CN108432349A - 用于激光生成等离子体光源的液滴产生 - Google Patents

用于激光生成等离子体光源的液滴产生 Download PDF

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Abstract

本发明针对于一种装置，所述装置具有：喷嘴，其用于施配液体目标材料；一或多个中间室，每一中间室经定位以接收目标材料且形成有出口孔隙以输出目标材料以供在激光生成等离子体LPP室中进行下游辐照。在一些所揭示实施例中，包含控制系统以用于控制装置的中间室中的一个、一些或所有中间室中的气体温度、气体压力及气体组成物中的一或多者。在一个实施例中，揭示具有可调整长度的中间室。

Description

用于激光生成等离子体光源的液滴产生
相关申请案的交叉参考
本申请案涉及且主张来自以下所列举申请案(“相关申请案”)的最早可用有效申请日期的权益(例如，主张除临时专利申请案之外的最早可用优先权日期或依据35USC§119(e)主张临时专利申请案、相关申请案的任一及所有母案、前代母案、前二代母案等的权益)。
相关申请案：
出于USPTO额外法定要求的目的，本申请案构成申请案序列号为62/253,631的在2015年11月10日提出申请的指定布莱恩阿尔(Brian Ahr)、亚历山大毕卡娜芙(AlexanderBykanov)、鲁迪加西亚(Rudy Garcia)、莱顿黑尔(Layton Hale)及奥列格科迪金(OlegKhodykin)为发明人的标题为用于激光生成等离子体光源的液滴产生(DROPLETGENERATION FOR A LASER PRODUCED PLASMA LIGHT SOURCE)的美国临时专利申请案的正式(非临时)专利申请案，所述专利申请案以其全文引用方式并入本文中。
技术领域
本发明一般来说涉及用于产生处于极紫外线(EUV)范围内的光(即，具有处于10nm到124nm的范围内的波长且包含具有13.5nm的波长的光的光)的基于等离子体的光源。本文中所描述的一些实施例是尤其适合于在计量及/或掩模检验活动(例如，光化掩模检验且包含空白或经图案化掩模检验)中使用的高亮度光源。更一般来说，本文中所描述的基于等离子体的光源也可用作(直接地或在适当修改的情况下)用于使芯片图案化的所谓的大批量制造(HVM)光源。
背景技术
基于等离子体的光源(例如激光生成等离子体(LPP)源)通常用于产生用于例如缺陷检验、光学光刻或计量等应用的极紫外线(EUV)光。概括来说，在这些等离子体光源中，由等离子体发射具有所要波长的光，所述等离子体是由具有适当线发射或频带发射元素(例如氙、锡、锂或其它元素)形成的目标材料形成。举例来说，在LPP源中，由激发源(例如激光射束)辐照目标材料以产生等离子体。
针对这些源，通常经由反射性光学器件(例如收集器光学器件(例如，近法向入射或掠入射镜))来收集从等离子体发出的光。收集器光学器件沿着光路径将经收集光引导(且在一些情形中，聚焦)到中间位置，其中光接着由下游工具(例如光刻工具(即，步进器/扫描仪)、计量工具或掩模/表膜检验工具)使用。
在一些应用中，呈喷射流或液滴(即，液体液滴或冷冻丸粒)的形式的氙在用作目标材料时可提供特定优点。举例来说，由1μm驱动激光器辐照的氙目标材料可用于产生相对亮EUV光源，所述光源尤其适合于在计量工具或掩模/表膜检验工具中使用。
氙及其它低温气体在特殊压力及温度条件下形成液体液滴及固体丸粒。在一个布置中，氙可经加压且经冷却使得其液化。然后，液体氙从喷嘴发射为喷射流且随后液滴由衰减的喷射流形成。液滴(例如，液体液滴或冷冻丸粒液滴)然后行进到真空环境中的位点，其中液滴由激光射束辐照以产生EUV发射等离子体。当喷射流/液滴行进时，氙蒸发从而形成氙气，氙气可强烈地吸收EUV光，从而导致EUV传输中的显著损失。举例来说，其中目标材料经辐照的LPP室中的环境一般经保持到小于约40mTorr的总压力及小于约5mTorr的氙分压以便允许EUV光在不被吸收的情况下传播。就更定量的方式来说，13.5nm EUV光在室温下穿过1Torr×cm(压力×距离)的氙气的光传输率仅是约44％。
液滴定位稳定性是在设计LPP系统时通常考虑的另一因素。具体来说，为实现良好转换效率，期望液滴准确地到达辐照位置以确保目标材料液滴与经聚焦激光射束之间的良好耦合。就此来说，目标材料从喷嘴到辐照位点所经历的环境可影响定位稳定性。影响定位稳定性的因素可包含路径长度、沿着路径的条件(例如温度及压力)(其可影响蒸发速率)及沿着路径的任何气体流。
因此，期望形成改正先前技术的缺点的用于激光生成等离子体光源的液滴产生器。
发明内容
在第一方面中，揭示一种装置，其具有：喷嘴，其用于施配液体目标材料；中间室，其经定位以接收目标材料，所述中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在LPP室中进行下游辐照；及系统，其用于通过将经测量气体流引入到所述中间室中而控制所述中间室中的气体组成物。
针对此方面，所述装置可是单中间室装置或多中间室装置(即，具有两个或多于两个中间室)。
在此方面的一个实施例中，中间室具有从第一端延伸到第二端的通道，其中所述出口孔隙位于所述第二端处。
在特定实施例中，中间室具有从第一端延伸到第二端的通道，其中所述出口孔隙位于所述第二端处，且从所述第一端到所述第二端的通道长度处于20μm到500μm的范围内。在一个特定实施例中，中间室具有在所述第一端处从所述通道延伸的内部表面，所述内部表面具有选自由以下各项组成的形状群组的形状：截头圆锥形、凹形、凸形、平坦的及逐步渐缩的。在一些实施方案中，所述通道可具有特定轮廓，举例来说，至少针对通道的某一区段是拉瓦尔(Lavelle)喷嘴轮廓。
在一个实施例中，中间室的所述出口孔隙可具有处于100μm到1000μm的范围内的直径。
在特定实施例中，中间室具有从第一端延伸到第二端的通道，其中所述出口孔隙位于所述第二端处，所述通道界定轴且所述中间室具有凹形内部表面，所述凹形内部表面在所述第一端处从所述通道延伸到定位于距所述出口孔隙达2mm到10mm的范围内的轴向距离处的边缘。
在一个实施例中，中间室具有从第一端延伸到第二端的通道，其中所述出口孔隙位于所述第二端处，所述通道界定轴且所述中间室具有凹形内部表面，所述凹形内部表面在所述第一端处从所述通道延伸以在所述内部表面与所述轴之间建立大于60度的角度。
在此方面的一个实施方案中，所述液体目标材料是氙(或包含氙)，且所述用于通过将经测量气体流引入到所述中间室中而控制所述中间室中的气体组成物的系统将除氙之外的气体引入到所述中间室中。举例来说，可通过所述用于控制气体组成物的系统引入具有高于所述目标材料气体(例如，氙气)的EUV传输率的气体(例如氢、氦、HBr、氩、氮或其组合)。
针对此方面，所述装置也可包含用于控制一或多个中间室中的气体温度的系统，所述系统具有一或多个温度控制元件。举例来说，温度控制元件可是安置于中间室内的一(或若干)鳍片；定位于中间室外侧的一(或若干)鳍片；帕耳帖(Peltier)冷却元件；形成有内部流体通路的板，所述内部流体通路用于使热转移流体通过所述板；或绝缘板。
在一个实施例中，所述装置可包含电动膜片以建立中间室的所述出口孔隙。
在此方面的一个布置中，第二中间室经定位以从第一中间室出口孔隙接收目标材料且形成有出口孔隙以输出目标材料以供在所述LPP室中进行下游辐照，且所述装置包含用于通过将经测量气体流引入到所述第一中间室中而控制所述第一中间室中的气体组成物的系统及用于通过将经测量气体流引入到所述第二中间室中而控制所述第二中间室中的气体组成物的系统。在此布置下，实施例可包含氙液体目标材料，且所述用于控制所述第一中间室中的气体组成物的系统可将氙分压控制成氙分压pXe1，且所述用于控制所述第二中间室中的气体组成物的系统可将氙分压控制成氙分压pXe2，其中pXe1>pXe2。
在另一方面中，揭示一种装置，所述装置包含：喷嘴，其用于施配液体目标材料；第一中间室，其经定位以接收目标材料，所述第一中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在激光生成等离子体(LPP)中进行下游辐照；及第二中间室，其经定位以接收目标材料，所述第二中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在所述LPP室中进行下游辐照。
在此方面的一个实施例中，所述装置包含经定位以接收目标材料的第三中间室，所述第三中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在所述LPP室中进行下游辐照。在特定实施例中，所述第二中间室从所述第一中间室出口孔隙接收目标材料，所述第三中间室从所述第二中间室出口孔隙接收目标材料，且所述第一中间室出口孔隙具有直径d1，所述第二中间室出口孔隙具有直径d2，且所述第三中间室出口孔隙具有直径d3，以建立空气动力透镜，其中d1>d2>d3。
在此方面的一个特定实施例中，所述第二中间室从所述第一中间室出口孔隙接收目标材料，且所述装置进一步包括用于将所述第一中间室中的气体压力控制于压力p1下的系统，及用于将所述第二中间室中的气体压力控制于压力p2下的系统，其中p1>p2。举例来说，所述用于控制所述第一中间室中的气体压力的系统可包含用于将经测量气体流引入到所述第一中间室中的子系统及用于从所述第一中间室泵送经测量气体流的子系统。
在此方面的实施例中，所述第二中间室从所述第一中间室出口孔隙接收目标材料，且所述装置包含用于将所述第一中间室中的气体温度控制于温度t1下的系统，及用于将所述第二中间室中的气体温度控制于温度t2下的系统，其中t1>t2。
在此方面的实施例中，所述用于控制中间室中的气体温度的系统包括选自由以下各项组成的温度控制元件群组的温度控制元件：安置于中间室内的鳍片；定位于中间室外侧的鳍片；帕耳帖冷却元件；形成有内部流体通路的板，所述内部流体通路用于使热转移流体通过所述板；及绝缘板。
在另一方面中，揭示一种装置，其包含：喷嘴，其用于施配液体目标材料以供在激光生成等离子体(LPP)室中由驱动激光器进行辐照；及组合件，其建立中间室，所述中间室经定位以在室输入位置处接收目标材料，所述中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在激光生成等离子体室中进行下游辐照，所述中间室在所述输入位置与所述出口孔隙之间界定长度L，且其中所述组合件具有用于在所述中间室维持于经加压状态中时调整所述室的所述长度L的子系统。
针对此方面，所述装置可是单中间室装置或多中间室装置(即，具有两个或多于两个中间室)。
在所述方面的一个实施例中，所述组合件包含：第一组件，其具有内径为D1的圆柱形壁；及第二组件，其具有外径为D2的圆柱形壁，其中D1>D2；及密封件，其定位于所述第一组件圆柱形壁与所述第二组件圆柱形壁之间。在特定实施方案中，所述第圆柱形壁界定轴且所述组合件进一步包含电动机，所述电动机经布置以使所述第一及第二组件中的一者轴向移动以使所述长度L变化。
在所述方面的另一实施例中，所述组合件包含具有第一端及第二端的波纹管，及经布置以使所述第一端相对于所述第二端移动以使所述长度L变化的电动机。
在一些实施例中，如本文中所描述的装置可并入到检验系统(例如空白或经图案化掩模检验系统)中。在实施例中，举例来说，检验系统可包含：光源，其将辐射递送到中间位置；光学系统，其经配置以用所述辐射照射样本；及检测器，其经配置以沿着成像路径而接收由所述样本反射、散射或辐射的照射。所述检验系统也可包含与所述检测器通信的计算系统，所述计算系统经配置以基于与所述所检测照射相关联的信号来定位或测量所述样本的至少一个缺陷。
在一些实施例中，如本文中所描述的装置可并入到光刻系统中。举例来说，所述光源可用于光刻系统中以用经图案化辐射射束来使经光阻剂涂覆晶片曝光。在实施例中，举例来说，光刻系统可包含：光源，其将辐射递送到中间位置；光学系统，其接收辐射且建立经图案化辐射射束；及光学系统，其用于将所述经图案化射束递送到经光致抗蚀剂涂覆晶片。
应理解，前述大体描述及以下详细描述两者仅是示范性及解释性且不必限制所请求的本发明。并入本说明书中并构成本说明书的一部分的附图图解说明本发明的实施例，并与所述大体描述一起用于阐释本发明的原理。
附图说明
所属领域的技术人员可通过参考附图更好地理解本发明的众多优点，在附图中：
图1是图解说明根据本发明的一或多个实施例的LPP光源的经简化示意图；
图2是图解说明根据本发明的一或多个实施例的具有单个中间室的液滴产生器的经简化示意图；
图3是图解说明根据本发明的一或多个实施例的具有多个中间室的液滴产生器的经简化示意图；
图4是图解说明根据本发明的一或多个实施例的喷射流产生器的内部细节的液滴产生器的透视截面图；
图5是根据本发明的一或多个实施例的中间室的远端(下游)部分的透视截面图，所述远端(下游)部分具有拥有处于远端的出口孔隙的通道及从所述通道的近端延伸的凹形内表面；
图6是根据本发明的一或多个实施例的在图5中所展示的中间室部分的截面图，所述图展示凹形内表面的长度及倾斜角；
图7是根据本发明的一或多个实施例的封围于图6中的细节箭头7-7内的中间室的一部分的详细截面图，所述图展示通道直径及长度；
图8是根据本发明的一或多个实施例的中间室的远端(下游)部分的透视截面图，所述远端(下游)部分具有拥有处于远端的出口孔隙的通道及凸形内表面，所述凸形内表面从所述通道的近端延伸且由恒定厚度薄片形成；
图9是根据本发明的一或多个实施例的中间室的透视截面图，所述中间室具有拥有处于远端的出口孔隙的通道及从所述通道的近端延伸的逐步渐缩内表面；
图10是图解说明根据本发明的一或多个实施例的中间室的透视截面图，所述中间室具有拥有处于远端的出口孔隙的通道及凸形内表面，所述凸形内表面从所述通道的近端延伸且由具有渐缩厚度的薄片形成；
图11是根据本发明的一或多个实施例的具有多个中间室的液滴产生器的透视截面图，所述中间室建立空气动力透镜；
图12A是根据本发明的一或多个实施例的封围于图11中的细节箭头12A-12A内的中间室的一部分的详细截面图，所述图展示在图11中所展示的中间室中的每一者的通道直径；
图12B是根据本发明的一或多个实施例的封围于图11中的细节箭头12B-12B内的中间室的一部分的详细截面图，所述图展示在图11中所展示的中间室中的每一者的通道直径；
图12C是根据本发明的一或多个实施例的封围于图11中的细节箭头12C-12C内的中间室的一部分的详细截面图，所述图展示在图11中所展示的中间室中的每一者的通道直径；
图13是根据本发明的一或多个实施例的液滴产生器的一部分的经简化截面图，所述液滴产生器具有形成有电动膜片组合件的中间室的出口孔隙；
图14是根据本发明的一或多个实施例的如沿着图13中的线14-14所见的截面图，所述图展示电动膜片组合件；
图15是根据本发明的一或多个实施例的具有用于控制气体温度的环境控制系统的中间室的透视图，所述环境控制系统由具有用于传递热转移流体的通路的板组成；
图16是展示根据本发明的一或多个实施例的两个中间室的截面图，每一中间室均具有用于控制气体温度的环境控制系统，所述环境控制系统由具有用于传递热转移流体的通路的板及将所述两个中间室分离的绝缘体板组成；
图17是展示根据本发明的一或多个实施例的两个中间室的截面图，每一中间室均具有用于控制气体温度的环境控制系统，所述环境控制系统由温度控制蛤壳及绝缘体板组成，所述绝缘体板建立第一中间室的出口孔隙且将所述两个中间室彼此热隔离；
图18是根据本发明的一或多个实施例的多个中间室的截面图，所述图展示用于控制中间室中的一者的气体压力及/或气体组成物的环境控制系统；
图19是根据本发明的一或多个实施例的如沿着图18中的线19-19所见的截面图，所述图展示用于将气体引入到中间室中的端口的对称布置；
图20是根据本发明的一或多个实施例的如沿着图18中的线20-20所见的截面图，所述图展示用于从中间室移除气体的端口的对称布置；
图21是根据本发明的一或多个实施例的具有可调整长度的中间室的第一实施例的截面图；
图22是根据本发明的一或多个实施例的具有可调整长度的中间室的另一实施例的截面图；
图23是图解说明根据本发明的一或多个实施例的并入有光源的检验系统的经简化示意图；及
图24是图解说明根据本发明的一或多个实施例的并入有光源的光刻系统的经简化示意图。
具体实施方式
现在将更详细地参考在附图中图解说明的所揭示的标的物。在一开始，应了解不同图式视图上的相似图式编号识别本发明的相同或功能上类似的结构元件。应理解，所请求的本发明并不限于所揭示方面。此外，应理解，本发明并不限于所描述的特定方法、材料及修改且因此当然可发生变化。也应理解，本文中所使用的术语是仅出于描述特定方面的目的且并不打算限制本发明的范围。
图1展示用于产生EUV光的光源(总体上标示为100)及液滴产生器102的实施例。举例来说，光源100可经配置以产生带内EUV光(例如，具有2％带宽的具有13.5nm的波长的光)。如所展示，光源100包含激发源104(例如驱动激光器)，所述激发源经配置以在辐照位点108处辐照目标材料106以在激光生成等离子体室110中产生EUV光发射等离子体。在一些情形中，目标材料106可通过第一脉冲(预脉冲)后续接着第二脉冲(主脉冲)辐照以产生等离子体。作为实例，对于针对光化掩模检验活动配置的光源100来说，由具有固态增益介质(例如输出处于大约1μm的光的Nd:YAG)的脉冲驱动激光器及包含氙的目标材料106组成的激发源104可在产生用于光化掩模检验的相对高亮度EUV光源时呈现特定优点。具有例如Er:YAG、Yb:YAG、Ti:蓝宝石或Nd:钒酸盐的固态增益介质的其它驱动激光器也可是适合的。如果包含准分子激光器的气体放电激光器提供处于所要波长的充足输出，那么也可使用所述激光器。EUV掩模检验系统可仅需要处于约10W的范围内的EUV光，但需要在小区域中具有高亮度。在此情形中，为产生用于掩模检验系统的具有充足功率及亮度的EUV光，处于几千瓦的范围内的总激光输出可是适合的，所述输出经聚焦到通常直径小于约100μm的小目标点上。另一方面，针对例如光学光刻等大批量制造(HVM)活动，由驱动激光器(其具有拥有多个放大级的高功率气体放电CO2激光系统且输出处于大约10.6μm的光)及包含锡的目标材料106组成的激发源104可呈现特定优点，所述优点包含以良好转换效率产生具有相对高功率的带内EUV光。
继续参考图1，对于光源100来说，激发源104可经配置以用通过激光输入窗112递送的经聚焦照射射束或一列光脉冲在辐照位点108处辐照目标材料106。如进一步所展示，从辐照位点108发射的一些光行进到收集器光学器件114(例如，近法向入射镜)，在收集器光学器件114处光(通过极射线116a及116b所界定)经反射到中间位置118。收集器光学器件114可是具有两个焦点的长球面的区段，所述区段具有涂覆有针对带内EUV反射优化的多层镜(例如，Mo/Si或NbC/Si)的高质量经抛光表面。在一些实施例中，收集器光学器件114的反射性表面具有处于大约100cm2及10,000cm2的范围内的表面积且可经安置为距辐照位点108大约0.1米到2米。所属领域的技术人员将了解，前述范围是示范性的且可替代或除长球面镜之外使用各种光学器件以用于收集光且将光引导到中间位置118以供随后递送到利用EUV照射的装置(例如检验系统或光学光刻系统)。
对于光源100来说，LPP室110是低压容器，其中充当EUV光源的等离子体经形成且所得EUV光经收集并经聚焦。EUV光被气体强烈吸收，因此，减小LPP室110内的压力会减小光源内的EUV光的衰减。通常，LPP室110内的环境经维持于小于40mTorr(例如，针对氩缓冲气体)或针对H2或氦缓冲气体更高的总压力以及小于5mTorr的氙分压以允许EUV光在基本上不被吸收的情况下传播。可在真空室内使用例如氢、氦、氩或其它惰性气体等缓冲气体。
液滴产生器102经布置而以使得液滴将在来自激发源104的经聚焦光脉冲到达辐照位点的同时与辐照位点108相交的方式将目标材料106的液滴递送到LPP室110中。如本文中所使用，就“液滴”来说，其通常意指将通过从激光发射的辐射而作用且借此转换成等离子体的小量材料。“液滴”可以气体、液体或固体相存在。就“丸粒”来说，其通常意指呈固体相的液滴，例如通过在移动到真空室中之后即刻冷冻。作为实例，目标材料106可包括液体或固体氙液滴，但目标材料106可包括适合于转换成等离子体的其它材料，例如其它气体锡或锂。可通过控制系统120控制对液滴产生器102进行的液滴方向及时序调整。在一些情形中，可将电荷放置于液滴上且可施加一或多个电场或磁场以使液滴偏转/稳定化(未展示)。
如在图1中进一步所展示，中间位置118处的EUV射束可经投射到内部聚焦模块122中，所述内部聚焦模块可充当动态气锁以保持LPP室110内的低压环境，且保护使用所得EUV光的系统免受通过等离子体形成工艺产生的任何碎屑的影响。
光源100也可包含与控制系统120通信的气体供应系统124，所述气体供应系统可将目标材料及其它气体(参见下文)提供到液滴产生器102且可控制保护性缓冲气体到LPP室110中(例如，经由端口126)的射入且可供应缓冲气体以保护内部聚焦模块122的动态气锁功能。与控制系统120通信的真空系统128(例如，具有一或多个泵)可经提供以建立并维持LPP室110的低压环境(例如，经由端口130)且在一些情形中提供用于液滴产生器102的泵送(参见下文的论述)。在一些情形中，由真空系统128回收的目标材料及/或缓冲气体可经再循环。
继续参考图1，可见，光源100可包含目标材料传感器132以测量液滴位置及/或时序。此数据然后可用于调整液滴方向及/或调整液滴产生器102及/或激发源104的时序以使液滴产生器102与激发源104同步。此外，诊断工具134可经提供用于使EUV等离子体成像且EUV功率计136可经提供以测量EUV光功率输出。气体监测传感器138可经提供以测量LPP室110内的气体的温度及压力。所有前述传感器均可与控制系统120通信，所述控制系统可控制实时数据获取及分析、数据记录及对各种EUV光源子系统(包含激发源104及液滴产生器102)的实时控制。
图2展示供在图1中所展示的光源100中所使用的液滴产生器102的实例。如所展示，液滴产生器102可包含具有喷嘴142的喷射流产生器140，所述喷嘴将液体目标材料施配为喷射流144，所述喷射流随后在中间室148内分解成液滴146。下文参考图4而提供关于喷射流产生器140的更多细节。也在图2中所展示，中间室148可形成有出口孔隙150以输出目标材料以供在LPP室110中进行下游辐照。图2也展示环境控制系统152可经提供用于控制中间室148中的气体组成物、气体温度及气体压力中的一或多者。线154、156图解说明喷射流产生器140及环境控制系统152可与控制系统120(参见图1)通信。
图3展示供在图1中所展示的光源100中所使用的液滴产生器102a的实例，所述液滴产生器具有沿着目标材料路径连续定位的多个中间室148a、148b。如所展示，液滴产生器102a可包含具有喷嘴142的喷射流产生器140，所述喷嘴将液体目标材料施配为喷射流144，所述喷射流随后在中间室148a、148b内分解成液滴146。也在图3中所展示，每一中间室148a、148b可形成有相应出口孔隙150a、150b以输出目标材料以供在LPP室110中进行下游辐照。图3也展示环境控制系统152a、152b可经提供用于控制每一相应中间室148a、148b中的气体组成物、气体温度及气体压力中的一或多者。线154、156a及156b图解说明喷射流产生器140及环境控制系统152a、152b可与控制系统120(参见图1)通信。尽管图1的液滴产生器102a经展示具有两个中间室148a、148b，但应了解本文中所描述的液滴产生器可包含多于两个(例如，三个、四个、五个或更多)中间室及少至一个中间室(如图2中所展示)。
具有多个中间室148a、148b的液滴产生器102a的使用在一些情形中可是有利的。举例来说，在一些布置中，单室设计中的条件可不能同时针对喷射流、液滴形成及到LPP室110中的发射而优化。举例来说，液滴形成可需要高于在LPP室110之前的最后中间室中所允许的压力；较高压力将产生高流量或需要较小孔隙来限制所述流量。较高流量可导致LPP室110中的增加的目标材料(氙)压力从而减小光传输，且也可由于氙的高成本而是昂贵的。就对准来说，仅使用较小出口孔隙可并非始终可行的。在一些情形中，使用多个中间室可改善真空中的液滴的稳定性。通过减小从中间室到中间室且到EUV室中的总体气体流(Xe加其它气体)，液滴可在其进入下一(些)室时被较少扰乱。室的数目可经选择，使得压力降在室之间产生减少(且在一些情形中消除)液滴扰乱的气体流。
图4展示供在图1中所展示的光源100中所使用的液滴产生器102b的另一实例。如所展示，液滴产生器102b可包含具有喷嘴142的喷射流产生器140，所述喷嘴将液体目标材料施配为喷射流144，所述喷射流随后在中间室148c内分解成液滴146。如所展示，喷射流产生器140包含目标材料源158，所述目标材料源通过形成为伸长管(例如，毛细管)的喷嘴142而馈送液体目标材料的恒定供应。压电致动器160经定位以环绕管且调制目标材料穿过喷嘴尖端162的流动速度。此调制可控制地影响喷射流144分解成液滴146。可使用相关技术中已知的任何调制波形来驱动压电致动器160。举例来说，可使用经设计以产生合并液滴的驱动波形。
也在图4中所展示，中间室148c可形成有出口孔隙150c以输出目标材料以供在LPP室中进行下游辐照。如所展示，截头圆锥形壳164可定位于中间室148c的远端(即，下游)处。对截头圆锥形壳164的更完整描述提供于由毕卡娜芙等人在2014年2月13日提出申请的标题为“在掩模检验中使用低温液滴目标的EUV光源(EUV Light Source Using CryogenicDroplet Targets in Mask Inspection)”的第14/180,107号美国专利申请案中，所述美国专利申请案的完整内容特此以引用方式并入本文中。然而，截头圆锥形壳可并非始终是用以终止每一中间室的最优形状，因为可期望使从一个中间室到另一室的气体流是层状的且足够低以在后续室中维持恰当压力。
图5到7展示中间室148d的远端(即，下游)部分，所述远端部分具有从第一端166延伸到第二端168的通道164，其中中间室148d的出口孔隙150d处于通道164的第二端168。如所展示，中间室148d具有从通道164的第一端166处延伸的凹形内部表面170。针对所展示的布置，中间室148d通常具有从第一端166到第二端168的处于约20μm到500μm的范围内的通道长度L，处于100μm到1000μm的范围内的出口孔隙直径D。此外，针对所展示的布置，凹形内部表面170通常从通道164的第一端166处延伸到定位于距出口孔隙150d轴向距离d(其处于约2mm到10mm的范围内)处的边缘172，且在内部表面170与通道轴174之间包括大于约60度的角度α。
如在图5中所展示，建立出口孔隙150d及内表面170的组件可是板或板组合件(有时称为所谓的“分液器(skimmer)”)，其与中间室148d的壁密封地啮合(例如，通过O形环)。板的定位可是可调整的(即，手动)或通过一或多个致动器以调整通道164的倾斜度(例如，相对于液滴轴)或在正交于液滴轴的平面中移动通道(例如，出于对准目的)。关于此调整的更多细节可查阅由毕卡娜芙等人在2014年2月13日提出申请的标题为“在掩模检验中使用低温液滴目标的EUV光源”的第14/180,107号美国专利申请案，所述美国专利申请案的完整内容先前在上文以引用方式并入。
图5图解说明在凹形轮廓下具有最小厚度的经简化分液器设计。具体来说，用于液滴传播的通道164经最小化，使得通道164内的任何扰动被减少或被消除。上文所提供的尺寸经选择以使到后续室中的流的量及出口孔隙150d周围的压力梯度优化。中间室可以分液器特征终止，所述分液器特征允许喷射流或液滴从中等压力传递到低压(EUV产生所需要)同时限制气体流并使气体流塑形、使每一室的环境与后续室分离且维持液滴的稳定性。
图8到11分别展示中间室148e(图8)、148f(图9)、148g、148h(图10)、148i、148j、148k(图11)的远端(即，下游)部分，其图解说明具有不同内部表面形状的数个实施例。更具体来说，在图8中所展示的中间室148e具有凸形内部表面170e，所述凸形内部表面从由恒定厚度薄片176形成的通道164e延伸。在图9中所展示的中间室148f具有从通道164f延伸的平滑、逐步渐缩内部表面170f。此形状(有时称为所谓的“水闸设计”)可减少从中间室148f传递到后续室(例如LPP室110)中的气体中的紊流。此设计打算在气体进入并离开通道164f时形成周围气体的层状流。在一些情形中，通道164f内的压力梯度可通过使长度、直径以及进口及出口压力变化而调谐以诱发对液滴的自定中心效应。在图10中所展示的中间室148g及148h具有从相应通道164g及164h(其由渐缩薄片176g及176h形成)延伸的凸形内部表面170g及170h。在图11中所展示的中间室148i、148j及148k(也参见图12到14)具有从相应通道164i、164j及164k延伸的平坦、平面内部表面170i、170j及170k。图8到11展示具有圆柱形通道的中间室。可使用具有其它形状的通道。关于各种通道形状及其对通过通道的液滴及气体的影响的更多细节可查阅由毕卡娜芙等人在2014年2月13日提出申请的标题为“在掩模检验中使用低温液滴目标的EUV光源”的第14/180,107号美国专利申请案，所述美国专利申请案的完整内容先前在上文以引用方式并入。此外，可采用相对于其所终止的中间室而延伸进、延伸出或此两种情况的分液器模块。
图11、12A、12B及12C图解说明使用多个中间室148i、148j、148k来建立空气动力透镜以朝向辐照位点108(参见图1)引导液滴。具体来说，一系列出口孔隙150i、150j、150k可经构造以便形成空气动力透镜，所述空气动力透镜将液滴主动地聚焦于每一室内。为建立空气动力透镜，如所展示，中间室的出口孔隙沿喷嘴142的下游的方向减小。更具体来说，出口孔隙150i具有直径d1，出口孔隙150j具有直径d2，且出口孔隙150k具有直径d3，其中d1>d2>d3。图11展示窗173可提供于每一对出口孔隙之间以用于对准及诊断目的，借此相机(未展示)可在明场照射中或作为X射线照片(shadowgram)观察液滴。
应了解，液滴产生器可使用不同类型的分液器(即，一个可是凸形，另一可是凹形)。此外，通道尺寸及/或内部表面尺寸可从一个中间室到下一中间室而变化。
图13及14图解说明具有出口孔隙1501的中间室1481，所述出口孔隙形成有具有膜片组合件175及电动机177的电动膜片组合件，所述电动机可(举例来说)与控制系统120(参见图1)通信。在此布置下，出口孔隙1501的有效直径可以可调整方式控制。此布置可用于建立空气动力透镜(参见图11)的出口孔隙且在一些情形中可用于主动地维持液滴稳定性。在此布置下，除经调整以提供最优压力条件及沿着液滴路径的流量之外，出口孔隙直径也可出于对准目的而扩大。
返回参考图2，可见，具有单个中间室148的液滴产生器102可包含环境控制系统152以用于控制中间室148中的气体组成物、气体温度及气体压力中的一或多者。另外，图3展示具有多个中间室148a、148b的液滴产生器102a可包含环境控制系统152a、152b以用于控制每一相应中间室148a、148b中的气体组成物、气体温度及气体压力中的一或多者。
图15图解说明用于控制中间室148m的气体温度的环境控制系统，所述环境控制系统具有与中间室148m接触定位的板178。如所展示，板178可形成有用于使热转移流体通过板178的内部流体通路180，所述内部流体通路具有进口182及出口184。板178可与中间室148m的壁186接触地放置，所述壁可(举例来说)由例如金属的导热材料制成。热交换流体可通过板178以(举例来说)在控制系统120(参见图1)的控制下加热或冷却中间室148m内的气体。或者，温度控制板可形成中间室的一部分(即，用于传递热交换流体的通路可形成于建立中间室的壁或结构中的一者中)。
目标材料周围的气体的温度的控制结合压力控制(参见下文)可用于控制目标材料的蒸发的速率。可通过控制周围室材料、经插入热元件的温度或通过控制经射入气体的温度而调整所述温度。图15展示在液滴室的端板内的热管理通道，所述液滴室可经保持于相同或不同温度下。工艺流体(举例来说，冷却剂)可经泵送通过所述通道以实现所要温度。热电耦或类似装置可用于监测板及其它组件的实际温度。帕耳帖元件可经添加到冷却通道或替换冷却通道来管理温度。帕耳帖元件可用于视需要施加或移除热，尤其在其中通道可是不可能的区域中。液滴周围的气体的温度可经设定以使目标材料的蒸发速率最小化或通过在约160K与300K之间的范围内变化而视需要使气体加速。邻近室可通过控制所述室之间的气体流的量并且在系统中具有绝缘障壁而保持于不同温度下。
返回参考图4，可见，用于控制中间室148c的气体温度的环境控制系统可包含定位于中间室148c外侧的一或多个鳍片188。举例来说，鳍片188可与中间室148c(例如壁186c或中间室148c的某一其它部分，其可(举例来说)由例如金属等导热材料制成)接触定位。或者，一或多个鳍片可定位于中间室内以控制气体温度。这些鳍片可经由经泵送流体、帕耳帖元件或其它类似装置加热或冷却。
图16图解说明用于控制中间室148n及148p的气体温度的环境控制系统，所述环境控制系统具有与中间室148n接触定位的板178n。板178n可形成有内部流体通路，所述内部流体通路具有用于使热转移流体通过板178n的进口182n及出口184n。此外，板178p与中间室148p接触定位。板178p可形成有内部流体通路，所述内部流体通路具有用于使热转移流体通过板178p的进口182p及出口184p。图16进一步展示板178n及中间室148n可通过绝缘板190而与板178p及中间室148p热隔离，从而允许对中间室148n、148p中的每一者中的气体温度的独立控制。
图17图解说明用于控制中间室148q及148r的气体温度的环境控制系统，所述环境控制系统具有可附接到中间室148q的壁的温度控制蛤壳192q及可附接到中间室148r的壁的温度控制蛤壳192r。图17进一步展示温度控制蛤壳192q及中间室148q可通过绝缘板194(例如，由热绝缘材料制成)而与温度控制蛤壳192r及中间室148r热隔离，所述绝缘板也形成中间室148q的内部表面170q及出口孔隙150q，从而允许对中间室148q、148r中的每一者中的气体温度的独立控制。图17也图解说明帕耳帖冷却元件196可附接到中间室148r(或定位于中间室148r内)以控制气体温度。
图18到20图解说明用于控制中间室148t内的气体压力及/或气体组成物的环境控制系统。如所展示，环境控制系统包含用于将经测量气体流引入到中间室148t中的气体供应系统124及用于从中间室148t移除经测量气体流的真空系统128。如上文参考图1所指示，气体供应系统124及真空系统128两者与控制系统120通信。图19图解说明来自气体供应系统124的经测量气体流可通过经对称定位端口198a到198d(即，端口198a到198d可围绕液滴轴200相等地间隔开)而引入。类似地，图20图解说明由真空系统128移除的经测量气体流可通过经对称定位端口202a到202d(即，端口202a到202d可围绕液滴轴200相等地间隔开)而移除。
如在图18中所展示，到中间室148t的气体输入包含来自气体供应系统124的流(通过箭头204表示)及通过出口孔隙150s而来自中间室148s的流(通过箭头206a、206b表示)。
来自中间室148t的气体输出包含到真空系统128的流(通过箭头208表示)及通过出口孔隙150t而到中间室148u的流(通过箭头210a、210b表示)。
在一个实施方案中，可测量来自气体供应系统124的流率及流组成物以及到真空系统128的流率且可计算穿过出口孔隙150s及出口孔隙150t的流量。然后可使用这些数据来调整气体供应系统124流率及真空系统128流率以控制中间室148t内的气体压力及/或气体组成物。
每一中间室148s、148t可具有其自身压力、温度及气体组成物控制。这些参数可经优化以通过控制(特定来说)目标材料的蒸发速率及每一室之间的气体流而改善每一中间室内的系统的稳定性。喷射流区域中的压力可经保持于约75托与750托之间。到后续室中的压力降可是大约两倍或更少以使气体膨胀是次音速的且使气体流是层状的，其中系统可对大压力梯度敏感(例如到LPP室中的最后进入)。在沿着目标路径的较不敏感的位置处，压力降可是较高的。通过控制每一室内的气体的射入及泵送速率而调整每一室内的压力。举例来说，气体可在室的近端处对称地射入且随后伴随液体或固体的任何蒸发而在每一室的远端处对称地泵送。不同气体(例如氙、氩、氦或氢)也可以变化的浓度射入到每一室中。因此每一气体的流量(通常介于5sccm与1000sccm之间)控制其在室内的浓度。所有气体的总流量也可在具有均质或异质组成物的情况下介于5sccm与1000sccm之间。多室液滴递送系统可允许对沿着喷射流及液滴路径的各种关键位置处的温度、压力及气体组成物的恰当优化。可经由气体的圆柱对称泵送或引入(包含穿过每一室中的任何近端或远端出口孔隙的流量)而控制每一区段内的压力。也可个别地控制每一区段的温度。另外，每一区段可具有不同气体组成物，从而以类似于控制压力的方式来控制浓度。控制这些条件可允许使以下其它性质优化：喷射流形成及稳定性、液滴形成及初始稳定性以及到LPP室中的液滴稳定性的主动或被动维持。
紧接喷射流产生器的下游的中间室中的压力及温度可经保持于目标材料的三相点处或三相点附近。作为实例，氙的三相点是大约161.4度K及612托。然而，在一些情形中，可通过将紧接喷射流产生器的下游的中间室中的气体温度及气体压力维持于并不在目标材料的三相点处或三相点附近的压力/温度而获得较高液滴稳定性。紧接喷射流产生器的下游的中间室的长度可经选择，使得其恰好是足够长以用于液滴形成，所述长度通常小于约1cm。
另外，如上文所指示，每一分液器的几何形状的优化可在喷射流及液滴从一个室传递到下一室时使喷射流及液滴的扰动最小化。所述分液器可经预对准或具有致动器以使其对准到液滴流。在一些情形中，仅通过分液器的出口孔隙移除气体可降低液滴稳定性，且也增加对在LPP室中泵送的需求，或需要可从EUV光源获得的光的量的减少。
图21展示用于建立中间室148v且在中间室148v维持于经加压状态中时调整中间室148v的长度L的组合件。如所展示，中间室148v在室输入位置212处接收目标材料且具有用以输出目标材料的出口孔隙150v且在输入位置212与出口孔隙150v之间界定长度L。所展示的组合件可用于单中间室装置(参见图2)或多中间室装置(即，具有两个或多于两个中间室(参见图3))中。图21进一步展示组合件包含具有是内径D1的圆柱形壁的第一组件214及具有是外径D2的圆柱形壁的第二组件216，其中D1>D2。如所展示，圆柱形壁可围绕轴218同心地布置且密封件220可定位于第一组件214的圆柱形壁与第二组件216的圆柱形壁之间。也可见，组合件包含电动机222(例如步进电动机、线性致动器或其它驱动系统)，所述电动机旋转螺杆224以使组件214、216中的一者沿着轴218相对于另一者移动以使长度L变化。可如所展示提供一或多个轴向支撑件226以确保板在轴向平移期间保持平行。
两个同心圆柱体中的每一者可在一端上具有固定密封件(即，分别是一个圆柱体具有到上部板的近端密封件，另一圆柱体具有到下部板的远端密封件)。此密封可是粘合、硬焊或焊接。或者，圆柱体可经由粘合、硬焊或焊接而附接到含有密封件(例如O形环)的密封板。O形环可是弹性体、经致能特夫纶(Teflon)或金属密封件且可坐靠于凹槽内。此密封件允许含于两个圆柱体内的体积维持于高于外室的压力下。另外，形成有出口孔隙或其它特征的板可在圆柱体的一端处硬焊。所述圆柱体可由透明材料(包含但不限于蓝宝石)制成。另外，如果圆柱体本身并非透明的，那么可沿着圆柱体的长度放置若干窗以允许对准及诊断。
图22展示用于建立中间室148w且在中间室148w维持于经加压状态中时调整中间室148w的长度L的另一组合件。如所展示，中间室148w在室输入位置228处接收目标材料且具有用以输出目标材料的出口孔隙150w且在输入位置228与出口孔隙150w之间界定长度L。所展示的组合件可用于单中间室装置(参见图2)或多中间室装置(即，具有两个或多于两个中间室(参见图3))中。图22进一步展示组合件包含沿着轴232对准的波纹管230，所述波纹管可轴向扩张并收缩以使长度L变化。也可见，组合件包含电动机234，所述电动机旋转螺杆236以扩张/收缩波纹管230且使长度L变化。可如所展示提供一或多个轴向支撑件238。
在图21及22中所展示的组合件可(举例来说)用于使长度L变化，使得喷射流在中间室内分解成液滴。如上文所指示，可在于中间室中维持环境(即，压力、温度及/或组成物)时进行此调整。举例来说，此能力可在喷嘴替换或某一其它改变之后(此可影响喷射流分解成液滴的位置)是有用的。举例来说，当压电换能器频率改变时，喷射流衰减长度可改变，此可在以下情况下是必需的：如果液滴频率需要经调整以匹配驱动激光器频率或如果等离子体辐射频率需要经调谐以匹配某种外部工艺。本文中所描述的可调整长度中间室可(举例来说)允许对室长度进行调谐以获得匹配喷射流的特定衰减长度、液滴组合长度或沿着液滴递送系统的其它临界长度的最优长度。
波纹管230可终止于透明区段(举例来说，硬焊玻璃或蓝宝石)中或具有透明窗以用于对准及诊断目的。此电动化可用于空气动力透镜组合件(参见图11及对应描述)中并且调整各种孔隙之间的距离以使所述透镜系统优化。此外，中间室长度的调整可使得系统能够在根据不同参数(压力、温度、气体组成物等)进行调整或根据外部改变(例如驱动激光器频率或所要LPP频率)进行调整时是灵活的。
EUV照射可用于例如检验、光学光刻或计量等半导体工艺应用。举例来说，如在图23中所展示，检验系统240可包含照射源242，所述照射源并入有具有本文中所描述的液滴产生器中的一者的光源(例如上文所描述的光源100)。检验系统240可进一步包含经配置以支撑至少一个样本244(例如半导体晶片或空白或经图案化掩模)的载台246。照射源242可经配置以经由照射路径照射样本244，且可沿着成像路径而将从样本244反射、散射或辐射的照射引导到至少一个检测器250(例如，相机或光传感器阵列)。通信地耦合到检测器250的计算系统252可经配置以处理与所检测照射信号相关联的信号以根据嵌入于来自非暂时性载体媒体254的程序指令256(其可由计算系统252的处理器执行)中的检验算法来定位及/或测量样本244的一或多个缺陷的各种属性。
进一步举例来说，图24大体上图解说明包含照射源302的光学光刻系统300，所述照射源并入有具有本文中所描述的液滴产生器中的一者的光源(例如上文所描述的光源100)。光学光刻系统可包含经配置以支撑至少一个衬底304(例如半导体晶片)以用于光刻处理的载台306。照射源302可经配置以用由照射源302输出的照射在衬底304上或在安置于衬底304上的层上执行光学光刻。举例来说，输出照射可经引导到光罩308且从光罩308引导到衬底304以根据经照射光罩图案使衬底304的表面或衬底304上的层图案化。图23及24中所图解说明的示范性实施例大体上描绘上文所描述的光源的应用；然而，所属领域的技术人员将了解所述源可在不背离本发明的范围的情况下适用于多种上下文中。
所属领域的技术人员将进一步了解，存在本文中所描述的工艺及/或系统及/或其它技术可受其影响的各种载具(例如，硬件、软件及/或固件)，且优选载具将随其中部署所述工艺及/或系统及/或其它技术的上下文而变化。在一些实施例中，由以下各项中的一或多者执行各种步骤、功能及/或操作：电子电路、逻辑门、多路复用器、可编程逻辑装置、ASIC、模拟或数字控制件/切换器、微控制器或计算系统。计算系统可包含(但不限于)个人计算系统、主机计算系统、工作站、图像计算机、并行处理器或此项技术中已知的任何其它装置。一般来说，术语“计算系统”广泛地定义为囊括具有执行来自载体媒体的指令的一或多个处理器的任何装置。实施例如本文中所描述的那些方法的方法的程序指令可经由载体媒体传输或存储于载体媒体上。载体媒体可包含传输媒体，例如导线、缆线或无线传输链路。所述载体媒体也可包含例如只读存储器、随机存取存储器、磁盘或光盘或者磁带等存储媒体。
本文中所描述的所有方法可包含将方法实施例中的一或多个步骤的结果存储于存储媒体中。所述结果可包含本文中所描述的结果中的任一者且可以此项技术中已知的任何方式存储。存储媒体可包含本文中所描述的任何存储媒体或此项技术中已知的任何其它适合存储媒体。在已存储结果之后，所述结果可在所述存储媒体中存取且由本文中所描述的方法或系统实施例中的任一者使用，经格式化以用于向用户显示，由另一软件模块、方法或系统等使用。此外，可“永久性地”、“半永久性地”、“暂时性地”或在某一时间段内存储结果。举例来说，存储媒体可是随机存取存储器(RAM)，且结果可不必无限期地存留于所述存储媒体中。
尽管已图解说明本发明的特定实施例，但应明了所属领域的技术人员可在不背离前述揭示内容的范围及精神的情况下做出本发明的各种修改及实施例。因此，本发明的范围应仅受附加于本发明的权利要求书限制。

Claims (26)

1.一种装置，其包括：
喷嘴，其用于施配液体目标材料；
中间室，其经定位以接收目标材料，所述中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在激光生成等离子体室中进行下游辐照；及
系统，其用于通过将经测量气体流引入到所述中间室中而控制所述中间室中的气体组成物。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述中间室具有从第一端延伸到第二端的通道，其中所述出口孔隙位于所述第二端处。
3.根据权利要求1所述的装置，其中所述中间室具有从第一端延伸到第二端的通道，其中所述出口孔隙位于所述第二端处，且从所述第一端到所述第二端的通道长度处于20μm到500μm的范围内。
4.根据权利要求1所述的装置，其中所述出口孔隙具有处于100μm到1000μm的范围内的直径。
5.根据权利要求2所述的装置，其中所述中间室具有在所述第一端处从所述通道延伸的内部表面，所述内部表面具有选自由以下各项组成的形状群组的形状：凹形、凸形、平坦的及逐步渐缩的。
6.根据权利要求2所述的装置，其中所述通道界定轴且所述中间室具有凹形内部表面，所述凹形内部表面在所述第一端处从所述通道延伸到定位于距所述出口孔隙达2mm到10mm的范围内的轴向距离处的边缘。
7.根据权利要求2所述的装置，其中所述通道界定轴且所述中间室具有凹形内部表面，所述凹形内部表面在所述第一端处从所述通道延伸以在所述内部表面与所述轴之间建立大于60度的角度。
8.根据权利要求2所述的装置，其中所述液体目标材料是氙，且所述用于通过将经测量气体流引入到所述中间室中而控制所述中间室中的气体组成物的系统将除氙之外的气体引入到所述中间室中。
9.根据权利要求1所述的装置，其进一步包括用于控制所述中间室中的气体温度的系统，所述系统具有选自由以下各项组成的温度控制元件群组的温度控制元件：安置于所述中间室内的鳍片；定位于所述中间室外侧的鳍片；帕耳帖冷却元件；形成有内部流体通路的板，所述内部流体通路用于使热转移流体通过所述板；及绝缘板。
10.根据权利要求1所述的装置，其进一步包括电动膜片以建立所述中间室出口孔隙。
11.根据权利要求1所述的装置，其中所述中间室是第一中间室且所述装置进一步包含第二中间室，所述第二中间室经定位以从所述第一中间室出口孔隙接收目标材料且形成有出口孔隙以输出目标材料以供在所述LPP室中进行下游辐照，且其中所述装置进一步包括系统，所述系统用于通过将经测量气体流引入到所述第二中间室中而控制所述第二中间室中的气体组成物。
12.根据权利要求11所述的装置，其中所述液体目标材料是氙，且其中所述用于控制所述第一中间室中的气体组成物的系统将氙分压控制成氙分压pXe1，且所述用于控制所述第二中间室中的气体组成物的系统将所述氙分压控制成氙分压pXe2，其中pXe1>pXe2。
13.一种装置，其包括：
喷嘴，其用于施配液体目标材料；
第一中间室，其经定位以接收目标材料，所述第一中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在激光生成等离子体LPP中进行下游辐照；及
第二中间室，其经定位以接收目标材料，所述第二中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在所述LPP室中进行下游辐照。
14.根据权利要求13所述的装置，其进一步包括经定位以接收目标材料的第三中间室，所述第三中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在所述LPP室中进行下游辐照。
15.根据权利要求13所述的装置，其中所述第二中间室从所述第一中间室出口孔隙接收目标材料，所述第三中间室从所述第二中间室出口孔隙接收目标材料，且其中所述第一中间室出口孔隙具有直径d1，所述第二中间室出口孔隙具有直径d2，且所述第三中间室出口孔隙具有直径d3，以建立空气动力透镜，其中d1>d2>d3。
16.根据权利要求13所述的装置，其中所述第二中间室从所述第一中间室出口孔隙接收目标材料，且所述装置进一步包括用于将所述第一中间室中的气体压力控制于压力p1下的系统，及用于将所述第二中间室中的气体压力控制于压力p2下的系统，其中p1>p2。
17.根据权利要求16所述的装置，其中所述用于控制所述第一中间室中的气体压力的系统包括用于将经测量气体流引入到所述第一中间室中的子系统，及用于从所述第一中间室泵送经测量气体流的子系统。
18.根据权利要求13所述的装置，其中所述第二中间室从所述第一中间室出口孔隙接收目标材料，且所述装置进一步包括用于将所述第一中间室中的气体温度控制于温度t1下的系统，及用于将所述第二中间室中的气体温度控制于温度t2下的系统，其中t1>t2。
19.根据权利要求13所述的装置，其中用于控制所述第一中间室中的气体温度的所述系统包括选自由以下各项组成的温度控制元件群组的温度控制元件：安置于所述第一中间室内的鳍片；定位于所述第一中间室外侧的鳍片；帕耳帖冷却元件；及周围形成有内部流体通路的板，所述内部流体通路用于使热转移流体通过所述板；及绝缘板。
20.根据权利要求13所述的装置，其进一步包括电动膜片以建立所述第一中间室出口孔隙。
21.一种装置，其包括：
喷嘴，其用于施配液体目标材料以供在激光生成等离子体LPP室中由驱动激光器进行辐照；及
组合件，其建立中间室，所述中间室经定位以在室输入位置处接收目标材料，所述中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在激光生成等离子体室中进行下游辐照，所述中间室在所述输入位置与所述出口孔隙之间界定长度L，且其中所述组合件具有用于在所述中间室维持于经加压状态中时调整所述室的所述长度L的子系统。
22.根据权利要求21所述的装置，其中所述中间室是第一中间室且所述装置进一步包含第二中间室，所述第二中间室形成有出口孔隙以输出目标材料以供在所述LPP室中进行下游辐照。
23.根据权利要求22所述的装置，其中所述第二中间室经定位以从所述第一中间室出口孔隙接收目标材料。
24.根据权利要求21所述的装置，其中所述组合件包括：第一组件，其具有内径为D1的圆柱形壁；及第二组件，其具有外径为D2的圆柱形壁，其中D1>D2；及密封件，其定位于所述第一组件圆柱形壁与所述第二组件圆柱形壁之间。
25.根据权利要求21所述的装置，其中所述第一圆柱形壁界定轴且所述组合件进一步包括电动机，所述电动机经布置以使所述第一及第二组件中的一者轴向移动以使所述长度L变化。
26.根据权利要求21所述的装置，其中所述组合件包括具有第一端及第二端的波纹管，及经布置以使所述第一端相对于所述第二端移动以使所述长度L变化的电动机。
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