CN108067447A - 擦拭机构及基板清洗装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种擦拭机构，用于擦拭传输中的基板，包括分别可往复移动地擦拭基板的上下两侧的上擦拭件和下擦拭件，所述上擦拭件和所述下擦拭件的移动方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且所述上擦拭件与所述下擦拭件的移动方向始终相反。本发明还公开了一种基板清洗装置。本发明通过将上擦拭件和下擦拭件分别设置在基板的上下两侧进行往复移动擦拭，使得上擦拭件和下擦拭件的擦拭方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且上擦拭件与下擦拭件的移动方向相反，不会使基板因为擦拭而发生偏移，可以保证基板表面异物的清洗效果，同时又不会在基板表面产生划痕，也不会损坏清洗装置或影响基板传输。

Description

擦拭机构及基板清洗装置

技术领域

本发明涉及显示面板技术领域，尤其涉及一种擦拭机构及基板清洗装置。

背景技术

液晶显示行业WET(即湿法)设备都会用到Brush(毛刷)结构，用于基板正、背面的清洗。最常见的是roller brush(滚轮式毛刷)，其原理是利用毛刷的转动，使绒毛尖端与基板表面接触，从而扰动、刷洗掉基板表面异物。

传统roller brush结构普遍主要包括：毛刷、驱动部分、毛刷与基板之间间隙的间隙控制部分，通过将毛刷可转动地布置在基板上方，利用驱动部分驱动毛刷转动，同时通过间隙控制部分控制毛刷与基板之间的间隙，以保证毛刷与基板之间的阻尼力，此种间隙控制方式的力度难以把握，导致设备的结构较复杂。而且，随着显示行业不断发展，对基板制程工艺越来越高，使得现行rollerbrush在使用中也存在不少问题。例如，滚动式的毛刷需要与转动辊做在一起，结构笨重，仅仅与基板在相切的部位线性接触，接触面小，较难产生良好的清洗效果，并且，为保证毛刷与基板之间的阻尼力，通常需要使毛刷对基板的压力足够大，导致基板表面易产生刮痕，压力过大也会影响基板的搬运速度甚至造成无法搬运，或导致驱动部分超负荷运转而损坏设备。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种擦拭机构及基板清洗装置，可以保证基板表面异物的清洗效果，同时又不会在基板表面产生划痕，也不会损坏清洗装置或影响基板传输。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种擦拭机构，用于擦拭传输中的基板，包括分别可往复移动地擦拭基板的上下两侧的上擦拭件和下擦拭件，所述上擦拭件和所述下擦拭件的移动方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且所述上擦拭件与所述下擦拭件的移动方向始终相反。

作为其中一种实施方式，所述上擦拭件与所述下擦拭件均包括远离基板的背板和固定在所述背板内表面、用于接触背板的擦拭部。

作为其中一种实施方式，所述擦拭部为刷毛。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括分别设于基板的传输方向两侧的左支架、右支架，所述上擦拭件的所述背板两端均连接有第一连接轴，所述下擦拭件的所述背板两端均连接有第二连接轴，所述上擦拭件两端的所述第一连接轴、所述下擦拭件两端的所述第二连接轴均分别插设在所述左支架和所述右支架内并由所述左支架和所述右支架支撑。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括每个所述第一连接轴、每个所述第二连接轴表面分别套设的一个轴套，所述轴套嵌设并固定在相应的所述左支架或所述右支架内。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括固定在所述右支架一侧的固定座和中部可转动地连接在所述固定座上的联动杆，所述联动杆的两端分别与临近的所述第一连接轴和所述第二连接轴铰接。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括连接在其中一个所述第一连接轴端部的滑动座、嵌设于所述滑动座内的凸轮转子和驱动所述凸轮转子转动的马达，所述滑动座上开设有深度方向垂直于所述第一连接轴的凹槽，所述马达驱动所述凸轮转子在所述凹槽内转动而驱动所述滑动座沿所述第一连接轴的轴向往复移动。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括连杆和联轴件，所述连杆一端连接所述滑动座，另一端通过所述联轴件与所述第一连接轴连接。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括辅助支架，所述连杆穿设在所述辅助支架内并由所述辅助支架支撑。

本发明的另一目的在于提供一种基板清洗装置，包括基板传送机构、喷淋机构以及所述的擦拭机构，所述基板传送机构用于承载并传输基板，所述喷淋机构设于所述基板传送机构上方，用于在基板经过擦拭机构前朝基板喷洒清洗液。

本发明通过将上擦拭件和下擦拭件分别设置在基板的上下两侧进行往复移动擦拭，使得上擦拭件和下擦拭件的擦拭方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且上擦拭件与下擦拭件的移动方向相反，不会使基板因为擦拭而发生偏移，可以保证基板表面异物的清洗效果，同时又不会在基板表面产生划痕，也不会损坏清洗装置或影响基板传输。

附图说明

图1为本发明实施例的基板清洗装置的结构示意图；

图2为本发明实施例的擦拭机构在竖直方向上的一个剖视图；

图3为图2的局部结构示意图；

图4为本发明实施例的擦拭机构在水平方向上的一个剖视图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

参阅图1，本发明的基板清洗装置包括基板传送机构1、喷淋机构2以及擦拭机构3，基板传送机构1用于承载并传输基板P，喷淋机构2设于基板传送机构1上方，用于在基板P经过擦拭机构前朝基板P喷洒清洗液，清洗液如纯水，或化学的清洗液。即，喷淋机构2在基板传输方向上设于擦拭机构的上游，在基板传输过程中，先通过喷淋机构2喷洒清洗液，再擦拭。基板传送机构包括若干间隔设置的传送辊，所有的传送辊规格一致，轴心和基板接触面位于同一水平面上，喷淋机构2和擦拭机构3均可以有多个，最好是自基板传输方向的上游朝下游依次这样交替设置：喷淋机构2-擦拭机构3-喷淋机构2-擦拭机构3-喷淋机构2……，可以实现更好的擦拭效果。

本实施例的擦拭机构3主要用于擦拭传输过程中的基板P，结合图2所示，擦拭机构3主要包括分别可往复移动地擦拭基板P的上下两侧的上擦拭件11和下擦拭件12，上擦拭件11和下擦拭件12的移动方向平行于基板P所在的承载面，并垂直于基板P的传输方向，且上擦拭件11与下擦拭件12的移动方向始终相反。上擦拭件11和下擦拭件12均为长条形构造，当其接触基板P并对基板P进行擦拭时，上擦拭件11和下擦拭件都横跨在基板P表面，使得一个上擦拭件11即可完全覆盖基板P的宽度方向。

通过这样的设置，基板P沿水平方向上传输，而上擦拭件11与下擦拭件12分别沿相反的方向擦拭基板P，使得二者与基板P之间的水平擦拭力互相抵消，基板P不会再擦拭方向上发生偏移，可以避免传统擦拭方式中，沿基板传输方向或逆向基板传输方向擦拭基板导致的擦拭压力无法精确把握而影响基板传输。

如图2所示，上擦拭件11与下擦拭件12结构基本一致，均包括远离基板P的背板a和固定在背板a内表面、用于接触背板a的擦拭部b，擦拭部b可以是刷毛。擦拭机构3还具有分别设于基板P的传输方向两侧的左支架13、右支架14以及嵌设于左支架13与右支架14内的多个轴套15，上擦拭件11的背板a两端均连接有第一连接轴110，下擦拭件12的背板a两端均连接有第二连接轴120，上擦拭件11两端的第一连接轴110、下擦拭件12两端的第二连接轴120均分别插设在左支架13和右支架14内并由左支架13和右支架14支撑。具体地，每个第一连接轴110、每个第二连接轴120表面分别套设的一个轴套15，轴套15嵌设并固定在相应的左支架13或右支架14内，第一连接轴110、第二连接轴120分别与相应的轴套15间隙配合。上擦拭件11与下擦拭件12来回进行擦拭时，第一连接轴110、第二连接轴120分别在对应的轴套15内往复滑动。

结合图2～图4所示，为了保证上擦拭件11与下擦拭件12运动的协调性，擦拭机构3还具有固定在右支架14一侧的固定座16和中部可转动地连接在固定座16上的联动杆17，联动杆17的两端分别与临近的第一连接轴110和第二连接轴120铰接。由于固定座16固定在右支架14上，当上擦拭件11与下擦拭件12的其中一个进行擦拭时，联动杆17即带动另外一个擦拭件朝相反的方向平移进行擦拭，可以保证上擦拭件11与下擦拭件12的运动方向始终相反，而且二者始终保持步调的一致性，反应灵敏。

为实现擦拭机构3的驱动，本实施例还在上擦拭件11的其中一个第一连接轴110端部连接有滑动座18，滑动座18内嵌设有凸轮转子19，凸轮转子19的凸轮轴连接有驱动其转动的马达M，滑动座18上开设有深度方向垂直于第一连接轴110的凹槽180，马达M驱动凸轮转子19在凹槽180内转动而驱动滑动座18沿第一连接轴110的轴向往复移动。本实施例中，滑动座18与固定座16、联动杆17位于同一侧。

该凸轮转子19表面为用于与凹槽180配合的凸轮面，马达M连接凸轮转子19的偏心轴191并驱动凸轮转子19在凹槽180内转动。如图3，当凸轮转子19的长轴端运动到朝向远离基板传送机构1的方向时，滑动座18被朝外推(如图3中向右的方向)，从而通过连杆20带动上擦拭件11右移，与此同时，联动杆17通过下方的第二连接轴120带动下擦拭件12左移；当凸轮转子19的短轴端运动到朝向远离基板传送机构1的方向时，滑动座18被朝内推(如图3中向左的方向)，从而通过连杆20带动上擦拭件11左移，与此同时，联动杆17通过下方的第二连接轴120带动下擦拭件12右移。由于基板P在垂直于擦拭方向进行传输，当马达M持续工作时，以上步骤保持循环，从而对经过的基板P连续地进行擦拭。

作为其中一种实施方式，擦拭机构3还包括连杆20、联轴件21和辅助支架22，连杆20一端连接滑动座18，另一端通过联轴件21与第一连接轴110连接，连杆20穿设在辅助支架22内并由辅助支架22支撑，辅助支架22内也固定有轴套15，该轴套15与连杆20间隙配合。此种设计方式使得擦拭机构3的驱动机构和擦拭部分可以分开设计后组装在一起，当其中一个部位磨损或损坏后，可以方便维修更换，同时也降低了维护成本。

本发明通过将上擦拭件和下擦拭件分别设置在基板的上下两侧进行往复移动擦拭，使得上擦拭件和下擦拭件的擦拭方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且上擦拭件与下擦拭件的移动方向相反，不会使基板因为擦拭而发生偏移，可以保证基板表面异物的清洗效果，同时又不会在基板表面产生划痕，也不会损坏清洗装置或影响基板传输。

以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种擦拭机构，用于擦拭传输中的基板(P)，其特征在于，包括分别可往复移动地擦拭基板(P)的上下两侧的上擦拭件(11)和下擦拭件(12)，所述上擦拭件(11)和所述下擦拭件(12)的移动方向平行于基板(P)所在的承载面，并垂直于基板(P)的传输方向，且所述上擦拭件(11)与所述下擦拭件(12)的移动方向始终相反。

2.根据权利要求1所述的擦拭机构，其特征在于，所述上擦拭件(11)与所述下擦拭件(12)均包括远离基板(P)的背板(a)和固定在所述背板(a)内表面、用于接触背板(a)的擦拭部(b)。

3.根据权利要求2所述的擦拭机构，其特征在于，所述擦拭部(b)为刷毛。

4.根据权利要求2所述的擦拭机构，其特征在于，还包括分别设于基板(P)的传输方向两侧的左支架(13)、右支架(14)，所述上擦拭件(11)的所述背板(a)两端均连接有第一连接轴(110)，所述下擦拭件(12)的所述背板(a)两端均连接有第二连接轴(120)，所述上擦拭件(11)两端的所述第一连接轴(110)、所述下擦拭件(12)两端的所述第二连接轴(120)均分别插设在所述左支架(13)和所述右支架(14)内并由所述左支架(13)和所述右支架(14)支撑。

5.根据权利要求4所述的擦拭机构，其特征在于，还包括每个所述第一连接轴(110)、每个所述第二连接轴(120)表面分别套设的一个轴套(15)，所述轴套(15)嵌设并固定在相应的所述左支架(13)或所述右支架(14)内。

6.根据权利要求4或5所述的擦拭机构，其特征在于，还包括固定在所述右支架(14)一侧的固定座(16)和中部可转动地连接在所述固定座(16)上的联动杆(17)，所述联动杆(17)的两端分别与临近的所述第一连接轴(110)和所述第二连接轴(120)铰接。

7.根据权利要求6所述的擦拭机构，其特征在于，还包括连接在其中一个所述第一连接轴(110)端部的滑动座(18)、嵌设于所述滑动座(18)内的凸轮转子(19)和驱动所述凸轮转子(19)转动的马达(M)，所述滑动座(18)上开设有深度方向垂直于所述第一连接轴(110)的凹槽(180)，所述马达(M)驱动所述凸轮转子(19)在所述凹槽(180)内转动而驱动所述滑动座(18)沿所述第一连接轴(110)的轴向往复移动。

8.根据权利要求7所述的擦拭机构，其特征在于，还包括连杆(20)和联轴件(21)，所述连杆(20)一端连接所述滑动座(18)，另一端通过所述联轴件(21)与所述第一连接轴(110)连接。

9.根据权利要求8所述的擦拭机构，其特征在于，还包括辅助支架(22)，所述连杆(20)穿设在所述辅助支架(22)内并由所述辅助支架(22)支撑。

10.一种基板清洗装置，其特征在于，包括基板传送机构(1)、喷淋机构(2)以及权利要求1-9任一所述的擦拭机构，所述基板传送机构(1)用于承载并传输基板(P)，所述喷淋机构(2)设于所述基板传送机构(1)上方，用于在基板(P)经过擦拭机构前朝基板(P)喷洒清洗液。