CN103525573A - 高性能光伏硅片专用清洗液 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高性能光伏硅片专用清洗液，由高分子羧酸、有机胺、表面活性剂、络合剂、腐蚀抑制剂、其它助剂、水组成。本发明清洗性能优异、使用安全、环保。
Description
技术领域
本发明涉及一种光伏硅片清洗液。
背景技术
在太阳能光伏企业，为确保电池片的电性能、可靠性和成品率，首先要对前道线切割加工后的硅片进行粗清洗，把以物理形式吸附在硅片表面的有机物玷污（油脂、松香、环氧树脂、聚乙二醇等）、尘埃颗粒以及以化学形式存在于硅片自身氧化膜中的金属离子杂质去除掉，同时又不损坏硅片、或造成金属离子杂质的重新沉淀和再次污染。清洗的方法，首先是去除硅片表面的有机物玷污和尘埃颗粒，然后再溶解氧化膜、去除金属离子杂质。对清洗液的要求，一是清洗性能（清洗效率）、渗透性能（渗透时间）要好；二是对硅片无腐蚀和损伤；三是对人体无危害，对环境无污染，安全卫生质量可靠；四是适用清洗工艺要广泛，不用加热，常温下即可使用。由于工艺、技术落后多种原因，目前市售的硅片专用清洗剂普遍不尽人意。一是清洗效率低（＜90%），渗透时间长（＞8S），清洗性能和渗透性能差；二是PH值偏高（＞11），导致硅片腐蚀损伤较突出；三是配方含有次氯酸钠、有机溶剂等有刺激性气味或有毒物质，安全卫生质量差；四是清洗工艺单一，且需要加热至40℃以上方能使用（消耗能源）。
发明内容
本发明的目的在于提供一种清洗性能优异、使用安全的高性能光伏硅片专用清洗液。
本发明的技术方案是：
一种高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：由下列重量组成组成：
高分子羧酸 2～4％
有机胺 3～5％
表面活性剂 15～40％
络合剂 5～15％
腐蚀抑制剂 0.2～1％
其它助剂 3～12％
水 余量。
所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
所述有机胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、吗啉、二环己胺、N-甲基吗啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
所述表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠（5～12）、脂肪醇聚氧乙烯醚（5～12）、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚（9～20）、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯（5～12）或磺酸盐。
所述络合剂是乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠或三聚磷酸钠。
所述腐蚀抑制剂是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1H-1或2，4-三氮唑。
所述其它助剂是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇单丁醚或丙二醇正丁醚。
本发明是应用于太阳能光伏企业对线切割加工后的硅片的粗清洗，确保后道制备的电池片的电性能、可靠性和成品率；具有优良的清洗性能（可去除掉附着在硅片表面的有机物玷污、尘埃颗粒以及硅片氧化膜中的金属离子杂质，清洗率≥99.5%）、渗透性能（能又好又快地渗透到硅片内部，渗透时间≤2S）。适中的PH值（5%稀释液，PH值为9.6±0.5），对硅片无腐蚀和损伤。不使用对环境和人体造成危害的亚硝酸钠等有毒物质，产品生物半致死量LD50≥5000mg/kg，半致死浓度LC50≥5000mg/m3，呼吸道粘膜刺激≤1级，具有可靠的安全卫生质量。可适用于超声波、喷流、浸渍等多种方式的清洗工艺，且不用加热（无能源消耗），常温下即可使用。
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
具体实施方式
实施例1：
将下列重量组分在一定条件下混合搅拌，得产品：
三乙醇胺 3%
油酸 2%
脂肪醇聚氧乙烯醚（9） 12%
磺酸钠 5%
聚氧乙烯聚氧丙烯醚（12） 7%
丁二酸衍生物 0.5%
乙二胺四乙酸二钠 10%
丁二醇 7%
去离子水 余量。
实施例2：
一种高性能光伏硅片专用清洗液，由下列重量组成组成：
高分子羧酸 2～4％（例2%、3%、4%）
有机胺 3～5％（例2%、3%、5%）
表面活性剂 15～40％（例15%、25%、40%）
络合剂 5～15％（例5%、10%、15%）
腐蚀抑制剂 0.2～1％（例0.2%、0.8%、1%）
其它助剂 3～12％（例3%、8%、12%）
水 余量。
所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
所述有机胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、吗啉、二环己胺、N-甲基吗啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
所述表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠（5～12）、脂肪醇聚氧乙烯醚（5～12）、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚（9～20）、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯（5～12）或磺酸盐。
所述络合剂是乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠或三聚磷酸钠。
所述腐蚀抑制剂是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1H-1或2，4-三氮唑。
所述其它助剂是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇单丁醚或丙二醇正丁醚。
Claims (7)
1.一种高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：由下列重量组成组成：
高分子羧酸 2～4％
有机胺 3～5％
表面活性剂 15～40％
络合剂 5～15％
腐蚀抑制剂 0.2～1％
其它助剂 3～12％
水 余量。
2.根据权利要求1所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
3. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述有机胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、吗啉、二环己胺、N-甲基吗啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
4. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠（5～12）、脂肪醇聚氧乙烯醚（5～12）、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚（9～20）、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯（5～12）或磺酸盐。
5. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述络合剂是乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠或三聚磷酸钠。
6. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述腐蚀抑制剂是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1H-1或2，4-三氮唑。
7. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述其它助剂是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇单丁醚或丙二醇正丁醚。
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