CN107452752A - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

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金利受
朴应晳
李炳德
赵尹衡
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Abstract

提供了一种显示装置及其制造方法。所述显示装置包括：基底；显示部，布置在基底上并包括多个显示元件；包封件，布置在显示部上并包封显示部。包封件可以包括至少一个无机膜和至少一个有机膜，所述至少一个有机膜可以包括基质和分散在基质中的紫外光吸收剂。

Description

显示装置及其制造方法
于2016年6月1日在韩国知识产权局提交的第10-2016-0068149号和于2017年3月17日在韩国知识产权局提交的第10-2017-0033870号且标题为“Display Apparatus andMethod of Manufacturing the Same(显示装置及其制造方法)”的两件韩国专利申请的所有内容通过引用包含于此。
技术领域
实施例涉及一种显示装置及其制造方法。
背景技术
随着信息技术的发展，将用户与信息连接的用于显示器件的市场正在扩大。已经开发了各种类型的显示器件。
发明内容
实施例涉及一种显示装置，所述显示装置包括：基底；显示部，布置在基底上并包括多个显示元件；包封件，布置在显示部上并包封显示部。包封件可以包括至少一个无机膜和至少一个有机膜，所述至少一个有机膜可以包括基质和分散在基质中的紫外光吸收剂。
紫外光吸收剂可以是包括羟基的化合物。
紫外光吸收剂可以包括二苯甲酮(benzophenone)化合物、苯并三唑(benzotriazole)化合物、苯甲酸酯(benzoate)化合物、氰基丙烯酸酯(cyanoacrylate)化合物、三嗪(triazine)化合物、草酰苯胺(oxanilide)化合物和水杨酸酯(salicylate)化合物中的一种或更多种。
紫外光吸收剂可以与基质交联。
紫外光吸收剂可以是包括丙烯酸酯基(acrylate group)、甲基丙烯酸酯基(methacrylate group)和环氧基(epoxy group)中的至少一种的化合物。
所述至少一个有机膜可以包括第一有机膜和第二有机膜，第一有机膜可以包括第一紫外光吸收剂，第二有机膜可以包括第二紫外光吸收剂，被第一紫外光吸收剂吸收的光的波长范围与被第二紫外光吸收剂吸收的光的波长范围不同。
所述至少一个有机膜可以对于具有430nm或更长的波长的光呈现80％或更高的透射率。
所述至少一个有机膜可以对于具有405nm或更短的波长的光呈现小于或等于10％的透射率。
包封件可以具有其中交替地堆叠有所述至少一个无机膜和所述至少一个有机膜的结构。
显示元件可以至少在朝向包封件的方向上发射光。
实施例也涉及一种制造显示装置的方法，所述方法包括：在基底上形成包括多个显示元件的显示部；在显示部上形成包封显示部的包封件。包封件的形成可以包括形成至少一个无机膜和形成至少一个有机膜，所述至少一个有机膜可以形成为包括基质和分散在基质中的紫外光吸收剂。
紫外光吸收剂可以包括二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、苯甲酸酯化合物、氰基丙烯酸酯化合物、三嗪化合物、草酰苯胺化合物和水杨酸酯化合物中的一种或更多种。
在形成所述至少一个有机膜中，可以在基底上形成包括第一单体和第二单体的混合物的有机膜形成层，第一单体组成基质，第二单体包括紫外光吸收剂。
有机膜形成层可以包括彼此交联的第一单体和第二单体。
第二单体可以包括丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基和环氧基中的一种或更多种。
形成所述至少一个有机膜可以包括形成包含第一紫外光吸收剂的第一有机膜和形成包含第二紫外光吸收剂的第二有机膜，被第一紫外光吸收剂吸收的光的波长范围与被第二紫外光吸收剂吸收的光的波长范围不同。
附图说明
通过参照附图详细地描述示例实施例，特征对本领域技术人员来说将变得明显，在附图中：
图1示出了示意性地示出将紫外线照射到根据实施例的显示装置的状态的剖面图；
图2示出了图1的显示装置的一部分的示意性剖视图；
图3示出了图2的部分A的放大剖视图；
图4示出了示意性地示出根据另一实施例的显示装置的剖面图；
图5A示出了示出根据实施例的透射率根据入射光的波长的变化和强度根据显示器件中的发射的光的波长的变化两者的曲线图；
图5B示出了示出根据对比示例的透射率根据入射光的波长的变化和强度根据显示器件中的发射的光的波长的变化两者的曲线图；
图6示出了示出根据实施例的显示器件和根据对比示例的显示器件的损坏程度的图像；
图7示出了示出透射率根据入射到根据实施例和对比示例的显示器件的光的波长的变化的曲线图；
图8示出了示意性地示出根据实施例的制造显示装置的方法的图。
具体实施方式
现在将在下文中参照附图更充分地描述示例实施例；然而，示例实施例可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于这里所阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得该公开将是彻底的和完整的，并将把示例实施方式充分地传达给本领域的技术人员。同样的附图标记始终表示同样的元件。
如这里使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任意组合和所有组合。当诸如“……中的至少一个(种、者)”的表述在一列元件之后时，修饰整列元件，而不是修饰该列的个别元件。
将理解的是，尽管这里可以使用术语第一、第二、第三等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。
将理解的是，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”时，该元件或层可以直接在所述另一元件或层上，或者其上可以存在中间的元件或层。
在下面的示例中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，并可以被解释为更宽的含义。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同的方向。
图1是示意性地示出将紫外线照射到根据实施例的显示装置的状态的剖面图，图2是图1的显示装置的一部分的示意性剖视图。具体地，图2是示意性地示出具有作为显示元件的有机发光元件的有机发光显示装置的剖面图。然而，实施例不限于制造有机发光显示装置的方法，并且也可以应用于制造包括不同类型的显示元件的显示装置的方法。
参照图1和图2，根据实施例的显示装置10包括基底100、显示部200和包封件300。
首先，参照图1，显示装置10暴露于照射到包封件300上的紫外线(UV)。紫外线可以是当用户在户外使用显示装置10时照射的紫外线，或者可以是在制造显示装置10的工艺期间照射的紫外线。例如，在制造显示装置10的工艺期间照射的紫外线可以是固化包封件300的有机膜的紫外线，或者是用于切割基底(例如，原料基底)的紫外线。
在下文中，将参照图2更详细地描述显示装置10的结构。
参照图2，首先可以提供背板。背板可以至少包括基底100、布置在基底100上的多个第一电极210R、210G和210B、以及布置为暴露第一电极210R、210G和210B的分别包括第一电极210R、210G和210B的中心部分的至少一部分的像素限定膜180。像素限定膜180可以具有比多个第一电极210R、210G和210B远离基底100而突出(在+z方向上)的形状。
基底100可以包括各种材料或由各种材料形成，诸如，玻璃材料、金属或者诸如聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)或聚酰亚胺的塑性材料。
多个第一电极210R、210G和210B可以分别是像素电极210R、210G和210B。从像素电极210R、210G和210B之中，像素电极210B可以是第一像素电极，像素电极210R可以是第二像素电极，像素电极210G可以是第三像素电极。布置在第一像素电极、第二像素电极和第三像素电极上的中间层可以彼此不同。
像素电极210R、210G和210B可以是例如透明电极或半透明电极或反射电极。像素电极210R、210G和210B可以包括例如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氧化铟镓(IGO)或氧化铝锌(AZO)。当像素电极210R、210G和210B是反射电极时，像素电极210R、210G和210B可以包括包含例如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr或它们的化合物的反射膜以及/或者包含ITO、IZO、ZnO或In2O3的膜。然而，像素电极210R、210G和210B的结构和材料不限于此，可以做出各种修改。
像素电极210R、210G和210B可以位于基底100的显示区域内。
像素限定膜180可以包括与各个子像素对应的开口，例如，分别暴露像素电极210R、210G和210B的中心部分的开口或暴露整个像素电极210R、210G和210B的开口，从而限定像素。像素限定膜180可以增加像素电极210R、210G和210B的端部与像素电极210R、210G和210B上方的对电极230之间的距离，这可以有助于防止像素电极210R、210G和210B的端部处的电弧。
背板可以包括各种组件。例如，薄膜晶体管TFT或电容器Cap可以布置在基底100上，如图2中所示。缓冲层110可以设置为有助于防止杂质渗透到薄膜晶体管TFT的半导体层中。所述组件也可以包括例如用于使TFT的半导体层与薄膜晶体管TFT的栅电极绝缘的栅极绝缘膜130、用于使TFT的源电极/漏电极与TFT的栅电极绝缘的层间绝缘膜150、覆盖TFT并具有基本上平坦的顶表面的平坦化膜170等。
可以设置中间层220R、220G和220B。中间层220R、220G和220B中的每个可以具有包括发光层的多层结构。在实施方式中，中间层220R、220G和220B中的一些层可以是基本上与基底100的整个表面对应的公共层，然而，中间层220R、220G和220B中的其余层可以是对应于像素电极210R、210G和210B图案化的图案化层。中间层220R、220G和220B可以包括例如单体或聚合物材料，并可以包括例如空穴注入层、空穴传输层、发射层、电子传输层和/或电子注入层。可以使用诸如气相沉积法、旋涂法、喷墨印刷法和/或激光热转印法的各种方法来形成中间层220R、220G和220B。
对电极230可以位于中间层220R、220G和220B上。对电极230可以是例如(半)透明电极或反射电极。当对电极230是(半)透明电极时，对电极230可以包括包含例如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或它们的化合物的层以及/或者包含ITO、IZO、ZnO或In2O3的(半)透明导电层。当对电极230是反射电极时，对电极230可以包括包含例如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或它们的化合物的层。然而，对电极230的构造和材料不限于此，并可以做出各种修改。
可以设置包封件300用于保护显示元件(包括例如像素电极210R、210G和210B、中间层220R、220G和220B以及对电极230)免受诸如外部氧或外部湿气的杂质的影响。
可以布置包封件300，以延伸而覆盖显示部200的顶表面和显示部200的侧表面，其中，包封件300可以接触基底100的一部分。因此，可以减少或防止外部氧和外部湿气渗透到显示部200中。
包封件300可以包括例如至少一个无机膜311、312和/或313以及至少一个有机膜321和/或322。包封件300可以具有交替并重复地堆叠有至少一个无机膜311、312和/或313以及至少一个有机膜321和/或322的结构。
例如，包封件300可以包括在+z方向上按顺序堆叠的第一无机膜311、第二无机膜312和第三无机膜313。第一有机膜321可以置于第一无机膜311与第二无机膜312之间，第二有机膜322可以置于第二无机膜312与第三无机膜313之间。然而，包封件300的结构不限于此，可以根据设计修改堆叠无机膜和有机膜的顺序以及无机膜和有机膜的数量。因此，包封件300可以包括至少一个这样的夹层结构：至少一个有机膜置于至少两个无机膜之间。在另一示例中，包封件300可以包括至少一个这样的夹层结构：至少一个无机膜置于至少两个有机膜之间。在另一示例中，包封件300可以包括至少一个有机膜置于至少两个无机膜之间的夹层结构和至少一个无机膜置于至少两个有机膜之间的夹层结构。为了便于解释，将给出与包封件300的结构相关的描述，其中，第一无机膜311布置在包封件300的最下层上，第一有机膜321置于第一无机膜311与第二无机膜312之间，第二有机膜322置于第二无机膜312与第三无机膜313之间。
图3是图2的部分A的放大剖视图。
参照图3，第一无机膜311布置在包封件300的最下层上。第一无机膜311可以包括包含例如金属氧化物或金属氮化物的单层膜或堆叠膜。例如，第一无机膜311可以包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝、氮化铝、氮氧化铝、氧化钛、氮化钛、氧化钽、氮化钽、氧化铪、氮化铪、氮化锆、氧化铈、氮化铈、氧化锡、氮化锡和氧化镁中的一种或更多种。无机膜可以具有小的厚度和高的密度，并可以提供阻挡湿气和氧渗透的屏障。
可以使用诸如化学气相沉积(CVD)、等离子体化学气相沉积(PECVD)、溅射、原子层沉积(ALD)、热蒸发等的方法来形成第一无机膜311。考虑到产率、器件特性等，第一无机膜311可以形成为具有合适的厚度。
如上所述的第一无机膜311的材料、功能和制造方法也可以应用于第二无机膜312和第三无机膜313。
第一有机膜321可以布置在第一无机膜311上。第一有机膜321可以包括有机材料。第一有机膜321可以包括例如第一基质321a和分散在第一基质321a中的第一紫外光吸收剂321b(例如，紫外吸收材料或化合物)。
第一紫外光吸收剂321b可以包括吸收紫外光(例如，具有从大约200nm至大约400nm的波长的光)的材料(例如，有机化合物)。这样的材料的示例可以包括二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、苯甲酸酯化合物、氰基丙烯酸酯化合物、三嗪化合物、草酰苯胺化合物和水杨酸酯化合物中的一种或更多种。所述化合物可以包括一个或更多个羟基。上面陈述的材料中的一种可以包括在第一有机膜321中，或者上面陈述的材料中的两种或更多种可以包括在第一有机膜321中。
二苯甲酮化合物的示例可以包括例如2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-2-二羟基二苯甲酮、2,2',4',4'-四羟基二苯甲酮、2-羟基-4-辛基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2'-羟基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮等。
苯并三唑化合物的示例可以包括2-(5-甲基-2-羟基苯基)苯并三唑、2-(2-羟基-3,5-双(α,α-二甲基苄基)苯基]-2H-苯并三唑、2-(3,5-二叔丁基-2-羟基苯基)苯并三唑、2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3,5-二叔丁基-2-羟基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3,5-二叔酰基-2-羟基苯基)苯并三唑、2-(2'-羟基-5'-叔辛基苯基)苯并三唑等。
苯甲酸酯化合物的示例可以包括2,4-二叔丁基苯基-3',5'-二叔丁基-4-羟基苯甲酸酯等。
三嗪化合物的示例可以包括2-[4-[(2-羟基-3-十二烷氧基丙基)氧基]-2-羟基苯基]-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪等。
水杨酸酯化合物的示例可以包括水杨酸苯酯、4-叔丁基苯基水杨酸酯等。
下面示出了上面陈述的紫外光吸收剂材料之中的二苯甲酮化合物和苯并三唑化合物的化学式。
<式1>
在上面的式1中，R1可以为氢(H)、烷基或羟基，R2可以为H、烷基或苯基，R3可以为H或烷基，R4可以为H或烷氧基。
<式2>
在上面的式2中，R5可以为氢(H)或烷基。
在式1和式2中，二苯甲酮化合物和苯并三唑化合物中的每个具有羟基(-OH)。第一紫外光吸收剂321b可以是或包括可提供氢键的例如具有羟基(-OH)的单体材料。例如由于激发态分子内质子转移(ESIPT)现象，可以吸收来自外部的紫外光。例如，第一紫外光吸收剂321b可以是具有与羟基(-OH)相邻并具有非共价电子对的原子(诸如氧(O)或氮(N)原子)的化合物，其中，氢键可以产生在羟基(-OH)与具有非共价电子对的原子之间。通过吸收紫外光激发的紫外光吸收剂321b可以经历光互变异构(phototautomerization)，在光互变异构中，质子在激发的分子中移动，因此H原子可以从羟基(-OH)释放，以形成稳定的酮式分子。因此，可以释放热量。因此，入射到第一紫外光吸收剂321b的紫外光可以转换成热能并辐射到外部，这可以减少或防止紫外光传输到显示部中。另外，可以防止第一有机膜321的第一基质321a被紫外光过度照射，使得可以最小化对包括在第一基质321a中的有机物的损坏。
第一基质321a中的第一紫外光吸收剂321b的量可以例如根据第一有机膜321的厚度和第一紫外光吸收剂321b的吸收波长范围而改变。例如，可以以大约0.1wt％至大约20wt％的量包括第一紫外光吸收剂321b。
第一基质321a可以是包括基于其设定第一有机膜321的膜特性的有机材料的层，并可以包括例如丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、异戊二烯树脂、乙烯基树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、纤维素树脂、苝树脂和酰亚胺树脂中的一种或更多种。考虑到产率、器件特性和无机膜的厚度，可使用第一基质321a作为主要成分形成的第一有机膜321可以布置为具有合适的厚度。第一有机膜321可以减小第一无机膜311和/或第二无机膜312的应力，并可以使第一无机膜311和/或第二无机膜312平坦化。
各种方法可以用来形成第一有机膜321。例如，有机膜形成层可以通过使用诸如蒸发、喷墨印刷、丝网印刷和旋涂的方法容纳在第一无机膜311上，其中，有机膜形成层包括例如第一单体和第二单体的混合物，第一单体包括用于形成第一基质321a的有机材料，第二单体包括第一紫外光吸收剂321b。下面将参照图8描述形成包封件300的有机膜的具体方法。
如上所述的第一有机膜321的结构、材料、功能和制造方法可以与第二有机膜322的结构、材料、功能和制造方法相同。
第二无机膜312可以布置在第一有机膜321上。与第一无机膜311一样，第二无机膜312可以包括包含金属氧化物或金属氮化物的单层膜或堆叠膜。第二无机膜312可以包括与第一无机膜311的材料不同的材料。通过考虑第一无机膜311的较低层材料的材料和无机膜311和312的厚度，第二无机膜311可以包括合适的材料。
第二有机膜322可以布置在第二无机膜312上。第二有机膜322可以包括第二基质322a和分散在第二基质322a中的第二紫外光吸收剂322b。与第一紫外光吸收剂321b一样，第二紫外光吸收剂322b可以包括诸如以二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、苯甲酸酯化合物、氰基丙烯酸酯化合物、三嗪化合物、草酰苯胺化合物和水杨酸酯化合物中的一种或更多种为例的有机化合物，并可以包括一个或更多个羟基。第一紫外光吸收剂321b和第二紫外光吸收剂322b可以是有机化合物。第二紫外光吸收剂322b可以是与第一紫外光吸收剂321b不同的化合物。第一紫外光吸收剂和第二紫外光吸收剂的材料或化合物可以分别具有不同的紫外光吸收波长范围。
在实施例中，通过使用不同的材料布置多个第二紫外光吸收剂322b和多个第一紫外光吸收剂321b，不被第二有机膜322吸收的波长范围的紫外光可以被第一有机膜321吸收。例如，与可作为上层的第二有机膜322相比，通过对可作为下层的第一有机膜321使用能够吸收较长波长的紫外光的材料，可以阻挡相对宽的波长范围的紫外光。
第三无机膜313可以布置在第二有机膜322上。根据本示例实施例，第三无机膜313位于包封件300的最上层上。通过以无机膜布置包封件300的暴露于外部的最上层，可以减少或防止氧和湿气渗透到显示部中。
图4是示意性地示出根据另一示例实施例的显示装置的剖面图。
在图4中示出的示例实施例中，包括在有机膜中的紫外光吸收剂与组成有机膜的基质交联。将通过集中于与先前示例实施例的不同之处来详细地描述本示例实施例。
包含例如金属氧化物或金属氮化物的第一无机膜311可以布置在包封件300的最下层上，第一有机膜321可以布置在第一无机膜311上。第一有机膜321可以包括有机材料，例如，第一基质321a和分散在第一基质321a中的第一紫外光吸收剂321c。
第一紫外光吸收剂321c可以是例如有机化合物，并可以包括二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、苯甲酸酯化合物、氰基丙烯酸酯化合物、三嗪化合物、草酰苯胺化合物和水杨酸酯化合物中的一种或更多种。
第一紫外光吸收剂321c可以包括例如丙烯酸基、甲基丙烯酸基和环氧基中一种或更多种，并可以具有材料或化合物与丙烯酸基、甲基丙烯酸基和环氧基之中的至少一个官能团321d结合的结构。官能团321d可以与第一基质321a交联，这可以为第一有机膜321提供更密的膜特性。
第一基质321a可以是例如包括基于其设定第一有机膜321的基础膜特性的有机材料的层，并可以包括例如丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、异戊二烯树脂、乙烯基树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、纤维素树脂、苝树脂和酰亚胺树脂中的一种或更多种。
在第一基质321a中，可以分散第一紫外光吸收剂321c。根据本示例实施例，第一紫外光吸收剂321c和第一基质321a例如通过上面陈述的官能团321d彼此交联。通过将第一紫外光吸收剂321c与第一基质321a结合，第一紫外光吸收剂321c可以不容易与第一有机膜321分离。
第一有机膜321可以通过在第一无机膜311上设置有机膜形成层来形成，其中，有机膜形成层可以包括第一单体和第二单体，第一单体包括用于形成第一基质321a的有机材料，第二单体包括多个第一紫外光吸收剂321c。在形成有机膜形成层的操作中，第一单体和第二单体可以通过包括在第一紫外光吸收剂321c中的官能团321d而交联。
第二无机膜312可以布置在第一有机膜321上，第二有机膜322可以布置在第二无机膜312上。第二有机膜322可以包括与第一有机膜321的紫外光吸收剂不同的紫外光吸收剂。因此，第二有机膜322和第一有机膜321可以吸收不同波长的紫外光，因此可以增大被包封件300阻挡的紫外光的波长范围。
第三无机膜313可以布置在第二有机膜322上，并可以是作为无机膜的包封件300的暴露于最外部的最上层。因此，可以减少或防止湿气和氧渗透到显示部中。
图5A是示出根据实施例的透射率根据入射光的波长的变化和强度根据显示器件中发射的光的波长的变化两者的曲线图。图5B是示出根据对比示例的透射率根据入射光的波长的变化和强度根据显示器件中发射的光的波长的变化两者的曲线图。
参照图5A和图5B，曲线图的水平轴表示光的波长，位于曲线图的左侧上的竖直轴表示光的强度，位于曲线图的右侧上的竖直轴表示光的透射率。图5A和图5B中示出的曲线示出了通过使用没有偏振板的显示器件测量透射率和强度获得的结果。
图5A的曲线(a)表示根据实施例的透射率根据入射到显示器件的光的波长的变化。如由曲线(a)所表示的，根据实施例的显示器件可以对于具有430nm或更长的波长的外部光呈现80％或更高的透射率。可以根据紫外光吸收剂的类型、组成和浓度以及其中分散有紫外光吸收剂的有机膜的厚度等将对于外部光的透射率调整为各种值。
图5A的曲线(b-1)表示强度根据从通常的显示器件发射的蓝光的波长的变化，图5A的曲线(b-2)表示强度根据从根据实施例的显示器件发射的蓝光的波长的变化。
例如，当显示器件发射蓝光、绿光和红光时，具有最接近紫外光波段的波段的蓝光明显受到显示器件吸收紫外波长的光的程度的影响。因此，在显示器件吸收紫外光时，可能降低对于可见光波段与紫外光波段之间的光的透射率，也可能由此降低关于从显示器件发射的蓝光的光发射效率。
就这点而言，参照图5A的曲线(b-1)和曲线(b-2)，当对于430nm的波长(其是蓝光波段中的最短的波长)或蓝光波段中的较长的波长的光的透射率为80％或更高时，通常的显示器件的蓝光的强度与根据实施例的显示器件(其能够吸收紫外光)的蓝光的强度之间几乎不存在差异。具体地，当对于具有430nm或更长的波长的外部光的透射率为大约80％时，蓝光发射效率的相对降低可以小于或等于大约2％。
示出上面陈述的效果的对比示例示出在图5B中。图5B是示出透射率根据入射到根据对比示例的显示器件的光的波长的变化的曲线图。根据对比示例的显示器件呈现对于具有430nm或更长的波长的外部光的小于80％的透射率。
图5B的曲线(b-1)表示相对于从普通的显示器件发射的蓝光的波长的强度的变化，而图5B的曲线(b-2)表示强度根据从根据对比示例的显示器件发射的蓝光的波长的变化。
参照图5B的曲线(b-1)和曲线(b-2)，当对于430nm的波长(其近似是蓝光波段中的最短波长)或蓝光波段中较长的波长的光的透射率小于80％时，与普通的显示器件的蓝光的强度相比，根据实施例的显示器件(能够吸收紫外光)的蓝光的强度明显降低。具体地，当对于具有430nm或更长的波长的外部光的透射率为大约70％时，蓝光发射效率的降低可以为大约10％。
因此，在根据实施例的显示器件的情况下，有必要适当地调整紫外光吸收剂的类型、组成和浓度以及其中分散有紫外光吸收剂的有机膜的厚度，使得对于具有430nm或更长的波长的外部光的透射率为80％或更高。
图6示出了示出根据实施例的显示器件和根据对比示例的显示器件的损坏程度的图像。
在图6的显示面板中，由箭头(i)表示的区域是具有405nm的波长的外部光入射到根据实施例的显示器件的一部分的区域，由箭头(ii)表示的区域是具有405nm的波长的外部光入射到根据对比示例的显示器件的一部分的区域。图6示出通过使用没有偏振板的显示器件获得的测量结果。
具体地，设置在由箭头(i)表示的区域中的根据实施例的显示器件可以呈现对于具有405nm或更短的波长的外部光的小于10％的透射率。相反，设置在由箭头(ii)表示的区域中的根据对比示例的显示器件可以呈现对于具有405nm或更短的波长的外部光的高于10％的透射率。
参照图6的左边的放大部分，当对于具有405nm的波长(其近似是紫外光波段中的最长波长)或紫外光波段中的较短波长的光的透射率为10％或更小(如由箭头(i)表示的区域中)时，即使在暴露于具有405nm或更短的波长的光时，也不会在该区域中观看到特别的异常。
相反，参照图6的右边的放大部分，当对于具有405nm的波长或紫外光波段中的较短波长的光的透射率超过10％(诸如由箭头(ii)表示的区域)时，可以确认的是，该区域的原始颜色在暴露于具有405nm或更短的波长的光时变化。其原因是例如由于对发射层的损坏而导致的诸如亮度降低的缺陷。
因此，在根据实施例的显示器件的情况下，选择紫外光吸收剂的类型、组成和/或浓度以及其中分散有紫外光吸收剂的有机膜的厚度，使得对于具有405nm或更短的波长的外部光的透射率小于或等于10％。
图7是示出透射率根据入射到根据实施例和对比示例的显示器件的光的波长的变化的曲线图。
在图7中，曲线图的水平轴表示光的波长，而曲线图的竖直轴表示光的透射率。
图7的曲线(a-1)表示透射率根据入射到根据对比示例的显示器件的光的波长的变化。根据对比示例的显示器件是仅包括偏振板而没有紫外光吸收剂的显示器件。
相反，图7的曲线(a-2)表示透射率根据入射到根据实施例的显示器件的光的波长的变化。如上所述的根据实施例的显示器件可以是包括偏振板和其中分散有紫外光吸收剂的包封件的显示器件。
参照图7，尽管大约50％或更多的外部光可以被由曲线(a-1)表示的对比示例中的偏振板阻挡，但是对于具有405nm的波长(其近似是紫外光波段中的最长波长)或紫外光波段中的较短波长的光的透射率超过30％。因此，对于具有在可见光波段与紫外光波段之间的波长的外部光的透射率相对高，因此，在防止对发射层和有机绝缘膜的损坏方面可能存在限制。
相反，在曲线(a-2)表示的实施例的情况下，可以通过偏振板阻挡大约50％或更多的外部光。另外，对于具有405nm的波长或紫外光波段中的较短波长的光的透射率降低到10％以下。因此，可以更加有效地防止对发射层和有机绝缘膜的损坏。
图8是示意性地示出根据实施例的制造显示装置的方法的图。
如图8中所示，可以通过使用喷墨印刷法来形成有机膜形成层321'。可以在作为下层的第一无机膜311上将有机膜形成层321'形成为混合物(例如，包括用于形成基质的有机材料的第一单体321a'和包括紫外光吸收剂的第二单体321b'的混合物)。随着打印头H在+y方向上扫描基底100的上部，同时连续地喷射第一单体321a'和第二单体321b'的混合物，在基底100上形成包括紫外光吸收剂的有机膜形成层321'。为了有效地喷射单体321a'和321b'的混合物，可以在打印头H的内部设置多个喷嘴。
如上所述，由于可以使用喷墨印刷法来形成有机膜形成层321'。因此，可以防止有机膜形成层321'扩张到作为显示部200上的目标区域的与第一无机膜311对应的区域的外部。有机膜形成层321'可以基本上以液态状态施用到基底100上。因此，可以防止由于蒸发法中的蒸发热量而引起的紫外光吸收剂的变化(例如，分子量和/或链结构方面的变化)。然而，形成有机膜形成层321'的方法不必限于喷墨印刷法，也可以使用丝网印刷法、旋涂法等。
可以通过将紫外线照射到有机膜形成层321'的顶部上使有机膜形成层321'固化。在此情况下，用于形成基质的第一单体321a'可以变成有机共聚物，并可以固定到基底100上。因此，可以形成具有多个紫外光吸收剂在有机共聚物中彼此简单地混合或交联的结构的有机包封膜。
通过总结和回顾，在显示装置之中，有机发光显示器件作为具有诸如外形纤薄、质轻和低功耗的优异的特性的显示器件而引起关注。随着信息器件的户外使用增加，显示器件暴露于阳光的时间可以增加。另外，包括照射紫外线的操作可以用于制造显示器件的工艺中。如果来自外部的紫外线自由地透射到显示器件的内部，则会损坏包括有机材料的绝缘膜和发射层。
如上所述，实施例涉及一种可减少紫外光透射到显示装置中的显示装置及其制造方法。实施例可以提供可减少或防止由于紫外光而引起的对包括有机材料的绝缘膜和发射层的损坏的显示装置以及用于制造该显示装置的方法。另外，可以省略单独的紫外屏蔽膜。因此，可以减小显示装置的厚度，这可以改善显示装置的柔性。另外，可以通过限制在制造显示装置的工艺中照射的紫外线的量来改善显示装置的质量。
这里已经公开了示例实施例，尽管采用了特定术语，但是仅以一般的和描述性的含义来使用和解释这些术语，而不是为了限制的目的。在一些情况下，对于到提交本申请为止的本领域普通技术人员来说将明显的是，除非另外明确表示，否则可以单独使用结合具体实施例描述的特征、特性和/或元件，或者与结合其它实施例描述的特征、特性或/或元件组合使用。因此，本领域技术人员将理解的是，在不脱离如权利要求书中所阐述的本发明的精神和范围的情况下，可在形式和细节上做出各种改变。

Claims (16)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
基底；
显示部，布置在所述基底上并包括多个显示元件；以及
包封件，布置在所述显示部上并包封所述显示部，
其中，所述包封件包括至少一个无机膜和至少一个有机膜，
所述至少一个有机膜包括基质和分散在所述基质中的紫外光吸收剂。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述紫外光吸收剂是包括羟基的化合物。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述紫外光吸收剂包括二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、苯甲酸酯化合物、氰基丙烯酸酯化合物、三嗪化合物、草酰苯胺化合物和水杨酸酯化合物中的一种或更多种。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述紫外光吸收剂与所述基质交联。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述紫外光吸收剂是包括丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基和环氧基中的至少一种的化合物。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述至少一个有机膜包括第一有机膜和第二有机膜，
所述第一有机膜包括第一紫外光吸收剂，所述第二有机膜包括第二紫外光吸收剂，被所述第一紫外光吸收剂吸收的光的波长范围与被所述第二紫外光吸收剂吸收的光的波长范围不同。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述至少一个有机膜对于具有430nm或更长的波长的光呈现80％或更高的透射率。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述至少一个有机膜对于具有405nm或更短的波长的光呈现小于或等于10％的透射率。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述包封件具有其中交替地堆叠有所述至少一个无机膜和所述至少一个有机膜的结构。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示元件至少在朝向所述包封件的方向上发射光。
11.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
在基底上形成包括多个显示元件的显示部；以及
在所述显示部上形成包封所述显示部的包封件，
其中，所述包封件的形成包括形成至少一个无机膜和形成至少一个有机膜，
所述至少一个有机膜形成为包括基质和分散在所述基质中的紫外光吸收剂。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述紫外光吸收剂包括二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、苯甲酸酯化合物、氰基丙烯酸酯化合物、三嗪化合物、草酰苯胺化合物和水杨酸酯化合物中的一种或更多种。
13.根据权利要求11所述的方法，其中，在形成所述至少一个有机膜中，在所述基底上形成包括第一单体和第二单体的混合物的有机膜形成层，所述第一单体组成所述基质，所述第二单体包括所述紫外光吸收剂。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述有机膜形成层包括彼此交联的所述第一单体和所述第二单体。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述第二单体包括丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基和环氧基中的一种或更多种。
16.根据权利要求11所述的方法，其中，形成所述至少一个有机膜包括形成包含第一紫外光吸收剂的第一有机膜和形成包含第二紫外光吸收剂的第二有机膜，被所述第一紫外光吸收剂吸收的光的波长范围与被所述第二紫外光吸收剂吸收的光的波长范围不同。
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