CN103525573A - 高性能光伏硅片专用清洗液 - Google Patents

高性能光伏硅片专用清洗液 Download PDF

Info

Publication number
CN103525573A
CN103525573A CN201310480447.9A CN201310480447A CN103525573A CN 103525573 A CN103525573 A CN 103525573A CN 201310480447 A CN201310480447 A CN 201310480447A CN 103525573 A CN103525573 A CN 103525573A
Authority
CN
China
Prior art keywords
silicon chip
special cleaning
photovoltaic silicon
performance photovoltaic
cleaning according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201310480447.9A
Other languages
English (en)
Inventor
林丽静
常建忠
阿部聪
俞威
王伟珍
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Yushiro Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Yushiro Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Yushiro Chemical Industry Co Ltd filed Critical Shanghai Yushiro Chemical Industry Co Ltd
Priority to CN201310480447.9A priority Critical patent/CN103525573A/zh
Publication of CN103525573A publication Critical patent/CN103525573A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

本发明公开了一种高性能光伏硅片专用清洗液,由高分子羧酸、有机胺、表面活性剂、络合剂、腐蚀抑制剂、其它助剂、水组成。本发明清洗性能优异、使用安全、环保。

Description

高性能光伏硅片专用清洗液
技术领域
本发明涉及一种光伏硅片清洗液。
背景技术
在太阳能光伏企业,为确保电池片的电性能、可靠性和成品率,首先要对前道线切割加工后的硅片进行粗清洗,把以物理形式吸附在硅片表面的有机物玷污(油脂、松香、环氧树脂、聚乙二醇等)、尘埃颗粒以及以化学形式存在于硅片自身氧化膜中的金属离子杂质去除掉,同时又不损坏硅片、或造成金属离子杂质的重新沉淀和再次污染。清洗的方法,首先是去除硅片表面的有机物玷污和尘埃颗粒,然后再溶解氧化膜、去除金属离子杂质。对清洗液的要求,一是清洗性能(清洗效率)、渗透性能(渗透时间)要好;二是对硅片无腐蚀和损伤;三是对人体无危害,对环境无污染,安全卫生质量可靠;四是适用清洗工艺要广泛,不用加热,常温下即可使用。由于工艺、技术落后多种原因,目前市售的硅片专用清洗剂普遍不尽人意。一是清洗效率低(<90%),渗透时间长(>8S),清洗性能和渗透性能差;二是PH值偏高(>11),导致硅片腐蚀损伤较突出;三是配方含有次氯酸钠、有机溶剂等有刺激性气味或有毒物质,安全卫生质量差;四是清洗工艺单一,且需要加热至40℃以上方能使用(消耗能源)。
发明内容
本发明的目的在于提供一种清洗性能优异、使用安全的高性能光伏硅片专用清洗液。
本发明的技术方案是:
一种高性能光伏硅片专用清洗液,其特征是:由下列重量组成组成:
高分子羧酸       2~4%
有机胺           3~5%
表面活性剂       15~40%
络合剂           5~15%
腐蚀抑制剂       0.2~1%
其它助剂         3~12%
水               余量。
所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
所述有机胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、吗啉、二环己胺、N-甲基吗啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
所述表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯醚(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚(9~20)、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯(5~12)或磺酸盐。
所述络合剂是乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠或三聚磷酸钠。
所述腐蚀抑制剂是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1H-1或2,4-三氮唑。
所述其它助剂是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇单丁醚或丙二醇正丁醚。
本发明是应用于太阳能光伏企业对线切割加工后的硅片的粗清洗,确保后道制备的电池片的电性能、可靠性和成品率;具有优良的清洗性能(可去除掉附着在硅片表面的有机物玷污、尘埃颗粒以及硅片氧化膜中的金属离子杂质,清洗率≥99.5%)、渗透性能(能又好又快地渗透到硅片内部,渗透时间≤2S)。适中的PH值(5%稀释液,PH值为9.6±0.5),对硅片无腐蚀和损伤。不使用对环境和人体造成危害的亚硝酸钠等有毒物质,产品生物半致死量LD50≥5000mg/kg,半致死浓度LC50≥5000mg/m3,呼吸道粘膜刺激≤1级,具有可靠的安全卫生质量。可适用于超声波、喷流、浸渍等多种方式的清洗工艺,且不用加热(无能源消耗),常温下即可使用。
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
具体实施方式
实施例1:
将下列重量组分在一定条件下混合搅拌,得产品:
三乙醇胺                            3%
油酸                                2%
脂肪醇聚氧乙烯醚(9)               12%
磺酸钠                              5%
聚氧乙烯聚氧丙烯醚(12)            7%
丁二酸衍生物                        0.5%
乙二胺四乙酸二钠                    10%
丁二醇                              7%
去离子水                            余量。
实施例2:
一种高性能光伏硅片专用清洗液,由下列重量组成组成:
高分子羧酸       2~4%(例2%、3%、4%)
有机胺           3~5%(例2%、3%、5%)
表面活性剂       15~40%(例15%、25%、40%)
络合剂           5~15%(例5%、10%、15%)
腐蚀抑制剂       0.2~1%(例0.2%、0.8%、1%)
其它助剂         3~12%(例3%、8%、12%)
水               余量。
所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
所述有机胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、吗啉、二环己胺、N-甲基吗啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
所述表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯醚(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚(9~20)、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯(5~12)或磺酸盐。
所述络合剂是乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠或三聚磷酸钠。
所述腐蚀抑制剂是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1H-1或2,4-三氮唑。
所述其它助剂是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇单丁醚或丙二醇正丁醚。

Claims (7)

1.一种高性能光伏硅片专用清洗液,其特征是:由下列重量组成组成:
高分子羧酸       2~4%
有机胺           3~5%
表面活性剂       15~40%
络合剂           5~15%
腐蚀抑制剂       0.2~1%
其它助剂         3~12%
水               余量。
2.根据权利要求1所述的高性能光伏硅片专用清洗液,其特征是:所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
3. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液,其特征是:所述有机胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、吗啉、二环己胺、N-甲基吗啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
4. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液,其特征是:所述表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯醚(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚(9~20)、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯(5~12)或磺酸盐。
5. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液,其特征是:所述络合剂是乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠或三聚磷酸钠。
6. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液,其特征是:所述腐蚀抑制剂是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1H-1或2,4-三氮唑。
7. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液,其特征是:所述其它助剂是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇单丁醚或丙二醇正丁醚。
CN201310480447.9A 2013-10-15 2013-10-15 高性能光伏硅片专用清洗液 Pending CN103525573A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310480447.9A CN103525573A (zh) 2013-10-15 2013-10-15 高性能光伏硅片专用清洗液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310480447.9A CN103525573A (zh) 2013-10-15 2013-10-15 高性能光伏硅片专用清洗液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103525573A true CN103525573A (zh) 2014-01-22

Family

ID=49927928

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310480447.9A Pending CN103525573A (zh) 2013-10-15 2013-10-15 高性能光伏硅片专用清洗液

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103525573A (zh)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103952246A (zh) * 2014-03-03 2014-07-30 西安通鑫半导体辅料有限公司 一种用于太阳能硅片制造的清洗液
CN104152279A (zh) * 2014-07-16 2014-11-19 湖南城市学院 一种智能手机玻璃水性清洗剂及其制备方法
CN104862134A (zh) * 2015-03-27 2015-08-26 武汉宜田科技发展有限公司 一种硅片脱胶剂、其制造方法和使用方法
CN105039006A (zh) * 2015-07-31 2015-11-11 陕西国防工业职业技术学院 一种用于太阳能级硅片的清洗剂及其制备方法
CN105648453A (zh) * 2016-01-25 2016-06-08 奥士康科技股份有限公司 一种pcb板上去钯液的清洗方法
CN106336953A (zh) * 2016-08-24 2017-01-18 安徽正田能源科技有限公司 一种用于硅片清洗的酸性超声波清洗剂
CN108831966A (zh) * 2018-07-06 2018-11-16 安徽腾奎智能科技有限公司 一种用于光伏电池板组的清洗液
CN109252174A (zh) * 2018-10-31 2019-01-22 湖南博隽生物医药有限公司 一种血液透析机液路系统除锈剂及其制备方法
CN110591832A (zh) * 2019-09-26 2019-12-20 嘉兴瑞智光能科技有限公司 一种高效环保无污染硅片清洗剂及其制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1124285A (zh) * 1995-11-23 1996-06-12 山东大学 半导体工业用清洗剂
CN1875090A (zh) * 2003-10-27 2006-12-06 和光纯药工业株式会社 基板用清洗剂及清洗方法
WO2007076922A1 (de) * 2006-01-04 2007-07-12 Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien Reinigung gesägter siliciumscheiben
CN102010796A (zh) * 2010-12-25 2011-04-13 江西旭阳雷迪高科技股份有限公司 太阳能多晶硅片清洗液
CN102010793A (zh) * 2010-07-21 2011-04-13 天津晶岭微电子材料有限公司 硅片清洗剂的制备方法
CN102304444A (zh) * 2011-08-01 2012-01-04 合肥华清金属表面处理有限责任公司 环保型太阳能级硅片水基清洗剂

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1124285A (zh) * 1995-11-23 1996-06-12 山东大学 半导体工业用清洗剂
CN1875090A (zh) * 2003-10-27 2006-12-06 和光纯药工业株式会社 基板用清洗剂及清洗方法
WO2007076922A1 (de) * 2006-01-04 2007-07-12 Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien Reinigung gesägter siliciumscheiben
CN102010793A (zh) * 2010-07-21 2011-04-13 天津晶岭微电子材料有限公司 硅片清洗剂的制备方法
CN102010796A (zh) * 2010-12-25 2011-04-13 江西旭阳雷迪高科技股份有限公司 太阳能多晶硅片清洗液
CN102304444A (zh) * 2011-08-01 2012-01-04 合肥华清金属表面处理有限责任公司 环保型太阳能级硅片水基清洗剂

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103952246A (zh) * 2014-03-03 2014-07-30 西安通鑫半导体辅料有限公司 一种用于太阳能硅片制造的清洗液
CN104152279A (zh) * 2014-07-16 2014-11-19 湖南城市学院 一种智能手机玻璃水性清洗剂及其制备方法
CN104862134A (zh) * 2015-03-27 2015-08-26 武汉宜田科技发展有限公司 一种硅片脱胶剂、其制造方法和使用方法
CN105039006A (zh) * 2015-07-31 2015-11-11 陕西国防工业职业技术学院 一种用于太阳能级硅片的清洗剂及其制备方法
CN105039006B (zh) * 2015-07-31 2018-05-15 陕西国防工业职业技术学院 一种用于太阳能级硅片的清洗剂及其制备方法
CN105648453A (zh) * 2016-01-25 2016-06-08 奥士康科技股份有限公司 一种pcb板上去钯液的清洗方法
CN105648453B (zh) * 2016-01-25 2018-03-06 奥士康科技股份有限公司 一种pcb板上去钯液的清洗方法
CN106336953A (zh) * 2016-08-24 2017-01-18 安徽正田能源科技有限公司 一种用于硅片清洗的酸性超声波清洗剂
CN108831966A (zh) * 2018-07-06 2018-11-16 安徽腾奎智能科技有限公司 一种用于光伏电池板组的清洗液
CN109252174A (zh) * 2018-10-31 2019-01-22 湖南博隽生物医药有限公司 一种血液透析机液路系统除锈剂及其制备方法
CN109252174B (zh) * 2018-10-31 2020-08-04 三原富生医疗器械有限公司 一种血液透析机液路系统除锈剂及其制备方法
CN110591832A (zh) * 2019-09-26 2019-12-20 嘉兴瑞智光能科技有限公司 一种高效环保无污染硅片清洗剂及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103525573A (zh) 高性能光伏硅片专用清洗液
CN103590059A (zh) 铝合金零件用水基清洗剂
CN100497571C (zh) 太阳能硅晶片清洗剂
RU2013143293A (ru) Композиции для очистки системы теплопередачи, включающей алюминиевый компонент
CN109943417B (zh) 一种对镀层安全的水性除胶剂
CN105623890B (zh) 高效环保工业重油污清洗剂
CN105297042A (zh) 一种金属材料清洗剂及其使用方法
CN103352226A (zh) 一种用于防止黄铜制品腐蚀的缓蚀剂
CN105127616A (zh) 一种免洗助焊剂
CN105088260A (zh) 一种金属表面除油清洗剂
CN106118838A (zh) 可稀释循环回收使用光伏硅晶片线切割液
CN103555431A (zh) 一种印刷电路板清洗剂及其制备方法
CN101906635A (zh) 一种碳钢的氨基磺酸酸洗复配缓蚀剂及其制备方法
CN104593835A (zh) 用于片式元器件端电极电镀的中性镀锡液
CN101463295B (zh) 半导体工业用清洗剂
CN101629125A (zh) 一种新型表面清洁剂及其生产工艺
CN103820233A (zh) 一种无氟水基清洗剂
CN103132081A (zh) 一种水溶性铜缓蚀剂的制备方法
CN103469238A (zh) 一种无磷金属清洗剂
CN103436902A (zh) 一种水基型金属表面清洁剂及其制备方法
CN104450236A (zh) 一种助焊用清洗剂
CN101921666A (zh) 玻璃去污防雾剂
CN104342279A (zh) 环境友好型高分散性永磁体线切割液
CN103540463A (zh) 一种环保电路板清洗剂及其制备方法
CN106398877A (zh) 一种环保电子产品清洁剂

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
AD01 Patent right deemed abandoned

Effective date of abandoning: 20151216

C20 Patent right or utility model deemed to be abandoned or is abandoned