CN107658259B - 一种柔性基板的吸附装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种面板制程装置，尤其是涉及一种柔性基板的吸附装置。该吸附装置，包括吸附支架，吸附支架下方设有吸附面朝下的吸附平台，吸附平台上设有若干通孔，若干通孔内均设有用于吸附柔性基板上端面的吸嘴，吸附平台上方设有调节装置。通过在吸附支架下方设有吸附面朝下的吸附平台，吸嘴从柔性基板的上表面吸附，柔性基板无需翻面，蒸镀制程后直接点灯测试，可以极大缩短测试时间；通孔均匀分布在吸附平台中部，吸嘴设置在通孔内，避免因柔性基板中间垂落导致吸附时间过长；通过第一柱体和第二柱体的相对运动，及第一气柱和第二气柱内气压的变化，控制吸嘴吸附或松开柔性基板，以及吸嘴在通孔内的伸缩运动，可以实现单个吸嘴的独立运动。
Description
技术领域
本发明涉及一种面板制程装置，尤其是涉及一种柔性基板的吸附装置。
背景技术
近年来，中小尺寸显示市场发生了巨大变化，AMOLED出货量快速提升，发展势头迅猛，尤其是柔性显示技术为厂商提供了更多创新空间柔性，AMOLED因具有不需背光源、对比度高、轻薄、视角广、反应速度快、等优异之特性，逐渐被认为是下一代最具前途的信息显示产品之一。业界更有显示的未来看OLED，OLED的未来看柔性显示。虽然柔性AMOLED的发展非常迅猛，但其生产中仍存在一些较难克服的技术问题。
现行柔性AMOLED在蒸镀制程后，制程面会朝下,若要在蒸镀后直接点灯测试需再翻转玻璃,过程中会有污染产生造成蒸镀缺陷,若在蒸镀后直接点灯测试可以缩短测试时间,但因制程面朝下不能从下方取放片,从上方取放片又有玻璃因重力弯曲而取/吸片不顺问题。现行吸附片方式是以分区吸附或是直接吸附,因玻璃中间垂落吸附时间会拉长，且吸嘴吸附上升或下降过程大部分靠马达驱动,若吸嘴一多就需要多颗马达或是用单颗马达带动整组吸嘴装置,用多颗马达成本高,用单颗又只能所有吸嘴同时上升或下降,难以控制个别吸附异常状况。
发明内容
为解决以上问题，本发明提供一种柔性基板的吸附装置，该吸附装置能够直接吸附柔性基板上表面，且能够单独控制吸嘴的上升或下降。
本发明采用的技术方案是：一种柔性基板的吸附装置，包括吸附支架，其特征在于：所述吸附支架下方设有吸附面朝下的吸附平台，所述吸附平台上设有若干通孔，若干所述通孔内均设有用于吸附柔性基板表面的吸嘴，所述吸附平台上设有若干与吸嘴一一对应的调节装置，所述调节装置与吸嘴弹性连接，所述调节装置用于控制吸嘴吸附或松开柔性基板，以及吸嘴在通孔内的伸缩运动。
作为优选，所述调节装置包括第二柱体和设置在第二柱体内的第二气柱，以及连通所述第二气柱和气泵的导气管，所述第二气柱下端通过弹性部件与吸嘴连通。
进一步的，所述第二气柱下端通过波纹管与吸嘴连通。
进一步的，所述柔性基板的吸附装置具有第一状态和第二状态，且所述柔性基板的吸附装置处于第一状态时，所述第二气柱下端与吸嘴下端的距离为D1，所述柔性基板的吸附装置处于第二状态时，所述第二气柱下端与吸嘴下端的距离为D2，其中D1大于D2。
进一步的，所述调节装置还包括第一柱体及设置在第一柱体内的第一气柱，所述第二柱体套设在第一气柱内，且与第一气柱间隙配合，所述第一气柱与第二气柱通过导气管连通。
更进一步的，所述柔性基板的吸附装置具有第三状态和第四状态，所述柔性基板的吸附装置处于第三状态时，所述第一气柱的高度为H1，所述柔性基板的吸附装置处于第四状态时，所述第一气柱的高度为H2，其中H1大于H2。
更进一步的，所述柔性基板的吸附装置自第三状态向第四状态转变时，所述导气管内气流方向为第一方向，所述柔性基板的吸附装置自第四状态向第三状态转变时，所述导气管内气流方向为第二方向，所述第一方向与第二方向的气流流向相反。
作为优选，若干所述通孔均匀分布在吸附平台中部，且若干所述通孔的分布呈中心对称图形。
进一步的，所述中心对称图形为圆形、菱形或正多边形。
作为优选，所述吸附平台上设有若干气孔。
本发明取得的有益效果是：通过在吸附支架下方设有吸附面朝下的吸附平台，吸嘴从柔性基板的上表面吸附，柔性基板无需翻面，蒸镀制程后直接点灯测试，可以极大缩短测试时间；通孔均匀分布在吸附平台中部，吸嘴设置在通孔内，避免因柔性基板中间垂落导致吸附时间过长；调节装置与吸嘴进气口弹性连接，通过第一柱体和第二柱体的相对运动，及第一气柱和第二气柱内气压的变化，控制吸嘴吸附或松开柔性基板，以及吸嘴在通孔内的伸缩运动，可以实现单个吸嘴的独立运动，且结构简单，制作成本低。
附图说明
图1为本发明一实施例的结构示意图；
图2A为本发明的调节装置一实施例的结构示意图；
图2B为为本发明的调节装置另一实施例的结构示意图；
图3A至图3E为本发明一实施例的调节装置的状态变化示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作更进一步的说明。
如图1所示，本发明一实施例的柔性基板的吸附装置，包括吸附支架1，吸附支架1下方设有吸附平台2，吸附平台2的吸附面朝下设置，吸附平台2上设有若干通孔3，若干通孔3内均设有吸嘴4，吸嘴4正对柔性基板5的表面，用于吸附住柔性基板5，吸附平台2上方设有与吸嘴4一一对应的调节装置，调节装置与吸嘴4弹性连接，调节装置用于控制吸嘴4吸附或松开柔性基板5，以及吸嘴4在通孔3内的伸缩运动，通过调节装置与吸嘴4的弹性连接，使得吸嘴4可以突出于吸附平台2表面或者缩回至吸附平台2表面，从而避免柔性基板吸附过程中的中部下垂现象，保证柔性基板运送及检测过程中的平整度。
如图2A至图2B所示，为本发明不同实施例的调节装置的结构示意图。于一实施例中，调节装置包括第二柱体63、设置在第二柱体63内的第二气柱64以及通过第二柱体63与第二气柱64连通的导气管66，第二气柱64下端通过弹性部件与吸嘴4连通，如图2A所示。导气管66与外部气泵连通，供气体进入或流出第二气柱64，造成第二气柱64内气体的增多或减少，从而实现弹性部件的伸缩，进而实现吸嘴4对柔性基板5的吸附或松开，以及伸缩控制。
于一具体实施例中，第二气柱64下端通过波纹管与吸嘴4连通，但不以此为限，弹性部件65还可以是弹簧等其他弹性结构。
进一步地，请参考图2B，于另一实施例中，调节装置还包括第一柱体61及设置在第一柱体61内的第一气柱62，第二柱体63套设在第一气柱62内，且与第一气柱62间隙配合，第一气柱62与第二气柱64通过导气管66连通。。
具体地，第一柱体61和第二柱体63上端均封闭，下端均开口，从下端开口处向上等径掏空，即分别形成第一气柱62和第二气柱64，第一气柱62与第二柱体63间隙配合，第一气柱62与第二气柱64通过导气管66连通，第二气柱64下端通过弹性波纹管65与吸嘴4进气口连通。
因从柔性基板5的上表面吸附，柔性基板5中部重心处易下垂，为保证吸嘴4能够快速吸附住柔性基板5，缩短吸附时间，于一实施例中，若干通孔3均匀分布在吸附平台2中部，若干通孔3的分布呈中心对称图形。
于一具体实施例中，上述中心对称图形为圆形、菱形或正多边形等。通过通孔3均匀分布在吸附平台中部，可避免因柔性基板5中间垂落导致吸附时间过长。
在吸附平台2上设有若干气孔7，保证吸嘴4吸附完成后，柔性基板5上表面与吸附平台2吸附面完全贴合。
图3A至图3E为本发明一实施例的调节装置的状态变化示意图，蒸镀制程后，吸附装置移动到柔性基板5的正上方，吸嘴4与柔性基板5的上表面贴合，开始自调节装置的导气管66抽出气体，如图3A所示，此时柔性基板的吸附装置处于第一状态，第二气柱64下端与吸嘴4下端的距离为D1；当吸嘴4完全与柔性基板5的上表面贴合后,继续抽取气体，第二气柱64内负压变大，吸嘴4与柔性基板5吸得愈紧密,此时弹性部件(弹性波纹管)65压缩变形，此时柔性基板的吸附装置处于第二状态，第二气柱64下端与吸嘴4下端的距离为D2，其中D1大于D2，如图3C所示。
于一实施例中，第二气柱64内负压继续增大，随着第一气柱62内的气体被逐渐抽走，此时第二柱体64在第一气柱62内逐渐向上运动，第一气柱62的高度由第三状态的H1(图3A)逐渐变为第四状态的H2(图3C)，且H1大于H2，将柔性基板5逐渐向上提起，到达指定高度后，进行后续点灯测试。为保证所有吸嘴4都能达到所需要的高度，且受力均衡，可以对每个控制吸嘴4运动的调节装置进行单独的控制，实现每个吸嘴4提起的高度可控。
如图3A-图3C所示，柔性基板的吸附装置自第一状态向第二状态转变时，导气管66内气流方向为图中箭头方向所示的第一方向。
对应地，当柔性基板的吸附装置欲与柔性基板5脱离时，将导气管66内的气体流向进行切换，如图3D所示，即改为气体的充入，第二气柱64下端与吸嘴4下端的距离又逐渐从第二状态下的D2变为第一状态时的D1，第一气柱62的高度也逐渐由第四状态的H2变为第三状态下的H1，并最终随着第一气柱62和第二气柱64内压力的增大，吸嘴4与柔性基板5脱离。
如图3D-3E所示，当柔性基板的吸附装置由第二状态向第一状态变化时，导气管66中的气流方向为第二方向，如图中箭头所示，第二方向与第二方向的气流流向相反。
综上所述，通过调节装置与吸嘴4进气口弹性连接，通过第一柱体61和第二柱体63的相对运动，及第一气柱62和第二气柱64内气压的变化，控制吸嘴4吸附或松开柔性基板5，以及吸嘴4在通孔3内的伸缩运动，可以实现单个吸嘴5的独立运动，且结构简单，制作成本低。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
Claims (7)
1.一种柔性基板的吸附装置，包括吸附支架（1），其特征在于：所述吸附支架（1）下方设有吸附面朝下的吸附平台（2），所述吸附平台（2）上设有若干通孔（3），若干所述通孔（3）内均设有用于吸附柔性基板（5）表面的吸嘴（4），所述吸附平台（2）上设有若干与吸嘴（4）一一对应的调节装置，所述调节装置与吸嘴（4）弹性连接，所述调节装置用于控制吸嘴（4）吸附或松开柔性基板（5），以及吸嘴（4）在通孔（3）内的伸缩运动；
所述调节装置包括第二柱体（63）和设置在第二柱体（63）内的第二气柱（64），以及连通所述第二气柱（64）和气泵的导气管（66），所述第二气柱（64）下端通过弹性部件（65）与吸嘴（4）连通；所述第二气柱（64）下端通过波纹管与吸嘴（4）连通；所述调节装置还包括第一柱体（61）及设置在第一柱体（61）内的第一气柱（62），所述第二柱体（63）套设在第一气柱（62）内，且与第一气柱（62）间隙配合，所述第一气柱（62）与第二气柱（64）通过导气管（66）连通。
2.根据权利要求1所述的柔性基板的吸附装置，其特征在于：所述柔性基板的吸附装置具有第一状态和第二状态，且所述柔性基板的吸附装置处于第一状态时，所述第二气柱（64）下端与吸嘴（4）下端的距离为D1，所述柔性基板的吸附装置处于第二状态时，所述第二气柱（64）下端与吸嘴（4）下端的距离为D2，其中D1大于D2。
3.根据权利要求1所述的柔性基板的吸附装置，其特征在于：所述柔性基板的吸附装置具有第三状态和第四状态，所述柔性基板的吸附装置处于第三状态时，所述第一气柱（62）的高度为H1，所述柔性基板的吸附装置处于第四状态时，所述第一气柱（62）的高度为H2，其中H1大于H2。
4.根据权利要求3所述的柔性基板的吸附装置，其特征在于：所述柔性基板的吸附装置自第三状态向第四状态转变时，所述导气管（66）内气流方向为第一方向，所述柔性基板的吸附装置自第四状态向第三状态转变时，所述导气管（66）内气流方向为第二方向，所述第一方向与第二方向的气流流向相反。
5.根据权利要求1所述的柔性基板的吸附装置，其特征在于：若干所述通孔（3）均匀分布在吸附平台（2）中部，且若干所述通孔（3）的分布呈中心对称图形。
6.根据权利要求5所述的柔性基板的吸附装置，其特征在于：所述中心对称图形为圆形、菱形或正多边形。
7.根据权利要求1-6任一项所述的柔性基板的吸附装置，其特征在于：所述吸附平台（2）上设有若干气孔（7）。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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