CN106842836A - 干燥装置以及具有该干燥装置的曝光显影设备 - Google Patents

干燥装置以及具有该干燥装置的曝光显影设备 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种干燥装置，其包括腔体、承载平台、高压气体产生器和排气干燥器，所述腔体包括多个腔壁，所述多个腔壁合围形成一容置空间，所述承载平台和所述高压气体产生器设置于所述容置空间中，且所述高压气体产生器与所述承载平台相对设置，所述承载平台用于承载被干燥对象，所述高压气体产生器用于喷射冲击所述被干燥对象的高压气体，所述排气干燥器设置于所述腔壁中，所述排气干燥器用于使所述容置空间中的水汽排出，以使所述容置空间中的湿度处于平衡状态。本发明还提供了一种具有该干燥装置的曝光显影设备。在本发明中，干燥装置的腔体内的气流能够处于平衡状态，从而腔体内的湿度处于平衡状态，避免了腔体内产生乱流的现象。

Description

干燥装置以及具有该干燥装置的曝光显影设备
技术领域
本发明属于生产设备技术领域，具体地讲，涉及一种干燥装置以及具有该干燥装置的曝光显影设备。
背景技术
在曝光显影工艺中，未经过曝光后的光刻胶和显影液在反应之后被冲洗掉，而经曝光后的光刻胶固化留下所需的图案。曝光显影工艺对基板上得到的图案的微观缺陷及宏观缺陷有着重要的影响，其中最主要的一方面是显影液被冲洗后基板的干燥能力，基板在经过显影和冲洗之后，其上的图案已经形成，如果在冲洗后基板的干燥能力不佳，微观缺陷表现为会在基板正反面形成大量的水汽残留，全数检查机检查的微观缺陷数量大量增加，对于分析其他缺陷产生很大不便利性，宏观缺陷则表现为在基板正面形成水纹不均匀(mura)，增加外观判断的无益损失(NG Loss)。
传统的干燥主要是通过风刀(air knife)及红外加热炉(infrared Ray)对冲洗后的基板上的水汽残留进行改善，但是仅通过风刀对水汽的干燥能力有限，往往不能完全去除水汽，通过在水洗后另外加装红外加热炉(infrared Ray)可以较好的去除水汽，但是成本较高，且设备的外观及尺寸会出现大幅增加，对于设备空间有较大的需求，对规划产线布局产生制约。
另外，传统的排气方式往往是直接在风刀腔室的腔壁上设置排气口，通过固定的连接管道接通到动力端的排气装置上进行，这种排气的能力往往不够，如果风刀腔室与排气匹配不好，腔室内会出现乱流，水汽更不容易排出。
发明内容
为了解决上述现有技术存在的问题，本发明提供了一种能够避免腔体内出现乱流现象的干燥装置以及具有该干燥装置的曝光显影设备。
根据本发明的一方面，提供了一种干燥装置，其包括腔体、承载平台、高压气体产生器和排气干燥器，所述腔体包括多个腔壁，所述多个腔壁合围形成一容置空间，所述承载平台和所述高压气体产生器设置于所述容置空间中，且所述高压气体产生器与所述承载平台相对设置，所述承载平台用于承载被干燥对象，所述高压气体产生器用于喷射冲击所述被干燥对象的高压气体，所述排气干燥器设置于所述腔壁中，所述排气干燥器用于使所述容置空间中的水汽排出，以使所述容置空间中的湿度处于平衡状态。
可选地，所述排气干燥器包括通孔和干燥单元，所述通孔贯穿所述腔壁，所述干燥单元设置于所述通孔内。
可选地，所述干燥单元为固体干燥剂。
可选地，所述排气干燥器还包括阀门，所述阀门和所述干燥单元沿着从腔壁内表面到腔壁外表面的方向依次设置，且所述阀门和所述干燥单元彼此间隔，通过控制所述阀门的开度，以控制所述容置空间中的水汽排出量。
可选地，所述排气干燥器还包括密封圈，所述密封圈设置于所述阀门和所述通孔内壁之间。
可选地，所述通孔的孔径沿着从腔壁内表面到腔壁外表面的方向逐渐减小。
可选地，所述高压气体产生器包括滑行轨道、风刀和风机过滤机组，所述风刀架设于所述滑行轨道上，以在滑行轨道上进行滑行移动，所述风机过滤机组设置于所述腔体之外，所述风机过滤机组用于向所述风刀输送所述高压气体，所述风刀用于喷射所述高压气体。
可选地，所述干燥装置还包括冲洗管道，所述冲洗管道和所述风刀沿着滑行方向依次架设于所述滑行轨道上，所述冲洗管道用于对所述被干燥对象进行冲洗。
根据本发明的另一方面，还提供了一种曝光显影设备，其包括依次设置的曝光装置、显影装置和上述的干燥装置，所述曝光装置用于曝光对象，所述显影装置用于对曝光后的对象进行显影，以形成所述被干燥对象，所述干燥装置用于对所述被干燥对象进行干燥。
本发明的有益效果：干燥装置的腔体内的气流能够处于平衡状态，从而腔体内的湿度处于平衡状态，避免了腔体内产生乱流的现象。
附图说明
通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：
图1是根据本发明的第一实施例的干燥装置的结构示意图；
图2是根据本发明的第一实施例的腔壁的局部剖面图；
图3是根据本发明的第二实施例的腔壁的局部剖面图；
图4是根据本发明的第三实施例的干燥装置的结构示意图；
图5是根据本发明的实施例的曝光显影设备的结构示意图。
具体实施方式
以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。
在附图中，为了清楚起见，可以夸大元件的形状和尺寸，并且相同的标号将始终被用于表示相同或相似的元件。
图1是根据本发明的第一实施例的干燥装置的结构示意图。
参照图1，根据本发明的第一实施例的干燥装置包括：腔体100、承载平台200、高压气体产生器300和排气干燥器400。
在本实施例中，腔体100整体呈长方体状，但本发明并不限制于此，可以根据实际需求而将腔体100构造为其他合适的形状。腔体100包括六个腔壁110，这六个腔壁110彼此对应连接合围，从而形成一容置空间120。
承载平台200和高压气体产生器300设置于容置空间120中，并且承载平台200和高压气体产生器300相对设置。在本实施例中，高压气体产生器300设置于承载平台200的上方。排气干燥器400设置于腔壁110中。在本实施例中，四个腔壁110上设置了至少一个排气干燥器400，但本发明并不限制于此，例如可根据实际需求在某些腔壁110上设置排气干燥器400。承载平台200用于承载被干燥对象A(诸如经曝光显影后的基板等)，并且承载平台200可以承载着被干燥对象A进行移动，高压气体产生器300用于喷射冲击所述被干燥对象A的高压气体，排气干燥器400用于使容置空间120中的水汽排出，以使容置空间120中的气流处于平衡状态，从而使容置空间120中的湿度处于平衡状态，避免了容置空间120中产生乱流的现象。
具体地，高压气体产生器300包括滑行轨道310、风刀320和风机过滤机组330。风刀320架设于滑行轨道310上，以在滑行轨道310上进行滑行移动，风机过滤机组330设置于腔体100之外，风机过滤机组330用于向风刀320输送所述高压气体，风刀320用于喷射所述高压气体到承载平台200承载的被干燥对象A上。这里，仅是处理高压气体产生器300的一种实施方式，本发明的高压气体产生器并不限制于此处的实施结构，其可以是其他合适的结构。
这里，需要说明的是，滑行轨道310的伸展方向与承载平台200的移动方向平行，但本发明并不限制于此。
图2是根据本发明的第一实施例的腔壁的局部剖面图。
参照图1和图2，排气干燥器400包括通孔410和干燥单元420，该通孔410贯穿腔壁110，干燥单元420设置于通孔410内，干燥单元420用于吸收容置空间120内的水汽，以使容置空间120中的水汽排出，以使容置空间120中的气流处于平衡状态。
在本实施例中，为了增加容置空间120内的水汽与干燥单元420的接触面积，使容置空间120中的水汽快速排出，并且避免外部环境中的水汽对干燥单元420的影响，优选地，将通孔410构造成喇叭状，即通孔410的孔径沿着从腔壁110的内表面到腔壁110的外表面的方向逐渐减小。当然，本发明的通孔410的形状并不限制于此，其可以是孔径均匀的通孔或者其他合适形状的通孔。
此外，在本实施例中，优选地，干燥单元420采用固体干燥剂，但本发明并不限制于此。
图3是根据本发明的第二实施例的腔壁的局部剖面图。
参照图3，与第一实施例的不同之处在于，根据本发明的第二实施例的排气干燥器400’还包括阀门430，该阀门430和干燥单元420沿着从腔壁110的内表面到腔壁110的外表面的方向依序设置，且该阀门430和干燥单元420彼此间隔。这里，可在容置空间120和/或风刀320上设置湿度检测传感器(未示出)，通过湿度检测传感器获得容置空间120内的湿度，根据获得的容置空间120内的湿度来控制阀门430的开度，以控制容置空间120中的水汽排出量，从而使容置空间120中的水汽能够更好地导流排出，进而使容置空间120中的气流处于平衡状态。
进一步地，为了提高阀门430与通孔410的内壁的密封度，排气干燥器400’还包括密封圈440，该密封圈440设置在阀门430与通孔410的内壁之间。应当理解的是，作为本发明的其他实施方式，密封圈440不设置也可以。
图4是根据本发明的第三实施例的干燥装置的结构示意图。
参照图4，与第一实施例和第二实施例的干燥装置不同之处在于，根据本发明的第三实施例的干燥装置还包括冲洗管道500，该冲洗管道500和风刀320沿着滑行方向依序架设于滑行轨道310上，并且该冲洗管道500可以在滑行轨道310上进行滑行移动，冲洗管道500用于对所述被干燥对象A进行冲洗。这样，在风刀320对所述被干燥对象A喷射高压气体之前，冲洗管道500再次对被干燥对象A进行润湿和清洗。此外，通过动态调节冲洗管道500和风刀320之间的距离以及风刀320喷射高压气体的气量，可以使被干燥对象A上的水膜达到均匀的状态，从而避免了局部水膜不均匀及容置空间120中的水汽的积聚，减少了水纹不均匀(mura)及错检现象的发生。
图5是根据本发明的实施例的曝光显影设备的结构示意图。
参照图5，根据本发明的实施例的曝光显影设备包括依次设置的曝光装置1000、显影装置2000和干燥装置3000，其中干燥装置3000为上述的第一实施例或第二实施例或第三实施例的干燥装置。曝光装置1000用于曝光对象，显影装置2000用于对曝光后的对象进行显影，以形成所述被干燥对象，干燥装置3000用于对所述被干燥对象进行干燥。
综上所述，根据本发明的各实施例，干燥装置的腔体内的气流能够处于平衡状态，从而腔体内的湿度处于平衡状态，避免了腔体内产生乱流的现象。
虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。

Claims (9)

1.一种干燥装置，其特征在于，包括腔体、承载平台、高压气体产生器和排气干燥器，所述腔体包括多个腔壁，所述多个腔壁合围形成一容置空间，所述承载平台和所述高压气体产生器设置于所述容置空间中，且所述高压气体产生器与所述承载平台相对设置，所述承载平台用于承载被干燥对象，所述高压气体产生器用于喷射冲击所述被干燥对象的高压气体，所述排气干燥器设置于所述腔壁中，所述排气干燥器用于使所述容置空间中的水汽排出，以使所述容置空间中的湿度处于平衡状态。
2.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，所述排气干燥器包括通孔和干燥单元，所述通孔贯穿所述腔壁，所述干燥单元设置于所述通孔内。
3.根据权利要求2所述的干燥装置，其特征在于，所述干燥单元为固体干燥剂。
4.根据权利要求2所述的干燥装置，其特征在于，所述排气干燥器还包括阀门，所述阀门和所述干燥单元沿着从腔壁内表面到腔壁外表面的方向依次设置，且所述阀门和所述干燥单元彼此间隔，通过控制所述阀门的开度，以控制所述容置空间中的水汽排出量。
5.根据权利要求4所述的干燥装置，其特征在于，所述排气干燥器还包括密封圈，所述密封圈设置于所述阀门和所述通孔内壁之间。
6.根据权利要求2至5任一项所述的干燥装置，其特征在于，所述通孔的孔径沿着从腔壁内表面到腔壁外表面的方向逐渐减小。
7.根据权利要求1所述干燥装置，其特征在于，所述高压气体产生器包括滑行轨道、风刀和风机过滤机组，所述风刀架设于所述滑行轨道上，以在滑行轨道上进行滑行移动，所述风机过滤机组设置于所述腔体之外，所述风机过滤机组用于向所述风刀输送所述高压气体，所述风刀用于喷射所述高压气体。
8.根据权利要求7所述的干燥装置，其特征在于，所述干燥装置还包括冲洗管道，所述冲洗管道和所述风刀沿着滑行方向依次架设于所述滑行轨道上，所述冲洗管道用于对所述被干燥对象进行冲洗。
9.一种曝光显影设备，其特征在于，包括依次设置的曝光装置、显影装置和权利要求1至8任一项所述的干燥装置，所述曝光装置用于曝光对象，所述显影装置用于对曝光后的对象进行显影，以形成所述被干燥对象，所述干燥装置用于对所述被干燥对象进行干燥。
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