CN108345059B - 光学滤波器及其用途 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 273
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 200
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 200
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 117
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 109
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 71
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 113
- -1 allyl ester Chemical class 0.000 claims description 98
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 43
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 41
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 36
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 6
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 6
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 5
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 claims description 4
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004760 aramid Substances 0.000 claims description 3
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 3
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 139
- 239000010408 film Substances 0.000 description 129
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 description 44
- 239000002585 base Substances 0.000 description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 38
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 38
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 31
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 25
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 24
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 18
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 17
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 16
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 14
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 13
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 13
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 12
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 11
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 11
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 10
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 9
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical group C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 7
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 7
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical group C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Chemical group C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 6
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Chemical group C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 6
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 5
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 3
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910003202 NH4 Inorganic materials 0.000 description 3
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 3
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 229930192474 thiophene Chemical group 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical group C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGUQGPFMMTZGBQ-UHFFFAOYSA-N [Al].[Al].[Zr] Chemical compound [Al].[Al].[Zr] ZGUQGPFMMTZGBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical group CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3SC2=C1 IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Chemical group CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910021481 rutherfordium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L tin(ii) bromide Chemical compound Br[Sn]Br ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JTDNNCYXCFHBGG-UHFFFAOYSA-L tin(ii) iodide Chemical compound I[Sn]I JTDNNCYXCFHBGG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N (E)-3-dodecene Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CC WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- WBARCLXJQDVYCK-UHFFFAOYSA-N 1,3-ditert-butyl-2-[(2,6-ditert-butylphenyl)disulfanyl]benzene Chemical group CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1SSC1=C(C(C)(C)C)C=CC=C1C(C)(C)C WBARCLXJQDVYCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDOCKERGEAIYQC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-phenylpropan-2-yl)-4-[[4-(2-phenylpropan-2-yl)phenyl]disulfanyl]benzene Chemical group C=1C=C(SSC=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 SDOCKERGEAIYQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- BNBRIFIJRKJGEI-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluorobenzonitrile Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1C#N BNBRIFIJRKJGEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWKINKGAHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 2-(butan-2-yldisulfanyl)butane Chemical group CCC(C)SSC(C)CC QTWKINKGAHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKCNDTDWDGQHSD-UHFFFAOYSA-N 2-(tert-butyldisulfanyl)-2-methylpropane Chemical group CC(C)(C)SSC(C)(C)C BKCNDTDWDGQHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEBAOPMEYUWQPD-UHFFFAOYSA-N 2-butan-2-ylsulfanylbutane Chemical group CCC(C)SC(C)CC IEBAOPMEYUWQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONJROLGQWMBXAP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropyldisulfanyl)propane Chemical group CC(C)CSSCC(C)C ONJROLGQWMBXAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMWSRWTXVQLHNX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropylsulfanyl)propane Chemical group CC(C)CSCC(C)C CMWSRWTXVQLHNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006020 2-methyl-1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- LNMBCRKRCIMQLW-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylsulfanyl-2-methylpropane Chemical group CC(C)(C)SC(C)(C)C LNMBCRKRCIMQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEKWWZCCJDUWLY-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1h-pyrrole Chemical compound CC=1C=CNC=1 FEKWWZCCJDUWLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018085 Al-F Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018179 Al—F Inorganic materials 0.000 description 1
- 101001053395 Arabidopsis thaliana Acid beta-fructofuranosidase 4, vacuolar Proteins 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910021554 Chromium(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CUDSBWGCGSUXDB-UHFFFAOYSA-N Dibutyl disulfide Chemical group CCCCSSCCCC CUDSBWGCGSUXDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl sulfide Chemical group CCCCSCCCC HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N Diethyl disulfide Chemical group CCSSCC CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical group CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical group C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N Dipropyl sulfide Chemical group CCCSCCC ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006111 GeCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006158 GeF2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006162 GeI2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021600 Germanium(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical group NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910014332 N(SO2CF3)2 Inorganic materials 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical group C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- LBIHEOZYMFIUHY-UHFFFAOYSA-L S1SC(C=C1)C(=O)[O-].[Cu+2].S1SC(C=C1)C(=O)[O-] Chemical class S1SC(C=C1)C(=O)[O-].[Cu+2].S1SC(C=C1)C(=O)[O-] LBIHEOZYMFIUHY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004016 SiF2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010068 TiCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010347 TiF2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 229910007928 ZrCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFZJUYWZZUTJE-UHFFFAOYSA-J [F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Na+].[Al+3] Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Na+].[Al+3] RUFZJUYWZZUTJE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- HJFUUQISSHZQRS-UHFFFAOYSA-M acetyloxyaluminum(2+);propan-2-olate Chemical compound CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(=O)O[Al+2] HJFUUQISSHZQRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004637 bakelite Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBWRJSSJWDOUSJ-UHFFFAOYSA-L chromium(ii) chloride Chemical compound Cl[Cr]Cl XBWRJSSJWDOUSJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- RBSLJAJQOVYTRQ-UHFFFAOYSA-N croconic acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C(=O)C1=O RBSLJAJQOVYTRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- DUVPPTXIBVUIKL-UHFFFAOYSA-N dibromogermanium Chemical compound Br[Ge]Br DUVPPTXIBVUIKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBDJQNUZLNUGDS-UHFFFAOYSA-N dibromosilicon Chemical compound Br[Si]Br KBDJQNUZLNUGDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCYBYZBPWZTMDW-UHFFFAOYSA-N dibutylazanide Chemical group CCCC[N-]CCCC WCYBYZBPWZTMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfide Chemical group CCSCC LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical group CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- MGNHOGAVECORPT-UHFFFAOYSA-N difluorosilicon Chemical compound F[Si]F MGNHOGAVECORPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOBCTIIWHLYFII-UHFFFAOYSA-L difluorotitanium Chemical compound F[Ti]F YOBCTIIWHLYFII-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IAGYEMVJHPEPGE-UHFFFAOYSA-N diiodogermanium Chemical compound I[Ge]I IAGYEMVJHPEPGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNRZLEZABHZRSX-UHFFFAOYSA-N diiodosilicon Chemical compound I[Si]I RNRZLEZABHZRSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical group CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N dimethyl disulfide Chemical group CSSC WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical group C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N dipropyl disulfide Chemical group CCCSSCCC ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical group CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002228 disulfide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010101 extrusion blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHGIKMVOLGCZIP-UHFFFAOYSA-N germanium dichloride Chemical compound Cl[Ge]Cl QHGIKMVOLGCZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGJOARIBACGTDV-UHFFFAOYSA-N germanium difluoride Chemical compound F[Ge]F GGJOARIBACGTDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005935 hexyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000012905 input function Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- IPJKJLXEVHOKSE-UHFFFAOYSA-L manganese dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mn+2] IPJKJLXEVHOKSE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000006217 methyl sulfide group Chemical group [H]C([H])([H])S* 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGJXBDMLVWIYOQ-UHFFFAOYSA-N methylazanide Chemical group [NH-]C MGJXBDMLVWIYOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 230000000051 modifying effect Effects 0.000 description 1
- 125000006126 n-butyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005593 norbornanyl group Chemical group 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000005069 octynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 125000001148 pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical group [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N phthalonitrile Chemical class N#CC1=CC=CC=C1C#N XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L stannous fluoride Chemical compound F[Sn]F ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001712 tetrahydronaphthyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M thallium(i) iodide Chemical compound [Tl]I CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021509 tin(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- AUZMWGNTACEWDV-UHFFFAOYSA-L titanium(2+);dibromide Chemical compound Br[Ti]Br AUZMWGNTACEWDV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L titanium(ii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2] ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AJHKJOCIGPIJFZ-UHFFFAOYSA-N tris(2,6-ditert-butylphenyl) phosphite Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=C(C(C)(C)C)C=CC=C1C(C)(C)C AJHKJOCIGPIJFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical class Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 230000016776 visual perception Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003952 β-lactams Chemical group 0.000 description 1
- 150000003953 γ-lactams Chemical group 0.000 description 1
- 150000003954 δ-lactams Chemical group 0.000 description 1
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- G02—OPTICS
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Abstract
本发明提供一种光学滤波器及其用途,所述光学滤波器伴随设置有固体摄像装置或环境光传感器的设备等的低背化,在入射角度变大的情况下也能兼具优异的可见光透射率和近红外线截止性能,进而耐热特性(耐再流焊性)优异,耐龟裂性得以改善。本发明的光学滤波器的特征在于具有透明树脂制基材、以及形成于所述基材的至少一个面上的电介质多层膜,且满足特定的要件,其中,所述透明树脂制基材包含在波长600nm~800nm具有吸收极大值的化合物(A)。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学滤波器及其用途。更详细来说,涉及包含在特定的波长区域具有吸收的色素化合物的光学滤波器、具备所述光学滤波器的固体摄像装置、照相机模块及环境光传感器、以及具有所述环境光传感器的电子设备。
背景技术
近年来,作为在智能手机或平板(tablet)终端等信息终端装置中的用途,正在推进环境光传感器的开发。信息终端装置中的环境光传感器被用作对放置有信息终端装置的环境的照度进行感测并对显示器的亮度进行调光的照度传感器、或对放置有信息终端装置的环境的色调进行感测并对显示器的色调进行调整的颜色传感器(color sensor)等。
为了以自然的形态使人的视感度与显示器的明度或色调相适应,重要的是仅使可见光线到达环境光传感器。例如,环境光传感器通过设置近红外线截止滤波器等光学滤波器而能够使分光感度特性接近视感度。
另一方面,根据重视信息终端装置的设计性的需求,要求降低使光入射至环境光传感器的透射窗的透射率(设为发黑的外表),但存在如下问题:可见光相对于红外光的入射量减少,难以检测出准确的照度或色调而产生误动作。另外,信息终端装置的低背化进展而光自入射窗至环境光传感器的距离变短。因此,例如自入射角度60°等高入射角的入射光的比例增加,从而要求即便对于高入射角的入射光,到达环境光传感器的光的分光特性(尤其是近红外线的强度)也不会发生变化。
作为用于使环境光传感器的分光特性与人的视感度相适应的机构,公开了一种设置有在玻璃板上形成金属多层膜而成的红外线截止滤波器的装置(例如参照专利文献1)。在将玻璃用作基材的情况下,由于基材自身具有耐热性,因此能够应用于具有所谓回流焊工序的制程中,其结果是可实现光学零件及装置的小型化以及制造工序的简化。另外,关于使用真空蒸镀法、溅射法或化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)法等而在玻璃基材上具有将折射率不同的金属氧化物交替地层叠而成的电介质多层膜的光学滤波器,还能够将基材替换为薄板玻璃,例如可实现厚度0.1mm等的薄壁化。然而,在玻璃板上形成有金属多层薄膜的近红外线截止滤波器的光学特性因入射光的入射角度而大幅变化,因此存在环境光传感器的检测精度降低的问题。
另一方面,在通过光吸收来截止近红外光的所谓彩色玻璃滤波器中,相对于垂直入射光与倾斜入射光而言的光学特性的差小且视角优异,但另一方面为了获得规定的光学特性的浓度,而导致基板的厚度变厚,且难以将光学零件小型化(非专利文献1)。
作为解决这种问题者,提出有一种通过将带有色素的树脂基板和电介质多层膜组合而兼具薄壁化与视角优异的特性的近红外线截止滤波器(例如专利文献2)。但是,专利文献2中记载的光学滤波器由于为树脂基板,因此耐热性与玻璃基板相距甚远。
作为解决耐热性的问题的方法,提出有一种具有透明树脂制基板与近红外线反射膜的近红外线截止滤波器的制造方法(例如参照专利文献3)。专利文献3的方法中,在具有特定的玻璃化点(glass transition point)的热塑性树脂的透明基板的两面上,在特定的温度条件下利用真空蒸镀法形成有包括电介质多层膜的近红外线反射膜等。
然而,在专利文献3中记载的近红外线截止滤波器中,也存在如下课题:其耐热性在基材的玻璃化温度以下,相对于回流焊工序而言并不充分,从而无法在多个回流焊工序中使用。
因此,期待如下光学滤波器的出现,即:除充分的视角性能或薄壁性能等特性以外,进而耐热特性优异,滤波器零件在回流焊工序中不易发生弯曲或产生龟裂,且在组装于制品中之后,即使在高温下也不易发生由弯曲等引起的光学畸变,在近红外线截止滤波器等用途中有用。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2011-060788号公报
[专利文献2]日本专利特开2012-008532号公报
[专利文献3]日本专利特开2010-044278号公报
[非专利文献]
[非专利文献1]西格玛光机(SIGMA-KOKI)公司综合目录近红外吸收滤波器CCF-50S-500C
发明内容
[发明所要解决的问题]
本发明的课题之一在于提供一种光学滤波器,所述光学滤波器伴随设置有固体摄像装置或环境光传感器的设备等的低背化,在入射角度变大的情况下也能兼具优异的可见光透射率和近红外线截止性能,进而耐热特性(耐再流焊性)优异,耐龟裂性得以改善。
[解决问题的技术手段]
本发明例如涉及以下[1]~[16]的方式。
[1]一种光学滤波器,其特征在于具有透明树脂制基材、以及形成于所述基材的至少一个面上的电介质多层膜,且满足下述要件(a)~要件(d),其中,所述透明树脂制基材包含树脂层,所述树脂层含有在波长600nm~800nm具有吸收极大值的化合物(A):
(a)对在85℃85%相对湿度(relative humidity,RH)的环境中保管1000小时前的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-0为45%以上且90%以下;
(b)对所述保管前的光学滤波器的光学浓度(光学密度(Optical density,OD)值)自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长800nm~1200nm的范围内的光学浓度的平均值ODa-0为1.0以上;
(c)对所述保管后的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Tb-0、与所述要件(a)所述的透射率的平均值Ta-0的差的绝对值为7%以下;
(d)在将对所述保管前的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长580nm~650nm的透射率的平均值设为TRa、将波长500nm~580nm的透射率的平均值设为TGa、将波长420nm~500nm的透射率的平均值设为TBa的情况下,TGa/TRa及TBa/TRa均为0.9~1.6。
[2]根据项[1]所述的光学滤波器,其特征在于,未在所述保管后的光学滤波器的电介质多层膜中产生龟裂。
[3]根据项[1]或[2]所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学滤波器进而满足下述要件(e):
(e)对所述保管前的光学滤波器的分光透射率自相对于所述光学滤波器的垂直方向倾斜30度的方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-30、以及对所述保管前的光学滤波器的透射率自相对于所述光学滤波器的垂直方向倾斜60度的方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-60均为45%以上且90%以下。
[4]根据项[1]至[3]中任一项所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学滤波器进而满足下述要件(f):
(f)对所述保管前的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的在波长350nm~500nm的范围内透射率成为50%的最短波长的值(Xa)、与
对所述保管后的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的在波长350nm~500nm的范围内透射率成为50%的最短波长的值(Xb)的差的绝对值为12nm以下。
[5]根据项[1]至[4]中任一项所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学滤波器进而满足下述要件(g):
(g)在将对所述保管后的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长580nm~650nm的透射率的平均值设为TRb、将波长500nm~580nm的透射率的平均值设为TGb、将波长420nm~500nm的透射率的平均值设为TBb的情况下,TGb/TRb及TBb/TRb均为0.9~1.6。
[6]根据项[5]所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学滤波器进而满足下述要件(h):
(h)(TGb/TRb)/(TGa/TRa)的值及(TBb/TRb)/(TBa/TRa)的值均为0.95~1.05。
[7]根据项[1]至[6]中任一项所述的光学滤波器,其特征在于,所述化合物(A)是选自由方酸内鎓盐系化合物及酞菁系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。
[8]根据项[1]至[7]中任一项所述的光学滤波器,其特征在于,构成所述树脂层的树脂是选自由芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芳族聚酰胺系树脂、聚醚砜系树脂、硅倍半氧烷系紫外线硬化型树脂、马来酰亚胺系树脂、脂环环氧热硬化型树脂、聚醚醚酮系树脂、聚芳酯系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯系紫外线硬化型树脂所组成的群组中的至少一种树脂。
[9]根据项[1]至[8]中任一项所述的光学滤波器,其特征在于,在所述基材的两面上设置有电介质多层膜。
[10]根据项[1]至[9]中任一项所述的光学滤波器,其特征在于,所述基材具有包含近红外线吸收微粒子的层。
[11]根据项[1]至[10]中任一项所述的光学滤波器,其特征在于为固体摄像装置用途。
[12]一种固体摄像装置,其具备根据项[1]至[11]中任一项所述的光学滤波器。
[13]一种照相机模块,其具备根据项[1]至[11]中任一项所述的光学滤波器。
[14]根据项[1]至[10]中任一项所述的光学滤波器,其特征在于为环境光传感器用途。
[15]一种环境光传感器,其特征在于具备根据项[1]至[10]及[14]中任一项所述的光学滤波器。
[16]一种电子设备,其特征在于具有根据项[15]所述的环境光传感器。
[发明的效果]
根据本发明,可提供一种对自垂直方向的入射光及自倾斜方向的入射光双方均具有高的可见光透射率与近红外线截止性能、且耐热性高、耐龟裂性得以改善且具有耐再流焊性的光学滤波器。
在本发明的光学滤波器为近红外线截止滤波器的情况下,近红外线截止能力优异,吸湿性低,异物或翘曲少,耐热性优异,也适于高温下的装配或使用,尤其是可适宜地用于电荷耦合器件(charge coupled device,CCD)或互补金属氧化物半导体(complementarymetal oxide semiconductor,CMOS)图像传感器等固体摄像元件的视感度修正。
另外,本发明的光学滤波器还可适宜地用作环境光传感器用途。使用这种光学滤波器的环境光传感器对入射光的入射角依赖性小,可高精度地测定照度或色温。
附图说明
图1(A)~图1(C)是对本发明的一实施方式的光学滤波器的构成进行说明的图。
图2(A)~图2(C)是对本发明的一实施方式的光学滤波器的构成进行说明的图。
图3是对本发明的一实施方式的环境光传感器的构成进行说明的图。
图4是对本发明的一实施方式的环境光传感器的构成进行说明的图。
图5(A)~图5(C)是对具备本发明的一实施方式的环境光传感器的电子设备的一例进行说明的图。
图6(A)是说明自垂直方向测定透射光谱的形态的图,图6(B)是说明自倾斜30度的角度测定透射光谱的形态的图,图6(C)是说明自倾斜60度的角度测定透射光谱的形态的图。
图7是表示自实施例1中所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向而自30°及60°的角度进行测定而得的分光透射率的图表。
图8是表示自将实施例1中所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时前及保管后的垂直方向进行测定而得的分光透射率的图表。
图9是表示自将实施例2中所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时前及保管后的垂直方向进行测定而得的分光透射率的图表。
图10是表示自将实施例3中所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时前及保管后的垂直方向进行测定而得的分光透射率的图表。
图11是表示自将实施例4中所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时前及保管后的垂直方向进行测定而得的分光透射率的图表。
图12是表示自将比较例2中所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时前及保管后的垂直方向进行测定而得的分光透射率的图表。
图13是表示自将比较例3中所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时前及保管后的垂直方向进行测定而得的分光透射率的图表。
[符号的说明]
1、1’、1”:光
2、100、100a、100b、100c:光学滤波器
3:分光光度计
102、102a、102b、102c:基材
104:电介质多层膜
104a:第一电介质多层膜
104b:第二电介质多层膜
106:抗反射膜
108:透明树脂制基板
110:支撑体
112:树脂层
200、200a、200b:环境光传感器
202、202a~202c:光电转换元件
204、302:框体
206:第一电极
208:光电转换层
210:第二电极
212a~212c:彩色滤波器
214:元件分离绝缘层
216:钝化膜
300:电子设备
304:显示面板
306:麦克风部
308:扬声器部
310:表面面板
D:区域
具体实施方式
以下,一面参照附图等一面对本发明的实施方式进行说明。其中,本发明能够以多个不同的方式实施,并不由以下例示的实施方式的记载内容限定性地解释。关于附图,为了更明确地进行说明,与实际的方式相比,存在对各部的宽度、厚度、形状等进行示意性表示的情况,但终究为一例,并不限定本发明的解释。另外,在本说明书与各附图中,关于已示出的附图,有时对于与所述相同的要素标注相同的符号或标注类似的符号(在数字后仅标注a、b等的符号),并适当省略详细的说明。
[光学滤波器]
本发明的光学滤波器的特征在于具有透明树脂制基材、以及形成于所述基材的至少一个面上的电介质多层膜,其中,所述透明树脂制基材包含树脂层,所述树脂层含有在波长600nm~800nm具有吸收极大值的化合物(A)。
本发明的光学滤波器对自垂直方向的入射光、及自倾斜方向的入射光(尤其是高入射角的入射光)双方均具有高的可见光透射率与近红外线截止性能。再者,在本说明书中,将相对于构成光学滤波器的基材垂直地入射的光设为垂直入射光,并将以所述垂直入射光为基准(入射角0度)而自倾斜方向入射的光设为倾斜入射光。
本发明的光学滤波器满足下述要件(a)~要件(d)。
要件(a):对在85℃85%RH的环境中保管1000小时前的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-0为45%以上且90%以下,优选48%以上,更优选52%以上,尤其优选55%以上。
通过满足要件(a),在将本发明的光学滤波器用作固体摄像装置用途的情况下,可获得良好的图像,在用作环境光传感器用途的情况下,可达成优异的传感器感度。
要件(b):对所述保管前的光学滤波器的光学浓度(OD值)自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长800nm~1200nm的范围内的光学浓度的平均值ODa-0为1.0以上,优选1.7以上,更优选1.8以上。
上限并无特别限制,但优选6.0以下,尤其优选5.5以下。若光学浓度极度变高,则存在可见区域的透射率降低的倾向,而且在实用特性方面并未发现显著的差异,因此在用作环境光传感器用途的情况下,优选将光学浓度上限设为所述范围。
通过满足要件(b),而近红外线截止特性变良好,在将本发明的光学滤波器用作固体摄像装置用途的情况下,可获得良好的图像,在将本发明的光学滤波器用作环境光传感器用途的情况下,可防止传感器的误动作。
光学浓度(OD值)是透射率的常用对数值,可利用下述式(1)算出。若指定波长范围的光学浓度的平均值高,则表示光学滤波器对所述波长区域的光的截止特性高。
某一波长区域内的光学浓度的平均值=-Log10(某一波长区域内的平均透射率(%)/100)…式(1)
要件(c):对所述保管后的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Tb-0、与所述要件(a)所述的透射率的平均值Ta-0的差的绝对值为7%以下,优选5%以下,更优选3%以下。
要件(c)中的绝对值越小,则保管前后的特性变化越少,即使在高温下的组装之后、以及高温下的使用时,在将本发明的光学滤波器用作固体摄像装置用途的情况下,也能获得良好的图像,在用作环境光传感器用途的情况下,可达成优异的传感器感度。
要件(d):在将对所述保管前的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长580nm~650nm的透射率的平均值设为TRa、将波长500nm~580nm的透射率的平均值设为TGa、将波长420nm~500nm的透射率的平均值设为TBa的情况下,TGa/TRa及TBa/TRa均为0.9~1.6,优选0.95~1.55。
通过满足要件(d),而红绿蓝(Red Green Blue,RGB)平衡良好,在将本发明的光学滤波器用作固体摄像装置用途的情况下,可获得良好的图像,在用作环境光传感器用途的情况下,可达成优异的传感器感度。
本发明的光学滤波器优选进而满足下述要件(e)、要件(f)、要件(g)和/或要件(h)。
要件(e):对所述保管前的光学滤波器的分光透射率自相对于所述光学滤波器的垂直方向倾斜30度的方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-30、以及对所述保管前的光学滤波器的透射率自相对于所述光学滤波器的垂直方向倾斜60度的方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-60均为45%以上且90%以下,优选48%以上,更优选55%以上。
通过满足要件(e),若在所述波长范围内任一入射角度下的平均透射率均处于所述范围内,则在将本发明的光学滤波器用作固体摄像装置用途的情况下,可获得良好的图像,在用作环境光传感器用途的情况下,可达成优异的传感器感度。
要件(f):对所述保管前的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的在波长350nm~500nm的范围内透射率成为50%的最短波长的值(Xa)、与
对所述保管后的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的、在波长350nm~500nm的范围内透射率成为50%的最短波长的值(Xb)的差的绝对值为12nm以下,优选10nm以下,更优选8nm以下。
要件(f)中的绝对值越小,则保管前后的特性变化越少,即使在高温下的组装之后、以及高温下的使用时,在将本发明的光学滤波器用作固体摄像装置用途的情况下,也能获得良好的图像,在用作环境光传感器用途的情况下,可达成优异的传感器感度。
要件(g):在将对所述保管后的光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长580nm~650nm的透射率的平均值设为TRb、将波长500nm~580nm的透射率的平均值设为TGb、将波长420nm~500nm的透射率的平均值设为TBb的情况下,TGb/TRb及TBb/TRb均为0.9~1.6,优选0.95~1.55。
通过满足要件(g),而RGB平衡良好,在将本发明的光学滤波器用作固体摄像装置用途的情况下,可获得良好的图像,在用作环境光传感器用途的情况下,可达成优异的传感器感度。
要件(h):(TGb/TRb)/(TGa/TRa)的值及(TBb/TRb)/(TBa/TRa)的值均为0.95~1.05,优选0.96~1.04,更优选0.97~1.03。
要件(h)中的值越接近1.00,则保管前后的特性变化越少,即使在高温下的组装之后、以及高温下的使用时,在将本发明的光学滤波器用作固体摄像装置用途的情况下,也能获得良好的图像,在用作环境光传感器用途的情况下,可达成优异的传感器感度。
如上所述的本发明的光学滤波器在所述保管后未在电介质多层膜中产生龟裂。
图1(A)~图1(C)表示本发明的一实施方式的光学滤波器。图1(A)所示的光学滤波器100a在基材102的至少一个面上具有电介质多层膜104。电介质多层膜104具有反射近红外线的特性。另外,图1(B)表示在基材102的一个面上设置有第一电介质多层膜104a且在另一个面上设置有第二电介质多层膜104b的光学滤波器100b。如此,反射近红外线的电介质多层膜可设置于基材的单面,也可设置于两面。在设置于单面的情况下,制造成本或制造容易性优异,在设置于两面的情况下,可获得具有高强度、且不易产生翘曲或扭曲的光学滤波器。在将光学滤波器应用于环境光传感器用途的情况下,优选为光学滤波器的翘曲或扭曲小,因此优选为将电介质多层膜设置于基材的两面。
电介质多层膜104在使相当于可见光的波长的光透过时,优选为对自垂直方向入射的光遍及波长800nm~1150nm的整个范围而具有反射特性,进而更优选为遍及波长800nm~1200nm的整个范围而具有反射特性,尤其优选为遍及800nm~1250nm的整个范围而具有反射特性。作为在基材102的两面具有电介质多层膜的方式,可列举:在基材102的单面设置当相对于光学滤波器(或基材)的垂直方向而自5°的角度进行测定时在波长800nm~1000nm附近主要具有反射特性的第一电介质多层膜104a、在基材102的另一个面上具有当相对于光学滤波器(或基材)的垂直方向而自5°的角度进行测定时在1000nm~1250nm附近主要具有反射特性的第二电介质多层膜104b的方式。
另外,作为其他方式,可列举:图1(C)所示的光学滤波器100c在基材102的单面设置当相对于垂直方向而自5°的角度进行测定时在波长800nm~1250nm附近主要具有反射特性的电介质多层膜104、在基材102的另一个面上具有具备可见区域的抗反射特性的抗反射膜106的方式。通过对基材组合电介质多层膜与抗反射膜,可提高可见区域的光的透射率并且反射近红外线。
本发明的一实施方式的光学滤波器所要求的雾度值视用途而不同,例如在用作环境光传感器用光学滤波器的情况下,雾度值优选8%以下,进而更优选5%以下,尤其优选3%以下。在雾度值大于8%的情况下,处在传感器感度降低的情况。
光学滤波器的厚度只要根据所期望的用途来适当选择即可,但若考虑到近年来的信息终端的薄型化、轻量化等趋势,则优选为薄。
本发明的一实施方式的光学滤波器的厚度理想的是优选210μm以下、更优选190μm以下、进而更优选160μm以下、尤其优选130μm以下,下限并无特别限制,但若考虑到光学滤波器的强度或处理的容易性,则理想的是例如为20μm。
[基材]
图2(A)~图2(C)表示基材102的构成。基材102可为单层,也可为多层,只要包含含有化合物(A)的树脂层即可。另外,基材102优选为具有包含一种以上近红外线吸收微粒子的层。
以下,也将含有至少一种化合物(A)与透明树脂的层称为“透明树脂层”,也将其以外的树脂层简称为“树脂层”。
如图2(A)所示,单层的基材102a为包含化合物(A)的透明树脂制基板108。所述透明树脂制基板相当于所述透明树脂层。图2(B)示出多层结构的基材102b,例如具有在成为基底的树脂制支撑体110上层叠包含含有化合物(A)的硬化性树脂或热塑性树脂的外涂层等透明树脂层112而成的构成。再者,相当于透明树脂层112的层也可设置于支撑体110的两面上。图2(C)示出在包含化合物(A)的透明树脂制基板108上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层112而成的基材102c。
就光学特性调整的容易性、进而可达成树脂制支撑体的消除损伤的效果或提升基材的耐损伤性等方面而言,尤其优选为在树脂制支撑体的两面上层叠包含硬化性树脂或热塑性树脂的外涂层等树脂层且所述树脂层的至少一者包含化合物(A)的方式。
基材的波长400nm~650nm中的平均透射率优选55%以上,进而更优选60%以上,尤其优选65%以上。若使用具有这种透射特性的基材,则可获得在作为固体摄像装置用途或环境光传感器用途所需的波长频带内具有高的光线透射特性的光学滤波器,在用作固体摄像装置用途的情况下,可获得良好的图像,在用作环境光传感器用途的情况下,可达成高感度的传感器功能。
基材的波长800nm~1200nm中的平均透射率优选20%以下,进而更优选18%以下,尤其优选15%以下。若使用具有这种吸收特性的基材,则通过与具有特定反射特性的电介质多层膜组合,可获得无论入射角度如何均具有优异的近红外线截止特性的光学滤波器,并可适宜地用作固体摄像装置用光学滤波器或环境光传感器用途。
基材的厚度可根据所期望的用途来适当选择,并无特别限制,但理想的是以可兼具所需的基材强度与薄型化的方式适当选择,优选10μm~200μm,更优选15μm~180μm,进而更优选20μm~150μm,尤其优选25μm~120μm。
若基材的厚度处于所述范围内,则可将使用所述基材的光学滤波器加以薄型化及轻量化,可适宜地用于搭载于信息终端上的固体摄像装置或环境光传感器等各种用途。
<透明树脂>
层叠于树脂制支撑体上的透明树脂层及透明树脂制基板可使用透明树脂来形成。作为用于基材的透明树脂,可为单独一种,也可为两种以上。
作为透明树脂,只要是无损本发明的效果者,则并无特别限制,例如,为了确保热稳定性及对于膜的成形性、且制成可通过以200℃以上的蒸镀温度进行的高温蒸镀来形成电介质多层膜的膜,可列举玻璃化温度(Tg)优选为200℃~380℃、更优选为210℃~370℃、进而更优选为220℃~360℃的树脂。另外,若所述树脂的玻璃化温度为220℃以上,则可获得能以更高的温度蒸镀形成电介质多层膜的膜,因此尤其优选。
作为透明树脂,在形成包含所述树脂的厚度为0.1mm的树脂板的情况下,可使用所述树脂板的全光线透射率(日本工业标准(Japanese Industrial Standards,JIS)K7105)优选成为75%~95%、进而更优选成为78%~95%、尤其优选成为80%~95%的树脂。若使用全光线透射率成为这种范围的树脂,则所获得的基板作为光学膜而显示出良好的透明性。
透明树脂的利用凝胶渗透色谱(gel permeation chromatography,GPC)法所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)通常为15,000~350,000,优选30,000~250,000,数量平均分子量(Mn)通常为10,000~150,000,优选20,000~100,000。
作为透明树脂,例如可列举:芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芳族聚酰胺系树脂、聚醚砜系树脂、硅倍半氧烷系紫外线硬化型树脂、马来酰亚胺系树脂、脂环环氧热硬化型树脂、聚醚醚酮系树脂、聚芳酯系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯系紫外线硬化型树脂。
《芳香族聚醚系树脂》
芳香族聚醚系树脂优选为具有选自由下述式(4)所示的结构单元及下述式(5)所示的结构单元所组成的群组中的至少一种结构单元。
[化1]
式(4)中,R1~R4分别独立地表示碳数1~12的1价有机基,a~d分别独立地表示0~4的整数。
[化2]
式(5)中,R1~R4及a~d分别独立地与所述式(4)中的R1~R4及a~d同义,Y表示单键、-SO2-或>C=O,R7及R8分别独立地表示卤素原子、碳数1~12的1价有机基或硝基,g及h分别独立地表示0~4的整数,m表示0或1。其中,当m为0时,R7不是氰基。
另外,所述芳香族聚醚系树脂优选为进而具有选自由下述式(6)所示的结构单元及下述式(7)所示的结构单元所组成的群组中的至少一种结构单元。
[化3]
式(6)中,R5及R6分别独立地表示碳数1~12的1价有机基,Z表示单键、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-或碳数1~12的2价有机基,e及f分别独立地表示0~4的整数,n表示0或1。
[化4]
式(7)中,R7、R8、Y、m、g及h分别独立地与所述式(5)中的R7、R8、Y、m、g及h同义,R5、R6、Z、n、e及f分别独立地与所述式(6)中的R5、R6、Z、n、e及f同义。
《聚酰亚胺系树脂》
作为聚酰亚胺系树脂,并无特别限制,只要是在重复单元中含有酰亚胺键的高分子化合物即可,例如可利用日本专利特开2006-199945号公报或日本专利特开2008-163107号公报中所记载的方法来合成。
《丙烯酸系紫外线硬化型树脂》
作为丙烯酸系紫外线硬化型树脂,并无特别限制,可列举自含有分子内具有一个以上的丙烯酸基或甲基丙烯酸基的化合物、及通过紫外线而分解并产生活性自由基的化合物的树脂组合物所合成者。当使用在成为基底的树脂制支撑体上层叠包含化合物(A)的透明树脂层而成的基材、或在含有化合物(A)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材(i)时,丙烯酸系紫外线硬化型树脂可特别适宜地用作所述硬化性树脂。
《市售品》
作为透明树脂的市售品,可列举以下市售品等。作为聚醚砜系树脂的市售品,可列举:住友贝克莱特(Sumitomo Bakelite)(股)制造的斯密莱特(Sumilite)、住友化学(股)制造的斯密卡爱克塞尔(Sumikaexcel)PES等。作为聚酰亚胺系树脂的市售品,可列举:三菱瓦斯化学(股)制造的尼欧普利姆(Neopulim)L等。作为硅倍半氧烷系紫外线硬化型树脂的市售品,可列举:新日铁化学(股)制造的希鲁普拉斯(Silplus)等。作为聚醚醚酮系树脂的市售品,可列举:仓敷(Kurabo)(股)制造的爱克斯匹克(EXPEEK)等。作为聚芳酯系树脂的市售品,可列举:尤尼吉可(Unitika)(股)制造的尤尼芬纳(Unifiner)等。作为其他市售品,可列举:郡是(Gunze)(股)制造的HD膜(HD Film)等。
<化合物(A)>
所述化合物(A)只要在波长600nm~800nm的区域中具有吸收极大值则并无特别限定,但优选为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮酸(croconium)系化合物及花青系化合物所组成的群组中的至少一种化合物,尤其优选方酸内鎓盐系化合物及酞菁系化合物。
《方酸内鎓盐系化合物》
作为所述方酸内鎓盐系化合物,并无特别限定,但优选为选自由下述式(I)所示的方酸内鎓盐系化合物及下述式(II)所示的方酸内鎓盐系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。以下,也分别称为“化合物(I)”及“化合物(II)”。
[化5]
式(I)中,Ra、Rb及Ya满足下述条件(α)或条件(β)。
条件(α):
存在多个的Ra分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NReRf基;
存在多个的Rb分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NRgRh基;
存在多个的Ya分别独立地表示-NRjRk基;
L1表示La、Lb、Lc、Ld、Le、Lf、Lg或Lh;
Re及Rf分别独立地表示氢原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le;
Rg及Rh分别独立地表示氢原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld、-Le或-C(O)R1基(R1表示-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le);
Rj及Rk分别独立地表示氢原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le;
La表示可具有取代基L的碳数1~12的脂肪族烃基;
Lb表示可具有取代基L的碳数1~12的卤素取代烷基;
Lc表示可具有取代基L的碳数3~14的脂环式烃基;
Ld表示可具有取代基L的碳数6~14的芳香族烃基;
Le表示可具有取代基L的碳数3~14的杂环基;
Lf表示可具有取代基L的碳数1~9的烷氧基;
Lg表示可具有取代基L的碳数1~9的酰基;
Lh表示可具有取代基L的碳数1~9的烷氧基羰基;
L表示选自由碳数1~12的脂肪族烃基、碳数1~12的卤素取代烷基、碳数3~14的脂环式烃基、碳数6~14的芳香族烃基、碳数3~14的杂环基、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的群组中的至少一种取代基。
条件(β):
一个苯环上的两个Ra中的至少一者与同一苯环上的Y相互键结而形成包含至少一个氮原子的构成原子数为5或6的杂环;
所述杂环可具有取代基,Rb及不参与所述杂环的形成的Ra分别独立地与所述条件(α)的Rb及Ra同义。
所述La~Lh中,包括取代基在内的碳数的合计优选分别为50以下,进而更优选为碳数40以下,尤其优选为碳数30以下。若碳数比所述范围多,则存在难以合成化合物的情况,并且存在每单位重量的光的吸收强度变小的倾向。
作为所述La及L中的碳数为1~12的脂肪族烃基,例如可列举:甲基(Me)、乙基(Et)、正丙基(n-Pr)、异丙基(i-Pr)、正丁基(n-Bu)、仲丁基(s-Bu)、叔丁基(t-Bu)、戊基、己基、辛基、壬基、癸基及十二烷基等烷基;乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、丁烯基、1,3-丁二烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-戊烯基、己烯基及辛烯基等烯基;以及乙炔基、丙炔基、丁炔基、2-甲基-1-丙炔基、己炔基及辛炔基等炔基。
作为所述Lb及L中的碳数为1~12的卤素取代烷基,例如可列举:三氯甲基、三氟甲基、1,1-二氯乙基、五氯乙基、五氟乙基、七氯丙基及七氟丙基。
作为所述Lc及L中的碳数为3~14的脂环式烃基,例如可列举:环丁基、环戊基、环己基、环庚基及环辛基等环烷基;降冰片烷基及金刚烷基等多环脂环式基。
作为所述Ld及L中的碳数为6~14的芳香族烃基,例如可列举:苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、1-萘基、2-萘基、蒽基、菲基、苊基、丙烯合萘基(phenalenyl)、四氢萘基、二氢茚基及联苯基。
作为所述Le及L中的碳数为3~14的杂环基,例如可列举:包含呋喃、噻吩、吡咯、吡唑、咪唑、三唑、噁唑、噁二唑、噻唑、噻二唑、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩、咔唑、二苯并呋喃、二苯并噻吩、吡啶、嘧啶、吡嗪、哒嗪、喹啉、异喹啉、吖啶、吗啉及吩嗪等杂环的基团。
作为所述Lf中的碳数为1~12的烷氧基,例如可列举:甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基。
作为所述Lg中的碳数1~9的酰基,例如可列举:乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、戊酰基、异戊酰基及苯甲酰基。
作为所述Lh中的碳数1~9的烷氧基羰基,例如可列举:甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、异丙氧基羰基、丁氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基及辛氧基羰基。
作为所述La,优选甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基、4-苯基丁基、2-环己基乙基,更优选甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基。
作为所述Lb,优选三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基、5-环己基-2,2,3,3-四氟戊基,更优选三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基。
作为所述Lc,优选环丁基、环戊基、环己基、4-乙基环己基、环辛基、4-苯基环庚基,更优选环戊基、环己基、4-乙基环己基。
作为所述Ld,优选苯基、1-萘基、2-萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、3,5-二-叔丁基苯基、4-环戊基苯基、2,3,6-三苯基苯基、2,3,4,5,6-五苯基苯基,更优选苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、2,3,4,5,6-五苯基苯基。
作为所述Le,优选包含呋喃、噻吩、吡咯、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩、吗啉的基团,更优选包含呋喃、噻吩、吡咯、吗啉的基团。
作为所述Lf,优选甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、甲氧基甲基、甲氧基乙基、2-苯基乙氧基、3-环己基丙氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基,更优选甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基。
作为所述Lg,优选乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、苯甲酰基、4-丙基苯甲酰基、三氟甲基羰基,更优选乙酰基、丙酰基、苯甲酰基。
作为所述Lh,优选甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、异丙氧基羰基、丁氧基羰基、2-三氟甲基乙氧基羰基、2-苯基乙氧基羰基,更优选甲氧基羰基、乙氧基羰基。
所述La~Lh可进而具有选自由卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的群组中的至少一种原子或基团。作为这种例子,可列举:4-磺基丁基、4-氰基丁基、5-羧基戊基、5-氨基戊基、3-羟基丙基、2-磷酰基乙基、6-氨基2,2-二氯己基、2-氯-4-羟基丁基、2-氰基环丁基、3-羟基环戊基、3-羟基环戊基、4-氨基环己基、4-羟基环己基、4-羟基苯基、五氟苯基、2-羟基萘基、4-氨基苯基、4-硝基苯基、包含3-甲基吡咯的基团、2-羟基乙氧基、3-氰基丙氧基、4-氟苯甲酰基、2-羟基乙氧基羰基、4-氰基丁氧基羰基。
作为所述条件(α)中的Ra,优选氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、硝基,更优选氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、羟基。
作为所述条件(α)中的Rb,优选氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、氰基、硝基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、N-甲基乙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基,更优选氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、羟基、二甲基氨基、硝基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基。
作为所述Ya,优选氨基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二-正丙基氨基、二异丙基氨基、二-正丁基氨基、二-叔丁基氨基、N-乙基-N-甲基氨基、N-环己基-N-甲基氨基,更优选二甲基氨基、二乙基氨基、二-正丙基氨基、二异丙基氨基、二-正丁基氨基、二-叔丁基氨基。
作为所述式(I)的条件(β)中的一个苯环上的两个Ra中的至少一个与同一苯环上的Y相互键结而形成的包含至少一个氮原子的构成原子数为5或6的杂环,例如可列举:吡咯烷、吡咯、咪唑、吡唑、哌啶、吡啶、哌嗪、哒嗪、嘧啶及吡嗪等。所述杂环中,优选构成所述杂环、且构成所述苯环的碳原子的邻近的一个原子为氮原子的杂环,进而更优选吡咯烷。
[化6]
式(II)中,X独立地表示O、S、Se、N-Rc或C(RdRd);存在多个的Rc分别独立地表示氢原子、La、Lb、Lc、Ld或Le;存在多个的Rd分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NReRf基,相邻的Rd彼此可连结而形成可具有取代基的环;La~Le、L1、Re及Rf与所述式(I)中所定义的La~Le、L1、Re及Rf同义。
作为所述式(II)中的Rc,优选氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基、苯基、三氟甲基、五氟乙基,更优选氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基。
作为所述式(II)中的Rd,优选氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基、苯基、甲氧基、三氟甲基、五氟乙基、4-氨基环己基,更优选氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、三氟甲基、五氟乙基。
作为所述X,优选O、S、Se、N-Me、N-Et、CH2、C-Me2、C-Et2,更优选S、C-Me2、C-Et2。
在所述式(II)中,相邻的Rd彼此可连结而形成环。作为这种环,例如可列举:苯并假吲哚环、α-萘并咪唑环、β-萘并咪唑环、α-萘并噁唑环、β-萘并噁唑环、α-萘并噻唑环、β-萘并噻二唑环、α-萘并硒唑环、β-萘并硒唑环。
化合物(I)及化合物(II)除了如下述式(I-1)及下述式(II-1)的记载方法以外,也能像下述式(I-2)及下述式(II-2)那样利用如取得共振结构的记载方法表示结构。即,下述式(I-1)与下述式(I-2)的差异、及下述式(II-1)与下述式(II-2)的差异仅为结构的记载方法,均表示同一化合物。在本发明中,只要无特别说明,则利用如下述式(I-1)及下述式(II-1)的记载方法表示方酸内鎓盐系化合物的结构。
[化7]
而且,例如下述式(I-3)所示的化合物与下述式(I-4)所示的化合物可视作同一化合物。
[化8]
所述化合物(I)及化合物(II)只要分别满足所述式(I)及式(II)的要件,则结构并无特别限定。例如在像所述式(I-1)及式(II-1)那样表示结构的情况下,与中央的四元环键结的左右的取代基可相同,也可不同,取代基相同者在合成上容易,因此优选。
作为所述化合物(I)及化合物(II)的具体例,可列举:具有下述式(I-A)~式(I-H)所示的基本骨架的下述表1~表3所记载的化合物(a-1)~化合物(a-36)。
[化9]
[化10]
[表1]
[表2]
[表3]
所述化合物(I)及化合物(II)只要利用通常所知的方法进行合成即可,例如可参照日本专利特开平1-228960号公报、日本专利特开2001-40234号公报、日本专利第3196383号公报等所记载的方法等进行合成。
《酞菁系化合物》
所述酞菁系化合物并无特别限定,优选下述式(III)所示的化合物(以下也称为“化合物(III)”)。
[化11]
式(III)中,M表示两个氢原子、两个1价金属原子、2价金属原子、或包含3价或4价金属原子的取代金属原子,存在多个的Ra、Rb、Rc及Rd分别独立地表示选自由氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4、或Ra和Rb、Rb和Rc、及Rc和Rd中至少一个组合所键结的下述式(A)~式(H)所示的基团所组成的群组中的至少一种基团。其中,键结于同一芳香环的Ra、Rb、Rc及Rd中至少一个不是氢原子。
所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有所述式(I)中所定义的取代基L,
L1与所述式(I)中所定义的L1同义,
L2表示氢原子或所述式(I)中所定义的La~Le的任一个,
L3表示羟基或所述La~Le的任一个,
L4表示所述La~Le的任一个。
[化12]
式(A)~式(H)中,Rx及Ry表示碳原子,存在多个的RA~RL分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4,所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有所述式(I)中所定义的取代基L,L1~L4与所述式(III)中所定义的L1~L4同义。
所述Ra~Rd及RA~RL中,作为可具有取代基L的氨基,可列举:氨基、乙基氨基、二甲基氨基、甲基乙基氨基、二丁基氨基、二异丙基氨基等。
所述Ra~Rd及RA~RL中,作为可具有取代基L的酰胺基,可列举:酰胺基、甲基酰胺基、二甲基酰胺基、二乙基酰胺基、二丙基酰胺基、二异丙基酰胺基、二丁基酰胺基、α-内酰胺基、β-内酰胺基、γ-内酰胺基、δ-内酰胺基等。
所述Ra~Rd及RA~RL中,作为可具有取代基L的酰亚胺基,可列举:酰亚胺基、甲基酰亚胺基、乙基酰亚胺基、二乙基酰亚胺基、二丙基酰亚胺基、二异丙基酰亚胺基、二丁基酰亚胺基等。
所述Ra~Rd及RA~RL中,作为可具有取代基L的硅烷基,可列举:三甲基硅烷基、叔丁基二甲基硅烷基、三苯基硅烷基、三乙基硅烷基等。
所述Ra~Rd及RA~RL中,作为-S-L2,可列举:硫醇基、甲基硫醚基、乙基硫醚基、丙基硫醚基、丁基硫醚基、异丁基硫醚基、仲丁基硫醚基、叔丁基硫醚基、苯基硫醚基、2,6-二-叔丁基苯基硫醚基、2,6-二苯基苯基硫醚基、4-枯基苯基硫醚基等。
所述Ra~Rd及RA~RL中,作为-SS-L2,可列举:二硫醚基、甲基二硫醚基、乙基二硫醚基、丙基二硫醚基、丁基二硫醚基、异丁基二硫醚基、仲丁基二硫醚基、叔丁基二硫醚基、苯基二硫醚基、2,6-二-叔丁基苯基二硫醚基、2,6-二苯基苯基二硫醚基、4-枯基苯基二硫醚基等。
所述Ra~Rd及RA~RL中,作为-SO2-L3,可列举:磺基、甲磺酰基、乙基磺酰基、正丁基磺酰基、对甲苯磺酰基等。
所述Ra~Rd及RA~RL中,作为-N=N-L4,可列举:甲基偶氮基、苯基偶氮基、对甲基苯基偶氮基、对二甲基氨基苯基偶氮基等。
所述M中,作为1价金属原子,可列举:Li、Na、K、Rb、Cs等。
所述M中,作为2价金属原子,可列举:Be、Mg、Ca、Ba、Ti、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Cu、Zn、Cd、Hg、Sn、Pb等。
所述M中,作为包含3价金属原子的取代金属原子,可列举:Al-F、Al-Cl、Al-Br、Al-I、Ga-F、Ga-Cl、Ga-Br、Ga-I、In-F、In-Cl、In-Br、In-I、Tl-F、Tl-Cl、Tl-Br、Tl-I、Fe-Cl、Ru-Cl、Mn-OH等。
所述M中,作为包含4价金属原子的取代金属原子,可列举:TiF2、TiCl2、TiBr2、TiI2、ZrCl2、HfCl2、CrCl2、SiF2、SiCl2、SiBr2、SiI2、GeF2、GeCl2、GeBr2、GeI2、SnF2、SnCl2、SnBr2、SnI2、Zr(OH)2、Hf(OH)2、Mn(OH)2、Si(OH)2、Ge(OH)2、Sn(OH)2、TiR2、CrR2、SiR2、GeR2、SnR2、Ti(OR)2、Cr(OR)2、Si(OR)2、Ge(OR)2、Sn(OR)2(R表示脂肪族基或芳香族基)、TiO、VO、MnO等。
作为所述M,优选属于元素周期表第5族~第11族、且第4周期~第5周期的2价过渡金属、3价或4价金属卤化物或4价金属氧化物,其中,就可达成高的可见光透射率或稳定性而言,尤其优选Cu、Ni、Co及VO。
所述酞菁系化合物通过如下述式(V)的邻苯二腈衍生物的环化反应来合成的方法通常为已知,所获得的酞菁系化合物成为如下述式(VI-1)~式(VI-4)的四种异构体的混合物。本发明中,只要无特别说明,则对一种酞菁系化合物仅例示一种异构体,对于其他三种异构体也可同样地使用。另外,这些异构体视需要还能够分离而使用,但在本发明中,对异构体混合物进行一次性操作。
[化13]
[化14]
作为所述化合物(III)的具体例,可列举:具有下述式(III-A)~式(III-J)所示的基本骨架的下述表4~表7所记载的(b-1)~(b-56)等。
[化15]
[表4]
[表5]
[表6]
[表7]
化合物(III)只要利用通常已知的方法进行合成即可,例如可参照日本专利第4081149号公报或《酞菁-化学与功能-》(IPC、1997年)所记载的方法进行合成。
《花青系化合物》
所述花青系化合物并无特别限定,优选下述式(IV-1)~式(IV-3)的任一式所示的化合物(以下也称为“化合物(IV-1)~化合物(IV-3)”)。
[化16]
式(IV-1)~式(IV-3)中,Xa -表示1价阴离子,存在多个的D独立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子,存在多个的Ra、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg、Rh及Ri分别独立地表示选自由氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L3、-SO2-L3、-N=N-L4、或Rb和Rc、Rd和Re、Re和Rf、Rf和Rg、Rg和Rh及Rh和Ri中至少一个组合所键结的所述式(A)~式(H)所示的基团所组成的群组中的至少一种基团,所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有所述式(I)中所定义的取代基L,
L1与所述式(I)中所定义的L1同义,
L2表示氢原子或所述式(I)中所定义的La~Le的任一个,
L3表示氢原子或所述La~Le的任一个,
L4表示所述La~Le的任一个,
Za~Zc及Ya~Yd分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4(L1~L4与所述Ra~Ri中的L1~L4同义)、或选自这些中邻接的二个的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的碳数为6~14的芳香族烃基;可包含至少一个氮原子、氧原子或硫原子的5元或6元环的脂环式烃基;或包含至少一个氮原子、氧原子或硫原子的碳数为3~14的杂芳香族烃基;这些芳香族烃基、脂环式烃基及杂芳香族烃基可具有碳数为1~9的脂肪族烃基或卤素原子。
作为所述Za~Zc及Ya~Yd中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的碳数为6~14的芳香族烃基,例如可列举:由所述取代基L中的芳香族烃基例示的化合物。
作为所述Za~Zc及Ya~Yd中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的可包含至少一个氮原子、氧原子或硫原子的5元或6元环的脂环式烃基,例如可列举:由所述取代基L中的脂环式烃基及杂环例示的化合物(杂芳香族烃基除外)。
作为所述Za~Zc及Ya~Yd中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的碳数为3~14的杂芳香族烃基,例如可列举:作为所述取代基L中的杂环基而例示的化合物(包含至少一个氮原子、氧原子或硫原子的脂环式烃基除外)。
所述式(IV-1)~式(IV-3)中,作为-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4、可具有取代基L的氨基、酰胺基、酰亚胺基、硅烷基,可列举:与所述式(III)所例示的基团同样的基团等。
Xa -若为1价阴离子,则并无特别限定,可列举:I-、Br-、PF6 -、N(SO2CF3)2 -、B(C6F5)4 -、镍二硫醇盐系络合物、铜二硫醇盐系络合物等。
作为所述化合物(IV-1)~化合物(IV-3)的具体例,可列举:下述表8所记载的(c-1)~(c-24)等。
所述化合物(IV-1)~化合物(IV-3)只要利用通常已知的方法进行合成即可,例如可利用日本专利特开2009-108267号公报所记载的方法进行合成。
化合物(A)的添加量根据所期望的特性进行适当选择,相对于透明树脂100重量份,优选0.01重量份~20.0重量份,更优选0.03重量份~10.0重量份。
<近红外线吸收微粒子>
所述基材中可包含的近红外线吸收微粒子只要是在近红外波长区域中具有吸收者则并无特别限制,优选以在波长800nm~1200nm具有吸收者为宜。作为这种近红外线吸收微粒子,例如可列举:掺锡氧化铟(Indium Tin Oxide,ITO)、掺锑氧化锡(Antimony TinOxide,ATO)、掺镓氧化锌(gallium zinc oxide,GZO)等透明导电性氧化物、或下述所定义的第一微粒子或第二微粒子,就吸收-透射特性的观点而言,尤其优选第一微粒子及第二微粒子。
第一微粒子:由通式A1/nCuPO4(其中,式中,A为选自由碱金属、碱土金属及NH4所组成的群组中的至少一种,当A为碱金属或NH4时,n为1,当A为碱土金属时,n为2)所表述的氧化物。
第二微粒子:由通式MxWyOz(其中,M为H、碱金属、碱土金属、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I,当M存在多个时可为各不相同的原子,W为钨,O为氧,0.001≤x/y≤1,2.2≤z/y≤3.0)所表述的金属氧化物。
本发明中,所谓碱金属是指Li、Na、K、Rb、Cs,所谓碱土金属是指Ca、Sr、Ba,所谓稀土元素是指Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu。
近红外线吸收微粒子的粒子直径的平均值为1nm~200nm,即优选200nm以下,进而更优选150nm以下,尤其优选100nm以下。近红外线吸收微粒子的粒子直径是通过使用动态光散射光度计(大冢电子公司制造,型号DLS-8000HL/HH)的动态光散射法(使用He-Ne激光,单元室温度为25℃)对近红外线吸收微粒子为分散状态的悬浮液(以下,也简称为“分散液”)进行测定而获得。若近红外线吸收微粒子的粒子直径的平均值处于所述范围内,则可减少成为可见光透射率降低的原因的几何散射或米氏散射(Mie scattering),成为瑞利散射(Rayleigh scattering)区域。在瑞利散射区域中,散射光与粒子直径的六次方成反比地减少,因此伴随粒子直径的减小,散射减少,可见光透射率提升。因此,若粒子直径处于所述范围内,则散射光变得非常少,可达成良好的可见光透射率,因此优选。就散射光的观点而言,粒子直径优选为小,但若考虑到工业制造的容易性或制造成本等,则粒子直径的平均值的下限优选1nm以上,尤其优选2nm以上。
相对于构成包含近红外线吸收微粒子的层的树脂成分100重量份,近红外线吸收微粒子的含量优选5重量份~60重量份。含量的上限值进而更优选55重量份,尤其优选50重量份。含量的下限值进而更优选10重量份,尤其优选15重量份。若近红外线吸收微粒子的含量小于5重量份,则存在无法获得充分的近红外线吸收特性的情况,若大于60重量份,则存在因可见光透射率的降低或近红外线吸收微粒子的凝聚而容易引起雾度值的增大的倾向。
作为近红外线吸收微粒子的分散介质,可列举:水、醇、酮、醚、酯、醛、胺、脂肪族烃、脂环族烃、芳香族烃等。分散介质可单独使用一种,也可混合使用两种以上。就维持近红外线吸收微粒子的分散性的方面而言,分散介质的量相对于分散液100重量份而优选50重量份~95重量份。
为了改良近红外线吸收微粒子的分散状态,视需要可在近红外线吸收微粒子的分散介质中调配分散剂。作为分散剂,可使用对于近红外线吸收微粒子的表面显示出改性效果者,例如可使用表面活性剂、硅烷化合物、硅酮树脂、钛酸盐系偶联剂、铝系偶联剂、铝锆系偶联剂等。
作为表面活性剂,可列举:阴离子系表面活性剂(特殊多羧酸型高分子表面活性剂、烷基磷酸酯等)、非离子系表面活性剂(聚氧化乙烯烷基醚、聚氧化乙烯烷基苯酚醚、聚氧化乙烯羧酸酯、脱水山梨糖醇高级羧酸酯等)、阳离子系表面活性剂(聚氧化乙烯烷基胺羧酸酯、烷基胺、烷基铵盐等)、两性表面活性剂(高级烷基甜菜碱等)。
作为硅烷化合物,可列举:硅烷偶联剂、氯硅烷、烷氧基硅烷、硅氮烷等。作为硅烷偶联剂,可列举具有官能基(缩水甘油氧基、乙烯基、氨基、烯基、环氧基、巯基、氯基、铵基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基等)的烷氧基硅烷等。
作为硅酮树脂,可列举:甲基硅酮树脂、甲基苯基硅酮树脂等。
作为钛酸盐系偶联剂,可列举具有酰氧基、磷酰氧基、焦磷酰氧基、磺酰氧基、芳氧基等者。
作为铝系偶联剂,可列举乙酰烷氧基二异丙醇铝(acetoalkoxy aluminumdiisopropylate)。
作为铝锆系偶联剂,可列举具有氨基、巯基、烷基、烯基等者。
分散剂的量视分散剂的种类而定,相对于分散液100重量份而优选0.5重量份~10重量份。若分散剂的量处于所述范围内,则近红外线吸收微粒子的分散性变良好,不会损及透明性,另外,可抑制经时性的近红外线吸收微粒子的沉降。
作为近红外线吸收微粒子的市售品,可列举:三菱材料(股)制造的P-2(ITO)、三井金属(股)制造的帕斯特朗(Pastran)(ITO)、三菱材料(股)制造的T-1(ATO)、石原产业(股)制造的SN-100P(ATO)、白水科技(Hakusui Tech)(股)制造的帕在特(Pazet)GK(GZO)、住友金属矿山(股)制造的YMF-02A(第二微粒子)等。
《第一微粒子》
第一微粒子包含由下述式(1)所表示的化合物,具有由化合物的结晶结构(微晶)引起的近红外线吸收特性。
A1/nCuPO4…(1)
式(1)中,A为选自由碱金属、碱土金属及NH4所组成的群组中的至少一种,当A为碱金属或NH4时,n为1,当A为碱土金属时,n为2。
这里,所谓“微晶”是指可视为单晶的单位结晶,“粒子”是由多个微晶构成。所谓“包含由式(1)所表示的化合物的微晶”是指例如可通过X射线衍射确认到Al/nCuPO4的结晶结构,且由X射线衍射鉴定为实质上包含Al/nCuPO4的微晶,所谓“实质上包含A1/nCuPO4的微晶”是指也可在微晶可充分维持Al/nCuPO4的结晶结构(可通过X射线衍射确认到A1/nCuPO4的结晶结构)的范围内包含杂质。再者,X射线衍射是对于粉末状态的近红外线吸收微粒子使用X射线衍射装置进行测定。
采用碱金属(Li、Na、K、Rb、Cs)、碱土金属(Ca、Sr、Ba)、或NH4作为式(1)中的A的理由如下述(i)~(iii)。
(i)近红外线吸收微粒子中的微晶的结晶结构是包含PO4 3-与Cu2+的交替键结的网孔状三维骨架,在骨架的内部具有空间。所述空间的尺寸与碱金属离子(Li+:0.090nm、Na+:0.116nm、K+:0.152nm、Rb+:0.166nm、Cs+:0.181nm)、碱土金属离子(Ca2+:0.114nm、Sr2+:0.132nm、Ba2+:0.149nm)及NH4 +(0.166nm)的离子半径相符合,因此可充分维持结晶结构。
(ii)碱金属离子、碱土金属离子及NH4 +可在溶液中作为1价或2价的阳离子而稳定地存在,因此在近红外线吸收微粒子的制造过程中,当生成前体时容易在结晶结构中导入阳离子。
(iii)若为与PO4 3-的配位键结性强的阳离子(例如过渡金属离子等),则存在供给显现出充分的近红外线吸收特性的与本实施方式中的结晶结构不同的结晶结构的可能性。
作为A,就阳离子尺寸最适于包含PO4 3-与Cu2+的骨架内所导入的离子且获得热力学稳定结构的方面而言,尤其优选K。
通过微晶充分维持Al/nCuPO4的结晶结构,而近红外线吸收微粒子可显现出充分的近红外线吸收特性。因此,当在微晶的表面附着有水或羟基时,无法维持A1/nCuPO4的结晶结构,因此可见光区域与近红外波长区域的光的透射率的差减小,无法适宜地用作光学滤波器用途。
因此,关于近红外线吸收微粒子,在显微红外(infrared,IR)光谱中,当将从属于磷酸基的1000cm-1附近的峰值的吸收强度设为基准(100%)时,优选从属于水的1600cm-1附近的峰值的吸收强度为8%以下且从属于羟基的3750cm-1附近的峰值的吸收强度为26%以下,更优选从属于水的1600cm-1附近的峰值的吸收强度为5%以下且从属于羟基的3750cm-1附近的峰值的吸收强度为15%以下。再者,显微IR光谱是对于粉末状态的近红外线吸收微粒子使用傅里叶变换红外分光光度计(Fourier transform infrared spectrometer)进行测定。具体来说,例如使用赛默飞世尔科技(Thermo Fisher Scientific)公司制造的傅里叶变换红外分光光度计麦格纳(Magna)760,在其金刚石板上放置一片第一微粒子,利用辊使其平坦,并利用显微傅里叶变换红外光谱(Fourier transform infrared spectrum,FT-IR)法进行测定。
《第二微粒子》
已知通过将三氧化钨(WO3)的氧相对于钨的比率相比3而进一步减小并设为特定的组成范围,而在所述钨氧化物中生成自由电子,可作为近红外线吸收材料而达成良好的特性。
当氧相对于钨的组成比为3以下且进而将所述钨氧化物记载为WyOz时,所述钨与氧的组成范围优选2.2≤z/y≤2.999。若所述z/y的值为2.2以上,则可避免所述钨氧化物中出现目标以外的WO2结晶相,并且可获得作为材料的化学稳定性,因此可应用为有效的近红外线吸收材料。另一方面,若所述z/y的值为2.999以下,则在所述钨氧化物中生成所需量的自由电子,成为效率良好的近红外线吸收材料。
另外,在将所述钨氧化物微粒子化而成的钨氧化物微粒子中,当设为通式WyOz时,具有由2.45≤z/y≤2.999所表示的组成比的所谓“马格涅利相(Magneli phase)”化学稳定,且近红外线区域的吸收特性也良好,因此作为近红外线吸收材料而优选。
进而,通过在所述钨氧化物中添加元素M制成复合钨氧化物,而在所述复合钨氧化物中生成自由电子,且在近红外线区域中显现出源于自由电子的吸收特性,并且作为波长1000nm附近的近红外线吸收材料而有效,因此优选。即,第二微粒子的优选组成是由通式MxWyOz(M为所述一种或多种元素,W为钨,O为氧,0.001≤x/y≤1,2.2≤z/y≤3.0)所表述的金属氧化物。
首先,对表示元素M的添加量的x/y的值进行说明。若x/y的值大于0.001,则可生成充分量的自由电子而获得作为目标的红外线遮蔽效果。而且,元素M的添加量越多,则自由电子的供给量越增加,红外线遮蔽效率也上升,但当x/y的值为1左右时所述效果也饱和。另外,若x/y的值小于1,则可避免在所述红外线遮蔽材料中生成杂质相,因此优选,进而更优选0.2以上且0.5以下。另外,元素M优选为选自H、碱金属、碱土金属、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I中的一种以上。这里,就稳定性的观点而言,添加有元素M的所述MxWyOz中的元素M更优选为选自碱金属、碱土金属、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、v、Mo、Ta、Re中的一种以上的元素,就提升作为近红外线吸收材料的光学特性、耐候性的观点而言,所述元素M进而更优选属于碱金属、碱土金属元素、过渡金属元素、4族元素、5族元素的元素。
继而,对表示氧量的控制的z/y的值进行说明。关于z/y的值,在由MxWyOz所表述的近红外线吸收材料中,除与所述由WyOz所表述的近红外线吸收材料同样的机制发挥作用以外,当z/y=3.0时,也存在由所述元素M的添加量引起的自由电子的供给,因此优选2.2≤z/y≤3.0。
<其他成分>
在无损本发明的效果的范围内,基材除所述成分以外,也可进而含有近紫外线吸收剂、抗氧化剂、萤光消光剂、金属络合物系化合物等添加剂。这些其他成分可单独使用一种,也可并用两种以上。
作为近紫外线吸收剂,例如可列举:甲亚胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。
作为抗氧化剂,例如可列举:2,6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2,2’-二氧-3,3’-二-叔丁基-5,5’-二甲基二苯基甲烷、及四[亚甲基-3-(3,5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷、三(2,6-二-叔丁基苯基)亚磷酸酯等。
再者,这些添加剂可在制造基材时与树脂等一起混合,也可在合成树脂时添加。另外,添加量根据所期望的特性进行适当选择,相对于树脂100重量份,通常为0.01重量份~5.0重量份,优选0.05重量份~2.0重量份。
<基材的制造方法>
在基材为包含透明树脂制基板的基材的情况下,所述透明树脂制基板例如可通过熔融成型或浇铸成型而形成,而且,视需要,可通过在成型后涂布抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂,而制造层叠了外涂层的基材。
在基材为在成为基底的树脂制支撑体上层叠包含含有化合物(A)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层的基材的情况下,例如可通过在树脂制支撑体上对包含化合物(A)等的树脂溶液进行熔融成型或浇铸成型,优选通过利用旋涂、狭缝涂布、喷墨等方法涂敷后将溶剂干燥去除,视需要进一步进行光照射或加热,而制造在成为基底的树脂制支撑体上形成有透明树脂层的基材。
《熔融成型》
作为熔融成型,具体可列举:将树脂与化合物(A)熔融混练而得的颗粒熔融成型的方法;将含有树脂与化合物(A)的树脂组合物熔融成型的方法;或者将自包含化合物(A)、树脂及溶剂的树脂组合物中去除溶剂而得的颗粒熔融成型的方法等。作为熔融成型方法,可列举:射出成型、熔融挤出成型或吹塑成型等。
《浇铸成型》
作为浇铸成型,还可利用以下方法而制造:将包含化合物(A)、树脂及溶剂的树脂组合物浇铸在适当的支撑体上而去除溶剂的方法;或者将包含化合物(A)、与光硬化性树脂和/或热硬化性树脂的硬化性组合物浇铸在适当的支撑体上而去除溶剂后,利用紫外线照射或加热等恰当的方法进行硬化的方法等。
在基材为包含含有化合物(A)的透明树脂制基板的基材的情况下,所述基材可通过在浇铸成型后自成型用支撑体剥离涂膜而得,另外,在所述基材为在成为基底的树脂制支撑体上层叠包含含有化合物(A)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层的基材的情况下,所述基材可通过在浇铸成型后不剥离涂膜而得。
[电介质多层膜]
作为电介质多层膜,可列举:将高折射率材料层与低折射率材料层交替层叠者。作为构成高折射率材料层的材料,可使用折射率为1.7以上的材料,选择折射率通常为1.7~2.5的材料。作为这种材料,例如可列举:将氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌或氧化铟等作为主成分,并含有少量(例如相对于主成分而为0重量%~10重量%)的氧化钛、氧化锡和/或氧化铈等者。
作为构成低折射率材料层的材料,可使用折射率为1.6以下的材料,选择折射率通常为1.2~1.6的材料。作为这种材料,例如可列举:二氧化硅、氧化铝、氟化镧、氟化镁及六氟化铝钠。
关于将高折射率材料层与低折射率材料层层叠的方法,只要形成将所述材料层层叠的电介质多层膜,则并无特别限制。例如可在基材上利用CVD法、溅射法、真空蒸镀法、离子辅助蒸镀法或离子镀敷法等,直接形成将高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠的电介质多层膜。
蒸镀理想的是通常在100℃以上且比所使用的透明树脂的Tg低10℃以上的蒸镀温度的范围内进行,优选在100℃以上且比透明树脂的Tg低20℃以上的蒸镀温度的范围内进行。若在这种温度条件下进行蒸镀,则不会对基材进行过度加热,而且可形成密接性优异的电介质多层膜,因此优选。
本发明中,由于使用包含具有200℃以上的高玻璃化温度(Tg)的透明树脂的基材,因此可通过相比通常而温度更高的蒸镀来进行电介质多层膜的形成。具体的蒸镀温度优选180℃以上,更优选190℃以上,进而更优选200℃以上。若通过这种高温下的蒸镀形成电介质多层膜,则电介质多层膜的密接性提升,作为蒸镀膜的电介质多层膜的强度提高,因此所获得的电介质多层膜以及使用其的层叠体的耐热性、耐损伤性也提升。
通常,若将想要阻断的近红外线波长设为λ(nm),则高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度优选0.1λ~0.5λ的厚度。作为λ(nm)的值,例如为700nm~1400nm,优选750nm~1300nm。若厚度为所述范围,则折射率(n)与膜厚(d)的积(n×d)成为与利用λ/4所算出的光学膜厚、以及高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度大致相同的值,根据反射·折射的光学特性的关系,存在可容易地控制特定波长的阻断·透射的倾向。
关于电介质多层膜中的高折射率材料层与低折射率材料层的合计的层叠数,以光学滤波器整体计优选16层~70层,更优选20层~60层。若各层的厚度、以光学滤波器整体计的电介质多层膜的厚度或合计的层叠数处于所述范围内,则可确保充分的制造余裕(margin),而且可减少光学滤波器的翘曲或电介质多层膜的龟裂。
本发明的一实施方式中,通过配合化合物(A)的吸收特性来恰当地选择构成高折射率材料层及低折射率材料层的材料种类、高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度、层叠的顺序、层叠数,而可在可见区域确保充分的透射率,而且在近红外波长区域具有充分的光线截止特性,且减少近红外线自倾斜方向入射时的反射率。
这里,为了使条件最佳化,例如只要使用光学薄膜设计软件(例如,核心麦克劳德(Essential Macleod),薄膜中心(Thin Film Center)公司制造),以在自光学滤波器(或基材)的垂直方向测定时、相对于垂直方向而自30度的角度测定时、相对于垂直方向而自60度的角度测定时的任一情况下,均可兼具可见光透射率与近红外区域的光线截止效果的方式设定参数即可。尤其是为了适宜地用作环境光传感器用光学滤波器,重要的是在各入射角度下可见光透射率或近红外截止性能的变化小,为了达成这种特性,当进行电介质多层膜的设计时,优选根据波长区域而使将光学特性最佳化的入射角度变化(例如,波长400nm~750nm的透射率在入射角度30度下使光学特性最佳化,800nm~1200nm的透射率在入射角度0度下使光学特性最佳化等)。
在所述软件的情况下,例如可列举以下的参数设定方法:在进行仅形成于基材的单面的电介质多层膜的设计时,将波长400nm~750nm的相对于垂直方向而自30度的角度进行测定时的目标透射率设为100%,并将目标公差(Target Tolerance)的值设为1,将波长755nm~790nm的自垂直方向进行测定时的目标透射率设为100%,并将目标公差的值设为0.8,将波长800nm~1000nm的相对于垂直方向而自30度的角度进行测定时的目标透射率设为0%,并将目标公差的值设为0.5,将波长1005nm~1300nm的相对于垂直方向而自0度的角度进行测定时的目标透射率设为0%,并将目标公差的值设为0.7等。这些参数还可配合基材(i)的各种特性等而更细致地划分波长范围来改变使设计最佳化的光线入射角度或目标公差的值。尤其是若在波长400nm~700nm的区域中的至少一部分波长区域中,相对于自倾斜方向的光线而使设计最佳化,则在入射角度60度等入射角非常大的情况下,也能减少由波纹(ripple)等引起的可见光透射率的降低,因此优选。
[其他功能膜]
本发明的一实施方式的光学滤波器在无损本发明的效果的范围内,可在基材与电介质多层膜之间、与基材的设置有电介质多层膜的面相反侧的面、或与电介质多层膜的设置有基材的面相反侧的面,为了提高基材或电介质多层膜的表面硬度、提高耐化学品性、抗静电及消除损伤等,可适当设置抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。
本发明的一实施方式的光学滤波器可包含一层含有所述功能膜的层,也可包含两层以上。在本发明的一实施方式的光学滤波器包含两层以上的含有这种功能膜的层时,可包含两层以上同样的层,也可包含两层以上不同的层。
作为层叠这种功能膜的方法,并无特别限制,可列举:在基材或电介质多层膜上,以与所述相同的方式,将抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂等熔融成型或浇铸成型的方法等。
另外,还可通过以下方式制造:利用棒涂机等将包含涂布剂等的硬化性组合物涂布于基材或电介质多层膜上后,通过紫外线照射等进行硬化。
作为涂布剂,可列举:紫外线(Ultraviolet,UV)/电子束(Electron Beam,EB)硬化型树脂或热硬化型树脂等,具体可列举:乙烯系化合物类、或氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系树脂等。作为包含这些涂布剂的硬化性组合物,可列举:乙烯系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系硬化性组合物等。
另外,硬化性组合物也可包含聚合引发剂。作为聚合引发剂,可使用公知的光聚合引发剂或热聚合引发剂,也可将光聚合引发剂与热聚合引发剂并用。聚合引发剂可单独使用一种,也可并用两种以上。
硬化性组合物中,在将硬化性组合物的总量设为100重量%时,聚合引发剂的调配比例优选0.1重量%~10重量%,更优选0.5重量%~10重量%,进而更优选1重量%~5重量%。若聚合引发剂的调配比例处于所述范围内,则可获得硬化性组合物的硬化特性及操作性优异,并具有所期望的硬度的抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。
进而,在硬化性组合物中可添加有机溶剂作为溶剂,作为有机溶剂,可使用公知者。作为有机溶剂的具体例,可列举:甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类;丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类;乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等酯类;乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚等醚类;苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类;二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类。这些溶剂可单独使用一种,也可并用两种以上。
功能膜的厚度优选0.1μm~20μm,进而更优选0.5μm~10μm,尤其优选0.7μm~5μm。
另外,为了提高基材与功能膜和/或电介质多层膜的密接性、或功能膜与电介质多层膜的密接性,也可对基材、功能膜或电介质多层膜的表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。
[光学滤波器的用途]
本发明的一实施方式的光学滤波器在入射角度大的情况下也具有优异的可见光透射率与近红外线截止能力,并且耐热性优异,因此能够应用于再流焊工序中。因此,作为固体摄像装置、以及照度传感器或颜色修正用传感器等各种环境光传感器用途而有用。尤其是对数字静态照相机或移动电话用照相机等CCD或CMOS图像传感器等固体摄像元件的视感度修正而言有用,还可适宜地用于要求制品组装时的高温粘接、高温区域下的使用等的用途中。另外,作为搭载于数字静态照相机、智能手机、平板终端、移动电话、可穿戴设备、汽车、电视机、游戏机等中的环境光传感器用途而有用。进而,也作为安装于汽车或建筑物等的窗用玻璃板等上的热射线截止滤波器等而有用。
[环境光传感器]
可将本发明的一实施方式的光学滤波器与光电转换元件组合而用作环境光传感器。这里,所谓环境光传感器是指照度传感器或颜色修正用传感器等能够感知周围的亮度或色调(在傍晚的时间段中红色强烈等)的传感器,例如能够根据由环境光传感器所感知的信息来控制搭载于设备上的显示器的照度或色泽。
图3表示探测周围的亮度的环境光传感器200a的一例。环境光传感器200a具备光学滤波器100及光电转换元件202。若光入射至光接收部,则光电转换元件202利用光伏效应(photovoltaic effect)而产生电流或电压。光学滤波器100设置在光电转换元件202的光接收面侧。入射至光电转换元件202的光接收面的光利用光学滤波器100而成为可见光频带的光,近红外线频带(800nm~2500nm)的光被阻断。环境光传感器200a感应可见光而输出信号。
再者,在环境光传感器200a中,在光学滤波器100与光电转换元件202之间也可介隔存在其他透光性的层。例如,在光学滤波器100与光电转换元件202之间也可设置具有透光性的树脂层作为密封材。
光电转换元件202具有第一电极206、光电转换层208、第二电极210。另外,在光接收面侧设置有钝化膜216。光电转换层208是由显现出光电效应的半导体形成。例如,光电转换层208是使用硅半导体形成。光电转换层208为二极管型的元件,并利用内置电场而显现出光电压。再者,光电转换元件202并不限定于二极管型的元件,也可为光导电型的元件(也称为光电阻器(photoresistor)、光依赖电阻(light dependent resistor)、光电导体(photoconductor)、光电池(photocell))或光电晶体管(phototransistor)型的元件。
光电转换层208除使用硅半导体以外,也可使用锗半导体、硅·锗半导体。另外,作为光电转换层208,也可使用GaP、GaAsP、CdS、CdTe、CuInSe2等化合物半导体材料。由半导体材料形成的光电转换元件202对自可见光线频带至近红外线频带的光具有感度。例如,当光电转换层208由硅半导体形成时,硅半导体的带隙能量为1.12eV,因此,原理上可吸收作为近红外光的波长700nm~1100nm的光。但是,通过具备光学滤波器100,环境光传感器200a不会感应近红外光,而对可见光区域的光具有感度。再者,光电转换元件202优选为以选择性地照射有透过光学滤波器100的光的方式由遮光性的框体204包围。环境光传感器200a通过具备光学滤波器100而可阻断近红外光并对周围光进行探测。由此,环境光传感器200a可消除感应近红外光并进行误动作等不良情况。
图4表示除探测周围的亮度以外还探测色调的环境光传感器200b的一例。环境光传感器200b包含光学滤波器100、光电转换元件202a~光电转换元件202c、彩色滤波器212a~彩色滤波器212c而构成。在光电转换元件202a的光接收面上设置有使红色光频带的光透过的彩色滤波器212a,在光电转换元件202b的光接收面上设置有使绿色光频带的光透过的彩色滤波器212b,在光电转换元件202c的光接收面上设置有使蓝色光频带的光透过的彩色滤波器212c。光电转换元件202a~光电转换元件202c除被元件分离绝缘层214绝缘以外,具备与图3所示者同样的构成。通过所述构成,光电转换元件202a~光电转换元件202c能够独立地探测照度。再者,在彩色滤波器212a~彩色滤波器212c与光电转换元件202a~光电转换元件202c之间也可设置钝化膜216。
光电转换元件202a~光电转换元件202c遍及自可见光线波长区域至近红外线波长区域的广范围而具有感度。因此,除光学滤波器100以外,还与光电转换元件202a~光电转换元件202c对应地设置彩色滤波器212a~彩色滤波器212c,由此,环境光传感器200b可阻断近红外光并防止传感器的误动作,并且探测与各颜色对应的光。环境光传感器200b通过具备阻断近红外区域的光的光学滤波器100与彩色滤波器212a~彩色滤波器212c,不仅可将周围光分光为多个波长频带的光来加以探测,而且还能够应用于在先前的颜色传感器中受到近红外线的影响而无法准确地进行探测的暗环境下。
[电子设备]
图5(A)~图5(C)表示具有本发明的一实施方式的环境光传感器200的电子设备300的一例。再者,图5(A)示出正视图,图5(B)示出俯视图,图5(C)示出对图5(B)中由虚线包围的区域D的构成进行例示的详细图。电子设备300包括:框体302、显示面板304、麦克风部306、扬声器部308、环境光传感器200。显示面板304采用触摸屏,除显示功能以外还兼具输入功能。
环境光传感器200被设置在设于框体302上的表面面板310背面。即,环境光传感器200并不暴露于电子设备300的外表,并且光穿过透光性的表面面板310而入射。表面面板310由光学滤波器100阻断近红外线区域的光,而使可见光区域的光入射至光电转换元件202。电子设备300可利用环境光传感器200来控制显示面板304的照度或色泽。
[实施例]
以下,基于实施例来对本发明进行更具体的说明,但本发明不受所述实施例任何限定。再者,“份”只要无特别说明,则是指“重量份”。另外,各物性值的测定方法及物性的评价方法如以下所述。
<分子量>
树脂的分子量是考虑各树脂在溶剂中的溶解性等,利用下述(a)或(b)的方法进行测定。
(a)使用沃特世(WATERS)公司制造的凝胶渗透色谱(GPC)装置(150C型、管柱:东曹(Tosoh)公司制造的H型管柱、展开溶剂:邻二氯苯),测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。
(b)使用东曹公司制造的GPC装置(HLC-8220型、管柱:TSKgelα-M、展开溶剂:四氢呋喃(tetrahydrofuran,THF)),测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。
<玻璃化温度(Tg)>
使用精工电子纳米科技(SII Nanotechnologies)股份有限公司制造的示差扫描热量计(DSC6200),在升温速度:每分钟20℃、氮气流下进行测定。
<分光透射率>
光学滤波器的各波长区域中的透射率是使用日立高新技术(Hitachi High-Technologies)股份有限公司制造的分光光度计(U-4100)进行测定。
这里,在自光学滤波器的垂直方向测定时的透射率中,像图6(A)那样利用分光光度计3测定相对于光学滤波器2而垂直地透射的光1,在相对于光学滤波器的垂直方向而自30度的角度测定时的透射率中,像图6(B)那样利用分光光度计3测定相对于光学滤波器2的垂直方向而以30度的角度透射的光1’,在相对于光学滤波器的垂直方向而自60度的角度测定时的透射率中,像图6(C)那样利用分光光度计3测定相对于光学滤波器2的垂直方向而以60度的角度透射的光1”。
<龟裂评价>
通过目视,将电介质多层膜层(蒸镀层)中无龟裂者评价为“○”,将电介质多层膜层(蒸镀层)中有龟裂者评价为“×”。
<耐回流评价>
利用卡普顿(Kapton)胶带将光学滤波器固定于厚度1mm的玻璃环氧基板SL-EP(日东新兴(Nittoshinko)公司制造)上,利用千住金属工业公司制造的回流装置(STR-2010N2M-III)并依据电子器件工程联合委员会(Joint Electron Device EngineeringCouncil,JEDEC)标准的J-STD-02D,将进行最高温度达到约270℃的回流焊处理后的龟裂的有无作为耐回流性。将未产生龟裂的情形评价为“○”,将产生龟裂而难以实际使用的情形评价为“×”。
下述实施例中所用的近红外线吸收色素是利用通常已知的方法合成。作为通常的合成方法,例如可列举:日本专利第3366697号公报、日本专利第2846091号公报、日本专利第2864475号公报、日本专利第3703869号公报、日本专利特开昭60-228448号公报、日本专利特开平1-146846号公报、日本专利特开平1-228960号公报、日本专利第4081149号公报、日本专利特开昭63-124054号公报、《酞菁-化学与功能-》(IPC、1997年)、日本专利特开2007-169315号公报、日本专利特开2009-108267号公报、日本专利特开2010-241873号公报、日本专利第3699464号公报、日本专利第4740631号公报等所记载的方法。
<树脂合成例1>
在3L的四口烧瓶中添加2,6-二氟苯甲腈35.12g(0.253mol)、9,9-双(4-羟基苯基)芴87.60g(0.250mol)、碳酸钾41.46g(0.300mol)、N,N-二甲基乙酰胺(以下也称为“DMAc(Dimethylacetamide)”)443g及甲苯111g。继而,在四口烧瓶中安装温度计、搅拌机、附有氮气导入管的三通旋塞、水分离(Dean-Stark)管及冷却管。继而,将烧瓶内进行氮气置换后,将所获得的溶液在140℃下反应3小时,将所生成的水自水分离管随时去除。在确认不到水的生成时,缓慢地将温度上升至160℃为止,并在所述温度下反应6小时。冷却至室温(25℃)为止后,利用滤纸将所生成的盐去除,将滤液投入至甲醇中进行再沉淀,通过过滤分离来将过滤物(残渣)分离。将所获得的过滤物在60℃下真空干燥一晚,而获得白色粉末(以下也称为“树脂A”)(产率为95%)。所获得的树脂A的数量平均分子量(Mn)为75,000、重量平均分子量(Mw)为188,000,玻璃化温度(Tg)为285℃。
<树脂合成例2>
将下述式(8)所示的8-甲基-8-甲氧基羰基四环[4.4.0.12,5.17,10]十二-3-烯(以下也称为“DNM”)100份、1-己烯(分子量调节剂)18份及甲苯(开环聚合反应用溶剂)300份投入至经氮气置换的反应容器中,将所述溶液加热至80℃。继而,在反应容器内的溶液中,添加三乙基铝的甲苯溶液(0.6mol/升)0.2份、及甲醇改性的六氯化钨的甲苯溶液(浓度0.025mol/升)0.9份作为聚合催化剂,将所述溶液在80℃下加热搅拌3小时,由此进行开环聚合反应而获得开环聚合物溶液。所述聚合反应中的聚合转化率为97%。
[化17]
将如此而获得的开环聚合物溶液1,000份投入至高压釜中,在所述开环聚合物溶液中,添加0.12份RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3,在氢气压为100kg/cm2、反应温度为165℃的条件下,加热搅拌3小时进行氢化反应。将所获得的反应溶液(氢化聚合物溶液)冷却后,将氢气放压。将所述反应溶液注入至大量的甲醇中将凝固物分离回收,并将其干燥,而获得氢化聚合物(以下也称为“树脂B”)。所获得的树脂B的数量平均分子量(Mn)为32,000、重量平均分子量(Mw)为137,000,玻璃化温度(Tg)为165℃。
[实施例1]
在实施例1中,以如下顺序及条件制作具有包含在两面具有树脂层的透明树脂制基板的基材的光学滤波器。
<透明树脂制基板的制作>
在容器中添加树脂合成例1中所获得的树脂A 100重量份、作为化合物(A)的下述式(a-1)所示的化合物(a-1)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为698nm)0.04份及N,N-二甲基乙酰胺,而制备树脂浓度为20重量%的溶液。将所获得的溶液浇铸在平滑的玻璃板上,在60℃下干燥8小时后,进而在减压下在140℃下干燥8小时后自玻璃板剥离。将剥离的涂膜进一步在减压下在100℃下干燥8小时,而获得厚度0.100mm、纵60mm、横60mm的透明树脂制基板。
[化18]
<基材的制作>
利用棒涂机将下述组成的树脂组合物(1)涂布于所获得的透明树脂制基板的单面,并在烘箱中以70℃加热2分钟,而将溶剂挥发去除。这时,以干燥后的厚度成为2μm的方式调整棒涂机的涂布条件。继而,使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量为500mJ/cm2、200mW),使树脂组合物(1)硬化,而在透明树脂制基板上形成树脂层。同样地,在透明树脂制基板的另一个面上也形成包含树脂组合物(1)的树脂层,而获得在包含化合物(A)的透明树脂制基板的两面上具有树脂层的基材。
树脂组合物(1):三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羟基环己基苯基酮5重量份、甲基乙基酮(溶剂,固体成分浓度(总固体浓度(total solid concentration,TSC)):30%)
<光学滤波器的制作>
在所获得的基材的单面形成作为第一光学层的电介质多层膜(I),进而在基材的另一个面上形成作为第二光学层的电介质多层膜(II),而获得厚度约为0.105mm的光学滤波器。
电介质多层膜(I)是在蒸镀温度200℃下将二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而成(合计26层)。电介质多层膜(II)是在蒸镀温度100℃下将二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而成(合计20层)。电介质多层膜(I)及电介质多层膜(II)的任一电介质多层膜中,二氧化硅层及二氧化钛层是自基材侧依序交替地层叠二氧化钛层、二氧化硅层、二氧化钛层、···二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化硅层,并将光学滤波器的最外层设为二氧化硅层。
电介质多层膜(I)及电介质多层膜(II)的设计是以如下方式进行。
关于各层的厚度与层数,以可达成可见区域的抗反射效果与近红外区域的选择性透射·反射性能的方式,根据基材折射率的波长依赖特性、或所应用的化合物(A)的吸收特性,使用光学薄膜设计软件(Essential Macleod,薄膜中心公司制造)进行最佳化。进行最佳化时,在本实施例中将在软件中的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表9所述。
[表9]
关于膜构成最佳化的结果,在实施例1中,电介质多层膜(I)成为将膜厚30nm~153nm的二氧化硅层与膜厚10nm~96nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为26的多层蒸镀膜,电介质多层膜(II)成为将膜厚38nm~187nm的二氧化硅层与膜厚11nm~111nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为20的多层蒸镀膜。将进行最佳化的膜构成的一例示于下述表10。
[表10]
*λ=550nm
自所获得的光学滤波器的垂直方向以及相对于垂直方向而自30°及60°的角度测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性。将结果示于图7及表13。
继而,将所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时,将样品取出,并在25℃55%RH气体环境中静置两天后,自光学滤波器的垂直方向测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性及龟裂有无。将所述保管后的结果及所述保管前后的变化示于图8及表13。
[实施例2]
在实施例1中,作为化合物(A),使用下述式(a-2)所示的化合物(a-2)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为703nm)0.04份及下述式(a-3)所示的化合物(a-3)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为736nm)0.08份,除此以外,以与实施例1同样的顺序及条件而获得包含含有化合物(A)的透明树脂制基板的基材。
[化19]
[化20]
与实施例1同样地,在所获得的透明树脂制基板的两面上形成包含树脂组合物(1)的树脂层,而获得在含有化合物(A)的透明树脂制基板的两面具有树脂层的基材。
继而,与实施例1同样地,在所获得的基材的单面形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而成(合计26层)的电介质多层膜(III),进而在基材的另一个面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而成(合计20层)的电介质多层膜(IV),而获得厚度约0.109mm的光学滤波器。电介质多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依赖性之后,使用与实施例1相同的设计参数而进行。自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向而自30°及60°的角度测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性。将结果示于表13。
继而,将所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时后,将样品取出,并在25℃55%RH气体环境中静置两天后,自光学滤波器的垂直方向测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性及龟裂有无。将所述保管后的结果及所述保管前后的变化示于图9及表13。
[实施例3]
在实施例3中,以如下顺序及条件制作具有在树脂制支撑体的两面上形成包含化合物(A)的透明树脂层而成的基材的光学滤波器。
在容器中添加树脂合成例1中所获得的树脂A及N,N-二甲基乙酰胺而制备树脂浓度为20重量%的溶液,并使用所获得的溶液,除此以外,以与实施例1的树脂制基板的制作同样的方式制作树脂制支撑体。
以与实施例2同样的方式,在所获得的树脂制支撑体的两面上形成包含下述组成的树脂组合物(2)的树脂层,而获得在树脂制支撑体的两面上形成包含化合物(A)的透明树脂层而成的基材。
树脂组合物(2):三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯100重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、化合物(a-1)0.10重量份、甲基乙基酮(溶剂,TSC:25%)
继而,与实施例1同样地,在所获得的基材的单面形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而成(合计26层)的电介质多层膜(V),进而在基材的另一个面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而成(合计20层)的电介质多层膜(VI),而获得厚度约0.109mm的光学滤波器。电介质多层膜的设计是与实施例1同样地,在考虑基材折射率的波长依赖性等之后,使用与实施例1相同的设计参数进行。自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向而自30°及60°的角度测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性。将结果示于表13。
继而,将所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时,将样品取出,并在25℃55%RH气体环境中静置两天后,自光学滤波器的垂直方向测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性及龟裂有无。将所述保管后的结果及所述保管前后的变化示于图10及表13。
[实施例4]
在实施例4中,以如下顺序及条件制作具有如下基材的光学滤波器,所述基材包含透明树脂制基板,所述透明树脂制基板在两面具有包含近红外线吸收微粒子的透明树脂层、且包含化合物(A)。
以与实施例2同样的顺序及条件而获得包含化合物(A)的透明树脂制基板。以与实施例2同样的方式,在所获得的树脂制基板的两面上形成包含下述组成的树脂组合物(3)的树脂层,而获得包含如下透明树脂制基板的基材,所述透明树脂制基板在两面具有包含近红外线吸收微粒子的透明树脂层、且包含化合物(A)。
树脂组合物(3):三环癸烷二甲醇丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羟基环己基苯基酮5重量份、近红外线吸收微粒子分散液(住友金属矿山(股)制造的YMF-02A,第二微粒子的市售分散液)117重量份(以固体成分换算计约33重量份)、甲基乙基酮(溶剂,固体成分浓度(TSC):30%)
继而,与实施例1同样地,在所获得的基材的单面形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而成(合计26层)的电介质多层膜(VII),进而在基材的另一个面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而成(合计20层)的电介质多层膜(VIII),而获得厚度约0.109mm的光学滤波器。电介质多层膜的设计是与实施例1同样地,在考虑基材折射率的波长依赖性等之后,使用与实施例1相同的设计参数进行。自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向而自30°及60°的角度测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性。将结果示于表13。
继而,将所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时,将样品取出,并在25℃55%RH气体环境中静置两天后,自光学滤波器的垂直方向测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性及龟裂有无。将所述保管后的结果及所述保管前后的变化示于图11及表13。
[比较例1]
在实施例1中,使用树脂B代替树脂A,除此以外,以与实施例1同样的方式制作基材及光学滤波器。所获得的光学滤波器的翘曲或畸变严重,未能进行评价。
[比较例2]
在实施例1中,将电介质多层膜的蒸镀温度变更为120℃,除此以外,以与实施例1同样的方式制作基材及光学滤波器。自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向而自30°及60°的角度测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性。将结果示于表13。
继而,将所获得的光学滤波器在85℃85%RH的环境中保管1000小时,将样品取出,并在25℃55%RH气体环境中静置两天后,自光学滤波器的垂直方向测定分光透射率,评价各波长区域中的光学特性及龟裂有无。将所述保管后的结果及所述保管前后的变化示于图12及表13。比较例1中所获得的光学滤波器在所述保管后产生龟裂,未示出耐回流性。
[比较例3]
以与实施例1同样的顺序制作基材。继而,在所获得的基材的单面形成电介质多层膜(XIII),进而在基材的另一个面上形成电介质多层膜(XIV),而获得厚度约0.110mm的光学滤波器。
电介质多层膜(XIII)及电介质多层膜(XIV)将在光学薄膜设计软件(EssentialMacleod,薄膜中心公司制造)中的输入参数(目标值)设为如下述表11所述,除此以外,以与实施例1同样的顺序在基材上制膜。
[表11]
关于膜构成最佳化的结果,在比较例3中,电介质多层膜(XIII)成为将膜厚77nm~147nm的二氧化硅层与膜厚84nm~90nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为25的多层蒸镀膜,电介质多层膜(XIV)成为将膜厚77nm~147nm的二氧化硅层与膜厚84nm~90nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为25的多层蒸镀膜。将进行最佳化的膜构成的一例示于表12。
[表12]
*λ=550nm
将所获得的光学滤波器的光学特性示于图13及表13。比较例3中所获得的光学滤波器的波长800nm~1200nm中的光学浓度的平均值为0.5,未示出良好的近红外光截止特性。
实施例及比较例中所应用的基材的构成、各种化合物等如下所述。
<基材的形态>
形态(1):在包含化合物(A)的透明树脂制基板的两面具有树脂层
形态(2):在树脂制支撑体的两面具有包含化合物(A)的透明树脂层
形态(3):在包含化合物(A)的透明树脂制基板的两面具有包含近红外线吸收微粒子的透明树脂层
<透明树脂>
树脂A:芳香族聚醚系树脂(树脂合成例1)
树脂B:环状聚烯烃系树脂(树脂合成例2)
<近红外线吸收色素>
《化合物(A)》
化合物(a-1):所述化合物(a-1)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为698nm)
化合物(a-2):所述化合物(a-2)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为703nm)
化合物(a-3):所述化合物(a-3)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为736nm)
<溶剂>
溶剂(1):N,N-二甲基乙酰胺
溶剂(2):二氯甲烷
表13中的实施例及比较例的(透明)树脂制基板的干燥条件如以下所述。再者,在减压干燥前将涂膜自玻璃板剥离。
<膜干燥条件>
条件(1):60℃/8hr→80℃/8hr→减压下140℃/8hr
条件(2):20℃/8hr→减压下100℃/8hr
[表13]
Claims (16)
1.一种光学滤波器,其特征在于具有透明树脂制基材、以及形成于所述透明树脂制基材的至少一个面上的电介质多层膜,且满足下述要件(a)~要件(d),其中,所述透明树脂制基材包含树脂层,所述树脂层含有在波长600nm~800nm具有吸收极大值的化合物A:
(a)对在85℃85%相对湿度的环境中保管1000小时前的所述光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-0为45%以上且90%以下;
(b)对保管前的所述光学滤波器的光学浓度自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长800nm~1200nm的范围内的光学浓度的平均值ODa-0为1.0以上;
(c)对保管后的所述光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Tb-0、与所述要件(a)所述的透射率的平均值Ta-0的差的绝对值为7%以下;
(d)在将对保管前的所述光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长580nm~650nm的透射率的平均值设为TRa、将波长500nm~580nm的透射率的平均值设为TGa、将波长420nm~500nm的透射率的平均值设为TBa的情况下,TGa/TRa及TBa/TRa均为0.9~1.6。
2.根据权利要求1所述的光学滤波器,其特征在于,未在保管后的所述光学滤波器的电介质多层膜中产生龟裂。
3.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学滤波器进而满足下述要件(e):
(e)对保管前的所述光学滤波器的分光透射率自相对于所述光学滤波器的垂直方向倾斜30度的方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-30、以及对保管前的所述光学滤波器的透射率自相对于所述光学滤波器的垂直方向倾斜60度的方向进行测定时的波长400nm~650nm的范围内的透射率的平均值Ta-60均为45%以上且90%以下。
4.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学滤波器进而满足下述要件(f):
(f)对保管前的所述光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的在波长350nm~500nm的范围内透射率成为50%的最短波长的值Xa、与
对保管后的所述光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的在波长350nm~500nm的范围内透射率成为50%的最短波长的值Xb的差的绝对值为12nm以下。
5.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学滤波器进而满足下述要件(g):
(g)在将对保管后的所述光学滤波器的分光透射率自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的波长580nm~650nm的透射率的平均值设为TRb、将波长500nm~580nm的透射率的平均值设为TGb、将波长420nm~500nm的透射率的平均值设为TBb的情况下,TGb/TRb及TBb/TRb均为0.9~1.6。
6.根据权利要求5所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学滤波器进而满足下述要件(h):
(h)(TGb/TRb)/(TGa/TRa)的值及(TBb/TRb)/(TBa/TRa)的值均为0.95~1.05。
7.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,所述化合物A是选自由方酸内鎓盐系化合物及酞菁系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。
8.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,构成所述树脂层的树脂是选自由芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芳族聚酰胺系树脂、聚醚砜系树脂、硅倍半氧烷系紫外线硬化型树脂、马来酰亚胺系树脂、脂环环氧热硬化型树脂、聚醚醚酮系树脂、聚芳酯系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯系紫外线硬化型树脂所组成的群组中的至少一种树脂。
9.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,在所述透明树脂制基材的两面上设置有电介质多层膜。
10.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,所述透明树脂制基材具有包含近红外线吸收微粒子的层。
11.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,其用于固体摄像装置。
12.根据权利要求1或2所述的光学滤波器,其特征在于,其用于环境光传感器。
13.一种固体摄像装置,其具备根据权利要求1至11中任一项所述的光学滤波器。
14.一种照相机模块,其具备根据权利要求1至11中任一项所述的光学滤波器。
15.一种环境光传感器,其特征在于具备根据权利要求1至10及12中任一项所述的光学滤波器。
16.一种电子设备,其特征在于具有根据权利要求15所述的环境光传感器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017011559A JP6848477B2 (ja) | 2017-01-25 | 2017-01-25 | 光学フィルターおよびその用途 |
JP2017-011559 | 2017-05-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108345059A CN108345059A (zh) | 2018-07-31 |
CN108345059B true CN108345059B (zh) | 2021-08-03 |
Family
ID=62960929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810073045.XA Active CN108345059B (zh) | 2017-01-25 | 2018-01-25 | 光学滤波器及其用途 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6848477B2 (zh) |
KR (1) | KR102466743B1 (zh) |
CN (1) | CN108345059B (zh) |
TW (1) | TWI749157B (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI685681B (zh) * | 2018-08-27 | 2020-02-21 | 白金科技股份有限公司 | 紅外光濾光片 |
JP7326993B2 (ja) * | 2018-08-30 | 2023-08-16 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、その製造方法およびその用途 |
US10830930B1 (en) * | 2019-09-09 | 2020-11-10 | Apple Inc. | Antireflective infrared cut filter coatings for electronic devices |
CN111222084B (zh) * | 2020-01-09 | 2021-02-26 | 国网宁夏电力有限公司经济技术研究院 | 可降低积尘影响的光伏板结构和设计光伏板结构的方法 |
TWI769862B (zh) * | 2020-08-03 | 2022-07-01 | 大立光電股份有限公司 | 光學鏡頭、取像裝置及電子裝置 |
TWI752677B (zh) * | 2020-11-12 | 2022-01-11 | 晶瑞光電股份有限公司 | 紅外截止濾光片結構 |
CN114120832B (zh) * | 2021-11-23 | 2023-03-21 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示面板 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080186565A1 (en) * | 2007-02-02 | 2008-08-07 | Marianne Krieg-Kowald | Optical filter panel having a narrow -width selective-wavelength attenuation and high visible light transmission |
WO2014192714A1 (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
CN105723273A (zh) * | 2013-11-12 | 2016-06-29 | 株式会社尼康依视路 | 功能性染色眼镜透镜 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3677848B2 (ja) * | 1996-01-31 | 2005-08-03 | 三菱化学株式会社 | カラーフィルター |
JP4793977B2 (ja) * | 2004-03-09 | 2011-10-12 | 株式会社エーピーアイ コーポレーション | 近赤外線吸収フィルター |
JP5168917B2 (ja) * | 2007-01-26 | 2013-03-27 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよびその製造方法 |
JP5540477B2 (ja) | 2008-08-15 | 2014-07-02 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターの製造方法および該方法により得られる近赤外線カットフィルター |
JP2010122414A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-06-03 | Panasonic Corp | 携帯端末装置 |
JP5198394B2 (ja) | 2009-09-04 | 2013-05-15 | シャープ株式会社 | 近接照度センサおよびその製造方法 |
JP5810604B2 (ja) | 2010-05-26 | 2015-11-11 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
KR101779640B1 (ko) * | 2010-08-03 | 2017-09-18 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터 및 그것을 포함하는 촬상 장치 |
TWI480308B (zh) * | 2010-11-05 | 2015-04-11 | Nippon Catalytic Chem Ind | Cationic hardening resin composition |
US10078755B2 (en) * | 2011-05-27 | 2018-09-18 | Apple Inc. | Private and public applications |
CN103608705B (zh) * | 2011-06-06 | 2016-10-12 | 旭硝子株式会社 | 滤光片、固体摄像元件、摄像装置用透镜和摄像装置 |
JP2013156460A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Konica Minolta Inc | 携帯情報端末用カバー部材 |
KR101724562B1 (ko) * | 2013-02-14 | 2017-04-07 | 후지필름 가부시키가이샤 | 적외선 흡수 조성물 내지는 적외선 흡수 조성물 키트, 이것을 사용한 적외선 커트 필터 및 그 제조방법, 및 카메라 모듈 및 그 제조방법 |
KR20150112002A (ko) * | 2013-03-14 | 2015-10-06 | 후지필름 가부시키가이샤 | 고체 촬상 소자 및 그 제조 방법, 적외광 커트필터 형성용 경화성 조성물, 카메라 모듈 |
JP2015040895A (ja) * | 2013-08-20 | 2015-03-02 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
US20150116576A1 (en) * | 2013-10-30 | 2015-04-30 | Blackberry Limited | Image capture assembly, digital camera and a mobile device having an improved construction |
JP6488575B2 (ja) * | 2014-07-10 | 2019-03-27 | Agc株式会社 | 近赤外線吸収構造体 |
WO2016017791A1 (ja) * | 2014-08-01 | 2016-02-04 | Jsr株式会社 | 光学フィルター |
WO2016158461A1 (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
KR20180087265A (ko) * | 2015-11-30 | 2018-08-01 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터, 환경 광 센서 및 센서 모듈 |
-
2017
- 2017-01-25 JP JP2017011559A patent/JP6848477B2/ja active Active
-
2018
- 2018-01-22 KR KR1020180007453A patent/KR102466743B1/ko active IP Right Grant
- 2018-01-24 TW TW107102539A patent/TWI749157B/zh active
- 2018-01-25 CN CN201810073045.XA patent/CN108345059B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080186565A1 (en) * | 2007-02-02 | 2008-08-07 | Marianne Krieg-Kowald | Optical filter panel having a narrow -width selective-wavelength attenuation and high visible light transmission |
WO2014192714A1 (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
CN105723273A (zh) * | 2013-11-12 | 2016-06-29 | 株式会社尼康依视路 | 功能性染色眼镜透镜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201827868A (zh) | 2018-08-01 |
TWI749157B (zh) | 2021-12-11 |
CN108345059A (zh) | 2018-07-31 |
KR20180087850A (ko) | 2018-08-02 |
KR102466743B1 (ko) | 2022-11-15 |
JP2018120096A (ja) | 2018-08-02 |
JP6848477B2 (ja) | 2021-03-24 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |