工序)。第1贴合部81具有一对贴合辊而构成，贴合辊中的至少一者由驱动辊构成。

(第2偏振膜供给部)

第2偏振膜供给部101b将从第2卷20b连续抽出、并通过隔膜5b运送的第2 带粘合剂层的单侧保护偏振膜(带表面保护膜)21b连续地贴合于第2贴合部 201b。第2偏振膜供给部101b具有：第2连续抽出部151b、第2切割部152b、第 2剥离部153b、第2卷取部154b、及多个运送辊部、张力调节辊等储能部等。需要说明的是，第2连续抽出部151b、第2切割部152b、第2剥离部153b、第2 卷取部154b分别具有与第1连续抽出部151a、第1切割部152a、第1剥离部153a、第1卷取部154a同样的构成及功能。

(第2贴合部)

第2贴合部201b将利用第2剥离部153b剥离后的第2带粘合剂层的单侧保护偏振膜21b隔着第2带粘合剂层的单侧保护偏振膜21b的粘合剂层而连续地贴合于利用运送部X运送的液晶显示面板P(第2贴合工序)。第2贴合部201b具有一对贴合辊而构成，贴合辊中的至少一者由驱动辊构成。

实施例

以下，结合实施例对本发明进行说明，但本发明并不受以下所示的实施例的限制。需要说明的是，各例中的份及％均为重量基准。以下，没有特别规定的室温放置条件全部为23℃、65％RH。

<起偏镜的制作>

(起偏镜A0的制作)

对吸水率为0.75％、Tg为75℃的非晶性的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯(IPA共聚PET)膜(厚度：100μm)基材的单面实施电晕处理，并对该电晕处理面于25℃涂布以9:1的比例包含聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2 摩尔％)及乙酰乙酰基改性PVA(聚合度1200、乙酰乙酰基改性率4.6％、皂化度99.0摩尔％以上、日本合成化学工业株式会社制、商品名“GOHSEFIMER Z200”)的水溶液并进行干燥，形成了厚度11μm的PVA类树脂层，制作了层叠体。

将所得层叠体于120℃的烘箱内、在圆周速度不同的辊间进行了沿纵向 (长度方向)拉伸至2.0倍的自由端单向拉伸(气体氛围中的辅助拉伸处理)。

接着，将层叠体在液温30℃的不溶化浴(相对于水100重量份配合硼酸4 重量份而得到的硼酸水溶液)中浸渍了30秒钟(不溶化处理)。

接着，在液温30℃的染色液中，以使偏振片达到给定透射率的方式调整碘浓度、浸渍时间，同时进行了浸渍。本实施例中，在相对于水100重量份配合碘0.2重量份、并配合碘化钾1.0重量份而得到的碘水溶液中浸渍了60 秒钟(染色处理)。

接着，在液温30℃的交联浴(相对于水100重量份配合碘化钾3重量份、并配合硼酸3重量份而得到的硼酸水溶液)中浸渍了30秒钟(交联处理)。

然后，将层叠体浸渍于液温70℃的硼酸水溶液(相对于水100重量份配合硼酸4重量份、并配合碘化钾5重量份而得到的水溶液)中的同时，在圆周速度不同的辊间沿着纵向(长度方向)以使总拉伸倍率达到5.5倍的方式进行了单向拉伸(水溶液中拉伸处理)。

然后，将层叠体浸渍于液温30℃的清洗浴(相对于水100重量份配合碘化钾4重量份而得到的水溶液)中(清洗处理)。

通过以上操作，得到了包含厚度5μm的起偏镜的光学膜层叠体。

(起偏镜A1～A7的制作)

在上述的起偏镜A0的制作中，将制造条件如表1所示地进行了变更，除此以外，与起偏镜A0的制作同样地，制作了起偏镜A1～A7。起偏镜A1～A7 的厚度、光学特性(单体透射率、偏振度)、硼酸浓度如表1所示。

(透明保护膜的制作)

透明保护膜：对厚度40μm的具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸树脂膜的易粘接处理面实施电晕处理后使用。

(适用于透明保护膜的粘接剂的制作)

将N-羟基乙基丙烯酰胺(HEAA)40重量份、丙烯酰基吗啉(ACMO)60重量份和光引发剂“IRGACURE 819”(BASF公司制)3重量份混合，制备了紫外线固化型粘接剂。

(单侧保护偏振膜A的制作)

在上述光学膜层叠体的起偏镜A0～A7的表面以使固化后的粘接剂层的厚度成为0.5μm的方式涂布上述紫外线固化型粘接剂，通式贴合上述透明保护膜，然后，作为活性能量射线，照射紫外线，从而使粘接剂固化。紫外线照射使用了封入有镓的金属卤化物灯、照射装置：Fusion UV Systems公司制造的Light HAMMER10、阀：V阀、最大照度:1600mW/cm²、累积照射量 1000/mJ/cm²(波长380～440nm)，紫外线的照度使用Solatell公司制造的Sola-Check系统进行了测定。接下来，将非晶性PET基材剥离，制作了使用了薄型起偏镜的单侧保护偏振膜A0～A7。将得到的单侧保护偏振膜A0～A7 的光学特性(单体透射率、偏振度)示于表3。

<单侧保护偏振膜B>

(起偏镜B(厚度23μm的起偏镜)的制作)

将平均聚合度2400、皂化度99.9摩尔％的厚度75μm的聚乙烯醇膜在 30℃的温水中浸渍60秒钟，使其溶胀。接着，浸渍于碘/碘化钾(重量比＝0.5/8) 的浓度0.3％的水溶液，在拉伸至3.5倍的同时使膜染色。然后，在65℃的硼酸酯水溶液中，以使总的拉伸倍率达到6倍的方式进行了拉伸。拉伸后，在 40℃的烘箱中进行3分钟干燥，得到了PVA类起偏镜(厚度23μm)。

(单侧保护偏振膜B的制作)

在上述PVA类起偏镜的单面，与单侧保护偏振膜A同样地，通过上述紫外线固化型粘接剂而贴合了上述透明保护膜。所得单侧保护偏振膜B的光学特性为：透射率42.8％、偏振度99.99％。

<单侧保护偏振膜C的制作>

(起偏镜D(厚度12μm的起偏镜)的制作)

将平均聚合度2400、皂化度99.9摩尔％的厚度30μm的聚乙烯醇膜在 30℃的温水中浸渍60秒钟，使其溶胀。接着，浸渍于碘/碘化钾(重量比＝0.5/8) 的浓度0.3％的水溶液，在拉伸至3.5倍的同时使膜染色。然后，在65℃的硼酸酯水溶液中，以使总拉伸倍率达到6倍的方式进行了拉伸。拉伸后，在40℃的烘箱中进行3分钟干燥，得到了PVA类起偏镜。所得起偏镜的厚度为12μm。

(单侧保护偏振膜C的制作)

在上述PVA类起偏镜的单面，与单侧保护偏振膜A同样地，通过上述紫外线固化型粘接剂而贴合了上述透明保护膜。所得单侧保护偏振膜D的光学特性为：透射率42.8％、偏振度99.99％

<粘合剂层的形成>

(丙烯酸类粘合剂A)

《丙烯酸类聚合物的制备》

在配备有搅拌桨、温度计、氮气导入管、冷凝器的四颈烧瓶中投料含有丙烯酸丁酯63份及甲基丙烯酸甲酯37份的单体混合物。进一步，相对于上述单体混合物(固体成分)100份，连同甲苯一起投料作为聚合引发剂的2,2′- 偶氮二异丁腈0.1份，缓慢搅拌的同时导入氮气而进行了氮气置换，然后将烧瓶内的液温保持在60℃附近，进行了7小时聚合反应。然后，向所得反应液中加入甲苯，得到了将固体成分浓度调整至30％的重均分子量10万的丙烯酸类聚合物的溶液。

《粘合剂组合物的制备》

相对于上述丙烯酸类聚合物溶液的固体成分100份，配合以具有异氰酸酯基的化合物为主成分的交联剂(日本聚氨酯工业株式会社制，商品名“CORONATE L”)1份及γ-环氧丙氧基丙基甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制，商品名“KBM-403”)0.2份，制备了丙烯酸类粘合剂A的溶液。

(丙烯酸类粘合剂B～F)

在上述的丙烯酸类粘合剂A的＜＜丙烯酸类聚合物的制备＞＞中，如表2所示地变更单体混合物的组成、溶剂，调整了聚合条件，除此以外，进行同样的操作，制备了具有表2所示的重均分子量的丙烯酸类聚合物的溶液。接下来，如表2所示地变更得到的丙烯酸类聚合物的溶液中的交联剂的种类或配合量，除此以外，进行与上述＜＜粘合剂组合物的制备＞＞同样的操作，制备了丙烯酸类粘合剂B～F的溶液。

(粘合剂层的形成)

接下来，将上述丙烯酸类粘合剂溶液利用喷注式涂布器均匀涂敷于经有机硅类剥离剂进行了处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(隔膜)的表面，在155℃的空气循环式恒温烘箱中进行2分钟干燥，在隔膜的表面形成了粘合剂层。制作带粘合剂层的偏振膜时，粘合剂层的膜厚设定为表3所示的厚度。将粘合剂层的储能模量、凝胶率一起示于表2。

表2中，如下地进行表示：

BA：丙烯酸丁酯、

AA：丙烯酸、

MMA：甲基丙烯酸甲酯、

MA：丙烯酸甲酯、

HBA：(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、

ACMO：N-丙烯酰基吗啉、

甲苯/乙酸乙酯为容量比1/1的混合溶剂、

CORONATE L：日本聚氨酯工业株式会社制，商品名“CORONATE L”，三羟甲基丙烷/甲苯二异氰酸酯三聚物加成物、

Takenate D110N：三井化学社制，商品名“Takenate D110N”，三羟甲基丙烷苯二亚甲基二异氰酸酯、

KBM-403：γ-环氧丙氧基丙基甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制，商品名“KBM-403”)。

实施例1～24、比较例1～8

<带粘合剂层的偏振膜的制作>

通过表3所示的粘合剂，将形成于脱模片(隔膜)的剥离处理面上的表3 所示的膜厚的粘合剂层贴合在表3所示的单侧保护偏振膜的起偏镜侧，制作了带粘合剂层的单侧保护偏振膜。

对上述实施例及比较例中得到的带粘合剂层的单侧保护偏振膜进行了下述评价。将结果示于表3。另外，关于粘合剂层的膜厚与储能模量的关系，在表3中示出其属于图2的图表中的哪一区域。

<起偏镜的单体透射率T及偏振度P>

使用带积分球的分光透射率测定器(村上色彩技术研究所的Dot-3c)测定了所得单侧保护偏振膜的单体透射率T及偏振度P。

需要说明的是，偏振度P通过将2片相同的单侧保护偏振膜以两者的透射轴平行的方式叠合的情况下的透射率(平行透射率：Tp)及以两者的透射轴正交的方式叠合的情况下的透射率(正交透射率：Tc)应用于下式而求出。偏振度P(％)＝{(Tp－Tc)/(Tp+Tc)}^1/2×100

各透射率是将通过格兰泰勒棱镜起偏镜后得到的完全偏振光设为100％时，以通过JIS Z8701的2度视野(C光源)测定并进行了可见度补正而得到的 Y值表示的透射率。

<起偏镜中的硼酸含量的测定>

对于实施例及比较例中得到的起偏镜，使用傅里叶变换红外分光光度计(FTIR)(Perkin Elmer公司制、商品名“SPECTRUM2000”)，通过以偏振光为测定光的衰减全反射分光(ATR)测定而测定了硼酸峰(665cm^-1)的强度及对照峰(2941cm^-1)的强度。由所得硼酸峰强度及对照峰强度，利用下式计算出硼酸量指数，并进一步利用下式而由计算出的硼酸量指数确定了硼酸含量(重量％)。

(硼酸量指数)＝(硼酸峰665cm^-1的强度)/(对照峰2941cm^-1的强度)

(硼酸含量(重量％))＝(硼酸量指数)×5.54+4.1

<储能模量的测定>

使用Rheometric公司制造的粘弹性分光计(商品名：RSA-II)进行了23℃下的储能模量的测定。采用了下述测定条件下的23℃下测定值，所述测定条件为：频率1Hz、样品厚度2mm、压粘加重100g、以升温速度5℃/min在-50℃～200℃的范围内升温。

<凝胶率>

对于实施例及比较例中得到的丙烯酸类粘合剂组合物，在与各实施例、比较例相同的干燥条件(温度、时间)下进行处理，形成粘合剂层，进一步在温度23℃、湿度65％RH的条件下放置了5天后，取该粘合剂层0.2g，包裹于预先测定了重量的氟树脂膜(TEMISH NTF-1122、日东电工株式会社制)(重量：Wa)中并进行了捆绑，使得丙烯酸类粘合剂组合物不发生泄漏，将其作为测定样品。对测定样品的重量进行测定(重量：Wb)，置于样品瓶中。在样品瓶中添加乙酸乙酯40cc，放置了7天。然后，取出测定样品(氟树脂膜+丙烯酸类粘合剂组合物)，将该测定样品放在铝杯上，在130℃下干燥2小时。对测定样品的重量(Wc)进行了测定，通过下式求出凝胶率。

[数学式]

<贯穿裂纹的确认：热冲击试验>

将得到的带粘合剂层的单侧保护偏振膜裁切为50mm×150mm(吸收轴方向为50mm)和150mm×50mm(吸收轴方向为150mm)，在0.5mm厚的无碱玻璃的两面以正交尼科尔方向贴合，制作了样品。将该样品投入-40～85℃的热冲击各30分钟×300次的环境中后，取出，通过目测确认是否在带粘合剂层的单侧保护偏振膜上产生贯穿裂纹(条数)。进行该试验5次。评价时，将未产生裂纹的情况评价为“○”、产生了裂纹的情况评价为“×”。

图5是作为带粘合剂层的单侧保护偏振膜11的贯穿裂纹b的确认指标的图，其是偏振膜表面的显微镜的照片的一例。图5中，通过微分干涉显微镜对产生贯穿裂纹的样品进行了观察。

<纳米狭缝的产生抑制：吉他拨片试验>

将所得带粘合剂层的单侧保护偏振膜裁切为50mm×150mm的尺寸(吸收轴方向为50mm)，将其作为样品11。对于样品11，在保护膜2的一侧贴合利用下述方法制作的表面保护膜6后使用。

(试验用表面保护膜)

将在190℃下的熔体流动速率为2.0g/10min的由密度0.924g/cm³的低密度聚乙烯形成的基材层成型材料供给至共挤出用吹胀成型机。

同时，将在230℃下的熔体流动速率为10.0g/10min的由密度0.86g/cm³的丙烯-丁烯共聚物(以质量比计为丙烯:丁烯＝85:15、无规立构结构)形成的粘合剂层成型材料供给至模头温度为220℃的吹胀成型机，进行了共挤出成型。

由此，制造了由厚度33μm的基材层和厚度5μm的粘合剂层构成的表面保护膜。

接着，如图4(A)的示意图、图4(B)的剖面图所示那样，从该样品剥离脱模片(隔膜)，并隔着露出的粘合剂层4而粘贴在玻璃板20上。接着，相对于样品11(表面保护膜6侧)的中央部，利用吉他拨片(HISTORY公司制、型号“HP2H(HARD)”)施加负载200g，在样品11中与起偏镜1的吸收轴正交的方向上100mm的距离内重复了50个往返的负载负荷。上述负载负荷在1个部位进行。

接着，将样品11在80℃的环境中放置1小时之后，利用下述基准确认了样品11有无漏光的裂纹。

◎：0～30个

○：31～200个

△：201～800个

×：801个以上

图6是确认在单侧保护偏振膜11的吉他拨片试验中的漏光的裂纹(纳米狭缝a)的下述指标，是偏振膜表面的显微镜的照片的一例。在图6(A)中，未确认到由纳米狭缝a引起的漏光的裂纹。另一方面，图6(B)是由于加热而沿着起偏镜的吸收轴方向产生了3个由纳米狭缝a引起的漏光的裂纹的情况。比较例的吉他拨片试验的加热后对应于图6(B)这样的状态。图6中，利用微分干涉显微镜对产生了纳米狭缝的样品进行了观察。在对样品进行拍摄时，在产生了纳米狭缝的样品的下侧(透射光源侧)设置未产生纳米狭缝的样品、并使其成正交尼科尔关系，利用透射光进行了观察。

实施例25

使用了长条状的膜作为单侧保护偏振膜、利用微凹版涂布器涂敷了形成材料、以及使用了长条状的材料作为上述的脱模片(隔膜)及下述的表面保护膜，除此以外，与实施例10同样操作。由此，制作了在单侧保护偏振膜的起偏镜侧层叠有隔膜以及在透明保护膜侧层叠有表面保护膜的带粘合剂层的单侧保护偏振膜(图1的方式)的卷绕体。需要说明的是，通过基于带粘合剂层的单侧保护偏振膜的连续运送而进行切割的缝隙加工，使宽度分别与32英寸无碱玻璃的短边及长边相对应，准备了带粘合剂层的单侧保护偏振膜的卷绕体组。

(卷对板(roll-to-panel)用表面保护膜)

在带防静电处理层的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(商品名：Diafoil T100G38、三菱树脂株式会社制、厚度38μm)的与防静电处理面相反侧的面上涂布形成丙烯酸类粘合剂，并使其厚度达到15μm，得到了表面保护膜。

接着，使用图7所示的卷对板(roll-to-panel)方式的连续制造系统，将从带粘合剂层的单侧保护偏振膜的卷绕体组连续地供给的带粘合剂层的单侧保护偏振膜连续地贴合于0.5mm厚的32英寸无碱玻璃100枚的两面、并使它们成正交尼科尔的关系。

<纳米狭缝的产生确认：加热试验>

将两面贴合有带粘合剂层的单侧保护偏振膜的无碱玻璃100片投入80℃的烘箱中24小时，然后通过目测对是否产生了纳米狭缝进行了确认。均未观察到由纳米狭缝引起的缺陷(漏光)的产生。

Claims (5)

1.一种带粘合剂层的单侧保护偏振膜，其具有仅在起偏镜的单面具有保护膜的单侧保护偏振膜、并且在所述起偏镜的不具有保护膜的一面侧具有粘合剂层，

所述起偏镜含有聚乙烯醇类树脂，含有相对于起偏镜总量为20重量％以下的硼酸，所述起偏镜的厚度为10μm以下，并且以由单体透射率T及偏振度P表示的光学特性满足下式的条件的方式构成：

P＞－(10^0.929T-42.4－1)×100，其中T＜42.3，或

P≥99.9，其中T≥42.3，

所述粘合剂层的膜厚小于40μm，

将所述粘合剂层在23℃下的储能模量设为G、其单位为Pa、将膜厚设为H、其单位为μm时，

40＞H≥19时满足：

G＞2975.6e^0.2035H，

19＞H＞0时满足：

G＞61469e^0.0433H，

所述粘合剂层在23℃下的储能模量为5.3×10⁵Pa以上且1×10⁸Pa以下。

2.根据权利要求1所述的带粘合剂层的单侧保护偏振膜，其中，在所述粘合剂层上设置有隔膜。

3.根据权利要求2所述的带粘合剂层的单侧保护偏振膜，其为卷绕体。

4.一种图像显示装置，其具有权利要求1所述的带粘合剂层的单侧保护偏振膜。

5.一种图像显示装置的连续制造方法，其包括下述工序：

将从权利要求3记载的所述卷绕体连续抽出、并利用所述隔膜运送的所述带粘合剂层的单侧保护偏振膜通过所述粘合剂层而连续地贴合于图像显示面板的表面。

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