CN108381330B - 一种抛光装置及抛光设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种抛光装置及抛光设备,属于抛光设备领域。抛光装置包括机架、抛光盘、第一驱动装置、支撑架、活动架、第二驱动装置和夹具,抛光盘可转动的设置于机架。第一驱动装置用于驱动抛光盘相对机架绕第一竖轴线转动。支撑架设于机架上。活动架与支撑架活动连接。第二驱动装置用于驱动活动架相对支撑架竖向移动。夹具可转动的设置于活动架,夹具能够相对活动架绕第二竖轴线转动,夹具位于抛光盘的上方。在抛光过程中,由于夹具与活动架转动连接,抛光盘在转动的同时将带动整个夹具转动,从而带动晶体转动,进而提高了对晶体的抛光效果。

Description

一种抛光装置及抛光设备
技术领域
本发明涉及抛光设备领域,具体而言,涉及一种抛光装置及抛光设备。
背景技术
高效率激光晶体LBO,YCOB等非先生光学晶体,时用于超短、超强激光器的关键非线性材料,该类晶体具有宽的透过范围,适中的非线性系数,高损伤阈值和良好的化学和机械特性,广泛应用于激光倍频以及光参量振荡器和光参量放大器等强激光领域。在对晶体的加工过程中,需要利用抛光装置对晶体进行抛光,现有的抛光装置一般仅依靠旋转的抛光盘对晶体进行抛光,抛光效果差。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抛光装置,以改善现有抛光装置抛光效果差的问题。
本发明的目的在于提供一种抛光设备,以改善现有抛光装置抛光效果差的问题。
本发明是这样实现的:
基于上述第一目的,本发明提供一种抛光装置,包括:
机架;
抛光盘,所述抛光盘可转动的设置于所述机架;
第一驱动装置,所述第一驱动装置用于驱动所述抛光盘相对所述机架绕第一竖轴线转动;
支撑架,所述支撑架设于所述机架上;
活动架,所述活动架与所述支撑架活动连接;
第二驱动装置,所述第二驱动装置用于驱动所述活动架相对所述支撑架竖向移动;
夹具,所述夹具可转动的设置于所述活动架,所述夹具能够相对所述活动架绕第二竖轴线转动,所述夹具位于所述抛光盘的上方。
本发明优选实施例中,所述抛光装置还包括第三驱动装置;
所述支撑架与所述机架活动连接,所述第三驱动装置用于驱动所述支撑架相对所述机架移动,以使第二竖轴线沿所述抛光盘的径向移动。
本发明优选实施例中,所述夹具包括放置盘,所述放置盘上设有用于放置晶体的放置孔。
本发明优选实施例中,所述夹具还包括夹具座和挤压件,所述夹具座可转动的设置于所述活动架;
所述放置盘可移动的设置于所述夹具座上,所述放置盘能够相对所述夹具座竖向移动;
挤压件,所述挤压件设于所述夹具座,当所述放置盘向靠近所述夹具座的方向竖向移动时,所述挤压件能够挤压所述晶体。
本发明优选实施例中,所述挤压件包括固定体、活动体和弹性件;
所述固定体与所述夹具座连接,所述活动体可移动的设置于所述固定体,所述活动体能够相对所述固定体竖向移动;
所述弹性件设于所述活动体与所述固定体之间,所述弹性件具有推动所述活动体相对所述固定体竖向向下移动的趋势。
本发明优选实施例中,所述活动体包括用于挤压所述晶体的挤压体,所述挤压体位于所述放置孔内;
所述放置孔的孔壁上设有限位部,所述限位部位于所述挤压体竖向向上移动的轨迹上。
本发明优选实施例中,所述放置孔为上小下大的锥形结构。
本发明优选实施例中,所述活动体还包括杆体,所述固定体上设有导向孔,所述杆体的一端与所述挤压体连接,所述杆体的另一端延伸至所述导向孔内;
所述杆体上设有第一凸出部,所述导向孔的孔壁上设有第二凸出部,所述第二凸出部位于所述第一凸出部竖向向下移动的轨迹上。
本发明优选实施例中,所述夹具还包括至少两个导向件,所述导向件为伸缩结构,所述导向件的一端与所述夹具座连接,所述导向件的另一端与所述放置盘连接。
基于上述第二目的,本发明提供一种抛光设备,包括抛光液供给装置和上述的抛光装置,所述抛光液供给装置用于为所述抛光盘提供抛光液。
本发明的有益效果是:
本发明提供一种抛光装置,工作时,晶体设于夹具中,在第二驱动装置作用下,活动架可相对支撑架竖向向下移动,从而使晶体与抛光盘接触,抛光盘在第一驱动装置的作用下转动,从而对晶体进行抛光处理。在抛光过程中,由于夹具与活动架转动连接,抛光盘在转动的同时将带动整个夹具转动,从而带动晶体转动,进而提高了对晶体的抛光效果。
本发明提供一种抛光设备,包括上述抛光装置,具有上述抛光装置的所有优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明实施例1提供的抛光装置的结构示意图;
图2为图1所示的支撑架的结构示意图;
图3为图1活动架的结构示意图;
图4为图1所示的夹具的结构示意图;
图5为图4所示的挤压件的结构示意图;
图6为本发明实施例2提供的抛光设备的结构示意图。
图标:100-抛光装置;10-机架;11-顶板;12-底板;13-支撑杆;14-滑槽;20-抛光盘;21-抛光层;22-基层;23-转轴;30-第一驱动装置;31-第一电机;32-第一齿轮;33-第二齿轮;40-支撑架;41-底座;42-导柱;43-中心孔;44-条形通孔;50-活动架;51-第一套筒;52-连杆;53-第二套筒;60-第二驱动装置;61-第二电机;62-第一丝杆;70-夹具;71-放置盘;711-放置孔;712-限位部;72-夹具座;73-挤压件;731-固定体;7311-导向孔;7312-第二凸出部;732-活动体;7321-杆体;7322-挤压体;7323-第一凸出部;733-弹性件;74-导向件;741-外管;742-内杆;80-第三驱动装置;81-第三电机;82-第二丝杆;90-中心轴;200-抛光设备;210-出液管。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本发明实施例的描述中,需要说明的是,指示方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明实施例的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接连接,也可以通过中间媒介间接连接。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例1
如图1所示,本实施例提供一种抛光装置100,包括机架10、抛光盘20、第一驱动装置30、支撑架40、活动架50、第二驱动装置60、夹具70和第三驱动装置80。抛光盘20可转动的设置于机架10,第一驱动装置30用于驱动抛光盘20相对机架10绕第一竖轴线转动;支撑架40设于机架10上,活动架50与支撑架40活动连接,第二驱动装置60用于驱动活动架50相对支撑架40竖向移动;夹具70可转动的设于活动架50,夹具70能够相对活动架50绕第二竖轴线转动,夹具70位于抛光盘20的上方,第二竖轴线与第一竖轴线不共线;支撑架40与机架10活动连接,第三驱动装置80用于驱动支撑架40相对机架10移动,以使夹具70沿抛光盘20的径向移动。
其中,机架10的作用是支撑各个部件。本实施例中,机架10包括顶板11、底板12和支撑杆13,顶板11与底板12通过支撑杆13连接,顶板11平行于底板12。顶板11的上表面设有滑槽14,滑槽14为T形槽
抛光盘20为圆盘形,抛光盘20包括抛光层21和基层22,抛光层21设于基层22的上表面。基层22为金属材质,抛光层21为聚氨酯材质。
抛光盘20通过转轴23与机架10连接。转轴23的一端与抛光盘20的基层22连接固定,转轴23与抛光盘20同轴设置。转轴23同时穿设于机架10的顶板11和底板12内,转轴23可相对机架10转动,转轴23的轴线即为第一竖轴线。本实施例中,第一驱动装置30包括第一电机31、第一齿轮32和第二齿轮33,第一电机31固定于机架10的底板12上,第一齿轮32固定于转轴23上,第二齿轮33固定于第一电机31的输出轴上,第一齿轮32与第二齿轮33啮合。当电机工作时,转轴23将带动抛光盘20相对机架10绕第一竖轴线转动。
如图2所示,支撑架40包括底座41和导柱42,底座41的截面为T形块,导柱42内设有中心孔43,导柱42的侧壁上设有贯通中心孔43的条形通孔44,条形通孔44的延伸方向与导柱42的轴向一致,导柱42的底端与底座41连接固定。
如图3所示,活动架50包括第一套筒51、连杆52和第二套筒53,连杆52的一端与第一套筒51连接,连杆52的另一端与第二套筒53连接,第一套筒51的轴线与第二套筒53的轴线平行,第一套筒51的轴向垂直于连杆52的长度方向。第一套筒51的外径与导柱42内的中心孔43的孔径相匹配。
如图1所示,活动架50可移动的设置于支撑架40的导柱42上,活动架50水平布置,活动架50的第一套筒51设于导柱42的中心孔43内,并形成滑动配合,活动架50的连杆52穿过导柱42上的条形通孔44,使得第二套筒53位于导柱42以外。本实施例中,第二驱动装置60包括第二电机61和第一丝杆62,第二电机61固定于导柱42上,第一丝杆62与第二电机61的输出轴连接,第一丝杆62延伸至中心孔43内,第一套筒51螺接于第一丝杆62的外侧。当第二电机61工作时,第一丝杆62转动,从而使活动架50相对支撑架40竖向移动。第二电机61正向转动,活动架50竖向向上移动;第二电机61反向转动,活动架50竖向向下移动。
支撑架40的底座41可滑动的设置在机架10的顶板11上的滑槽14内,支撑架40竖向布置。本实施例中,第三驱动装置80包括第三电机81和第二丝杆82,第三电机81固定于机架10的顶板11上,第二丝杆82与第三电机81的输出轴连接,底座41螺接于第二丝杆82的外侧。当第三电机81工作时,第二丝杆82转动,从而使支撑架40相对机架10水平移动。第三电机81正向转动,支撑架40水平向靠近抛光盘20的方向移动;第三电机81反向转动时,支撑架40水平向远离抛光盘20的方向移动。
如图4所示,夹具70包括放置盘71、夹具座72、挤压件73和至少两个导向件74。放置盘71与夹具座72通过导向件74连接,挤压件73固定于夹具座72。
其中,放置盘71为圆形盘状结构,放置盘71上设有放置孔711,放置孔711的两端分别贯通放置盘71的上下表面,放置孔711用于放置晶体块。放置孔711的形状取决于晶体块的形状,本实施例中,放置孔711为圆形。放置孔711为锥形,晶体块为圆柱形时,放置孔711为圆锥形,晶体块为矩形,则放置孔711为棱锥形。当然,放置孔711可以是一个、两个或多个,本实施例中,放置孔711为两个,两个放置孔711关于放置盘71的轴线对称。此外,本实施例中,放置孔711的孔壁上设有限位部712,限位部712为圆形结构,限位部712靠近于放置盘71的上表面。
本实施例中,夹具座72为圆形板状结构。
如图5所示,挤压件73包括固定体731、活动体732和弹性件733。活动体732可移动的设置于固定体731,弹性件733作用于活动体732与固定体731之间。
其中,固定体731内设有导向孔7311,导向孔7311为盲孔。导向孔7311的孔壁上设有第二凸出部7312,第二凸出部7312为环形结构。活动体732包括杆体7321和用于挤压晶体的挤压体7322,挤压体7322为圆形板,挤压体7322的直径大于限位部712的内径,杆体7321的一端与挤压体7322连接固定,杆体7321与挤压体7322同轴设置。杆体7321上设有第一凸出部7323,第一凸出部7323为环形结构。杆体7321远离挤压体7322的一端延伸至导向孔7311内,第一凸出部7323位于导向孔7311内并与导向孔7311的孔壁形成滑动配合,杆体7321与第二凸出部7312的孔壁形成滑动配合。本实施例中,弹性件733为弹簧。弹性件733设于导向孔7311内,弹性件733作用于活动体732与固定体731之间,弹性件733具有推动活动体732相对固定体731竖向向下的移动的趋势,第二凸出部7312位于第一凸出部7323竖向向下移动的轨迹上,即第二凸出部7312在竖向向下移动的过程中最终将与第一凸出部7323接触,以限制活动体732,避免活动体732与固定体731脱离。
导向件74为伸缩结构,其包括外管741和内杆742,内杆742的一端插设于外管741内,内杆742能够在外管741内轴向移动。如图4所示,本实施例中,导向件74为两个,两个导向件74平行布置在放置盘71与夹具座72之间,从而限制放置盘71与夹具座72相对转动。导向件74的外管741远离内杆742的一端与夹具座72连接固定,导向件74的内杆742远外管741的一端与放置盘71连接固定。挤压件73与放置孔711一一对应,即挤压件73也为两个,挤压件73的固定体731远离活动体732的一端与夹具座72连接固定,挤压体7322位于放置孔711内。挤压件73与导向件74均竖向布置。放置盘71与夹具座72通过导向件74连接后,在导向件74的导向作用下,夹具座72能够相对放置盘71竖向移动。夹具座72竖向向上移动过程中,放置孔711孔壁上的限位部712将位于挤压体7322竖向向上移动的轨迹上,挤压体7322最终将于限位部712接触,从而带动放置盘71随同夹具座72一同竖向向上移动。当然,当挤压体7322与限位部712接触时,导向件74的内杆742并未与外管741脱离。
如图1所示,夹具70与活动架50通过中心轴90转动连接,中心轴90的一端与夹具座72连接固定,中心轴90与夹具座72同轴设置,中心轴90竖向穿设于活动架50的第二套筒53内,中心轴90上螺接有螺母,以限制中心轴90相对第二套筒53竖向向下移动。中心轴90的轴线即为第二竖轴线,夹具70与活动体732通过中心轴90连接后,夹具70与活动架50通过中心轴90连接后,夹具70可相对活动架50绕第二竖轴线转动。
当需要对晶体进行抛光时,第二驱动装置60中的第二电机61正向转动,使活动架50相对支撑架40竖向向上移动,从而抬起夹具70;将晶体从放置盘71的底部放于放置孔711内,由于放置孔711为锥形,晶体将被卡于放置孔711内,不会从放置盘71上脱落;启动第一驱动装置30中的第一电机31,使抛光盘20转动;随后,第二驱动装置60中的第二电机61反向转动,使夹具70竖向向下移动,放置盘71与抛光盘20接触后,放置盘71将逐渐靠近于夹具座72,挤压件73将跟随夹具座72向下移动,挤压件73的挤压体7322将晶体推离放置盘71并掉落在抛光盘20上;夹具70继续竖向向下移动,挤压体7322最终与晶体接触,活动体732将相对固定体731竖向向上移动,从而压缩弹性件733,在弹性件733的作用下活动体732将对晶体施加压力,抛光盘20将对晶体进行抛光处理。在抛光过程中,夹具70的放置盘71与抛光盘20将产生摩擦力,由于夹具70与活动架50转动连接,抛光盘20在转动的同时将带动整个夹具70转动,从而带动晶体转动。这种抛光装置100,在对晶体进行抛光过程中,挤压件73可对晶体产生挤压力,抛光盘20在绕第一竖轴线转动的同时,夹具70将带动晶体绕第二竖轴线转动,进而提高了对晶体的抛光效果。
在对晶体进行抛光处理后,可使第二电机61正向转动,使活动架50相对支撑架40竖向向上移动,挤压件73的板体与限位部712接触后,将带动放置盘71向上抬起,晶体最终将滞留在抛光盘20上,此时,将晶体从抛光盘20上取下即可。
此外,当第三驱动装置80的第三电机81工作时,支撑架40将相对架体水平移动,从而第二竖轴线沿抛光盘20的径向移动,并靠近或远离第一竖轴线,以达到调节夹具70在抛光盘20上的位置,从而达到调节抛光质量的目的,第二竖轴线与第一竖轴线的距离越大,抛光盘20对晶体的抛光质量越好。
实施例2
如图6所示,本实施例提供一种抛光设备200,包括抛光液供给装置和上述实施例中的抛光装置100。
抛光液供给装置包括水泵、水箱和出液管210,水泵与水箱通过管道连通,出液管210与水泵连通,出液管210固定于机架10上。水泵工作时,水泵可将水箱中的抛光液抽出并通过出液管210喷向至抛光盘20,从而为晶体抛光过程中提供抛光液。
以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种抛光装置,其特征在于,包括:
机架;
抛光盘,所述抛光盘可转动的设置于所述机架;
第一驱动装置,所述第一驱动装置用于驱动所述抛光盘相对所述机架绕第一竖轴线转动;
支撑架,所述支撑架设于所述机架上;
活动架,所述活动架与所述支撑架活动连接;
第二驱动装置,所述第二驱动装置用于驱动所述活动架相对所述支撑架竖向移动;
夹具,所述夹具可转动的设置于所述活动架,所述夹具能够相对所述活动架绕第二竖轴线转动,所述夹具位于所述抛光盘的上方;
其中,所述夹具包括放置盘,所述放置盘上设有用于放置晶体的放置孔;
所述夹具还包括夹具座和挤压件,所述夹具座可转动的设置于所述活动架;
所述放置盘可移动的设置于所述夹具座上,所述放置盘能够相对所述夹具座竖向移动;
所述挤压件设于所述夹具座,当所述放置盘向靠近所述夹具座的方向竖向移动时,所述挤压件能够挤压所述晶体。
2.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述抛光装置还包括第三驱动装置;
所述支撑架与所述机架活动连接,所述第三驱动装置用于驱动所述支撑架相对所述机架移动,以使第二竖轴线沿所述抛光盘的径向移动。
3.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述挤压件包括固定体、活动体和弹性件;
所述固定体与所述夹具座连接,所述活动体可移动的设置于所述固定体,所述活动体能够相对所述固定体竖向移动;
所述弹性件设于所述活动体与所述固定体之间,所述弹性件具有推动所述活动体相对所述固定体竖向向下移动的趋势。
4.根据权利要求3所述的抛光装置,其特征在于,所述活动体包括用于挤压所述晶体的挤压体,所述挤压体位于所述放置孔内;
所述放置孔的孔壁上设有限位部,所述限位部位于所述挤压体竖向向上移动的轨迹上。
5.根据权利要求4所述的抛光装置,其特征在于,所述放置孔为上小下大的锥形结构。
6.根据权利要求4所述的抛光装置,其特征在于,所述活动体还包括杆体,所述固定体上设有导向孔,所述杆体的一端与所述挤压体连接,所述杆体的另一端延伸至所述导向孔内;
所述杆体上设有第一凸出部,所述导向孔的孔壁上设有第二凸出部,所述第二凸出部位于所述第一凸出部竖向向下移动的轨迹上。
7.根据权利要求1或3-6任一项所述的抛光装置,其特征在于,所述夹具还包括至少两个导向件,所述导向件为伸缩结构,所述导向件的一端与所述夹具座连接,所述导向件的另一端与所述放置盘连接。
8.一种抛光设备,其特征在于,包括抛光液供给装置和权利要求1-7任一项所述的抛光装置,所述抛光液供给装置用于为所述抛光盘提供抛光液。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109571226A (zh) * 2018-12-21 2019-04-05 杭州美迪凯光电科技有限公司 一种3d曲面工件的竖抛光装置及抛光工艺和用途
CN111604793B (zh) * 2020-05-29 2021-05-18 嘉善奥南服装辅料有限公司 一种用于金属纽扣表面批量抛光的抛光装置及抛光方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2826009A (en) * 1954-12-10 1958-03-11 Crane Packing Co Work holder for lapping machines
US5647792A (en) * 1994-12-28 1997-07-15 Ebara Corporation Polishing apparatus
JP2907209B1 (ja) * 1998-05-29 1999-06-21 日本電気株式会社 ウェハ研磨装置用裏面パッド
CN2782299Y (zh) * 2004-06-23 2006-05-24 何柏森 水晶平面磨床
CN101310922A (zh) * 2008-02-29 2008-11-26 哈尔滨工业大学 磷酸二氢钾晶体潮解抛光方法
CN104842253A (zh) * 2014-02-19 2015-08-19 中国科学院上海硅酸盐研究所 用于碳化硅晶体的光学级平面加工的抛光装置及加工方法
CN205416321U (zh) * 2016-03-18 2016-08-03 延锋海纳川汽车饰件系统有限公司 一种汽车后搁物板模具顶出装置
CN107486758A (zh) * 2017-10-12 2017-12-19 辽宁科技学院 一种多项运动叠加大磁路磁流变抛光装置及方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2826009A (en) * 1954-12-10 1958-03-11 Crane Packing Co Work holder for lapping machines
US5647792A (en) * 1994-12-28 1997-07-15 Ebara Corporation Polishing apparatus
JP2907209B1 (ja) * 1998-05-29 1999-06-21 日本電気株式会社 ウェハ研磨装置用裏面パッド
CN2782299Y (zh) * 2004-06-23 2006-05-24 何柏森 水晶平面磨床
CN101310922A (zh) * 2008-02-29 2008-11-26 哈尔滨工业大学 磷酸二氢钾晶体潮解抛光方法
CN104842253A (zh) * 2014-02-19 2015-08-19 中国科学院上海硅酸盐研究所 用于碳化硅晶体的光学级平面加工的抛光装置及加工方法
CN205416321U (zh) * 2016-03-18 2016-08-03 延锋海纳川汽车饰件系统有限公司 一种汽车后搁物板模具顶出装置
CN107486758A (zh) * 2017-10-12 2017-12-19 辽宁科技学院 一种多项运动叠加大磁路磁流变抛光装置及方法

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