CN107623022B - 像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置。该像素界定层包括多个像素开口，并且所述像素开口包括长边部分和短边部分，所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。该像素界定层中具有较大坡度角的长边部分会对墨水的扩散产生较大的阻力，从而墨水更趋向于沿长边方向扩散，使得墨水在像素开口中的分布更加均匀。

Description

像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置

技术领域

本公开的实施例涉及一种像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，因此成为一种重要的显示技术。

目前，有机发光显示装置的有机发光层可以采用喷墨打印的方式形成，而利用喷墨打印法形成有机发光层需要预先在衬底基板上制作像素界定层，以限定墨滴精确的喷入指定的像素区域内。通常，上述像素界定层具有多个开口，在喷墨打印的过程中，喷墨打印的墨水在该开口中的扩散可能不均匀，这将使得在开口的不同位置形成的有机发光层的形态不均匀，由此导致显示装置在发光时其像素区域的亮度不均匀，严重影响有机发光显示装置的显示效果。

发明内容

本公开至少一实施例提供一种像素界定层，该像素界定层包括多个像素开口；其中，所述像素开口包括长边部分和短边部分，并且所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中，所述像素界定层采用具有疏液性质的材料制备。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中，所述材料为负性光刻胶。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中，所述像素界定层包括远离衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近衬底基板一侧的第二像素界定层；所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中，所述像素开口呈矩形、平行四边形或梯形。

本公开至少一实施例提供一种显示基板，该显示基板具有多个像素结构，并包括上述任一所述的像素界定层；其中，每个所述像素开口中有所述像素结构。

本公开至少一实施例提供一种显示装置，包括上述显示基板。

本公开至少一实施例提供一种像素界定层的制备方法，包括：在衬底基板上涂覆像素界定层材料；形成所述像素界定层的长边部分；形成所述像素界定层的短边部分；其中，所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，所述像素界定层材料为具有疏液性质的负性光刻胶，并通过曝光工艺和显影工艺形成所述长边部分和所述短边部分。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，通过两次曝光工艺分别对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，沿所述长边部分的曝光量小于沿所述短边部分的曝光量。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，利用灰色调掩模或半色调掩模通过一次曝光工艺同时对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。

例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，所述像素界定层包括：形成于远离所述衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近所述衬底基板一侧的第二像素界定层；其中，所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。

本公开至少一实施例提供一种显示基板的制备方法，包括：形成上述任一所述的像素界定层，以及在所述像素界定层的开口内喷墨打印有机材料以形成有机功能层。

例如，本公开至少一实施例提供的一种显示基板的制备方法中，所述有机功能层为发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1为本公开一实施例提供的像素界定层的平面示意图一；

图2为本公开一实施例提供的像素界定层的剖视图一；

图3为本公开一实施例提供的像素界定层的剖视图二；

图4为本公开一实施例提供的像素界定层的剖视图三；

图5A-5D为本公开一实施例提供的像素界定层中开口形状的示意图；

图6为本公开一实施例提供的显示基板的示意图；

图7为本公开一实施例提供的像素界定层的制备流程图；

图8A-8C为本公开一实施例提供的像素界定层在制备过程中的示意图；

图9为本公开一实施例提供的一种掩膜板的示意图；

图10A-10B为本公开一实施例提供的显示基板在制备过程中的示意图。

附图标记：

10-衬底基板；101-像素开口；1011-长边部分；1012-短边部分；102-像素界定层；1021-第一像素界定层；1022-第二像素界定层；103-有机功能层。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

利用喷墨打印法形成有机发光显示装置的有机发光层需要预先在衬底基板上制作像素界定层，以限定墨滴精确的喷入指定的像素区域内。通常，像素界定层具有多个开口，并且该开口往往形成一定的形状，在喷墨打印的过程中，当喷墨打印的墨水滴在具有一定形状的开口中时，墨水会从开口中部向四周扩散，由于像素界定层的开口往往具有不规则的形状，因此墨水沿不同方向的扩散会受到不同的影响。例如，当像素界定层的开口呈矩形时，墨水从开口中部到达开口各个边界的路程不同，因此墨水沿不同方向的扩散往往会不均匀。

本公开至少一实施例提供一种像素界定层，该像素界定层包括多个像素开口。每个像素开口包括长边部分和短边部分，并且长边部分的坡度角大于短边部分的坡度角。

本公开至少一实施例提供的一种显示基板，该显示基板具有多个像素结构，并包括上述像素界定层。显示基板的每个像素开口中有像素结构。

本公开至少一实施例提供一种显示装置，包括上述显示基板。

本公开至少一实施例提供一种像素界定层的制备方法，包括：在衬底基板上涂覆像素界定层材料；形成像素界定层的长边部分；形成像素界定层的短边部分。长边部分的坡度角大于短边部分的坡度角。

本公开至少一实施例提供一种显示基板的制备方法，包括：形成上述像素界定层，以及在所述像素界定层的开口内喷墨打印有机材料以形成有机功能层。

下面通过几个具体的实施例对本公开的像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置进行说明。

实施例一

本实施例提供一种像素界定层，该像素界定层例如可用于有机发光二极管(OLED)显示面板，图1为本实施例提供的像素界定层的平面示意图，图2和图3分别为图1中像素界定层沿线A-A和线B-B方向的剖视图。

如图1-图3所示，像素界定层102包括多个像素开口101；每个像素开口101包括长边部分1011和短边部分1012，并且长边部分1011的坡度角大于短边部分1012的坡度角。

例如，图2示出的像素界定层102沿线A-A方向的剖视图中显示出了像素开口101中长边部分1011的坡度角θ1；图3示出的像素界定层102沿线B-B方向的剖视图中显示出了像素开口101中短边部分1012的坡度角θ2。坡度角θ1大于坡度角θ2。

例如，θ1的角度可以为45°-70°，例如为50°、60°或70°等；θ2的角度可以为30°-50°，例如当θ1为50°时，θ2可以为30°；当θ1为60°时，θ2可以为40°；当θ1为70°时，θ2可以为50°等。

本实施例中，坡度角θ1和θ2的角度例如可以根据长边部分1011和短边部分1012的具体长度大小及二者的长度差异而决定，例如，当长边部分1011和短边部分1012的长度差异较大时，长边部分1011和短边部分1012的坡度角差异也可以较大。此外，坡度角θ1和θ2的角度例如还可以根据像素界定层的材料以及在该像素界定层中喷墨打印的墨水的性质(例如表面张力)等实际情况决定，本实施例对坡度角θ1和θ2的具体角度数值不做限定。

本实施例中，像素界定层102例如可以采用具有疏液性质的材料制备。例如，像素界定层102所采用的具有疏液性质的材料为材料表面难以被之后将要在其中喷墨打印的墨水湿润的材料。该具有疏液性质的材料由于难以被墨水润湿，因此在用于制备像素界定层102时可以增大墨水在像素开口101的侧壁(例如长边部分和短边部分)上的攀爬阻力，从而减缓墨水在像素开口101的侧壁上的攀爬速度，并防止墨水流入相邻的像素开口101中。

本实施例中，具有疏液性质的材料例如可以为具有疏液性质的光刻胶，该光刻胶例如可以为负性光刻胶，例如为聚酰亚胺(PI)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或有机硅等具有疏液性质的光刻胶。当然该光刻胶也可以为正性光刻胶，本实施例对光刻胶的具体种类不做限定。像素界定层选用具有疏液性质的光刻胶制备可以简化其制备工艺，例如采用曝光工艺及显影工艺即可形成图案化的像素界定层，而无需再进行刻蚀等其他工艺步骤。

本实施例的另一个示例中，如图4所示，像素界定层例如可以包括远离衬底基板一侧的第一像素界定层1021和靠近衬底基板一侧的第二像素界定层1022；并且第一像素界定层1021例如可以采用具有疏液性质的材料制备，第二像素界定层1022例如可以采用具有亲液性质的材料制备。本实施例中，具有亲液性质的材料例如为材料表面易于被之后将要喷墨打印的墨水湿润的材料。该具有亲液性质的材料由于易于被墨水润湿，可以对墨水产生吸引作用，因此在其中喷墨打印墨水时，该吸引作用可使墨水在成膜时更靠近衬底基板所在的方向，从而抑制墨水在像素界定层的侧面上攀爬，进而减小墨水由于攀爬而导致的在像素开口内的成膜不均匀性。因此具有亲液性质的材料用于像素界定层的底部时，可以使墨水易于在像素开口101的底部铺展开，使墨水在像素开口101内的分布更加均匀；而位于上层的第一像素界定层1021采用具有疏液性质的材料制备可以增大墨水在像素开口101的侧壁上部的攀爬阻力，从而减缓墨水在像素开口101的侧壁上部的攀爬速度，并防止墨水流入相邻的像素开口101中。

本实施例中，像素开口101例如可以基本呈矩形或者其他合适的形状，例如为在不同方向上具有不同长度的边的形状，例如可以为矩形的变形形状等。例如，像素开口101可以为如图5A所示的平行四边形，该平行四边形的相对较长的两个平行边相当于像素开口101的长边部分1011，相对较短的两个平行边相当于像素开口101的短边部分1012。像素开口101例如可以为如图5B所示的梯形，例如该梯形的相对较长的并相互平行的两个底边相当于像素开口101的长边部分1011，两个侧边相当于像素开口101的短边部分1012。像素开口101例如可以为如图5C所示的六边形，例如该六边形的相对较长的两个平行边相当于像素开口101的长边部分1011，相对较短的四个短边相当于像素开口101的短边部分1012。像素开口101例如还可以为如图5D所示的跑道形，例如该跑道型的两个相互平行的直线部分相当于像素开口101的长边部分1011，两个圆弧部分相当于像素开口101的短边部分1012。本实施例对像素开口101的形状不做限定，只要该像素开口在不同方向上具有不同长度的边界即可。

本实施例中，第一方面，由于像素开口在不同方向上具有不同长度的边界，因此在其中喷墨打印墨水后，在像素开口的各个方向上单位时间内到达像素边界的墨水量不同，例如当像素开口呈矩形时，墨水沿长边方向扩散的距离较长，因此墨水沿长边扩散至短边需要的时间长，即单位时间内到达短边的墨水量较少。第二方面，本实施例提供的像素界定层的像素开口中长边部分具有较大的坡度角，从而在该开口中喷墨打印的墨水难以在长边部分上攀爬，因此具有较大坡度角的长边部分会对滴入该像素开口中的墨水的扩散产生较大的阻力，从而使墨水更趋向于沿长边方向扩散；同时，像素开口的短边部分具有较小的坡度角，使得墨水在该短边部分上更易于攀爬，因此短边部分对墨水扩散形成的阻力较小，从而又促使墨水易于沿长边方向扩散以到达短边部分的边界处。即本方案提供的像素界定层可以加快墨水沿长边扩散的速度。结合第一方面，因此，本实施例提供的像素界定层可以使单位时间内到达各边界的墨水量相同，从而使得墨水在像素开口中的分布更加均匀，进而使得墨水在干燥后的形态(例如厚度及表面形貌等)更加均匀。

实施例二

本实施例提供一种显示基板，如图6所示，该显示基板具有多个像素，该显示基板还包括上述像素界定层102；显示基板的每个像素分别对应于像素界定层的各个像素开口101。

本实施例中，显示基板例如可以为有机发光显示基板，该显示基板的有机功能层103例如可以通过在像素界定层102的各个像素开口101内喷墨打印有机材料而形成。像素界定层102可以使得喷墨打印形成的有机功能层103的形态更加均匀，例如使得有机功能层103的厚度更加均匀，并且使有机功能层103在像素开口不同边界处可能产生的不均匀范围(例如不均匀形态、不均匀宽度等)基本相同，进而使得显示基板在工作时的发光亮度等更加均匀，从而提高显示基板的显示均匀性。

本实施例中，有机功能层103例如可以为有机发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层等，本实施例对此不做限定。

本实施例中，显示基板当然还可以包括像素驱动电路、阳极层、阴极层、平坦化绝缘层等其他功能结构，本实施例不再赘述。

本实施例还提供一种显示装置，包括上述显示基板。该显示装置例如可以为液晶面板、电子纸、OLED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，本实施例对此不做限定。

实施例三

本实施例提供一种像素界定层的制备方法，如图7所示，该方法包括步骤S101-步骤S102。

步骤S101：在衬底基板上涂覆像素界定层材料。

本实施例中，如图8A所示，首先在衬底基板10上涂覆像素界定层材料。像素界定层材料例如可以为具有疏液性质的材料。该材料例如可以为具有疏液性质的负性光刻胶，例如为聚酰亚胺(PI)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或有机硅等负性光刻胶。

本实施例中，形成像素界定层所采用的具有疏液性质的材料难以被墨水润湿，因此用于形成像素界定层时可以增大喷墨打印在之后将要形成的像素开口中的墨水的扩散阻力，从而减缓墨水在像素开口的侧壁上的攀爬速度，并防止墨水流入相邻的像素开口中。

步骤S102：形成像素界定层的长边部分以及形成像素界定层的短边部分。

本实施例中，当像素界定层材料选择具有疏液性质的负性光刻胶时，可以通过曝光工艺和显影工艺形成像素界定层的长边部分和短边部分。

本实施例中，例如可以通过两次曝光工艺分别对像素界定层材料进行曝光以形成长边部分和短边部分。本示例中，如图8B所示，本示例的像素界定层材料可以选择具有疏液性质的负性光刻胶，例如选用聚酰亚胺(PI)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或有机硅等合适的材料。本示例中，例如可以首先形成像素界定层的长边部分1011。如图8B所示，例如可以利用掩膜板对图8B中对应于像素界定层中除至少像素开口将要形成部位之外的阴影区域进行曝光，从而使被曝光的区域中的像素界定层材料在之后的显影工艺中不被溶解。

本实施例中，对像素界定层的长边部分1011曝光后，再对短边部分进行曝光。如图8C所示，例如可以利用掩膜板对图8C中至少对应于将要形成的各像素开口短边部分1012的间隔处进行曝光，从而使被曝光的区域中的像素界定层材料在之后的显影工艺中不被溶解。

本实施例中，当像素界定层材料选择具有疏液性质的负性光刻胶时，在进行曝光工艺时，沿长边部分1011的曝光量例如可以小于沿短边部分1012的曝光量，从而使得所要形成的像素界定层的像素开口中长边部分1011的坡度角大于短边部分1012的坡度角。本实施例中，例如可以通过调节曝光工艺时对长边部分1011和短边部分1012的曝光量来调节所要形成的长边部分1011和短边部分1012的坡度角大小。例如，对长边部分1011或短边部分1012的曝光量越小，其所形成的坡度角越大。

本实施例中，例如可以在对长边部分1011和短边部分1012进行曝光后进行显影工艺以溶解未被曝光的像素开口中的像素界定层材料(被曝光的部分不被溶解)，从而形成像素开口101。

本实施例中，当然也可以先对像素界定层的短边部分1012进行曝光，然后对长边部分1011进行曝光，本实施例对长边部分1011和短边部分1012的曝光顺序不做限定。

本实施例的另一个示例中，例如还可以利用灰色调掩模或半色调掩模，通过一次曝光工艺同时对长边部分1011和短边部分1012进行曝光，然后进行显影工艺以形成包括长边部分1011和短边部分1012的像素开口101。该灰色调掩模或半色调掩模上的曝光图案设置可以使得对应于将要形成的像素界定层的像素开口的长边部分和短边部分的曝光量不同。

例如，图9为本实施例提供的一种掩膜板，该掩膜板中对应于像素界定层的像素开口的位置不透光(黑色部分)，掩膜板中对应于像素开口的长边部分的位置半透光(阴影部分)，掩膜板中对应于像素开口的短边部分的位置完全透光(白色部分)，由此使得在曝光工艺中对长边部分的曝光量小于对短边部分的曝光量，从而使得在所要形成像素开口中长边部分的坡度角大于短边部分的坡度角。本实施例中，掩膜板中对应于像素开口长边部分的位置的半透光程度可以根据长边部分的坡度角等实际情况进行调整，本实施例对此不做限定。

本实施例的一个示例中，当像素界定层包括如图4所示的远离衬底基板一侧的第一像素界定层1021和靠近衬底基板一侧的第二像素界定层1022时，第一像素界定层例如可以采用具有疏液性质的材料制备，第二像素界定层例如可以采用具有亲液性质的材料制备。例如，当第一像素界定层所选用的具有疏液性质的材料和第二像素界定层所选用的具有亲液性质的材料都为负性光刻胶时，该像素界定层在制备时例如可以先在衬底基板上依次形成第二像素界定层材料和第一像素界定层材料，然后对第二像素界定层材料和第一像素界定层材料同时进行曝光工艺和显影工艺以形成像素开口。或者，该像素界定层在制备时例如可以在衬底基板上先形成一层第二像素界定层材料，并对其进行曝光工艺与显影工艺以形成第二像素界定层，然后在第二像素界定层上形成一层第一像素界定层材料，并再进行曝光工艺与显影工艺以形成第一像素界定层，即第一像素界定层和第二像素界定层可以分别通过曝光工艺和显影工艺形成。本示例中，像素界定层的具体制备工艺可以根据像素界定层的材料性质等实际情况进行选择，本实施例对此不做限定。

实施例四

本实施例提供一种显示基板的制备方法，如图10A和10B所示，该方法包括：形成上述像素界定层102，以及在像素界定层102的每个像素开口101中形成像素结构。

本实施例中，该显示基板例如可以为有机发光显示基板，在像素界定层102的每个像素开口101中形成像素结构例如可以包括在像素界定层102的像素开口101内喷墨打印有机材料以形成有机功能层103。有机功能层103例如可以为发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种，本实施例对此不做限定。

本实施例中，显示基板的制备方法当然还可以包括形成像素驱动电路、阳极层、阴极层、平坦化绝缘层等其他功能结构的步骤，本实施例不再赘述。

利用本实施例的方法制备得到的显示基板例如有机发光显示基板中有机功能层103的形态可以更加均匀，例如有机功能层103的厚度更加均匀，并且有机功能层103在像素开口不同边界处可能产生的不均匀范围(例如不均匀形态、不均匀宽度等)基本相同，进而利用该方法制备得到的显示基板在工作时发光亮度更加均匀，进而具有更好的显示均匀性，即具有更好的显示效果。

还有以下几点需要说明：

(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。

(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。

以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims (15)

1.一种像素界定层，包括多个像素开口，其中，所述像素开口包括长边部分和短边部分，并且所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角；

所述长边部分和所述短边部分的坡度角差异随所述长边部分和所述短边部分的长度差异的增加而增加。

2.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素界定层采用具有疏液性质的材料制备。

3.根据权利要求2所述的像素界定层，其中，所述材料为负性光刻胶。

4.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素界定层包括远离衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近衬底基板一侧的第二像素界定层；

所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。

5.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素开口呈矩形、平行四边形或梯形。

6.一种显示基板，具有多个像素结构，包括权利要求1-5任一所述的像素界定层；

其中，每个所述像素开口中有所述像素结构。

7.一种显示装置，包括权利要求6所述的显示基板。

8.一种像素界定层的制备方法，包括：

在衬底基板上涂覆像素界定层材料；

形成所述像素界定层的长边部分；

形成所述像素界定层的短边部分；其中，

所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角；

所述长边部分和所述短边部分的坡度角差异随所述长边部分和所述短边部分的长度差异的增加而增加。

9.根据权利要求8所述的像素界定层的制备方法，其中，所述像素界定层材料为具有疏液性质的负性光刻胶，并通过曝光工艺和显影工艺形成所述长边部分和所述短边部分。

10.根据权利要求9所述的像素界定层的制备方法，其中，通过两次曝光工艺分别对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。

11.根据权利要求10所述的像素界定层的制备方法，其中，沿所述长边部分的曝光量小于沿所述短边部分的曝光量。

12.根据权利要求9所述的像素界定层的制备方法，其中，利用灰色调掩模或半色调掩模通过一次曝光工艺同时对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。

13.根据权利要求8所述的像素界定层的制备方法，其中，所述像素界定层包括：

形成于远离所述衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近所述衬底基板一侧的第二像素界定层；其中，所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。

14.一种显示基板的制备方法，包括：

形成权利要求1-5任一所述的像素界定层，以及

在所述像素界定层的开口内喷墨打印有机材料以形成有机功能层。

15.根据权利要求14所述的显示基板的制备方法，其中，所述有机功能层为发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种。