CN111443565A - 掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。掩膜板，用以制作显示基板的像素界定层，包括第一透光图形和第一不透光图形，还包括位于所述第一透光图形和所述第一不透光图形之间的过渡结构，所述过渡结构包括交替排布的多个第二透光图形和第二不透光图形，所述第二透光图形和所述第二不透光图形的线宽小于使用所述掩膜板进行曝光的曝光机的解像力。本公开的技术方案能够提高显示装置的良率。

Description

掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，特别是指一种掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

现有技术在制作显示基板的像素界定层时，在基板上形成一层感光的像素界定层材料，利用掩膜板对像素界定层材料进行曝光，显影后形成像素界定层的图形。但是现有技术中的像素界定层的图形的坡度角比较大，容易形成色偏，并且后续形成封装层，在显示基板上打印有机流变性材料时，有机流变性材料不易流平，降低了封装信赖性，进而降低了显示装置的良率。

发明内容

本公开要解决的技术问题是提供一种掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高显示装置的良率。

为解决上述技术问题，本公开的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种掩膜板，用以制作显示基板的像素界定层，包括第一透光图形和第一不透光图形，还包括位于所述第一透光图形和所述第一不透光图形之间的过渡结构，所述过渡结构包括交替排布的多个第二透光图形和第二不透光图形，所述第二透光图形和所述第二不透光图形的线宽小于使用所述掩膜板进行曝光的曝光机的解像力。

本公开的可选实施例中，所述第一不透光图形与所述像素界定层的上表面的形状相同，所述第一透光图形与所述像素界定层限定出的像素开口区相同，所述过渡结构的形状与所述像素界定层的侧表面在所述显示基板上的正投影的形状相同。

本公开的可选实施例中，所述第一透光图形与所述像素界定层的上表面的形状相同，所述第一不透光图形与所述像素界定层限定出的像素开口区相同，所述过渡结构的形状与所述像素界定层的侧表面在所述显示基板上的正投影的形状相同。

本公开的可选实施例中，所述第二透光图形和所述第二不透光图形均为环状，且所述第二透光图形的中心与所述第二不透光图形的中心重合。

本公开的可选实施例中，所述第一不透光图形包围所述第一透光图形，在所述第一透光图形的多个边缘中，部分边缘与所述第一不透光图形之间的所述过渡结构均为不透光图形或透光图形。

本公开的可选实施例中，所述第一不透光图形包围所述第一透光图形，所述第一透光图形呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘、第二边缘、第三边缘和第四边缘，其中，所述第二边缘和所述第四边缘与所述第一不透光图形之间的所述过渡结构均为不透光图形或透光图形。

本公开的可选实施例中，所述过渡结构包括第一过渡结构和第二过渡结构，所述第一透光图形包围所述第一不透光图形，所述第一不透光图形呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘、第二边缘、第三边缘和第四边缘，其中，所述第一边缘和所述第三边缘与所述第一透光图形之间分别设置有所述第一过渡结构，所述第二边缘和所述第四边缘与所述第一透光图形之间分别设置所述第二过渡结构，所述第一过渡结构与所述第二过渡结构满足以下任一项：

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的数量不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的数量不同。

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的线宽不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的线宽不同。

本公开的可选实施例中，从所述第一不透光图形到所述第一透光图形的方向上，所述第二透光图形的线宽逐渐增大。

本公开的可选实施例中，所述过渡结构包括3-5个所述第二透光图形和3-5个所述第二不透光图形。

本公开的可选实施例中，所述第二透光图形和所述第二不透光图形的线宽均小于2.5um。

本公开实施例还提供了一种显示基板的制作方法，包括：

在驱动基板上形成感光的像素界定层材料层，利用如上所述的掩膜板对所述像素界定层材料层进行曝光，显影后形成像素界定层的图形。

本公开实施例还提供了一种显示基板，所述显示基板的像素界定层为采用如上所述的掩膜板对像素界定层材料层进行构图得到。

本公开的可选实施例中，所述像素界定层的图形的坡度角小于20°。

本公开的可选实施例中，所述显示基板的像素界定层限定出像素开口区，所述像素开口区暴露出至少两个阳极图案，所述至少两个阳极图案在所述显示基板上的正投影不重叠。

本公开的可选实施例中，所述像素开口区呈矩形，所述像素界定层的图形包括围绕所述像素开口区、依次首尾相接的第一侧表面、第二侧表面、第三侧表面和第四侧表面，所述第一侧表面与所述第三侧表面的坡度角相同，所述第二侧表面与所述第四侧表面的坡度角相同，所述第一侧表面的坡度角大于所述第二侧表面的坡度角。

本公开的可选实施例中，所述像素开口区与所述第一透光图形的形状相同；或

所述像素开口区的形状与所述过渡结构的轮廓限定出的形状相同。

本公开的实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

本公开的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，掩膜板包括第一透光图形和第一不透光图形，第一透光图形和第一不透光图形之间设置有过渡结构，过渡结构包括交替排布的多个第二透光图形和第二不透光图形，第二透光图形和第二不透光图形的线宽小于使用掩膜板进行曝光的曝光机的解像力，这样在制备像素界定层的图形，利用掩膜板对像素界定层材料层进行曝光时，曝光光线透过过渡结构时，过渡结构的图案不能有效解像，光线透过过渡结构后变为模糊的形态，只有部分光线能透过过渡结构照射到像素界定层材料层上，能够在第一透光图形和第一不透光图形之间形成过渡，这样对像素界定层材料层进行显影后，在像素界定层材料层去除区域和像素界定层材料层保留区域之间的交界处形成平缓的过渡，使得形成的像素界定层的图形的侧表面具有平缓的坡度，能够降低像素界定层的图形的坡度角，不容易形成色偏，并且后续形成封装层，在显示基板上打印有机流变性材料时，易于有机流变性材料的流平，能够保证封装的信赖性，进而提高显示装置的良率。

附图说明

图1为现有掩膜板的示意图；

图2为利用图1所示掩膜板对像素界定层材料层进行曝光的示意图；

图3为相关技术中像素界定层图形的示意图；

图4为本公开实施例掩膜板的示意图；

图5为本公开实施例利用图4所示掩膜板对像素界定层材料层进行曝光的示意图；

图6为本公开实施例像素界定层图形的示意图；

图7为本公开另一实施例掩膜板的示意图；

图8为本公开又一实施例掩膜板的示意图。

附图标记

1 衬底基板

2 缓冲层

3 栅绝缘层

4 层间绝缘层

5 钝化层和平坦层

61 像素界定层材料层

6 像素界定层

7 有源层

8 栅极

9 源极

10 漏极

11 阳极

Y 相关技术中的掩膜板

Y1 不透光图形

Y2 透光图形

M 本公开实施例的掩膜板

M1 第一不透光图形

M2 第一透光图形

M3 过渡结构

M31 第二不透光图形

M32 第二透光图形

B1 第一边缘

B2 第二边缘

B3 第三边缘

B4 第四边缘

具体实施方式

为使本公开的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

图1为现有掩膜板的示意图，如图1所示，现有的用以制作像素界定层的掩膜板Y包括不透光图形Y1和透光图形Y2，其中不透光图形Y1对应待形成的像素界定层的图形；图2为利用图1所示掩膜板对像素界定层材料层进行曝光的示意图，其中图2所示的掩膜板为图1所示掩膜板在AA’方向上的截面示意图；图3为对像素界定层材料层进行显影后，形成的像素界定层图形的示意图，如图3所示，像素界定层图形的坡度角为α，α的值一般比较大，达到30°以上比如34.8°，显示基板的有机发光层是覆盖像素界定层图形的整层的连续膜层，如果像素界定层图形的坡度角过大，会影响有机发光层的出光效率，容易造成大视角色偏，并且后续形成封装层，在显示基板上打印有机流变性材料时，有机流变性材料不易流平，降低了封装信赖性，进而降低了显示装置的良率。

本公开实施例提供一种掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高显示装置的良率。

本公开的实施例提供一种掩膜板，用以制作显示基板的像素界定层，图4为本公开实施例掩膜板的示意图，图5所示的掩膜板为图4所示掩膜板在AA’方向上的截面示意图，如图4和图5所示，本实施例的掩膜板M包括第一透光图形M2和第一不透光图形M1，还包括位于所述第一透光图形M2和所述第一不透光图形M1之间的过渡结构M3，所述过渡结构M3包括交替排布的多个第二透光图形M32和第二不透光图形M31，所述第二透光图形M32的线宽d2小于使用所述掩膜板进行曝光的曝光机的解像力，所述第二不透光图形M31的线宽d1小于使用所述掩膜板进行曝光的曝光机的解像力。

本实施例中，掩膜板包括第一透光图形和第一不透光图形，第一透光图形和第一不透光图形之间设置有过渡结构，过渡结构包括交替排布的多个第二透光图形和第二不透光图形，第二透光图形和第二不透光图形的线宽小于使用掩膜板进行曝光的曝光机的解像力，这样在制备像素界定层的图形，利用掩膜板对像素界定层材料层进行曝光时，曝光光线透过过渡结构时，过渡结构的图案不能有效解像，光线透过过渡结构后变为模糊的形态，只有部分光线能透过过渡结构照射到像素界定层材料层上，能够在第一透光图形和第一不透光图形之间形成过渡，这样对像素界定层材料层进行显影后，在像素界定层材料层去除区域和像素界定层材料层保留区域之间的交界处形成平缓的过渡，使得形成的像素界定层的图形的侧表面具有平缓的坡度，能够降低像素界定层的图形的坡度角，不容易形成色偏，并且后续形成封装层，在显示基板上打印有机流变性材料时，易于有机流变性材料的流平，能够保证封装的信赖性，进而提高显示装置的良率。

相比利用软烘、固化等工艺手段降低像素界定层的坡度角，利用本实施例的掩膜板制备像素界定层，可以降低制备像素界定层的工艺时间，利于量产使用。另外，相比在第一透光图形M2和第一不透光图形M1之间设置半透膜来降低像素界定层的坡度角，本实施例的技术方案能够大大降低掩膜板的生产成本。

以使用该掩模板在解像力为2.5μm的曝光机上进行曝光为例，本实施例的第一透光图形M2的线宽d1和第一不透光图形M1的线宽d2都小于2.5um，当光线透过过渡结构M3的图案区域时，过渡结构M3的图案不能有效解像，光线透过过渡结构M3的图案区域后变为模糊的形态，达到部分透光的效果，只有部分光线能透过过渡结构M3照射到像素界定层材料层上，能够在第一透光图形M2和第一不透光图形M1之间形成过渡，这样对像素界定层材料层进行显影后，在像素界定层材料层去除区域和像素界定层材料层保留区域之间的交界处形成平缓的过渡，使得形成的像素界定层的图形的侧表面具有平缓的坡度，能够降低像素界定层的图形的坡度角，采用本实施例的掩膜板制作的像素界定层的坡度角可以小于20°，比如达到14.9°。

本实施例中，掩膜板的第二透光图形和第二不透光图形的线宽由使用掩膜板进行曝光的曝光机的解像力决定，不同的曝光机的解像力不同，掩膜板的第二透光图形和第二不透光图形的线宽需小于使用掩膜板进行曝光的曝光机的解像力。

一些实施例中，若感光的像素界定层材料层采用正性光阻材料，第一不透光图形M1对应像素界定层的上表面，第一透光图形M2对应像素界定层限定出的像素开口区，过渡结构M3对应像素界定层的侧表面，所述第一不透光图形M1与所述像素界定层的上表面的形状相同，所述第一透光图形M2与所述像素界定层限定出的像素开口区相同，所述过渡结构M3的形状与所述像素界定层的侧表面在所述显示基板上的正投影的形状相同。

本公开的一些实施例中，如图4所示，第二透光图形M32和第二不透光图形M31可以均呈环状，且第二透光图形M32的中心与第二不透光图形M31的中心重合。即过渡结构M3为连续的，过渡结构M3包围第一透光图形M2，这样可以降低像素界定层所有侧表面的坡度角。

本公开的一些实施例中，所述第一不透光图形M1包围所述第一透光图形M2，在所述第一透光图形M1的多个边缘中，可以是每一边缘与所述第一不透光图形M1之间设置所述过渡结构M3，也可以是部分边缘与所述第一不透光图形M1之间设置所述过渡结构M3，即过渡结构M3是不连续的，这样在设置过渡结构M3的区域，可以降低对应的像素界定层侧表面的坡度角，在未设置过渡结构M3的区域，对应的像素界定层侧表面的坡度角不变，即不同区域的像素界定层的侧表面具有不同的坡度角，这样在显示基板上喷墨打印发光材料墨水时，在像素界定层的侧表面坡度角比较低的区域，发光材料墨水比较容易流平，而在像素界定层的侧表面坡度角比较高的区域，发光材料墨水不容易流平，从而可以控制发光材料墨水的流平方向。

一具体示例中，如图7所示，所述第一不透光图形M1包围所述第一透光图形M2，所述第一透光图形M2呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘B1、第二边缘B2、第三边缘B3和第四边缘B4，其中，所述第二边缘B2和所述第四边缘B4与所述第一不透光图形M1之间的所述过渡结构M3均为不透光图形，当然，所述第二边缘B2和所述第四边缘B4与所述第一不透光图形M1之间的所述过渡结构M3还可以均为透光图形。

这样在利用图7所示的掩膜板M制作显示基板的像素界定层后，像素界定层的延伸方向垂直于CC’方向的侧表面具有较小的坡度角，像素界定层的延伸方向垂直于BB’方向的侧表面具有较大的坡度角，这样在显示基板上喷墨打印发光材料墨水后，发光材料墨水在CC’方向上比较容易流平。

本公开的一些实施例中，所述过渡结构还可以包括第一过渡结构和第二过渡结构，所述第一透光图形包围所述第一不透光图形，所述第一不透光图形呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘、第二边缘、第三边缘和第四边缘，其中，所述第一边缘和所述第三边缘与所述第一透光图形之间分别设置有所述第一过渡结构，所述第二边缘和所述第四边缘与所述第一透光图形之间分别设置所述第二过渡结构，所述第一过渡结构与所述第二过渡结构满足以下任一项：

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的数量不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的数量不同。

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的线宽不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的线宽不同。

其中，第二透光图形的线宽越大，透过的光线越多，坡度角越小；第二不透光图形的线宽越大，透过的光线越少，坡度角越大；第二透光图形和第二不透光图形的数量越大，坡度角越小。

这样通过调整第一过渡结构、第二过渡结构包括的第二不透光图形的线宽、第二透光图形的线宽、第二不透光图形的数量、第二透光图形的数量，可以对过渡结构对应的像素界定层侧表面的坡度角进行调整，得到满足需要的像素界定层。

如果过渡结构M3包括的第二透光图形M32和第二不透光图形M31的数量过多，会增加掩膜板的成本和结构复杂性，因此，过渡结构可以包括3-5个第二透光图形M32和3-5个第二不透光图形M31，这样能够在不增加掩膜板的成本的情况下，有效降低像素界定层的图形的坡度角。

一些实施例中，从所述第一不透光图形M1到所述第一透光图形M2的方向上，所述第二透光图形M32和所述第二不透光图形M31的线宽逐渐增大，这样在利用掩膜板M进行曝光时，能够使得从所述第一不透光图形M1到所述第一透光图形M2的方向上，经过过渡结构M3的光线透过率逐渐增大，能够在像素界定层材料层去除区域和像素界定层材料层保留区域之间的交界处形成平缓的过渡，形成的像素界定层的图形侧表面具有平缓的坡度。

一些实施例中，在过渡结构M3为环状时，过渡结构M3的轮廓形状可以与第一透光图形M2的形状大致相同；如图8所示，过渡结构M3的轮廓形状还可以与第一透光图形M2的形状不同。

上述实施例以感光的像素界定层材料层采用正性光阻材料进行说明，当然感光的像素界定层材料层也可以采用负性光阻材料，在感光的像素界定层材料层采用负性光阻材料时，第一透光图形M2对应像素界定层的上表面，第一不透光图形M1对应像素界定层限定出的像素开口区，过渡结构M3对应像素界定层的侧表面，所述第一透光图形M2与所述像素界定层的上表面的形状相同，所述第一不透光图形M1与所述像素界定层限定出的像素开口区相同，所述过渡结构M3的形状与所述像素界定层的侧表面在所述显示基板上的正投影的形状相同。

本公开的实施例还提供了一种显示基板的制作方法，包括：

在驱动基板上形成感光的像素界定层材料层，利用上述的掩膜板对所述像素界定层材料层进行曝光，显影后形成像素界定层的图形，所述像素界定层的图形的坡度角小于20°。

本实施例中，掩膜板包括第一透光图形和第一不透光图形，第一透光图形和第一不透光图形之间设置有过渡结构，过渡结构包括交替排布的多个第二透光图形和第二不透光图形，第二透光图形和第二不透光图形的线宽小于使用掩膜板进行曝光的曝光机的解像力，这样在制备像素界定层的图形，利用掩膜板对像素界定层材料层进行曝光时，曝光光线透过过渡结构时，过渡结构的图案不能有效解像，光线透过过渡结构后变为模糊的形态，只有部分光线能透过过渡结构照射到像素界定层材料层上，能够在第一透光图形和第一不透光图形之间形成过渡，这样对像素界定层材料层进行显影后，在像素界定层材料层去除区域和像素界定层材料层保留区域之间的交界处形成平缓的过渡，使得形成的像素界定层的图形的侧表面具有平缓的坡度，能够降低像素界定层的图形的坡度角，不容易形成色偏，并且后续形成封装层，在显示基板上打印有机流变性材料时，易于有机流变性材料的流平，能够保证封装的信赖性，进而提高显示装置的良率。

一些实施例中，所述感光的像素界定层材料层采用正性光阻材料，所述方法包括：

在驱动基板上形成感光的像素界定层材料层，利用上述掩膜板对所述像素界定层材料层进行曝光，显影后形成像素界定层的图形，其中，掩膜板的第一不透光图形M1对应像素界定层的上表面，第一透光图形M2对应像素界定层限定出的像素开口区，过渡结构M3对应像素界定层的侧表面。

一具体示例中，以感光的像素界定层材料层采用正性的负性光阻材料为例，如图5所示，在制作像素界定层的图形时，在驱动基板上形成感光的像素界定层材料层61，其中驱动基板包括有衬底基板1，位于衬底基板1上的缓冲层2、有源层7、栅绝缘层3、栅极8、层间绝缘层4、源极9、漏极10、钝化层和平坦层5、阳极11等结构。利用掩膜板M对像素界定层材料层61进行曝光，掩膜板M的第一不透光图形M1对应像素界定层的图形所在区域，掩膜板M的第一透光图形M2对应像素界定层的图形限定出的像素区域，在第一不透光图形M1和第一透光图形M2之间设置有过渡结构M3，过渡结构M3包括交替排布的多个第二透光图形M32和第二不透光图形M31，所述第二透光图形M32的线宽d2小于使用掩膜板M进行曝光的曝光机的解像力，第二不透光图形M31的线宽d1小于使用掩膜板M进行曝光的曝光机的解像力。

在曝光光线透过过渡结构M3时，过渡结构M3的图案不能有效解像，光线透过过渡结构M3后变为模糊的形态，仅有部分曝光光线透过过渡结构M3照射到像素界定层材料层61上，这样对像素界定层材料层61显影后，在像素界定层材料层去除区域和像素界定层材料层保留区域之间的交界处形成平缓的过渡，形成的像素界定层的图形侧表面具有平缓的坡度，能够降低像素界定层的图形的坡度角。如图6所示，在对像素界定层材料层61进行显影后，形成的像素界定层6的图形的坡度角β可以达到20°以下，比如14.9°。这样不容易形成色偏，并且后续形成封装层，在显示基板上打印有机流变性材料时，有利于有机流变性材料的流平，能够保证封装的信赖性，进而提高显示装置的良率。

本实施例中，像素界定层6的图形包括靠近衬底基板1的下表面和远离衬底基板1的上表面，以及位于这两个表面之间的侧表面，像素界定层6的图形的坡度角β即为侧表面与远离衬底基板1的表面之间的夹角。

以感光的像素界定层材料层采用正性的负性光阻材料为例，所述第一不透光图形M1与所述像素界定层6的上表面的形状可以相同，所述第一透光图形M2与所述像素界定层6限定出的像素开口区可以相同，所述过渡结构M3的形状与所述像素界定层6的侧表面在显示基板上的正投影的形状可以相同。

制作本实施例的显示基板的掩膜板M中，如图4所示，第二透光图形M32和第二不透光图形M31可以均呈环状，且第二透光图形M32的中心与第二不透光图形M31的中心重合。即过渡结构M3为连续的，过渡结构M3包围第一透光图形M2，这样利用掩膜板M制作显示基板的像素界定层6后，像素界定层6所有侧表面的坡度角都比较小。

制作本实施例的显示基板的掩膜板M中，所述第一不透光图形M1包围所述第一透光图形M2，在所述第一透光图形M1的多个边缘中，可以是每一边缘与所述第一不透光图形M1之间设置所述过渡结构M3，也可以是部分边缘与所述第一不透光图形M1之间设置所述过渡结构M3，即过渡结构M3是不连续的，在过渡结构M3为不连续的结构时，在利用掩膜板M制作显示基板的像素界定层6后，设置过渡结构M3的区域，形成的像素界定层侧表面的坡度角较小，未设置过渡结构M3的区域，形成的像素界定层侧表面的坡度角较大，即不同区域的像素界定层的侧表面具有不同的坡度角，这样在显示基板上喷墨打印发光材料墨水时，在像素界定层的侧表面坡度角比较低的区域，发光材料墨水比较容易流平，而在像素界定层的侧表面坡度角比较高的区域，发光材料墨水不容易流平，从而可以控制发光材料墨水的流平方向。

一具体示例中，制作本实施例的显示基板的掩膜板M中，如图7所示，所述第一不透光图形M1包围所述第一透光图形M2，所述第一透光图形M2呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘B1、第二边缘B2、第三边缘B3和第四边缘B4，其中，所述第二边缘B2和所述第四边缘B4与所述第一不透光图形M1之间的所述过渡结构M3均为不透光图形，当然，所述第二边缘B2和所述第四边缘B4与所述第一不透光图形M1之间的所述过渡结构M3还可以均为透光图形。

这样在利用图7所示的掩膜板M制作显示基板的像素界定层后，像素界定层的延伸方向垂直于CC’方向的侧表面具有较小的坡度角，像素界定层的延伸方向垂直于BB’方向的侧表面具有较大的坡度角，这样在显示基板上喷墨打印发光材料墨水后，发光材料墨水在CC’方向上比较容易流平。

采用图7所示的掩膜板制作的像素开口区为矩形，当然，本实施例制作的显示基板的像素开口区并不局限为矩形，还可以为其他形状，图7仅为进行示例性说明。比如，采用如图8所示的掩膜板制作的像素开口区为菱形。

在一些显示基板中，同色的子像素位于同一列，喷墨打印的发光材料墨水在列方向上应比较容易流平，这样能够防止喷墨打印的发光材料墨水溢流到相邻列，造成像素串色；为了使得喷墨打印的发光材料墨水在列方向上比较容易流平，可以对掩膜板M进行设计，比如掩膜板M上设置延伸方向垂直于列方向的过渡结构M3，而不设置延伸方向垂直于行方向的过渡结构M3，这样在利用掩膜板M制作显示基板的像素界定层后，像素界定层的延伸方向垂直于列方向的侧表面具有较小的坡度角，像素界定层的延伸方向垂直于行方向的侧表面具有较大的坡度角，能够使得喷墨打印的发光材料墨水在列方向上比较容易流平。

在一些显示基板中，同色的子像素位于同一行，喷墨打印的发光材料墨水在行方向上应比较容易流平，这样能够防止喷墨打印的发光材料墨水溢流到相邻行，造成像素串色；为了使得喷墨打印的发光材料墨水在行方向上比较容易流平，可以对掩膜板M进行设计，比如掩膜板M上设置延伸方向垂直于行方向的过渡结构M3，而不设置延伸方向垂直于列方向的过渡结构M3，这样在利用掩膜板M制作显示基板的像素界定层后，像素界定层的延伸方向垂直于行方向的侧表面具有较小的坡度角，像素界定层的延伸方向垂直于列方向的侧表面具有较大的坡度角，能够使得喷墨打印的发光材料墨水在行方向上比较容易流平。

本公开的一些实施例中，所述过渡结构还可以包括第一过渡结构和第二过渡结构，所述第一透光图形包围所述第一不透光图形，所述第一不透光图形呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘、第二边缘、第三边缘和第四边缘，其中，所述第一边缘和所述第三边缘与所述第一透光图形之间分别设置有所述第一过渡结构，所述第二边缘和所述第四边缘与所述第一透光图形之间分别设置所述第二过渡结构，所述第一过渡结构与所述第二过渡结构满足以下任一项：

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的数量不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的数量不同。

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的线宽不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的线宽不同。

其中，第二透光图形的线宽越大，透过的光线越多，坡度角越小；第二不透光图形的线宽越大，透过的光线越少，坡度角越大；第二透光图形和第二不透光图形的数量越大，坡度角越小。

这样通过调整第一过渡结构、第二过渡结构包括的第二不透光图形的线宽、第二透光图形的线宽、第二不透光图形的数量、第二透光图形的数量，可以对显示基板的像素界定层侧表面的坡度角进行调整，得到满足需要的像素界定层。

对于大尺寸的显示产品来说，所述显示基板的像素界定层限定出像素开口区，所述像素开口区暴露出至少两个阳极图案，所述至少两个阳极图案在所述显示基板上的正投影不重叠。

对于小尺寸的显示产品来说，为了保证显示产品的像素密度，显示基板的像素开口区的面积不等，在向像素开口区内蒸镀或喷墨打印材料时，为了满足制作偏差，可以对掩膜板中过渡结构的位置和参数进行设计，使得制作的显示基板中，面积大的像素开口区具有较大的坡度角，面积小的像素开口区具有较小的坡度角，从而满足制作偏差的要求。

上述实施例中，在利用掩膜板制作显示基板的像素界定层时，掩膜板与显示基板平行，掩膜板的行方向与显示基板的行方向一致；掩膜板的列方向与显示基板的列方向一致。

当然感光的像素界定层材料层也可以采用负性光阻材料，在感光的像素界定层材料层采用负性光阻材料时，所述方法包括：

在驱动基板上形成感光的像素界定层材料层，利用上述掩膜板对所述像素界定层材料层进行曝光，显影后形成像素界定层的图形，其中，掩膜板的第一透光图形M2对应像素界定层的上表面，第一不透光图形M1对应像素界定层限定出的像素开口区，过渡结构M3对应像素界定层的侧表面。

本公开的实施例还提供了一种显示基板，采用如上所述的显示基板的制作方法制作得到，所述显示基板的像素界定层的图形的坡度角小于20°。

如图6所示，本实施例的显示基板包括位于驱动基板上的像素界定层6，其中驱动基板包括有衬底基板1，位于衬底基板1上的缓冲层2、有源层7、栅绝缘层3、栅极8、层间绝缘层4、源极9、漏极10、钝化层和平坦层5、阳极11等结构。

本实施例的显示基板中，像素界定层6的坡度角β比较小，这样不容易形成色偏，并且后续形成封装层，在显示基板上打印有机流变性材料时，易于有机流变性材料的流平，能够保证封装的信赖性，进而提高显示装置的良率。

一些实施例中，若感光的像素界定层材料层采用正性光阻材料，第一不透光图形M1对应像素界定层的上表面，第一透光图形M2对应像素界定层限定出的像素开口区，过渡结构M3对应像素界定层的侧表面，所述第一不透光图形M1与所述像素界定层的上表面的形状相同，所述第一透光图形M2与所述像素界定层限定出的像素开口区相同，所述过渡结构M3的形状与所述像素界定层的侧表面在所述显示基板上的正投影的形状相同。

制作本实施例的显示基板的掩膜板M中，如图4所示，第二透光图形M32和第二不透光图形M31可以均呈环状，且第二透光图形M32的中心与第二不透光图形M31的中心重合。即过渡结构M3为连续的，过渡结构M3包围第一透光图形M2，这样利用掩膜板M制作显示基板的像素界定层6后，像素界定层6所有侧表面的坡度角都比较小。

制作本实施例的显示基板的掩膜板M中，所述第一不透光图形M1包围所述第一透光图形M2，在所述第一透光图形M1的多个边缘中，可以是每一边缘与所述第一不透光图形M1之间设置所述过渡结构M3，也可以是部分边缘与所述第一不透光图形M1之间设置所述过渡结构M3，即过渡结构M3是不连续的，在过渡结构M3为不连续的结构时，在利用掩膜板M制作显示基板的像素界定层6后，设置过渡结构M3的区域，形成的像素界定层侧表面的坡度角较小，未设置过渡结构M3的区域，形成的像素界定层侧表面的坡度角较大，即不同区域的像素界定层的侧表面具有不同的坡度角，这样在显示基板上喷墨打印发光材料墨水时，在像素界定层的侧表面坡度角比较低的区域，发光材料墨水比较容易流平，而在像素界定层的侧表面坡度角比较高的区域，发光材料墨水不容易流平，从而可以控制发光材料墨水的流平方向。

一具体示例中，如图7所示，所述第一不透光图形M1包围所述第一透光图形M2，所述第一透光图形M2呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘B1、第二边缘B2、第三边缘B3和第四边缘B4，其中，所述第二边缘B2和所述第四边缘B4与所述第一不透光图形M1之间的所述过渡结构M3均为不透光图形，当然，所述第二边缘B2和所述第四边缘B4与所述第一不透光图形M1之间的所述过渡结构M3还可以均为透光图形。

这样在利用图7所示的掩膜板M制作显示基板的像素界定层后，像素界定层限定出的像素开口区呈矩形，所述像素界定层的图形包括围绕所述像素开口区、依次首尾相接的第一侧表面、第二侧表面、第三侧表面和第四侧表面，第一侧表面的延伸方向垂直于BB’方向，第二侧表面的延伸方向垂直于CC’方向，所述第一侧表面与所述第三侧表面的坡度角相同，所述第二侧表面与所述第四侧表面的坡度角相同，所述第一侧表面的坡度角大于所述第二侧表面的坡度角。这样在显示基板上喷墨打印发光材料墨水后，发光材料墨水在CC’方向上比较容易流平。

采用图7所示的掩膜板制作的像素开口区为矩形，当然，本实施例制作的显示基板的像素开口区并不局限为矩形，还可以为其他形状，图7仅为进行示例性说明。比如，采用如图8所示的掩膜板制作的像素开口区为菱形。

在一些显示基板中，同色的子像素位于同一列，喷墨打印的发光材料墨水在列方向上应比较容易流平，这样能够防止喷墨打印的发光材料墨水溢流到相邻列，造成像素串色；为了使得喷墨打印的发光材料墨水在列方向上比较容易流平，可以对掩膜板M进行设计，比如掩膜板M上设置延伸方向垂直于列方向的过渡结构M3，而不设置延伸方向垂直于行方向的过渡结构M3，这样在利用掩膜板M制作显示基板的像素界定层后，显示基板的像素界定层的延伸方向垂直于列方向的侧表面具有较小的坡度角，显示基板的像素界定层的延伸方向垂直于行方向的侧表面具有较大的坡度角，能够使得喷墨打印的发光材料墨水在列方向上比较容易流平。

在一些显示基板中，同色的子像素位于同一行，喷墨打印的发光材料墨水在行方向上应比较容易流平，这样能够防止喷墨打印的发光材料墨水溢流到相邻行，造成像素串色；为了使得喷墨打印的发光材料墨水在行方向上比较容易流平，可以对掩膜板M进行设计，比如掩膜板M上设置延伸方向垂直于行方向的过渡结构M3，而不设置延伸方向垂直于列方向的过渡结构M3，这样在利用掩膜板M制作显示基板的像素界定层后，显示基板的像素界定层的延伸方向垂直于行方向的侧表面具有较小的坡度角，显示基板的像素界定层的延伸方向垂直于列方向的侧表面具有较大的坡度角，能够使得喷墨打印的发光材料墨水在行方向上比较容易流平。

本公开的一些实施例中，所述过渡结构还可以包括第一过渡结构和第二过渡结构，所述第一透光图形包围所述第一不透光图形，所述第一不透光图形呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘、第二边缘、第三边缘和第四边缘，其中，所述第一边缘和所述第三边缘与所述第一透光图形之间分别设置有所述第一过渡结构，所述第二边缘和所述第四边缘与所述第一透光图形之间分别设置所述第二过渡结构，所述第一过渡结构与所述第二过渡结构满足以下任一项：

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的数量不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的数量不同。

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的线宽不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的线宽不同。

其中，第二透光图形的线宽越大，透过的光线越多，坡度角越小；第二不透光图形的线宽越大，透过的光线越少，坡度角越大；第二透光图形和第二不透光图形的数量越大，坡度角越小。

这样通过调整第一过渡结构、第二过渡结构包括的第二不透光图形的线宽、第二透光图形的线宽、第二不透光图形的数量、第二透光图形的数量，可以对显示基板的像素界定层侧表面的坡度角进行调整，得到满足需要的像素界定层。

对于大尺寸的显示产品来说，所述显示基板的像素界定层限定出像素开口区，所述像素开口区暴露出至少两个阳极图案，所述至少两个阳极图案在所述显示基板上的正投影不重叠。

对于小尺寸的显示产品来说，为了保证显示产品的像素密度，显示基板的像素开口区的面积不等，在向像素开口区内蒸镀或喷墨打印材料时，为了满足制作偏差，可以对掩膜板中过渡结构的位置和参数进行设计，使得制作的显示基板中，面积大的像素开口区具有较大的坡度角，面积小的像素开口区具有较小的坡度角，从而满足制作偏差的要求。

上述实施例中，掩膜板的行方向与显示基板的行方向一致；掩膜板的列方向与显示基板的列方向一致。

一些实施例中，在过渡结构M3为环状时，过渡结构M3的轮廓形状可以与第一透光图形M2的形状大致相同；如图8所示，过渡结构M3的轮廓形状还可以与第一透光图形M2的形状不同。像素界定层限定出的像素开口区可以与第一透光图形M3的形状相同；或，像素开口区的形状与所述过渡结构M3的轮廓限定出的形状相同。

上述实施例以感光的像素界定层材料层采用正性光阻材料进行说明，当然感光的像素界定层材料层并不局限采用正性光阻材料，也可以采用负性光阻材料，在感光的像素界定层材料层采用负性光阻材料时，第一透光图形M2对应像素界定层的上表面，第一不透光图形M1对应像素界定层限定出的像素开口区，过渡结构M3对应像素界定层的侧表面，所述第一透光图形M2与所述像素界定层的上表面的形状相同，所述第一不透光图形M1与所述像素界定层限定出的像素开口区相同，所述过渡结构M3的形状与所述像素界定层的侧表面在所述显示基板上的正投影的形状相同。

本公开的实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

该显示装置包括但不限于：射频单元、网络模块、音频输出单元、输入单元、传感器、显示单元、用户输入单元、接口单元、存储器、处理器、以及电源等部件。本领域技术人员可以理解，上述显示装置的结构并不构成对显示装置的限定，显示装置可以包括上述更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件布置。在本公开实施例中，显示装置包括但不限于显示器、手机、平板电脑、电视机、可穿戴电子设备、导航显示设备等。

所述显示装置可以为：电视、显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。

在本公开各方法实施例中，所述各步骤的序号并不能用于限定各步骤的先后顺序，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，对各步骤的先后变化也在本公开的保护范围之内。

需要说明，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (17)

1.一种掩膜板，其特征在于，用以制作显示基板的像素界定层，包括第一透光图形和第一不透光图形，还包括位于所述第一透光图形和所述第一不透光图形之间的过渡结构，所述过渡结构包括交替排布的多个第二透光图形和第二不透光图形，所述第二透光图形和所述第二不透光图形的线宽小于使用所述掩膜板进行曝光的曝光机的解像力。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一不透光图形与所述像素界定层的上表面的形状相同，所述第一透光图形与所述像素界定层限定出的像素开口区相同，所述过渡结构的形状与所述像素界定层的侧表面在所述显示基板上的正投影的形状相同。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一透光图形与所述像素界定层的上表面的形状相同，所述第一不透光图形与所述像素界定层限定出的像素开口区相同，所述过渡结构的形状与所述像素界定层的侧表面在所述显示基板上的正投影的形状相同。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二透光图形和所述第二不透光图形均为环状，且所述第二透光图形的中心与所述第二不透光图形的中心重合。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一不透光图形包围所述第一透光图形，在所述第一透光图形的多个边缘中，部分边缘与所述第一不透光图形之间的所述过渡结构均为不透光图形或透光图形。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述第一不透光图形包围所述第一透光图形，所述第一透光图形呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘、第二边缘、第三边缘和第四边缘，其中，所述第二边缘和所述第四边缘与所述第一不透光图形之间的所述过渡结构均为不透光图形或透光图形。

7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡结构包括第一过渡结构和第二过渡结构，所述第一透光图形包围所述第一不透光图形，所述第一不透光图形呈矩形，包括依次首尾相接的第一边缘、第二边缘、第三边缘和第四边缘，其中，所述第一边缘和所述第三边缘与所述第一透光图形之间分别设置有所述第一过渡结构，所述第二边缘和所述第四边缘与所述第一透光图形之间分别设置所述第二过渡结构，所述第一过渡结构与所述第二过渡结构满足以下任一项：

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的数量不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的数量与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的数量不同；

所述第一过渡结构包括的第二透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二透光图形的线宽不同；

所述第一过渡结构包括的第二不透光图形的线宽与所述第二过渡结构包括的第二不透光图形的线宽不同。

8.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，从所述第一不透光图形到所述第一透光图形的方向上，所述第二透光图形的线宽逐渐增大。

9.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡结构包括3-5个所述第二透光图形和3-5个所述第二不透光图形。

10.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二透光图形和所述第二不透光图形的线宽均小于2.5um。

11.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在驱动基板上形成感光的像素界定层材料层，利用如权利要求1-10中任一项所述的掩膜板对所述像素界定层材料层进行曝光，显影后形成像素界定层的图形。

12.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板的像素界定层为采用如权利要求1-10中任一项所述的掩膜板对像素界定层材料层进行构图得到。

13.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层的图形的坡度角小于20°。

14.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板的像素界定层限定出像素开口区，所述像素开口区暴露出至少两个阳极图案，所述至少两个阳极图案在所述显示基板上的正投影不重叠。

15.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述像素开口区呈矩形，所述像素界定层的图形包括围绕所述像素开口区、依次首尾相接的第一侧表面、第二侧表面、第三侧表面和第四侧表面，所述第一侧表面与所述第三侧表面的坡度角相同，所述第二侧表面与所述第四侧表面的坡度角相同，所述第一侧表面的坡度角大于所述第二侧表面的坡度角。

16.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述像素开口区与所述第一透光图形的形状相同；或

所述像素开口区的形状与所述过渡结构的轮廓限定出的形状相同。

17.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求12-16中任一项所述的显示基板。

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