CN108319118A - 有机剥膜液 - Google Patents

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冯献超
冯泽宪
唐瑞泽
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Kunshan Changyou Electronic Materials Co Ltd
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Kunshan Changyou Electronic Materials Co Ltd
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • G03F7/422Stripping or agents therefor using liquids only
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Abstract

本发明公开了一种有机剥膜液,包括以下各组分且各组分重量百分含量为:有机碱:1~15%;无机碱:0.4~6%;有机溶剂:1~5%;表面活性剂:0.1~5%;缓蚀剂:0.1~5%;水:余量。本发明有机剥膜液可将干膜进行粉碎,避免产生干膜残留现象,该有机剥膜液剥膜速度快,大大提升产能并保证产品良率,有效保护金属在剥膜过程中不受攻击。

Description

有机剥膜液
技术领域
本发明涉及印刷线路板剥膜技术领域,尤其是一种用于针对线路板行业的超精细线路的有机剥膜液。
背景技术
随着电子工业向高速化、微型化的方向发展,对组装密度的要求也越来越高。图形转移过程是印制电路板生产的一个重要环节。然而传统的氢氧化钠配制的剥膜液及有机剥膜液已不能满足对线路板行业的超精细线路的剥膜,传统的剥膜液不能将微细化要求的极窄幅干膜粉碎掉,容易产生干膜残留现象,即我们所说的“夹膜”,夹膜会导致产品短路等问题,良率下降甚至报废,增加了生产成本,且传统剥膜液还有剥膜速度慢、攻击金属、膜屑较大缠绕滚轮和易堵喷嘴等缺点。
发明内容
发明目的:为了解决现有技术中剥膜液存在的不足,本发明的目的在于提供一种主要针对线路板行业的超精细线路的有机剥膜液,避免干膜残留,提升产品良率。
为了实现上述目的,本发明采用了如下的技术方案:一种有机剥膜液,包括以下各组分且各组分重量百分含量为:
有机碱:1~15%;
无机碱:0.4~6%;
有机溶剂:1~5%;
表面活性剂:0.1~5%;
缓蚀剂:0.1~5%;
水:余量。
进一步的,所述有机碱为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺、多烯多胺、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、氨水、胆碱中的至少一种。
进一步的,所述无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、硅酸钠、醋酸钠、甲酸钠、草酸钠中的至少一种。
进一步的,所述有机溶剂为甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一种。
进一步的,所述表面活性剂为异构十三醇聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚、异辛醇聚氧乙烯醚、聚乙二醇、聚丙二醇、十二烷基苯磺酸钠、辛基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。
进一步的,所述缓蚀剂为3-氨基-5-巯基-1,2,4三氮唑、3-巯基-1,2,4三氮唑、1-羟基苯并三唑、1-苯基-5-巯基四氮唑中的至少一种。
本发明的优点及有益效果:
1、可将干膜进行粉碎,避免产生干膜残留现象,可大大提升产能并保证产品良率;
2、剥膜速度快,有效保护金属在剥膜过程中不受攻击。
具体实施方式:
下面对本发明做更进一步的解释。
本发明的一种有机剥膜液,包括以下各组分且各组分重量百分含量为:
有机碱:1~15%;
无机碱:0.4~6%;
有机溶剂:1~5%;
表面活性剂:0.1~5%;
缓蚀剂:0.1~5%;
水:余量。
本发明有机剥膜液通过加入有机碱、无机碱达到适合剥膜环境的浓度,加入有机溶剂快速膨胀剥离干膜,加入表面活性剂提高剥膜速度,加入缓蚀剂保护金属与剥膜液接触不被攻击。
优选的,所述有机碱为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺、多烯多胺、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、氨水、胆碱中的至少一种。
优选的,所述无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、硅酸钠、醋酸钠、甲酸钠、草酸钠中的至少一种。
优选的,所述有机溶剂为甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一种。
优选的,所述表面活性剂为异构十三醇聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚、异辛醇聚氧乙烯醚、聚乙二醇、聚丙二醇、十二烷基苯磺酸钠、辛基酚聚氧乙烯醚。
优选的,所述缓蚀剂为3-氨基-5-巯基-1,2,4三氮唑、3-巯基-1,2,4三氮唑、1-羟基苯并三唑、1-苯基-5-巯基四氮唑中的至少一种。
以下为几组对比实施例:
对比实施例1
按如下成份质量百分比称取配制传统有机剥膜液:
氢氧化钠:5%;
25%氨水:1%
水:94%。
对比实施例2
按如下成份质量百分比称取配制有机剥膜液:
单乙醇胺:3%;
氢氧化钠:2%;
甲基吡咯烷酮:5%;
十二烷基苯磺酸钠:0.2%;
3-巯基-1,2,4三氮唑:0.5%;
水:89.3%。
对比实施例3
按如下成份质量百分比称取配制有机剥膜液:
单乙醇胺:5%;
氢氧化钠:2%;
甲基吡咯烷酮:3%;
十二烷基苯磺酸钠:3%;
3-巯基-1,2,4三氮唑:1%;
水:86%。
对比实施例4
按如下成份质量百分比称取配制有机剥膜液:
单乙醇胺:10%;
氢氧化钠:1%;
甲基吡咯烷酮:1%;
十二烷基苯磺酸钠:1%;
3-巯基-1,2,4三氮唑:5%;
水:82%。
对比实施例5
按如下成份质量百分比称取配制有机剥膜液:
单乙醇胺:13%;
氢氧化钠:0.5%;
甲基吡咯烷酮:2%;
十二烷基苯磺酸钠:0.5%;
3-巯基-1,2,4三氮唑:2.5%;
水:81.5%。
将上述配制好的有剥膜液分别对印刷线路板超精细线路进行剥膜处理,处理条件:剥膜液喷洒压力1.5kg/cm2,剥膜液使用温度55℃,线路宽度/干膜宽度=30/30um,干膜厚度50um。
根据各对比实施例的剥膜所需时间、生产环境、剥膜能力、膜屑大小、金属腐蚀性进行对比,对比结果如下:
对比实施例 剥膜所需时间 生产环境 剥膜能力 膜屑大小 金属腐蚀性
实施例1 68sec 刺鼻 夹膜 大片 攻击金属
实施例2 65sec 友好 无残膜 细小 轻微攻击
实施例3 58sec 友好 无残膜 细小 不攻击
实施例4 50sec 友好 无残膜 细小 不攻击
实施例5 41sec 友好 无残膜 细小 不攻击
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种有机剥膜液,其特征在于包括以下各组分且各组分重量百分含量为:
有机碱:1~15%;
无机碱:0.4~6%;
有机溶剂:1~5%;
表面活性剂:0.1~5%;
缓蚀剂:0.1~5%;
水:余量。
2.根据权利要求1所述的一种有机剥膜液,其特征在于:所述有机碱为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺、多烯多胺、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、氨水、胆碱中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的一种有机剥膜液,其特征在于:所述无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、硅酸钠、醋酸钠、甲酸钠、草酸钠中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的一种有机剥膜液,其特征在于:所述有机溶剂为甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的一种有机剥膜液,其特征在于:所述表面活性剂为异构十三醇聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚、异辛醇聚氧乙烯醚、聚乙二醇、聚丙二醇、十二烷基苯磺酸钠、辛基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的一种有机剥膜液,其特征在于:所述缓蚀剂为3-氨基-5-巯基-1,2,4三氮唑、3-巯基-1,2,4三氮唑、1-羟基苯并三唑、1-苯基-5-巯基四氮唑中的至少一种。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109116689A (zh) * 2018-09-19 2019-01-01 珠海特普力高精细化工有限公司 一种环保型有机干膜剥离液
CN109270808A (zh) * 2018-10-25 2019-01-25 健鼎(湖北)电子有限公司 一种去除干膜的方法
CN109880701A (zh) * 2019-02-23 2019-06-14 上海富柏化工有限公司 Pcb干膜显影槽清槽剂及其制备方法与应用
CN109943849A (zh) * 2019-04-14 2019-06-28 广州恒荣电子科技有限公司 一种有机退膜液
CN110331048A (zh) * 2019-07-02 2019-10-15 深圳市大正瑞地科技有限公司 环保剥膜液及其制备方法
CN111031694A (zh) * 2019-12-31 2020-04-17 江门市华锐铝基板股份公司 一种退膜液和退膜方法
CN113150878A (zh) * 2021-03-25 2021-07-23 深圳市点石源水处理技术有限公司 一种ic载板去膜剂及其应用
CN113214914A (zh) * 2021-02-08 2021-08-06 深圳市松柏实业发展有限公司 硅油清洗液
CN113563888A (zh) * 2021-08-24 2021-10-29 信丰正天伟电子科技有限公司 一种剥膜液及其制备方法
CN114276712A (zh) * 2022-01-21 2022-04-05 深圳市松柏实业发展有限公司 油墨剥离液及线路板油墨的剥离工艺
CN114656889A (zh) * 2022-05-07 2022-06-24 常州亚龙电子科技有限公司 一种聚酰亚胺胶膜用剥膜液及其制备方法
CN115066104A (zh) * 2022-07-09 2022-09-16 南通群安电子材料有限公司 针对厚光阻抗蚀剂的剥除液
CN115820029A (zh) * 2022-12-13 2023-03-21 广州安达净水材料有限公司 一种选择性干膜/油墨的去膜剂及其制备方法与应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1585914A (zh) * 2001-11-13 2005-02-23 三星电子株式会社 化学漂洗组合物
CN1938647A (zh) * 2004-03-03 2007-03-28 高级技术材料公司 用于蚀刻后去除基片上沉积的光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射物质的组合物和方法
CN101071278A (zh) * 2006-05-12 2007-11-14 湖南省科学技术研究开发院 一种光致抗蚀膜的退除剂
CN102163011A (zh) * 2011-04-29 2011-08-24 西安东旺精细化学有限公司 一种光致抗蚀剂的剥离液组合物
CN105116696A (zh) * 2015-10-10 2015-12-02 蓝思科技(长沙)有限公司 一种光刻胶剥离液及其应用
CN105527804A (zh) * 2016-03-09 2016-04-27 长沙晟辉新材料有限公司 一种低温型水系正性光阻剥离液

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1585914A (zh) * 2001-11-13 2005-02-23 三星电子株式会社 化学漂洗组合物
CN1938647A (zh) * 2004-03-03 2007-03-28 高级技术材料公司 用于蚀刻后去除基片上沉积的光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射物质的组合物和方法
CN101071278A (zh) * 2006-05-12 2007-11-14 湖南省科学技术研究开发院 一种光致抗蚀膜的退除剂
CN102163011A (zh) * 2011-04-29 2011-08-24 西安东旺精细化学有限公司 一种光致抗蚀剂的剥离液组合物
CN105116696A (zh) * 2015-10-10 2015-12-02 蓝思科技(长沙)有限公司 一种光刻胶剥离液及其应用
CN105527804A (zh) * 2016-03-09 2016-04-27 长沙晟辉新材料有限公司 一种低温型水系正性光阻剥离液

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109116689A (zh) * 2018-09-19 2019-01-01 珠海特普力高精细化工有限公司 一种环保型有机干膜剥离液
CN109270808A (zh) * 2018-10-25 2019-01-25 健鼎(湖北)电子有限公司 一种去除干膜的方法
CN109880701A (zh) * 2019-02-23 2019-06-14 上海富柏化工有限公司 Pcb干膜显影槽清槽剂及其制备方法与应用
CN109943849A (zh) * 2019-04-14 2019-06-28 广州恒荣电子科技有限公司 一种有机退膜液
CN110331048B (zh) * 2019-07-02 2021-07-20 深圳市大正瑞地科技有限公司 环保剥膜液及其制备方法
CN110331048A (zh) * 2019-07-02 2019-10-15 深圳市大正瑞地科技有限公司 环保剥膜液及其制备方法
CN111031694A (zh) * 2019-12-31 2020-04-17 江门市华锐铝基板股份公司 一种退膜液和退膜方法
CN113214914A (zh) * 2021-02-08 2021-08-06 深圳市松柏实业发展有限公司 硅油清洗液
CN113150878A (zh) * 2021-03-25 2021-07-23 深圳市点石源水处理技术有限公司 一种ic载板去膜剂及其应用
CN113563888A (zh) * 2021-08-24 2021-10-29 信丰正天伟电子科技有限公司 一种剥膜液及其制备方法
CN114276712A (zh) * 2022-01-21 2022-04-05 深圳市松柏实业发展有限公司 油墨剥离液及线路板油墨的剥离工艺
CN114656889A (zh) * 2022-05-07 2022-06-24 常州亚龙电子科技有限公司 一种聚酰亚胺胶膜用剥膜液及其制备方法
CN115066104A (zh) * 2022-07-09 2022-09-16 南通群安电子材料有限公司 针对厚光阻抗蚀剂的剥除液
CN115820029A (zh) * 2022-12-13 2023-03-21 广州安达净水材料有限公司 一种选择性干膜/油墨的去膜剂及其制备方法与应用
CN115820029B (zh) * 2022-12-13 2023-10-27 广州安达净水材料有限公司 一种选择性干膜/油墨的去膜剂及其制备方法与应用

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