CN108139533A - 拉伸膜的制造方法及偏振膜的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供能够实现TD(膜宽度方向)上的高拉伸倍率、且TD的轴取向性也优异的由聚乙烯醇系树脂形成的拉伸膜的制造方法、以及使用了该拉伸膜的显示出良好的光学性能的偏振膜的制造方法。本发明提供一种拉伸膜的制造方法,该制造方法包括通过拉伸聚乙烯醇系树脂膜而得到拉伸膜的拉伸工序,该拉伸工序依次包括:第一拉伸处理工序,在相同TD拉伸倍率下的比较中,以使MD收缩倍率大于对所述聚乙烯醇系树脂膜进行自由端横向拉伸时的MD收缩倍率的方式同时进行TD上的拉伸和MD上的收缩;以及第二拉伸处理工序,以使MD收缩倍率降低0.17以上的方式同时进行TD上的拉伸和MD上的收缩,并提供使用了所得的拉伸膜的偏振膜的制造方法。
Description
技术领域
本发明涉及由聚乙烯醇系树脂形成的拉伸膜的制造方法及偏振膜的制造方法。
背景技术
偏振板广泛地用于以液晶显示装置为代表的图像显示装置等中。作为偏振板,通常是在对聚乙烯醇系树脂膜实施拉伸处理及利用二色性色素的染色处理而得的偏振膜的一面或两面贴合保护膜的构成的偏振板。
对于在偏振膜的制造时进行的聚乙烯醇系树脂膜的拉伸,以往通常是纵向拉伸。所谓纵向拉伸,是指在膜的“机械流动方向”(即膜长度方向)上的拉伸,本说明书中也将该方向称作MD。对于与MD正交的方向、即膜宽度方向,在本说明书中也称作TD。
如果利用纵向拉伸,则比较容易稳定地制造光学性能(偏振性能等)优异的偏振膜。但是,为了充分地提高光学性能,需要利用纵向拉伸使聚乙烯醇系树脂膜在宽度方向上大幅度缩幅,典型的情况下需要50%以上的缩幅率。因而,利用纵向拉伸的偏振膜的制造方法具有难以制造宽幅的偏振膜的根本性问题。虽然如果作为聚乙烯醇系树脂膜原材使用极为宽幅的材料,也能够得到比较宽幅的偏振膜,然而在制造设备上,难以实现膜原材的极端的宽幅化。
另一方面,也提出过利用横向拉伸(TD上的拉伸)制造偏振膜的尝试,其例子为日本专利第4701555号公报(专利文献1)、日本专利第5362059号公报(专利文献2)、日本专利第4971066号公报(专利文献3)等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第4701555号公报
专利文献2:日本专利第5362059号公报
专利文献3:日本专利第4971066号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的目的在于,提供一种能够实现在TD(膜宽度方向)上的高拉伸倍率、且TD的轴取向性也优异的由聚乙烯醇系树脂形成的拉伸膜的制造方法。本发明的另一个目的在于,提供一种偏振膜的制造方法,是使用了上述拉伸膜的偏振膜的制造方法,以TD作为慢轴(吸收轴)方向,显示出良好的光学性能。
用于解决问题的方法
本发明提供以下所示的拉伸膜的制造方法、拉伸膜、以及偏振膜的制造方法。
[1]一种拉伸膜的制造方法,该制造方法包括拉伸工序,所述拉伸工序通过拉伸聚乙烯醇系树脂膜,而得到TD拉伸倍率为Af〔倍〕、MD收缩倍率为Bf〔倍〕的拉伸膜,
所述拉伸工序依次包括:
第一拉伸处理工序,以在相同TD拉伸倍率下的比较中使MD收缩倍率大于对所述聚乙烯醇系树脂膜进行自由端横向拉伸时的MD收缩倍率的方式同时进行TD上的拉伸和MD上的收缩;以及
第二拉伸处理工序,以使MD收缩倍率降低0.17以上的方式同时进行TD上的拉伸和MD上的收缩。
[2]根据[1]中记载的制造方法,其中,所述第二拉伸处理工序开始时的所述聚乙烯醇系树脂膜的TD拉伸倍率为4.3倍以上。
[3]根据[1]或[2]中记载的制造方法,其中,通过进行所述第二拉伸处理工序而使所述聚乙烯醇系树脂膜的TD拉伸倍率达到Af〔倍〕,使MD收缩倍率达到Bf〔倍〕。
[4]根据[1]~[3]中任一项记载的制造方法,其中,所述聚乙烯醇系树脂膜为未拉伸膜,
在所述拉伸工序中最先进行所述第一拉伸处理工序。
[5]根据[1]~[4]中任一项记载的制造方法,其中,所述拉伸膜的所述MD收缩倍率Bf为0.2~0.8倍。
[6]根据[1]~[5]中任一项记载的制造方法,其中,所述拉伸膜的所述TD拉伸倍率Af为5倍以上。
[7]根据[1]~[6]中任一项记载的制造方法,其中,通过拉伸在基材膜上具有所述聚乙烯醇系树脂膜的层叠膜而得到层叠于所述基材膜上的所述拉伸膜。
[8]根据[1]~[7]中任一项记载的制造方法,其中,所述拉伸膜的厚度为30μm以下。
[9]一种拉伸膜,是由聚乙烯醇系树脂形成的长度为100m以上的拉伸膜,
将波长590nm时的膜面内的膜宽度方向的折射率设为nx、将在膜面内与膜宽度方向正交的方向的折射率设为ny时,以下式表示的双折射ΔP为0.031以上,
双折射ΔP=nx-ny。
[10]一种偏振膜的制造方法,该制造方法包括:
利用[1]~[8]中任一项记载的制造方法得到拉伸膜的工序、以及
将所述拉伸膜用二色性色素染色的工序。
发明效果
根据本发明,可以制造TD的拉伸倍率及轴取向性高的拉伸膜。另外根据本发明,可以制造以TD作为慢轴(吸收轴)方向、显示出良好的光学性能的偏振膜。
附图说明
图1是表示本发明的拉伸膜的制造方法的优选的一例的流程图。
图2是表示PVA系树脂膜形成工序中得到的层叠膜的层构成的一例的示意性剖视图。
图3是表示拉伸工序中得到的拉伸层叠膜的层构成的一例的示意性剖视图。
图4是表示本发明的拉伸工序的拉伸模式的例子的曲线图。
图5是示意性地表示拉幅机式拉伸装置的内部构成的一例的俯视图。
图6是表示本发明的偏振膜及偏振板的制造方法的优选的一例的流程图。
图7是表示染色工序中得到的偏振性层叠膜的层构成的一例的示意性剖视图。
图8是表示第一贴合工序中得到的带有保护膜的偏振性层叠膜的层构成的一例的示意性剖视图。
图9是表示剥离工序中得到的单面带有保护膜的偏振板的层构成的一例的示意性剖视图。
图10是表示第二贴合工序中得到的双面带有保护膜的偏振板的层构成的一例的示意性剖视图。
图11是表示实施例及比较例中的拉伸工序的拉伸模式的曲线图。
具体实施方式
<拉伸膜的制造方法>
本发明的拉伸膜是实施拉伸聚乙烯醇系树脂膜(以下也将聚乙烯醇系树脂称作“PVA系树脂”。)的拉伸工序而得的膜。本发明的拉伸膜可以是以由基材膜支撑的状态(层叠于基材膜上的状态)存在的膜,也可以是不由基材膜支撑而自己单独存在的膜。在前者的情况下,通过将包含基材膜和形成于其上的PVA系树脂膜(PVA系树脂层)的层叠膜提供给上述拉伸工序而得到由基材膜支撑的拉伸膜(第一实施方式)。在后者的情况下,通过将单独的PVA系树脂膜提供给上述拉伸工序而得到单独的拉伸膜(第二实施方式)。
以下,主要对制造由基材膜支撑的拉伸膜的第一实施方式进行说明。参照图1,第一实施方式的拉伸膜的制造方法可以是依次包括下述工序的方法:
PVA系树脂膜形成工序S10,向基材膜的至少一面涂布含有PVA系树脂的涂布液后,使之干燥,由此形成PVA系树脂膜而得到层叠膜;以及
拉伸工序S20,拉伸层叠膜,得到包含基材膜及拉伸膜的拉伸层叠膜。
以下,对各工序进行说明。需要说明的是,在PVA系树脂膜形成工序S10中,也可以在基材膜的两面形成PVA系树脂膜,然而以下主要对在一面形成的情况进行说明。
(1)PVA系树脂膜形成工序S10
参照图2,本工序是在基材膜30的至少一面形成PVA系树脂膜6而得到层叠膜100的工序。PVA系树脂层6可以通过将含有PVA系树脂的涂布液涂布于基材膜30的一面或两面、并使涂布层干燥而形成。利用此种涂布形成PVA系树脂膜6的方法容易获得薄膜的PVA系树脂膜6,进而容易获得薄膜的偏振膜,从这一点出发是有利的方法。
基材膜30可以由热塑性树脂构成,其中优选由透明性、机械强度、热稳定性、拉伸性等优异的热塑性树脂构成。此种热塑性树脂的具体例例如包括链状聚烯烃系树脂、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)之类的聚烯烃系树脂;聚酯系树脂;(甲基)丙烯酸系树脂;三乙酸纤维素、二乙酸纤维素之类的纤维素酯系树脂;聚碳酸酯系树脂;聚乙烯醇系树脂;聚乙酸乙烯酯系树脂;聚芳酯系树脂;聚苯乙烯系树脂;聚醚砜系树脂;聚砜系树脂;聚酰胺系树脂;聚酰亚胺系树脂;以及它们的混合物、共聚物。
基材膜30可以是由包含1种或2种以上的热塑性树脂的1个树脂层构成的单层结构,也可以是层叠了多个包含1种或2种以上的热塑性树脂的树脂层的多层结构。基材膜30优选由可以在后述的拉伸工序S20中在适于拉伸PVA系树脂膜的拉伸温度下拉伸的树脂构成。
基材膜30可以含有添加剂。添加剂的具体例包括紫外线吸收剂、抗氧剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、防静电干扰剂、颜料、以及着色剂。
对于基材膜30的厚度,从强度、操作性等方面出发,通常为1~500μm,优选为1~300μm,更优选为5~200μm,进一步优选为5~150μm。
向基材膜30涂布的涂布液优选为含有PVA系树脂及水的PVA系树脂的水溶液。该水溶液根据需要也可以含有水以外的溶剂、增塑剂、表面活性剂等添加剂。作为水以外的溶剂,可以举出以甲醇、乙醇、丙醇、多元醇(丙三醇等)为代表的醇之类的与水具有相容性的有机溶剂。
作为PVA系树脂,可以使用将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化了的树脂。作为聚乙酸乙烯酯系树脂,除了可以例示出作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外,还可以例示出乙酸乙烯酯与能够与之共聚的其他单体的共聚物。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体,例如可以举出不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的(甲基)丙烯酰胺类等。需要说明的是,本说明书中所谓“(甲基)丙烯酸”,是指选自丙烯酸及甲基丙烯酸中的至少一方。对于“(甲基)丙烯酰基”等也相同。
PVA系树脂的皂化度可以为80.0~100.0摩尔%的范围,然而优选为90.0~99.5摩尔%的范围,更优选为94.0~99.0摩尔%的范围。如果皂化度小于80.0摩尔%,则由拉伸膜得到的偏振膜的耐水性容易降低。在使用皂化度大于99.5摩尔%的PVA系树脂的情况下,后述的偏振膜的制造方法的染色工序中的染色速度变慢,会有生产率降低并且难以获得具有足够的偏振性能的偏振膜的情况。
所谓皂化度,是将作为PVA系树脂的原料的聚乙酸乙烯酯系树脂中所含的乙酸基(乙酰氧基:-OCOCH3)通过皂化工序变为羟基的比例用单元比(摩尔%)表示的值,以下式定义:
皂化度(摩尔%)=100×(羟基的个数)÷(羟基的个数+乙酸基的个数)
皂化度可以依照JIS K 6726(1994)求出。皂化度越高,则表示羟基的比例越高,因而表示阻碍结晶化的乙酸基的比例越低。
PVA系树脂也可以是一部分被改性了的改性聚乙烯醇。例如,可以举出将PVA系树脂用乙烯、丙烯等烯烃;丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不饱和羧酸;不饱和羧酸的烷基酯、(甲基)丙烯酰胺等改性了的树脂。改性的比例优选为小于30摩尔%,更优选为小于10%。在进行了大于30摩尔%的改性的情况下,难以在拉伸膜上吸附二色性色素,会有难以获得具有足够的偏振性能的偏振膜的趋势。
PVA系树脂的平均聚合度优选为100~10000,更优选为1500~8000,进一步优选为2000~5000。PVA系树脂的平均聚合度也可以依照JIS K6726(1994)求出。
将上述涂布液涂布于基材膜30的方法可以从绕线棒涂布法;反转涂布、凹版涂布之类的辊涂法;模涂法;逗点式涂布法;模唇涂布法;旋涂法;丝网涂布法;喷注式涂布法;浸涂法;喷雾法等方法中适当地选择。涂布层可以仅形成于基材膜30的一面,也可以形成于两面。
涂布层的干燥温度及干燥时间可以根据涂布液中所含的溶媒的种类来设定。干燥温度例如为50~200℃,优选为60~150℃。在溶媒包含水的情况下,干燥温度优选为80℃以上。
层叠膜100的PVA系树脂膜6的厚度优选为3~100μm,更优选为5~50μm,进一步优选为5~30μm。如果是具有该范围内的厚度的PVA系树脂膜6,则经过后述的拉伸工序S20及染色工序,可以得到二色性色素的染色性良好且偏振性能优异、并且足够薄的(例如厚度为10μm以下的)偏振膜。
也可以在涂布液的涂布前,为了提高基材膜30与PVA系树脂膜6的密合性,至少对形成涂布层的一侧的基材膜30的表面实施电晕处理、等离子体处理、火焰(flame)处理等。另外基于相同的理由,也可以在基材膜30上夹隔着底漆层等形成涂布层。
底漆层可以通过将底漆层形成用涂布液涂布于基材膜30的表面后、使之干燥而形成。该涂布液包含对基材膜30和PVA系树脂膜6双方发挥一定程度的强密合力的成分,通常包含赋予此种密合力的树脂成分和溶媒。作为树脂成分,优选使用透明性、热稳定性、拉伸性等优异的热塑性树脂,例如可以举出(甲基)丙烯酸系树脂、聚乙烯醇系树脂等。其中,优选使用赋予良好的密合力的聚乙烯醇系树脂。更优选为聚乙烯醇树脂。作为溶媒通常使用可以溶解上述树脂成分的一般的有机溶媒、水系溶媒,然而优选由以水作为溶媒的涂布液来形成底漆层。
为了提高底漆层的强度,也可以向底漆层形成用涂布液中添加交联剂。交联剂的具体例包括环氧系、异氰酸酯系、二醛系、金属系(例如、金属盐、金属氧化物、金属氢氧化物、有机金属化合物)、高分子系的交联剂。在作为形成底漆层的树脂成分使用聚乙烯醇系树脂的情况下,适合使用聚酰胺环氧树脂、羟甲基化三聚氰胺树脂、二醛系交联剂、金属螯合物化合物系交联剂等。
底漆层的厚度优选为0.05~1μm左右,更优选为0.1~0.4μm。如果小于0.05μm,则基材膜30与PVA系树脂膜6的密合力提高的效果小。
将底漆层形成用涂布液涂布于基材膜30的方法可以与上述PVA系树脂膜形成用的涂布液相同。包含底漆层形成用涂布液的涂布层的干燥温度例如为50~200℃,优选为60~150℃。在溶媒包含水的情况下,干燥温度优选为80℃以上。
(2)拉伸工序S20
参照图3,本工序是拉伸包含基材膜30及PVA系树脂膜6的层叠膜100、得到包含经过拉伸的基材膜31及包含PVA系树脂的拉伸膜7的拉伸层叠膜200的工序。
拉伸工序S20依次包括下述工序:
第一拉伸处理工序S20-1,以在相同TD拉伸倍率下的比较中使MD收缩倍率大于对PVA系树脂膜进行自由端横向拉伸时的MD收缩倍率的方式同时进行TD上的拉伸和MD上的收缩;以及
第二拉伸处理工序S20-2,以使MD收缩倍率降低0.17以上的方式同时进行TD上的拉伸和MD上的收缩。
根据依次包括第一拉伸处理工序S20-1及第二拉伸处理工序S20-2的拉伸处理方法,可以稳定地制造TD拉伸倍率高、TD的轴取向性也优异的由聚乙烯醇系树脂形成的拉伸膜7。以该拉伸膜7作为原料膜制造的偏振膜是以TD作为慢轴(吸收轴)方向的偏振膜,另外,可以显示出良好的光学性能(偏振性能等)。
图4是表示本发明的拉伸工序S20的拉伸模式的例子的曲线图,作为具体例表示出2种拉伸模式X及Y。曲线图的横轴为TD的拉伸倍率A(TD拉伸倍率、单位:倍)。在将提供给拉伸工序S20的PVA系树脂膜6的TD拉伸倍率A设为1时,TD拉伸倍率A在拉伸工序S20中可以采用大于1的值。TD拉伸倍率A以下式表示:
TD拉伸倍率A〔倍〕=(经过拉伸的PVA系树脂膜6的TD长度)/(提供给拉伸工序的PVA系树脂膜6的TD长度)
“TD长度”与PVA系树脂膜6的宽度同义。所谓“经过拉伸的PVA系树脂膜6”,不一定仅指拉伸工序S20结束时的PVA系树脂膜6(即拉伸膜7),也指拉伸工序S20途中的经过拉伸的PVA系树脂膜6。
图4所示的曲线图的纵轴为MD的收缩倍率B(MD收缩倍率、单位:倍)。在将提供给拉伸工序S20的PVA系树脂膜6的MD收缩倍率B设为1时,MD收缩倍率B在拉伸工序S20中可以采用小于1的值。MD收缩倍率B以下式表示:
MD收缩倍率B〔倍〕=(收缩了的PVA系树脂膜6的MD长度)/(提供给拉伸工序的PVA系树脂膜6的MD长度)
“MD长度”与PVA系树脂膜6的长度同义。所谓“收缩了的PVA系树脂膜6”,不一定仅指拉伸工序S20结束时的PVA系树脂膜6(即拉伸膜7),也指拉伸工序S20途中的收缩了的PVA系树脂膜6。
如图4的拉伸模式X及Y中例示所示,本发明中拉伸工序S20依次包括第一拉伸处理工序S20-1及第二拉伸处理工序S20-2。从曲线图线具有斜率也可以清楚地看到,第一拉伸处理工序S20-1及第二拉伸处理工序S20-2中实施的拉伸处理均为同时进行TD上的拉伸(横向拉伸)和MD上的收缩(纵向收缩)的同时双轴拉伸处理。拉伸模式X中,在第一拉伸处理工序S20-1与第二拉伸处理工序S20-2之间,夹设有仅进行横向拉伸的第三拉伸处理工序。也可以像拉伸模式X那样,第一拉伸处理工序S20-1与第二拉伸处理工序S20-2是不连续的。拉伸模式Y中,没有夹设此种第三拉伸处理工序,而是接在第一拉伸处理工序S20-1后进行第二拉伸处理工序S20-2。
第一拉伸处理工序S20-1中,在相同的TD拉伸倍率A下的比较中,以使MD收缩倍率B大于对PVA系树脂膜进行自由端横向拉伸时的MD收缩倍率的方式进行同时双轴拉伸处理。第一拉伸处理工序S20-1优选在其全部工序中满足上述条件。所谓“对PVA系树脂进行自由端横向拉伸时”,是指图4中的拉伸模式Z,是MD上自由地收缩的同时进行横向拉伸(TD拉伸)时的拉伸模式。该成为基准的拉伸模式Z可以使用与实际中提供给拉伸工序S20的PVA系树脂膜6(在由基材膜支撑的情况下是层叠膜100)相同的膜进行实测。
通过在第二拉伸处理工序S20-2前实施满足上述条件的第一拉伸处理工序S20-1,就能够不伴随膜的断裂等不佳状况地实现TD上的高拉伸倍率,另外,容易获得TD上的轴取向性优异的拉伸膜7。另外,通过以满足上述条件的方式,在拉伸工序S20的初期阶段中与横向拉伸同时地使之适度地纵向收缩,就可以抑制在所得的拉伸膜7中产生褶皱等外观不良。
由于第一拉伸处理工序S20-1结束时的TD拉伸倍率A最好超过PVA系树脂膜6(在由基材膜支撑的情况下是层叠膜100)的弹性区域,因此优选为1.5~4.8倍,更优选为1.8~4.5倍。另外,对于第一拉伸处理工序S20-1结束时的MD收缩倍率B,在自由端横向拉伸的情况下,在该区域中产生大部分的收缩,然而最好在第二拉伸处理工序S20-2中以一定程度以上使之进行MD收缩,因此优选为0.6~0.97倍,更优选为0.65~0.85倍。
另一方面,第二拉伸处理工序S20-2是在以一定程度以上使之进行MD收缩的同时进行同时双轴拉伸处理的工序,具体而言,是以使MD收缩倍率B降低0.17以上的方式进行同时双轴拉伸处理的工序。此处所说的MD收缩倍率B的降低量是第二拉伸处理工序S20-2开始时的MD收缩倍率〔倍〕与该工序结束时的MD收缩倍率〔B〕的差。第二拉伸处理工序S20-2的MD收缩倍率B的降低量优选为0.2以上,更优选为0.25以上。
通过在第一拉伸处理工序S20-1后实施满足上述条件的第二拉伸处理工序S20-2,就能够不伴随膜的断裂等不佳状况地实现TD上的高拉伸倍率,另外,容易获得TD上的轴取向性优异的拉伸膜7。如果第二拉伸处理工序S20-2的MD收缩倍率B的降低量太大,则容易在所得的拉伸膜7中产生褶皱等外观不良,因此MD收缩倍率B的降低量优选为0.45以下,更优选为0.4以下,进一步优选为0.35以下。
对于第二拉伸处理工序S20-2开始时的TD拉伸倍率A,由于期望在大于PVA系树脂膜6(在由基材膜支撑的情况下是层叠膜100)的下屈服点的区域中进行,因此优选为4.0倍以上,更优选为4.3倍以上。第二拉伸处理工序S20-2开始时的TD拉伸倍率A通常小于5倍。另外,对于第二拉伸处理工序S20-2开始时的MD收缩倍率B,由于期望在该工序中充分地收缩,因此优选为0.6~0.97倍,更优选为0.65~0.85倍。
在第一拉伸处理工序S20-1及第二拉伸处理工序S20-2中分别从工序开始时到结束时,通常以一定的速度进行TD拉伸及MD收缩(MD收缩倍率变化量/TD拉伸倍率变化量的比一定),然而也可以伴随着轻微的速度变动。如上所述,第一拉伸处理工序S20-1与第二拉伸处理工序S20-2也可以连续,该情况下,第一拉伸处理工序S20-1结束时的TD拉伸倍率A及MD收缩倍率B分别与第二拉伸处理工序S20-2开始时的TD拉伸倍率A及MD收缩倍率B相同。需要说明的是,在从拉伸工序S20的开始时到结束时MD收缩倍率变化量/TD拉伸倍率变化量的比始终一定的情况下,则视为仅包括第一拉伸处理工序S20-1或第二拉伸处理工序S20-2的某一方,不满足依次包括第一拉伸处理工序S20-1及第二拉伸处理工序S20-2的条件。
如上所述,在第一拉伸处理工序S20-1与第二拉伸处理工序S20-2之间也可以夹设第三(乃至第四、第五、···)拉伸处理工序。该情况下,第三拉伸处理工序可以是同时双轴拉伸处理,也可以是横向拉伸、纵向收缩等其他的拉伸处理,然而至少其MD收缩倍率变化量/TD拉伸倍率变化量的比与第一拉伸处理工序S20-1及第二拉伸处理工序S20-2的该比不同。
拉伸工序S20也可以在第一拉伸处理工序S20-1前包括横向拉伸、纵向收缩等其他的拉伸处理工序。但是,从在TD拉伸时充分地产生MD收缩而提高拉伸膜7的取向性的观点出发,优选在拉伸处理工序S20中最先实施第一拉伸处理工序S20-1。该情况下,提供给第一拉伸处理工序S20-1的膜是未拉伸的PVA系树脂膜6(在由基材膜支撑的情况下是层叠膜100)。
拉伸工序S20也可以在第二拉伸处理工序S20-2后,包括横向拉伸、纵向收缩等其他的拉伸处理工序。但是,由于在超过下屈服点后横向拉伸的应力增大,因此优选在拉伸处理工序S20中最后实施第二拉伸处理工序S20-2。该情况下,通过实施该第二拉伸处理工序S20-2,而对PVA系树脂膜6进行同时双轴拉伸,直至TD拉伸倍率A及MD收缩倍率B达到所需值(下述Af及Bf),获得具有最终的TD拉伸倍率Af及最终的MD收缩倍率Bf的拉伸膜7。
利用拉伸工序S20中的一连串的拉伸处理得到的拉伸膜7的上述最终的TD拉伸倍率Af优选为5倍以上,更优选为5.3倍以上。根据依照本发明的拉伸方法,可以不产生膜的断裂、褶皱发生等不佳状况地实现5倍以上的TD拉伸倍率Af。最终的TD拉伸倍率Af通常为10倍以下,优选为7倍以下。对于大于10倍的TD拉伸,虽然也要根据拉伸膜的厚度而定,然而容易伴随着膜断裂。
拉伸膜7的上述最终的MD收缩倍率Bf优选为0.2~0.8倍,更优选为0.35~0.7倍。如果MD收缩倍率Bf为该范围内,则TD上的高拉伸倍率变得容易,另外,TD上的轴取向性变得良好。
在第一拉伸处理工序S20-1及第二拉伸处理工序S20-2中实施的同时进行TD上的拉伸(横向拉伸)和MD上的收缩(纵向收缩)的同时双轴拉伸处理中,可以使用公知的拉幅机式拉伸装置。图5是示意性地表示拉幅机式拉伸装置的内部构成的一例的俯视图。如图5所示,拉幅机式拉伸装置用沿行进方向(机械流动方向)排列的多个夹子50握持行进的膜(PVA系树脂膜6)的宽度方向两端部,通过在拉伸区中在使夹子50与膜一起行进的同时拓宽宽度方向的夹子间隔而将膜沿宽度方向拉伸,并且通过缩窄行进方向的夹子间隔而使膜沿行进方向收缩。更具体而言,可以通过使刚刚出拉伸区后的宽度方向的夹子间隔D2大于拉伸区近前处的宽度方向的夹子间隔D1而实施TD拉伸。另外,可以通过使刚刚出拉伸区后的行进方向的夹子间隔G2小于拉伸区近前处的行进方向的夹子间隔G1而实施MD收缩。利用这些夹子间隔的调整可以控制同时双轴拉伸处理的拉伸模式。
对于包括同时双轴拉伸处理工序的拉伸工序S20的拉伸温度,在将由基材膜30支撑的PVA系树脂膜6、即层叠膜100提供给拉伸工序S20的情况下,设定为以PVA系树脂膜6及基材膜30整体能够拉伸的程度显示出流动性的温度以上,优选为基材膜30的相变温度(熔点或玻璃化温度)-30℃到+30℃的范围,更优选为-30℃到+5℃的范围,进一步优选为-25℃到+0℃的范围。在基材膜30包含多个树脂层的情况下,上述相变温度意味着该多个树脂层所显示出的相变温度当中最高的相变温度。
如果使拉伸温度低于相变温度-30℃,则难以实现5倍以上的高倍率拉伸,或者因基材膜30的流动性过低而会有拉伸处理变得困难的趋势。如果拉伸温度高于相变温度+30℃,则会因基材膜30的流动性过大而有拉伸变得困难的趋势。在将层叠膜100提供给拉伸工序S20的情况下,由于更容易实现5倍以上的高拉伸倍率,因此优选拉伸温度为上述范围内,更优选为120℃以上。另外拉伸温度通常为230℃以下。
作为拉伸处理中的膜的加热方法,有区域加热法(例如在吹入热风并调整为给定的温度的加热炉之类的拉伸区内进行加热的方法。);加热器加热法(将红外线加热器、卤素加热器、板式加热器等设置于膜的上下而利用辐射热进行加热的方法)等。
也可以在拉伸工序S20前,设置对提供给拉伸工序S20的膜进行预热的预热处理工序。作为预热方法,可以使用与拉伸处理中的加热方法相同的方法。预热温度优选为拉伸温度-50℃到±0℃的范围,更优选为拉伸温度-40℃到-10℃的范围。
另外,也可以在拉伸工序S20的拉伸处理后,设置热固定处理工序。热固定处理是在将拉伸膜7的端部利用夹子握持的状态下一边维持紧张状态一边在PVA的结晶化温度以上进行热处理的处理。通过该热固定处理,拉伸膜7的结晶化得到促进。热固定处理的温度优选为拉伸温度-0℃~-80℃的范围,更优选为拉伸温度-0℃~-50℃的范围。
经过拉伸工序S20得到的拉伸膜7的厚度例如为30μm以下,进一步可以为20μm以下,然而从偏振膜、进而是偏振板的薄型化的观点出发,优选为15μm以下,更优选为10μm以下,进一步优选为7μm以下。拉伸膜7的厚度通常为2μm以上。
以上,以从由基材膜30支撑的PVA系树脂膜6出发来制造由基材膜31支撑的拉伸膜7的方法(第一实施方式)为例举出,对本发明的拉伸膜的制造方法进行了说明,然而对于没有由基材膜30支撑而单独存在的PVA系树脂膜,也可以通过与上述相同地实施给定的拉伸工序,而不伴随着膜的断裂、褶皱的发生等不佳状况地得到TD的拉伸倍率及轴取向性高的拉伸膜7(第二实施方式)。在将单独存在的PVA系树脂膜6提供给拉伸工序S20的情况下,包括同时双轴拉伸处理工序的拉伸工序S20的拉伸温度优选为150℃以上。另外拉伸温度通常为230℃以下。在第二实施方式中,也可以设置预热处理工序和/或热固定处理工序。
可以在连续地运送长尺寸的基材膜30(使用基材膜的情况)或长尺寸的PVA系树脂膜6(不使用基材膜的情况)的同时,连续地实施上述PVA系树脂膜形成工序S10(使用基材膜的情况)及拉伸工序S20。该情况下,所得的拉伸膜7也是长尺寸,通常用卷绕装置卷绕而制成拉伸膜7的卷筒体。或者,也可以将连续地制造的长尺寸的拉伸膜7不加以卷绕地提供给偏振膜化工序(染色工序)。作为长尺寸物的拉伸膜的长度通常为100m以上,优选为1000m以上。另外拉伸膜的长度通常为10000m以下。
本发明的拉伸膜7是经过上述拉伸工序S20而得的膜,因此TD上具有高的单轴取向性。在将波长590nm时的膜面内的膜宽度方向的折射率设为nx、将膜面内与膜宽度方向正交的方向的折射率设为ny时,本发明的拉伸膜7的以下式表示的双折射ΔP可以为0.031以上,进一步可以为0.032以上,通常为0.04以下。
双折射ΔP=nx-ny。
需要说明的是,在拉伸膜7是作为由基材膜31支撑的膜得到的情况下,拉伸膜7的双折射ΔP是将剥离除去基材膜31而得的单独的拉伸膜7作为测定样品而测定。
<偏振膜及偏振板的制造方法>
本发明的偏振膜的制造方法是将利用上述本发明的拉伸膜的制造方法得到的拉伸膜作为原料膜来制造偏振膜的方法。根据该制造方法,可以得到以TD作为慢轴(吸收轴)方向、显示出良好的光学性能的偏振膜。
作为原料膜的拉伸膜可以是由基材膜31支撑的拉伸膜7(即拉伸层叠膜200),也可以是没有由基材膜30支撑的单独的拉伸膜7。
如果以从拉伸层叠膜200出发来制造由基材膜支撑的偏振膜的方法为例举出,则参照图6,该制造方法可以是包括下述工序的方法,即,染色工序S30,将拉伸层叠膜的拉伸膜用二色性色素染色而形成偏振膜(偏振片层),由此获得偏振性层叠膜。偏振性层叠膜是具有基材膜和层叠于其上的偏振膜的层叠膜(即由基材膜支撑的偏振膜)。
参照图6,如果将偏振性层叠膜提供给下述工序,则可以得到带有保护膜的偏振性层叠膜,即,第一贴合工序S40,在偏振性层叠膜的偏振膜上贴合第一保护膜而得到带有保护膜的偏振性层叠膜。
参照图6,如果将带有保护膜的偏振性层叠膜提供给下述工序,则可以得到单面带有保护膜的偏振板,即,剥离工序S50,从带有保护膜的偏振性层叠膜中剥离除去基材膜而得到单面带有保护膜的偏振板,如果将其进一步提供给下述工序,则可以得到双面带有保护膜的偏振板,即,第二贴合工序S60,在单面带有保护膜的偏振板的偏振膜面贴合第二保护膜。
需要说明的是,本说明书中,将包含偏振膜并且不包含基材膜的膜层叠体称作“偏振板”。
(1)染色工序S30
参照图7,本工序是将拉伸层叠膜200的拉伸膜7用二色性色素染色而使之吸附取向、制成偏振膜(偏振片层)5的工序。经过本工序得到在基材膜31的一面或两面层叠有偏振膜5的偏振性层叠膜300。
作为二色性色素,具体而言可以举出碘或二色性有机染料。二色性有机染料的具体例例如包括红色BR、红色LR、红色R、粉红LB、宝石红BL、枣红GS、天蓝LG、柠檬黄、蓝色BR、蓝色2R、藏蓝RY、绿色LG、紫色LB、紫色B、黑色H、黑色B、黑色GSP、黄色3G、黄色R、橙色LR、橙色3R、猩红GL、猩红KGL、刚果红、亮紫BK、Supra Blue G、Supra Blue GL、Supra Orange GL、直接天蓝、直接耐晒橙S、耐晒黑。二色性色素可以仅单独使用1种,也可以并用2种以上。
染色工序S30通常可以通过在含有二色性色素的溶液(染色浴)中浸渍拉伸层叠膜200而进行。作为染色浴,可以使用将上述二色性色素溶解于溶媒中的溶液。作为染色溶液的溶媒,一般使用水,然而也可以还添加与水具有相容性的有机溶媒。染色浴中的二色性色素的浓度优选为0.01~10重量%,更优选为0.02~7重量%。
在作为二色性色素使用碘的情况下,由于可以提高染色效率,因此优选向含有碘的染色浴中还添加碘化物。作为碘化物,例如可以举出碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛等。染色浴中的碘化物的浓度优选为0.01~20重量%。在碘化物当中,优选添加碘化钾。在添加碘化钾的情况下,碘与碘化钾的比例以重量比计优选为1:5~1:100,更优选为1:6~1:80。染色浴的温度优选为10~60℃,更优选为20~40℃。
染色工序S30可以包括接在染色处理之后实施的交联处理工序。交联处理可以通过将经过染色的拉伸膜浸渍于含有交联剂的溶液(交联浴)中来进行。作为交联剂,例如可以举出硼酸、硼砂之类的硼化合物、乙二醛、戊二醛等。交联剂可以仅使用1种,也可以并用2种以上。作为交联浴,可以使用将交联剂溶解于溶媒中的溶液。作为溶媒,可以使用水,也可以还包含与水具有相容性的有机溶媒。交联浴中的交联剂的浓度优选为1~20重量%,更优选为6~15重量%。
交联浴可以还包含碘化物。通过碘化物的添加,可以使偏振膜5的面内的偏振特性更加均匀化。碘化物的具体例与上述相同。交联浴中的碘化物的浓度优选为0.05~15重量%,更优选为0.4~8重量%。交联浴的温度优选为10~90℃。
需要说明的是,交联处理也可以通过将交联剂配合到染色浴中而与染色处理同时地进行。另外,也可以使用组成不同的2种以上的交联浴,进行2次以上的浸渍于交联浴中的处理。
优选在染色工序S30后,进行清洗工序及干燥工序。清洗工序通常包括水清洗工序。水清洗处理可以通过将染色处理后的或交联处理后的膜浸渍于离子交换水、蒸馏水之类的纯水中而进行。水清洗温度通常为3~50℃,优选为4~20℃。清洗工序也可以是水清洗工序与利用碘化物溶液的清洗工序的组合。作为在清洗工序后进行的干燥工序,可以采用自然干燥、鼓风干燥、加热干燥等任意的合适的方法。例如在加热干燥的情况下,干燥温度通常为20~95℃。
偏振性层叠膜300所具有的偏振膜5的厚度例如为30μm以下,进一步可以为20μm以下,然而从偏振板的薄型化的观点出发,优选为15μm以下,更优选为10μm以下,进一步优选为7μm以下。偏振膜5的厚度通常为2μm以上。另外,偏振膜5的可见度修正单体透射率Ty可以是应用该偏振膜或包含该偏振膜的偏振板的液晶显示装置等图像显示装置中通常要求的值,具体而言优选为40~47%的范围内。Ty更优选为41~45%的范围内,该情况下,Ty与Py的平衡变得更加良好。如果Ty过高,则Py降低而使图像显示装置的显示品质降低。在Ty过低的情况下,图像显示装置的亮度降低而使显示品质降低,或者为了充分地提高亮度而需要增大投入电力。偏振膜5的可见度修正偏振度Py优选为99.9%以上,更优选为99.95%以上。对于偏振膜5的Ty及Py,在该偏振膜5是作为单体存在的情况下(单独存在的情况下),是以其自身作为测定样品而测定。另一方面,在作为偏振膜5由基材膜31支撑的偏振性层叠膜300存在的情况下,从偏振性层叠膜300中除去基材膜31,分离出偏振性层叠膜300中所含的偏振膜5,以其作为测定样品,或者以偏振性层叠膜300自身作为测定样品,测定Ty及Py,将它们作为偏振膜5的Ty及Py。
(2)第一贴合工序S40
参照图8,本工序是通过在偏振性层叠膜300的偏振膜5上、即在偏振膜5的与基材膜31侧相反一侧的面夹隔着第一粘接剂层15贴合第一保护膜10而得到带有保护膜的偏振性层叠膜400的工序。
需要说明的是,在偏振性层叠膜300在基材膜31的两面具有偏振膜5的情况下,通常在两面的偏振膜5上分别贴合第一保护膜10。该情况下,这些第一保护膜10可以是同种的保护膜,也可以是不同种的保护膜。
形成第一粘接剂层15的粘接剂可以是含有通过紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的活性能量射线固化性粘接剂(优选为紫外线固化性粘接剂)、或使聚乙烯醇系树脂之类的粘接剂成分溶解或分散于水中而得的水系粘接剂。
作为活性能量射线固化性粘接剂,由于显示出良好的粘接性,因此优选使用包含阳离子聚合性的固化性化合物和/或自由基聚合性的固化性化合物的活性能量射线固化性粘接剂组成物。活性能量射线固化性粘接剂可以还包含用于引发上述固化性化合物的固化反应的阳离子聚合引发剂和/或自由基聚合引发剂。
作为阳离子聚合性的固化性化合物,例如可以举出环氧系化合物(在分子内具有1个或2个以上的环氧基的化合物)、氧杂环丁烷系化合物(在分子内具有1个或2个以上的氧杂环丁烷环的化合物)、或它们的组合。作为自由基聚合性的固化性化合物,例如可以举出(甲基)丙烯酸系化合物(在分子内具有1个或2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物)、具有自由基聚合性的双键的其他的乙烯基系化合物、或它们的组合。也可以将阳离子聚合性的固化性化合物与自由基聚合性的固化性化合物并用。
活性能量射线固化性粘接剂根据需要可以含有阳离子聚合促进剂、离子捕捉剂、抗氧剂、链转移剂、增粘剂、热塑性树脂、填充剂、流动调整剂、增塑剂、消泡剂、防静电干扰剂、流平剂、溶剂等添加剂。
在使用活性能量射线固化性粘接剂贴合第一保护膜10的情况下,在借助成为第一粘接剂层15的活性能量射线固化性粘接剂将第一保护膜10层叠于偏振膜5上后,照射紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线而使粘接剂层固化。其中适合为紫外线,作为此时的光源,可以使用低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属卤化物灯等。在使用水系粘接剂的情况下,只要在借助水系粘接剂将第一保护膜10层叠于偏振膜5上后加热干燥即可。
在将第一保护膜10贴合于偏振膜5时,对于第一保护膜10和/或偏振膜5的贴合面,为了提高与偏振膜5的粘接性,可以进行等离子体处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(flame)处理、皂化处理之类的表面处理(易粘接处理),其中,优选进行等离子体处理、电晕处理或皂化处理。
第一保护膜10可以是包含具有透光性的(优选在光学上透明的)热塑性树脂、例如链状聚烯烃系树脂(聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)之类的聚烯烃系树脂;三乙酸纤维素、二乙酸纤维素之类的纤维素酯系树脂;聚酯系树脂;聚碳酸酯系树脂;(甲基)丙烯酸系树脂;聚苯乙烯系树脂;或它们的混合物、共聚物等的膜。
第一保护膜10也可以是相位差膜、增亮膜之类的兼具光学功能的保护膜。例如,可以通过对包含上述热塑性树脂的膜进行拉伸(单轴拉伸或双轴拉伸等)、或在该膜上形成液晶层等而制成赋予了任意的相位差值的相位差膜。
作为链状聚烯烃系树脂,除了可以举出聚乙烯树脂、聚丙烯树脂之类的链状烯烃的均聚物以外,还可以举出包含2种以上的链状烯烃的共聚物。
环状聚烯烃系树脂是以环状烯烃作为聚合单元聚合的树脂的总称。如果要举出环状聚烯烃系树脂的具体例,则为环状烯烃的开环(共)聚合物、环状烯烃的加成聚合物、环状烯烃与乙烯、丙烯之类的链状烯烃的共聚物(代表性的情况是无规共聚物)、以及将它们用不饱和羧酸或其衍生物改性了的接枝聚合物、以及它们的氢化物等。其中,优选使用作为环状烯烃使用了降冰片烯、多环降冰片烯系单体等降冰片烯系单体的降冰片烯系树脂。
纤维素酯系树脂是纤维素与脂肪酸的酯。纤维素酯系树脂的具体例包括三乙酸纤维素、二乙酸纤维素、三丙酸纤维素、二丙酸纤维素。另外,也可以使用它们的共聚物、或羟基的一部分由其他的取代基修饰了的物质。它们当中,特别优选三乙酸纤维素(三乙酰纤维素:TAC)。
聚酯系树脂是具有酯键的上述纤维素酯系树脂以外的树脂,通常为包含多元酸或其衍生物与多元醇的缩聚物的树脂。作为多元酸或其衍生物可以使用二羧酸或其衍生物,例如可以举出对苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸二甲酯、萘二甲酸二甲酯等。作为多元醇可以使用二醇,例如可以举出乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、环己烷二甲醇等。
聚酯系树脂的具体例包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚萘二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸环己烷二甲酯、聚萘二甲酸环己烷二甲酯。
聚碳酸酯系树脂包含借助碳酸酯基将单体单元键合而得的聚合物。聚碳酸酯系树脂也可以是对聚合物骨架进行了修饰的被称作改性聚碳酸酯的树脂、或共聚聚碳酸酯等。
(甲基)丙烯酸系树脂是以具有(甲基)丙烯酰基的化合物作为主要的构成单体的树脂。(甲基)丙烯酸系树脂的具体例例如包括聚甲基丙烯酸甲酯之类的聚(甲基)丙烯酸酯;甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物;甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物;甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物;(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS树脂等);甲基丙烯酸甲酯与具有脂环族烃基的化合物的共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片基酯共聚物等)。优选使用以聚(甲基)丙烯酸甲酯之类的聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯作为主成分的聚合物,更优选使用以甲基丙烯酸甲酯作为主成分(50~100重量%,优选为70~100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系树脂。
需要说明的是,关于以上所示的各热塑性树脂的说明也可以适用于构成基材膜30的热塑性树脂。
在第一保护膜10的与偏振膜5相反一侧的表面,也可以形成硬涂布层、防眩层、防反射层、防静电干扰层、防污层之类的表面处理层(涂布层)。另外,第一保护膜10可以含有1种或2种以上的润滑剂、增塑剂、分散剂、热稳定剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、防静电干扰剂、抗氧剂之类的添加剂。
从偏振板的薄型化的观点出发,第一保护膜10的厚度优选为90μm以下,更优选为50μm以下,进一步优选为30μm以下。从强度及操作性的观点出发,第一保护膜10的厚度通常为5μm以上。
(3)剥离工序S50
参照图9,本工序是从带有保护膜的偏振性层叠膜400中剥离除去基材膜31而得到单面带有保护膜的偏振板1的工序。在偏振性层叠膜300在基材膜31的两面具有偏振膜5、在这两方的偏振膜5上贴合有第一保护膜10的情况下,利用该剥离工序S50,可以由1片偏振性层叠膜300得到2片单面带有保护膜的偏振板1。
剥离除去基材膜31的方法没有特别限定,可以利用与通常的带有粘合剂的偏振板中进行的间隔件(剥离膜)的剥离工序相同的方法剥离。基材膜31可以在第一贴合工序S40后直接立即剥离,也可以在第一贴合工序S40后,暂时卷绕成卷筒状,在其后的工序中一边卷出一边剥离。
(4)第二贴合工序S60
参照图10,本工序是如下的工序,即,在单面带有保护膜的偏振板1的偏振膜5上,即在与第一贴合工序S40中贴合的第一保护膜10相反一侧的面,再借助第二粘接剂层25贴合第二保护膜20,得到双面带有保护膜的偏振板2。借助第二粘接剂层25的第二保护膜20的贴合可以与第一保护膜10的贴合相同地进行。对于第二保护膜20及第二粘接剂层25的构成、材质,分别引用对于第一保护膜10及第一粘接剂层15的记载。
以上,对使用由基材膜支撑的拉伸膜(拉伸层叠膜)制造偏振膜(偏振性层叠膜、带有保护膜的偏振性层叠膜)、进而制造偏振板的方法进行了说明,然而在使用没有由基材膜支撑的单独的拉伸膜的情况下,也可以通过实施染色处理而同样地制造偏振膜。另外,通过在该偏振膜的一面或两面同样地借助粘接剂层贴合保护膜,可以制造单面带有保护膜的偏振板或双面带有保护膜的偏振板。
也可以在图9所示的单面带有保护膜的偏振板1的偏振膜5上、或图10所示的双面带有保护膜的偏振板2的第一保护膜10或第二保护膜20上,层叠用于将偏振板贴合于其他的构件(例如应用于液晶显示装置时的液晶单元)上的粘合剂层。形成粘合剂层的粘合剂通常包含以(甲基)丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、硅酮系树脂等作为基础聚合物、并向其中加入了异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物之类的交联剂的粘合剂组成物。也可以还含有微粒而制成显示出光散射性的粘合剂层。粘合剂层的厚度通常为1~40μm,优选为3~25μm。
单面带有保护膜的偏振板1及双面带有保护膜的偏振板2可以还包含层叠于其第一和/或第二保护膜10、20或偏振膜5上的其他的光学层。作为其他的光学层,可以举出透射某种偏振光并反射显示出与之相反的性质的偏振光的反射型偏振膜;在表面具有凹凸形状的带有防眩功能的膜;带有防止表面反射功能的膜;在表面具有反射功能的反射膜;兼具反射功能和透射功能的半透射反射膜;视角补偿膜等。
通过使用沿TD进行了单轴取向的拉伸膜,可以提供以TD作为吸收轴方向的偏振膜及偏振板。如果将该偏振板作为构成液晶面板的一对偏振板的一方使用,则可以将该一对偏振板直接贴合于液晶单元上,而不用使它们的MD错开90°。即,能够实现将该一对偏振板以使它们的MD平行的方式贴合于液晶单元上的卷到面板(Roll-to-Panel)贴合,该一对偏振板的吸收轴会相互正交。另外,根据以TD作为吸收轴方向的长尺寸的偏振板,在进行与增亮膜(反射型偏振板)的贴合时,能够实现卷到卷(Roll-to-Roll)贴合。
[实施例]
以下,给出实施例及比较例而对本发明进一步具体说明,然而本发明并不受这些例子限定。在以下的例子中,拉伸膜的双折射ΔP、拉伸工序时的膜的断裂性、拉伸膜的外观品质、偏振膜的可见度修正单体透射率Ty及可见度修正偏振度Py依照下面的测定方法、评价方法。
〔a〕拉伸膜的双折射ΔP的测定
以从拉伸层叠膜中剥离除去基材膜而得的拉伸膜作为样品,使用王子计测机器株式会社制的相位差测定装置“KOBRA-WR”,测定出基于上式的波长590nm时的双折射ΔP。将结果表示于表1中。
〔b〕拉伸工序时的膜的断裂性的评价
依照下述的评价基准,评价了拉伸层叠膜时的膜的断裂性。将结果表示于表1中。
A:没有膜断裂、
B:每10m层叠膜中的膜断裂次数为1次、
C:每10m层叠膜中的膜断裂次数为2次以上。
〔c〕拉伸膜的外观品质的评价
目视观察所得的拉伸层叠膜所具有的拉伸膜,依照下述的评价基准评价了外观品质。将结果表示于表1中。
A:没有褶皱的产生、
B:观察到轻微的褶皱、
C:观察到很多褶皱。
〔d〕偏振膜的可见度修正单体透射率Ty及可见度修正偏振度Py的测定
以偏振性层叠膜作为样品,使用吸光光度计(日本分光(株)制的“V7100”),测定出可见度修正单体透射率Ty及可见度修正偏振度Py。在测定时,以向偏振膜侧照射入射光的方式放置偏振性层叠膜样品。将结果表示于表1中。
<实施例1>
(1)底漆层形成工序
将PVA粉末(日本合成化学工业(株)制的“Z-200”、平均聚合度1100、皂化度99.5摩尔%)溶解于95℃的热水中,配制出浓度3重量%的PVA水溶液。向所得的水溶液中相对于PVA粉末6重量份以5重量份的比例混合交联剂(田冈化学工业(株)制的“Sumirez Resin650”),得到底漆层形成用涂布液。
然后,作为基材膜准备厚90μm的未拉伸的聚丙烯(PP)膜(熔点:163℃),对其一面实施电晕处理后,向该电晕处理面使用小直径凹版涂布机涂布上述底漆层形成用涂布液,在80℃干燥10分钟,由此形成厚0.2μm的底漆层。
(2)层叠膜的制作(PVA系树脂膜形成工序)
将聚乙烯醇粉末((株)Kuraray制的“PVA124”、平均聚合度2400、皂化度98.0~99.0摩尔%)溶解于95℃的热水中,配制出浓度8重量%的聚乙烯醇水溶液,将其作为PVA系树脂膜形成用涂布液。向上述(1)中制作的具有底漆层的基材膜的底漆层表面使用模涂机涂布上述PVA系树脂膜形成用涂布液后,在70℃干燥4分钟,由此在底漆层上形成PVA系树脂膜,得到长尺寸的层叠膜。PVA系树脂膜(PVA系树脂层)的厚度为9μm。
(3)拉伸膜的制作(拉伸工序)
对于上述(2)中制作的长尺寸的层叠膜,在将其连续地卷出的同时,依照图11所示的拉伸模式,使用拉幅机式拉伸装置连续地实施包括作为同时进行TD上的拉伸(横向拉伸)和MD上的收缩(纵向收缩)的同时双轴拉伸处理的第一拉伸处理工序及第二拉伸处理工序的拉伸处理,得到长尺寸的拉伸层叠膜。拉伸处理在160℃进行(以下的比较例中也相同。)。通过调整夹子间隔而控制拉伸模式。拉伸层叠膜的最终的TD拉伸倍率Af及最终的MD收缩倍率Bf分别设为5.5倍、0.5倍(以下的比较例中也相同。)。拉伸层叠膜的拉伸膜(PVA系树脂层)的厚度约为3μm。在拉伸工序中可以不发生膜的断裂地得到长度大于100m的拉伸层叠膜。
(4)偏振性层叠膜的制作(染色工序)
将上述(3)中制作的拉伸层叠膜在包含碘和碘化钾的30℃的染色水溶液(每100重量份水中包含碘0.4重量份、碘化钾5.0重量份。)中浸渍约70秒而进行PVA膜的染色处理后,用10℃的纯水冲掉多余的染色水溶液。
然后,在包含硼酸的78℃的第一交联水溶液(每100重量份水中包含硼酸10.4重量份。)中浸渍120秒,然后,在包含硼酸及碘化钾的70℃的第二交联水溶液(每100重量份水中包含硼酸5.0重量份、碘化钾12.0重量份。)中浸渍60秒而进行了交联处理。其后,在10℃的纯水中浸渍约10秒,最后在80℃干燥300秒,由此得到包含偏振膜的偏振性层叠膜。偏振膜的Ty及Py分别为41.5%、>99.99%。
<实施例2>
除了使拉伸工序中的拉伸模式如图11所示以外,与实施例1相同地得到拉伸层叠膜。拉伸层叠膜中的拉伸膜(PVA系树脂层)的厚度约为3μm。另外,除了使用所得的拉伸层叠膜以外,与实施例1相同地得到包含偏振膜的偏振性层叠膜。此时,通过调整在染色水溶液中的浸渍时间而将偏振膜的Ty设为41.5%。偏振膜的Py为>99.99%。
<比较例1~4>
除了使拉伸工序中的拉伸模式如图11所示以外,与实施例1相同地得到拉伸层叠膜。拉伸层叠膜中的拉伸膜(PVA系树脂层)的厚度均为约3μm。另外,除了使用所得的拉伸层叠膜以外,与实施例1相同地得到包含偏振膜的偏振性层叠膜。此时,通过调整在染色水溶液中的浸渍时间而将偏振膜的Ty设为41.5%(但是,比较例4中没有测定Ty及Py。)。比较例3中,在拉伸工序中可以不发生膜的断裂地得到长度大于100m的拉伸层叠膜,然而在比较例1、2及4中发生膜断裂,所得的拉伸层叠膜的长度分别为10m左右、小于10m、小于10m。
[表1]
[表1]
实施例1 | 实施例2 | 比较例1 | 比较例2 | 比较例3 | 比较例4 | |
双折射ΔP | 0.033 | 0.033 | 0.033 | 0.030 | 0.029 | 0.031 |
断裂性评价 | A | A | B | C | A | C |
外观品质评价 | A | A | B | A | C | A |
Ty(%) | 41.5 | 41.5 | 41.5 | 41.5 | 41.5 | - |
Py(%) | >99.99 | >99.99 | >99.99 | 99.7 | 99.6 | - |
符号的说明
1 单面带有保护膜的偏振板,2 双面带有保护膜的偏振板,5 偏振膜(偏振片层),6 PVA系树脂膜(PVA系树脂层),7 拉伸膜,10 第一保护膜,15 第一粘接剂层,20 第二保护膜,25 第二粘接剂层,30 基材膜,31 经过拉伸的基材膜,50 夹子,100 层叠膜,200 拉伸层叠膜,300 偏振性层叠膜,400 带有保护膜的偏振性层叠膜。
Claims (10)
1.一种拉伸膜的制造方法,该制造方法包括拉伸工序,所述拉伸工序通过拉伸聚乙烯醇系树脂膜,而得到TD拉伸倍率为Af倍、MD收缩倍率为Bf倍的拉伸膜,
所述拉伸工序依次包括:
第一拉伸处理工序,在相同TD拉伸倍率下的比较中,以使MD收缩倍率大于对所述聚乙烯醇系树脂膜进行自由端横向拉伸时的MD收缩倍率的方式同时进行TD上的拉伸和MD上的收缩;以及
第二拉伸处理工序,以使MD收缩倍率降低0.17以上的方式同时进行TD上的拉伸和MD上的收缩。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,
所述第二拉伸处理工序开始时的所述聚乙烯醇系树脂膜的TD拉伸倍率为4.3倍以上。
3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
通过进行所述第二拉伸处理工序而使所述聚乙烯醇系树脂膜的TD拉伸倍率达到Af倍,使MD收缩倍率达到Bf倍。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的制造方法,其中,
所述聚乙烯醇系树脂膜为未拉伸膜,
在所述拉伸工序中最先进行所述第一拉伸处理工序。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其中,
所述拉伸膜的所述MD收缩倍率Bf为0.2~0.8倍。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的制造方法,其中,
所述拉伸膜的所述TD拉伸倍率Af为5倍以上。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的制造方法,其中,
通过拉伸在基材膜上具有所述聚乙烯醇系树脂膜的层叠膜,而得到层叠于所述基材膜的所述拉伸膜。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的制造方法,其中,
所述拉伸膜的厚度为30μm以下。
9.一种拉伸膜,是由聚乙烯醇系树脂形成的长度为100m以上的拉伸膜,
在将波长590nm时的膜面内的膜宽度方向的折射率设为nx、将在膜面内与膜宽度方向正交的方向的折射率设为ny时,以下式表示的双折射ΔP为0.031以上,
双折射ΔP=nx-ny。
10.一种偏振膜的制造方法,该制造方法包括:
利用权利要求1~8中任一项所述的制造方法得到拉伸膜的工序、以及
将所述拉伸膜用二色性色素染色的工序。
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003043257A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム |
CN101232990A (zh) * | 2005-08-03 | 2008-07-30 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 纤维素酯薄膜的制造方法及使用其的液晶显示装置 |
CN100447593C (zh) * | 2004-08-26 | 2008-12-31 | 日东电工株式会社 | 相位差膜及制法,使用其的光学膜、液晶面板和显示装置 |
CN102692667A (zh) * | 2011-03-23 | 2012-09-26 | 日东电工株式会社 | 偏光膜和偏光膜片 |
CN103176229A (zh) * | 2013-04-12 | 2013-06-26 | 宁波长阳科技有限公司 | 一种复合光学反射膜及其制备方法 |
CN103675979A (zh) * | 2012-08-28 | 2014-03-26 | 日东电工株式会社 | 偏光板的制造方法 |
JP2014054730A (ja) * | 2012-09-11 | 2014-03-27 | Nitto Denko Corp | 延伸フィルムの製造方法 |
CN104169756A (zh) * | 2012-03-14 | 2014-11-26 | 日东电工株式会社 | 光学膜卷筒 |
CN104246551A (zh) * | 2012-03-30 | 2014-12-24 | 住友化学株式会社 | 偏光性层叠薄膜的制造方法 |
Family Cites Families (2)
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---|---|---|---|---|
JP4971066B2 (ja) | 2007-01-31 | 2012-07-11 | 日東電工株式会社 | 偏光子の製造方法および延伸機 |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003043257A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム |
CN100447593C (zh) * | 2004-08-26 | 2008-12-31 | 日东电工株式会社 | 相位差膜及制法,使用其的光学膜、液晶面板和显示装置 |
CN101232990A (zh) * | 2005-08-03 | 2008-07-30 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 纤维素酯薄膜的制造方法及使用其的液晶显示装置 |
CN102692667A (zh) * | 2011-03-23 | 2012-09-26 | 日东电工株式会社 | 偏光膜和偏光膜片 |
CN104169756A (zh) * | 2012-03-14 | 2014-11-26 | 日东电工株式会社 | 光学膜卷筒 |
CN104246551A (zh) * | 2012-03-30 | 2014-12-24 | 住友化学株式会社 | 偏光性层叠薄膜的制造方法 |
CN103675979A (zh) * | 2012-08-28 | 2014-03-26 | 日东电工株式会社 | 偏光板的制造方法 |
JP2014054730A (ja) * | 2012-09-11 | 2014-03-27 | Nitto Denko Corp | 延伸フィルムの製造方法 |
CN103176229A (zh) * | 2013-04-12 | 2013-06-26 | 宁波长阳科技有限公司 | 一种复合光学反射膜及其制备方法 |
Also Published As
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