CN107505763A - 基板的制作方法、液晶面板的制作方法及液晶面板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供的一种基板的制作方法，包括以下步骤：在第一玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第一偏光膜层的第一基板；在所述第一基板涂覆有所述第一偏光膜层一侧制作第一功能层。本发明通过在基板上形成涂覆的第一偏光膜层，并且在第一基板涂覆有第一偏光膜层一侧形成第一功能层，使第一偏光膜层在制作第一基板的时候形成，并位于第一基板与第一功能层之间，不需要在Cell外侧偏贴偏光片，节省了时间人力成本，不需要外购偏光片，节约了资金成本。本发明还提供了一种液晶面板的制作方法和一种液晶面板。
Description
技术领域
本发明属于液晶技术领域，尤其涉及一种基板的制作方法、液晶面板的制作方法及液晶面板。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示器，其包括LTPS显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，两片玻璃基板中间有许多垂直和水平的细小电线，通过通电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。
通常液晶显示面板由彩膜(CF，ColorFilter)基板、薄膜晶体管(TFT，ThinFilmTransistor)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，LiquidCrystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
低温多晶硅(LowTemperaturePolySilicon，LTPS)是广泛用于中小电子产品中的一种液晶显示技术。传统的非晶硅材料的电子迁移率约0.5-1.0cm2/V.S，而低温多晶硅的电子迁移率可达30-300cm2/V.S。因此，采用低温多晶硅(LTPS)工艺技术生产的液晶面板，有利于提高面板开口率，使显示器亮度提升、耗电降低，适用于生产更轻薄、低耗电、高分辨率的产品。
当前的偏光模式为采用聚乙烯醇制作的上、下偏光片贴至Cell半成品外侧来实现LCD的光学功能，由于产品分辨率越来越高，器件尺寸越做越小，对应的工艺需求更为复杂，需要增加更多的生产成本、时间成本以及人力成本，另外，外挂式的偏光片需额外购买，采购成本极高。
发明内容
本发明的第一目的是提供一种基板的制作方法，解决现有技术中的偏贴偏光片工艺复杂的问题。
为此，本发明提供了如下的技术方案：
第一方面，本发明提供的一种基板的制作方法，包括以下步骤：
在第一玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第一偏光膜层的第一基板；
在所述第一基板涂覆有所述第一偏光膜层一侧制作第一功能层。
在第一方面的第一种可能的实现方式中，还包括以下步骤：
在第二玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第二偏光膜层的第二基板，其中，所述第一偏光膜层的偏光方向与所述第二偏光膜层的偏光方向互相垂直；
在所述第二基板涂覆有所述第二偏光膜层一侧制作第二功能层。
在第一方面的第二种可能的实现方式中，在所述第一基板涂覆有第一偏光膜层一侧形成所述第一功能层的步骤包括：形成BM层、形成R色阻、形成G色阻、形成B色阻、形成OC平坦层、形成PS支撑层。
结合第一方面及第一方面的第一种可能的实现方式，在第一方面的第三种可能的实现方式中，在所述第二基板涂覆有第二偏光膜层一侧形成所述第二功能层的步骤包括：形成遮光层、形成多晶膜层、硼离子植入、磷离子植入、形成栅极层、硼离子植入、形成绝缘层、形成漏源层、形成平坦化层、形成电容底电极、形成介电层、形成电容顶电极。
在第一方面的第四种可能的实现方式中，在所述第一玻璃上沉积所述感光层的过程在暗箱环境中进行，其中，所述感光层的材料为卤化银。
本发明的第二目的是提供一种液晶面板的制作方法，解决现有技术中的液晶面板工艺复杂、成本高的问题。
为此，本发明提供了如下的技术方案：
第二方面，本发明提供一种液晶面板的制作方法，包括以下步骤：
在第一玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第一偏光膜层的第一基板，在所述第一基板涂覆有所述第一偏光膜层一侧制作第一功能层；
在第二玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第二偏光膜层的第二基板，其中，所述第二偏光膜层的偏光方向与所述第一偏光膜层的偏光方向互相垂直，在所述第二基板涂覆有所述第二偏光膜层一侧制作第二功能层；
在所述第一功能层和所述第二功能层之间制作液晶层，得到液晶面板。
在第二方面的第一种可能的实现方式中，形成所述第一功能层的步骤包括：形成BM层、形成R色阻、形成G色阻、形成B色阻、形成OC平坦层、形成PS支撑层。
在第二方面的第二种可能的实现方式中，形成所述第二功能层的步骤包括：形成遮光层、形成多晶膜层、硼离子植入、磷离子植入、形成栅极层、硼离子植入、形成绝缘层、形成漏源层、形成平坦化层、形成电容底电极、形成介电层、形成电容顶电极。
本发明的第三目的是提供一种液晶面板，在制作基板的过程中直接形成偏光膜，免去了贴偏光片的步骤，节省工艺、降低成本。
为此，本发明提供了如下的技术方案：
第三方面，本发明提供了一种液晶面板，包括如第一方面各种实现方式中任一所述的基板的制作方法所制作的第一基板、第一功能层、第二基板、第二功能层和液晶层，所述第一基板包括第一偏光膜层，所述第一偏光膜层设于所述第一基板一侧且位于所述第一基板与所述第一功能层之间，所述液晶层设于所述第一功能层和所述第二功能层之间。
在第三方面的第一种可能的实现方式中，所述第二基板包括第二偏光膜层，所述第二偏光膜层设于所述第二基板一侧且位于所述第二基板与所述第二功能层之间，所述第一偏光膜层的偏光方向与所述第二偏光膜层的偏光方向互相垂直。
本发明的有益效果：
本发明提供的一种基板的制作方法，通过在基板上形成涂覆的第一偏光膜层，并且在第一基板涂覆有第一偏光膜层一侧形成第一功能层，使第一偏光膜层在制作基板的时候形成，并位于基板与功能层之间，不需要在Cell外侧偏贴偏光片，节省了时间人力成本，不需要外购偏光片，节约了资金成本。本发明还提供了一种液晶面板的制作方法和一种液晶面板。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明一种实施方式的基板的制作方法结构示意图；
图2是图1的基板的制作方法所制得的基板的结构示意图；
图3是图1的另一种基板的制作方法的结构示意图；
图4是图3中的基板的制作方法所制得的基板的结构示意图；
图5是本发明一种实施方式的液晶面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本发明一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本发明保护的范围。
请参考图1、图2和图5，本发明一种实施方式提供一种基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
在第一玻璃1上沉积感光层03，层叠掩膜版02于所述感光层03上，曝光所述感光层03，显影所述感光层03，得到涂覆有第一偏光膜层2的第一基板10；
在所述第一基板10涂覆有所述第一偏光膜层2一侧制作第一功能层3。
本实施方式中，还包括光源01，光源01发射垂直于掩膜版02的光线，掩膜版02上具有图案，该光线将掩膜版02上的图案投影于感光层03上，对感光层03进行曝光，以将掩膜版02上的图案复制在感光层03上，对感光层03显影，使感光层03保留具有图案的区域，其他区域被清洗掉，形成镂空的区域，具有对光线有特定方向通过性的特性。
本实施方式中，在所述第一玻璃1上沉积所述感光层03的过程在暗箱环境中进行，其中，所述感光层03的材料为卤化银。提供的暗箱环境以避免感光层03遇光而发生化学反应，造成曝光，感光层03采用卤化银材料，对光线敏感，并且曝光之后固化在第一玻璃1上的银颗粒性质稳定，制作的第一偏光膜2经久耐用。卤化银可以选择为氯化银或溴化银。
本实施方式中，第一功能层3为彩膜基板中的彩色滤光层(CF)，当然，也可以为阵列基板中的薄膜晶体管层(TFT)，通过在制作彩膜基板或阵列基板的过程中形成了偏光膜层，而不需要另外增加一道贴偏光片的工序，节省了制程时间，节约了购买偏光片的成本。
一种实施方式中，请参考图3至图5，所述基板的制作方法还包括以下步骤：
在第二玻璃7上沉积感光层05，层叠掩膜版04于所述感光层05上，曝光所述感光层05，显影所述感光层05，得到涂覆有第二偏光膜层6的第二基板20，其中，所述第一偏光膜层6的偏光方向与所述第二偏光膜层2的偏光方向互相垂直；
在所述第二基板20涂覆有所述第二偏光膜层6一侧制作第二功能层5。
本实施方式中，与第一基板10的制作方法类似，在暗箱环境中沉积感光层05，感光层05采用卤化银材料制成。掩膜版04上的图案与制作第一基板10的掩膜版02的图案具有不同的结构，具体的，光源01射出的光将掩膜版04上的图案投影于感光层05上，经曝光、显影后形成的第二偏光膜层6与第一偏光膜层2对光的通过性不同，即第二偏光膜层6对光的偏转方向和第一偏光膜层2对光的偏转方向互相垂直，以用于实现液晶面板的偏光功能。
本实施方式中，第一功能层3为彩膜基板中的彩色滤光层(CF)，第二功能层6为阵列基板中的薄膜晶体管层(TFT)。
一种实施方式中，在所述第一基板10涂覆有第一偏光膜层2一侧形成所述第一功能层3的步骤包括：形成BM层、形成R色阻、形成G色阻、形成B色阻、形成OC平坦层、形成PS支撑层。
本实施方式中，第一功能层3为彩膜基板中的彩色滤光层(CF)，用于透射需要显示的光而反射不需显示的光，具体的，彩色滤光层3中依次形成BM(黑色矩阵，Black Matrix)层、形成R(红色，Red)色阻、形成G(绿色，Green)色阻、形成B(蓝色，Blue)色阻、形成OC(OverCoating)平坦层、形成PS(Porous Support)支撑层。本发明不限制彩色滤光层3内部各个层的具体结构。
一种实施方式中，在所述第二基板20涂覆有第二偏光膜层6一侧形成所述第二功能层5的步骤包括：形成遮光层、形成多晶膜层、硼离子植入、磷离子植入、形成栅极层、硼离子植入、形成绝缘层、形成漏源层、形成平坦化层、形成电容底电极、形成介电层、形成电容顶电极。
本实施方式中，第二功能层5为阵列基板中的薄膜晶体管层(TFT)，本实施方式适用于低温多晶硅型(LTPS)薄膜晶体管层，具体的，薄膜晶体管层在制作过程中，因硅器件需要掺杂，故至少需要形成多晶膜层、硼离子植入、磷离子植入和硼离子植入的步骤，并且在形成薄膜晶体管层5的过程中，具有退火工序，并且退火温度不超过600℃，以对因掺杂而造成晶格损伤的问题得到恢复，从而制得实用的低温多晶硅型薄膜晶体管层5。本发明不限制该薄膜晶体管层5的具体结构。
请参考图1至图5，本发明一种实施方式还提供了一种液晶面板的制作方法，包括以下步骤：
在第一玻璃1上沉积感光层03，层叠掩膜版02于所述感光层03上，曝光所述感光层03，显影所述感光层03，得到涂覆有第一偏光膜层2的第一基板10，在所述第一基板10涂覆有所述第一偏光膜层2一侧制作第一功能层3；
在第二玻璃7上沉积感光层05，层叠掩膜版04于所述感光层05上，曝光所述感光层05，显影所述感光层05，得到涂覆有第二偏光膜层6的第二基板20，其中，所述第二偏光膜层6的偏光方向与所述第一偏光膜层2的偏光方向互相垂直，在所述第二基板涂20覆有所述第二偏光膜层6一侧制作第二功能层5；
在所述第一功能层3和所述第二功能层5之间制作液晶层4，得到液晶面板。
本实施方式中，液晶面板的第一基板10用于制作彩膜基板，第二基板20用于制作阵列基板，在第一基板10上形成第一偏光膜层2、在第二基板20上形成第二偏光膜层6，并且，第一偏光膜层2和第二偏光膜层6位于该液晶面板的内侧，并且是在制作第一基板10和第二基板20的过程中形成，省去了后续在液晶面板外侧偏贴偏光片的工序，减少了工艺的复杂程度，并且节约了工时，节省了采购偏光片的成本。
本实施方式中，液晶层4包括液晶分子41，液晶面板上还设有驱动IC和背光模组，通电，背光模组发光，通过驱动IC对液晶面板的液晶分子驱动，使液晶分子发生扭转，以对射入液晶面板的光具有部分遮挡，通过设置第一偏光膜层2和第二偏光膜层6对光的出入的方向进行选择，以使本液晶面板显示出画面。
一种实施方式中，第一功能层3为彩膜基板中的彩色滤光层(CF)，用于透射需要显示的光而反射不需显示的光，形成所述第一功能层3的步骤包括：形成BM(黑色矩阵，BlackMatrix)层、形成R(红色，Red)色阻、形成G(绿色，Green)色阻、形成B(蓝色，Blue)色阻、形成OC(OverCoating)平坦层、形成PS(Porous Support)支撑层。本发明不限制彩色滤光层3内部各个层的具体结构。
一种实施方式中，第二功能层5为阵列基板中的薄膜晶体管层(TFT)，本实施方式适用于低温多晶硅型(LTPS)薄膜晶体管层，形成所述第二功能层的步骤包括：形成遮光层、形成多晶膜层、硼离子植入、磷离子植入、形成栅极层、硼离子植入、形成绝缘层、形成漏源层、形成平坦化层、形成电容底电极、形成介电层、形成电容顶电极。本发明不限制该薄膜晶体管层5的具体结构。
请参考图5，本发明一种实施方式提供一种液晶面板，包括第一基板10、第一功能层3、第二基板20、第二功能层5和液晶层4，所述第一基板10包括第一偏光膜层2，所述第一偏光膜层2设于所述第一基板10一侧且位于所述第一基板10与所述第一功能层3之间，所述液晶层4设于所述第一功能层3和所述第二功能层5之间。
一种实施方式中，所述第二基板20包括第二偏光膜层5，所述第二偏光膜层5设于所述第二基板20一侧且位于所述第二基板20与所述第二功能层5之间，所述第一偏光膜层2的偏光方向与所述第二偏光膜层6的偏光方向互相垂直。
以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施方式而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施方式的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。
Claims (10)
1.一种基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
在第一玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第一偏光膜层的第一基板；
在所述第一基板涂覆有所述第一偏光膜层一侧制作第一功能层。
2.如权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，还包括以下步骤：
在第二玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第二偏光膜层的第二基板，其中，所述第一偏光膜层的偏光方向与所述第二偏光膜层的偏光方向互相垂直；
在所述第二基板涂覆有所述第二偏光膜层一侧制作第二功能层。
3.如权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述第一基板涂覆有第一偏光膜层一侧形成所述第一功能层的步骤包括：形成BM层、形成R色阻、形成G色阻、形成B色阻、形成OC平坦层、形成PS支撑层。
4.如权利要求2所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述第二基板涂覆有第二偏光膜层一侧形成所述第二功能层的步骤包括：形成遮光层、形成多晶膜层、硼离子植入、磷离子植入、形成栅极层、硼离子植入、形成绝缘层、形成漏源层、形成平坦化层、形成电容底电极、形成介电层、形成电容顶电极。
5.如权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述第一玻璃上沉积所述感光层的过程在暗箱环境中进行，其中，所述感光层的材料为卤化银。
6.一种液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
在第一玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第一偏光膜层的第一基板，在所述第一基板涂覆有所述第一偏光膜层一侧制作第一功能层；
在第二玻璃上沉积感光层，层叠掩膜版于所述感光层上，曝光所述感光层，显影所述感光层，得到涂覆有第二偏光膜层的第二基板，其中，所述第二偏光膜层的偏光方向与所述第一偏光膜层的偏光方向互相垂直，在所述第二基板涂覆有所述第二偏光膜层一侧制作第二功能层；
在所述第一功能层和所述第二功能层之间制作液晶层，得到液晶面板。
7.如权利要求6所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，形成所述第一功能层的步骤包括：形成BM层、形成R色阻、形成G色阻、形成B色阻、形成OC平坦层、形成PS支撑层。
8.如权利要求6所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，形成所述第二功能层的步骤包括：形成遮光层、形成多晶膜层、硼离子植入、磷离子植入、形成栅极层、硼离子植入、形成绝缘层、形成漏源层、形成平坦化层、形成电容底电极、形成介电层、形成电容顶电极。
9.一种液晶面板，其特征在于，包括如权利要求1至5任一所述的基板的制作方法所制作的第一基板、第一功能层、第二基板、第二功能层和液晶层，所述第一基板包括第一偏光膜层，所述第一偏光膜层设于所述第一基板一侧且位于所述第一基板与所述第一功能层之间，所述液晶层设于所述第一功能层和所述第二功能层之间。
10.如权利要求9所述的液晶面板，其特征在于，所述第二基板包括第二偏光膜层，所述第二偏光膜层设于所述第二基板一侧且位于所述第二基板与所述第二功能层之间，所述第一偏光膜层的偏光方向与所述第二偏光膜层的偏光方向互相垂直。
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