CN107444776A - 高温加热设备的承载装置及其清洁方法、高温加热设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了高温加热设备的承载装置，包括承载平台、高压气体产生装置和升降装置，所述高压气体产生装置和所述升降装置相对设置，所述承载平台设置于所述高压气体产生装置和所述升降装置之间，所述高压气体产生装置用于喷射冲击所述承载平台的高压气体，所述升降装置用于使所述承载平台进行预定角度的倾斜。本发明还提供了一种具有该承载装置的高温加热设备以及该承载装置的清洁方法。本发明在承载平台承载即将处理的玻璃基板之前，将承载平台上的颗粒等污染物清除，从而在玻璃基板与承载平台接触吸附时，不会造成玻璃基板的顶伤。
Description
技术领域
本发明属于装备制造技术领域，具体地讲，涉及一种高温加热设备的承载装置及其清洁方法、高温加热设备。
背景技术
随着智能手机的蓬勃发展，越来越多的消费者不再单单看重智能手机的功能，外形的美观也成为了他们选择的重点，因而手机屏幕正向着更大更薄的方向发展。随着屏幕的不断减薄，彩色滤光片(Color Filter，简称CF)基板从最早的0.7mm逐步减薄至现在的0.15mm，可谓是精益求精。但随着规格要求的逐步攀升，想要保证产品的良率品质，生产制作中的难度也是倍增，对于设备的要求更是极其苛刻，因为再细小的变异都将会对那薄如纸张的玻璃造成损伤。
高温加热设备(HPCP设备)是彩色滤光片基板的主制程设备之一，其主要功能是：通过高温加热(约90～120℃)去除玻璃基板上光阻内的溶剂(solvent)，并增加光阻与玻璃基板的附着力，同时还可减少曝光机光罩(Mask)的雾化程度以及增加显影机制程边距(margin)。
高温加热设备是较易造成玻璃顶伤的设备，因为在高温下，光阻中的各类溶剂不断的挥发，并从排气管中排出，但是当进行交换片动作时不得不开启密闭的腔室(chamber)，这时外部的冷空气将会导致部分升华物凝结成小颗粒掉落在承载平台(Stage)上；同时由于热胀冷缩的原理，高温环境下玻璃膨胀，从而密度下降，在与承载平台接触吸附时，那掉落的细小颗粒便会造成玻璃的顶伤。
发明内容
为了解决上述现有技术存在的问题，本发明提供了一种能够避免承载平台上的颗粒等污染物对玻璃基板造成顶伤的高温加热设备的承载装置及其清洁方法、高温加热设备。
根据本发明的一方面，提供了一种高温加热设备的承载装置，其包括承载平台、高压气体产生装置和升降装置，所述高压气体产生装置和所述升降装置相对设置，所述承载平台设置于所述高压气体产生装置和所述升降装置之间，所述高压气体产生装置用于喷射冲击所述承载平台的高压气体，所述升降装置用于使所述承载平台进行预定角度的倾斜。
进一步地，所述升降装置用于使所述承载平台的邻近所述高压气体产生装置的第一侧抬升和/或使所述承载平台的远离所述高压气体产生装置的第二侧下降，所述第一侧和所述第二侧相对且平行。
进一步地，所述升降装置包括第一升降器组和第二升降器组，所述第一升降器组设置于所述承载平台的第三侧，所述第二升降器组设置于所述承载平台的第四侧，所述第三侧与所述第四侧位于所述第一侧和所述第二侧之间，并且所述第三侧和所述第四侧相对且平行，所述第一升降器组和所述第二升降器组分别包括多个连接于所述承载平台的升降器。
进一步地，所述升降器为气缸。
进一步地，所述高压气体产生装置包括第一滑行轨道、第二滑行轨道和风刀，所述第一滑行轨道和所述第二滑行轨道分别设置于所述承载平台的第三侧和第四侧，且所述第一滑行轨道和所述第二滑行轨道相向且平行，所述风刀架设于所述第一滑行轨道和所述第二滑行轨道上，以在第一滑行轨道和所述第二滑行轨道上进行滑行移动，所述风刀用于喷射所述高压气体。
根据本发明的另一方面，还提供了一种高温加热设备，其包括具有封闭的容置腔室的腔体以及设置于所述容置腔室内的上述的承载装置。
根据本发明的又一方面，又提供了一种上述的承载装置的清洁方法，其包括：升降装置使承载平台进行预定角度的倾斜；高压气体产生装置喷射冲击所述承载平台的高压气体。
进一步地，所述升降装置使承载平台进行预定角度的倾斜的方法包括：所述升降装置使所述承载平台的邻近所述高压气体产生装置的第一侧抬升和/或所述升降装置使所述承载平台的远离所述高压气体产生装置的第二侧下降；其中，所述第一侧和所述第二侧相对且平行。
进一步地，在所述高压气体产生装置喷射冲击所述承载平台的高压气体的同时，所述高压气体产生装置沿着从所述第一侧朝向所述第二侧的方向匀速运动。
本发明的有益效果：本发明在承载平台承载即将处理的玻璃基板之前，将承载平台上的颗粒等污染物清除，从而在玻璃基板与承载平台接触吸附时，不会造成玻璃基板的顶伤。
附图说明
通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：
图1是根据本发明的实施例的高温加热设备的结构示意图；
图2是根据本发明的实施例的承载装置承载被处理的对象时的状态示意图；
图3是根据本发明的实施例的对承载平台进行清洁的状态示意图。
具体实施方式
以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。
在附图中，为了清楚起见，可以夸大元件的形状和尺寸，并且相同的标号将始终被用于表示相同或相似的元件。
图1是根据本发明的实施例的高温加热设备的结构示意图。
参照图1，根据本发明的实施例的高温加热设备包括：腔体100、承载装置200。应当理解的是，根据本发明的实施例的高温加热设备还可以包括排气干燥器等其他必要的部件。
在本实施例中，腔体100整体呈长方体状，但本发明并不限制于此，可以根据实际需求而将腔体100构造为其他合适的形状。腔体100包括一封闭的容置腔室110。应当说明的是，容置腔室110被相对地设定为封闭的，例如当高温加热设备对玻璃基板进行高温加热处理时，容置腔室110封闭；当需要更换玻璃基板时，需要将容置腔室110打开。
承载装置200设置于容置腔室110内，承载装置200通常用于承载被处理的对象(诸如玻璃基板等)。以下结合图1和图2对根据本发明的实施例的承载装置200的具体结构进行详细描述。图2是根据本发明的实施例的承载装置承载被处理的对象时的状态示意图。
参照图1和图2，根据本发明的实施例的承载装置200包括：承载平台210、高压气体产生装置220和升降装置230。
具体地，高压气体产生装置220和升降装置230相对设置，承载平台210设置于高压气体产生装置220和升降装置230。也就是说，在图1和图2中，高压气体产生装置220位于承载平台210之上，而升降装置230位于承载平台之下。承载平台210用于承载被处理的对象(即玻璃基板1000)，高压气体产生装置220用于喷射冲击承载平台210的高压气体，升降装置230用于使承载平台210进行预定角度的倾斜。
在对玻璃基板1000进行高温加热处理时，承载平台210承载玻璃基板1000，而高压气体产生装置220和升降装置230均处于不工作状态。在将处理完成的玻璃基板1000运送出容置腔室110之后，且在将被进行处理的玻璃基板1000被运送进入容置腔室110之前，需要对承载平台210上的颗粒等污染物进行清洁，此时，高压气体产生装置220和升降装置230处于工作状态，具体在下面描述。
图3是根据本发明的实施例的对承载平台进行清洁的状态示意图。
参照图3，在将处理完成的玻璃基板1000运送出容置腔室110之后，且在将被进行处理的玻璃基板1000被运送进入容置腔室110之前，升降装置230使承载平台210的邻近高压气体产生装置220的第一侧抬升和/或升降装置230使承载平台210的远离高压气体产生装置220的第二侧下降，而高压气体产生装置220产生高压气体，并将产生的高压气体喷向于承载平台210上，从而有效地将承载平台210上的颗粒等污染物吹落，从而完成对承载平台210的清洁。
此外，进一步地，为了使更好地对承载平台210进行全面的清洁，优选地，高压气体产生装置220在产生并喷射高压气体的同时，高压气体产生装置220沿从所述第一侧到所述第二侧的方向匀速运动，但本发明并不限制于此。
需要说明的是，由于承载平台210呈长方体状，因此承载平台210包括四侧；其中，所述第一侧和所述第二侧相对且平行，第三侧和第四侧相对且平行，并且所述第三侧和所述第四侧位于所述第一侧和所述第二侧之间。此外，这里的每一侧描述的是空间上的方位，其并不限制于必须属于承载平台210的一部分，也可以是承载平台210的上方或下方。
参照图1至图3，升降装置230包括第一升降器组和第二升降器组，所述第一升降器组设置于承载平台210的第三侧，所述第二升降器组设置于承载平台210的第四侧，所述第一升降器组和所述第二升降器组分别包括多个连接于承载平台210的升降器231。也就是说，第一升降器组中的各个升降器231的排列方向与第二升降器组中的各个升降器231的排列方向平行。
通过各个升降器231的上升和/或下降，以使承载平台210的第一侧抬升和/或升降装置230的第二侧下降。进一步地，在本实施例中，升降器231优选为气缸，但本发明并不限制于此。
高压气体产生装置220包括第一滑行轨道221、第二滑行轨道222和风刀223，第一滑行轨道221和第二滑行轨道222分别设置于承载平台210的第三侧和第四侧，且第一滑行轨道221和第二滑行轨道222相向且平行，风刀223架设于第一滑行轨道221和第二滑行轨道222上，以在第一滑行轨道221和第二滑行轨道222进行滑行移动，风刀223用于喷射所述高压气体。
以下结合图3对根据本发明的实施例的承载装置200的清洁方法进行详细说明。参照图3，在承载装置200承载的玻璃基板1000(图2所示)被处理完成之后，玻璃基板1000被运送出容置腔室110，之后在将被处理的玻璃基板运送进入容置腔室110之前，承载装置200进行清洁，具体的清洁方法包括：
步骤一：升降装置230使承载平台210进行预定角度的倾斜。
如上所述，升降装置230使承载平台210的邻近高压气体产生装置220的第一侧抬升和/或升降装置230使承载平台210的远离高压气体产生装置220的第二侧下降。进一步地，通过各个升降器231的上升和/或下降，以使承载平台210的第一侧抬升和/或升降装置230的第二侧下降。
步骤二：高压气体产生装置220喷射冲击承载平台210的高压气体。
进一步地，高压气体产生装置220在产生并喷射高压气体的同时，高压气体产生装置220沿从所述第一侧到所述第二侧的方向匀速运动，
综上所述，根据本发明的实施例，在承载平台承载即将处理的玻璃基板之前，将承载平台上的颗粒等污染物清除，从而在玻璃基板与承载平台接触吸附时，不会造成玻璃基板的顶伤。
虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。
Claims (9)
1.一种高温加热设备的承载装置，其特征在于，包括承载平台、高压气体产生装置和升降装置，所述高压气体产生装置和所述升降装置相对设置，所述承载平台设置于所述高压气体产生装置和所述升降装置之间，所述高压气体产生装置用于喷射冲击所述承载平台的高压气体，所述升降装置用于使所述承载平台进行预定角度的倾斜。
2.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述升降装置用于使所述承载平台的邻近所述高压气体产生装置的第一侧抬升和/或使所述承载平台的远离所述高压气体产生装置的第二侧下降，所述第一侧和所述第二侧相对且平行。
3.根据权利要求2所述的承载装置，其特征在于，所述升降装置包括第一升降器组和第二升降器组，所述第一升降器组设置于所述承载平台的第三侧，所述第二升降器组设置于所述承载平台的第四侧，所述第三侧与所述第四侧位于所述第一侧和所述第二侧之间，并且所述第三侧和所述第四侧相对且平行，所述第一升降器组和所述第二升降器组分别包括多个连接于所述承载平台的升降器。
4.根据权利要求3所述的承载装置，其特征在于，所述升降器为气缸。
5.根据权利要求2所述的承载装置，其特征在于，所述高压气体产生装置包括第一滑行轨道、第二滑行轨道和风刀，所述第一滑行轨道和所述第二滑行轨道分别设置于所述承载平台的第三侧和第四侧，且所述第一滑行轨道和所述第二滑行轨道相向且平行，所述风刀架设于所述第一滑行轨道和所述第二滑行轨道上，以在第一滑行轨道和所述第二滑行轨道上进行滑行移动，所述风刀用于喷射所述高压气体。
6.一种高温加热设备，其特征在于，包括具有封闭的容置腔室的腔体以及设置于所述容置腔室内的权利要求1至5任一项所述的承载装置。
7.一种权利要求1所述的承载装置的清洁方法，其特征在于，包括：
升降装置使承载平台进行预定角度的倾斜；
高压气体产生装置喷射冲击所述承载平台的高压气体。
8.根据权利要求7所述的承载装置的清洁方法，其特征在于，所述升降装置使承载平台进行预定角度的倾斜的方法包括：
所述升降装置使所述承载平台的邻近所述高压气体产生装置的第一侧抬升和/或所述升降装置使所述承载平台的远离所述高压气体产生装置的第二侧下降；其中，所述第一侧和所述第二侧相对且平行。
9.根据权利要求8所述的承载装置的清洁方法，其特征在于，在所述高压气体产生装置喷射冲击所述承载平台的高压气体的同时，所述高压气体产生装置沿着从所述第一侧朝向所述第二侧的方向匀速运动。
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5486128A (en) * | 1992-10-30 | 1996-01-23 | Sony Corporation | Powder beam etching machine |
| WO2008035552A1 (fr) * | 2006-09-21 | 2008-03-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Appareil de traitement par la chaleur |
| CN202779050U (zh) * | 2012-07-19 | 2013-03-13 | 赖振元 | 密闭式集尘吹气机 |
| CN103676329A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-03-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶光配向设备 |
| CN204656587U (zh) * | 2015-05-13 | 2015-09-23 | 张俊华 | 可调操作平台 |
| CN106842836A (zh) * | 2017-04-05 | 2017-06-13 | 武汉华星光电技术有限公司 | 干燥装置以及具有该干燥装置的曝光显影设备 |
-
2017
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5486128A (en) * | 1992-10-30 | 1996-01-23 | Sony Corporation | Powder beam etching machine |
| WO2008035552A1 (fr) * | 2006-09-21 | 2008-03-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Appareil de traitement par la chaleur |
| CN202779050U (zh) * | 2012-07-19 | 2013-03-13 | 赖振元 | 密闭式集尘吹气机 |
| CN103676329A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-03-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶光配向设备 |
| CN204656587U (zh) * | 2015-05-13 | 2015-09-23 | 张俊华 | 可调操作平台 |
| CN106842836A (zh) * | 2017-04-05 | 2017-06-13 | 武汉华星光电技术有限公司 | 干燥装置以及具有该干燥装置的曝光显影设备 |
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