CN107403874B - 制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法，包括掩膜版，所述掩膜版上设有对应显示器上显示区的遮挡部、对应显示器上阴极环的镂空部，所述遮挡部位于所述掩膜版的中部，所述镂空部环绕在所述遮挡部的外围。本发明的制备阴极环防反射膜用的掩膜，利于在阴极环上设置防反射膜，具有不影响器件光电性能、工艺匹配程度高、遮挡效果好、工艺兼容性高，工艺优化快速简便等优点，解决了显示器的阴极环亮边问题。本发明适用于各种型号显示器的阴极环防反射膜的制备遮挡。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于阴极环的掩膜，尤其涉及一种制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法。
背景技术
在OLED微型显示器的生产和制备过程中，一般采用顶发射式发光器件结构，其阳极为保证较高的反射率通常采用厚金属层
制备，而阴极环与阳极一体制备成型，因此也有着较高的反射率。
然而，与阳极一体制备成型的阴极环由于也具有较高的反射率，导致在器件使用时会看到显示区边界的亮边(即高反射阴极环)，影响显示效果。
因此，为了提高显示效果，有必要设计一种掩膜达到前述目的。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于，提供一种利于防反射膜的设置，解决阴极环亮边问题的制备阴极环防反射膜用的掩膜及其使用方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种制备阴极环防反射膜用的掩膜，包括掩膜版，所述掩膜版上设有对应显示器上显示区的遮挡部、对应显示器上阴极环的镂空部，所述遮挡部位于所述掩膜版的中部，所述镂空部环绕在所述遮挡部的外围。
优选地，所述镂空部的宽度为阴极环宽度的50％-500％。
优选地，位于所述镂空部外围的掩膜版部分形成所述掩膜版的外圈部；所述垫高部设置在所述外圈部上。
优选地，所述掩膜版上还设有加强筋；所述加强筋穿过所述镂空部连接在所述遮挡部和外圈部之间。
优选地，所述加强筋的宽度为阴极环宽度的50％-500％。
优选地，所述遮挡部的形状为矩形；所述加强筋连接在所述遮挡部的对角处。
优选地，所述镂空部包括四个环绕在所述遮挡部侧边的镂空区；所述加强筋位于相邻的所述镂空区之间。
优选地，每一所述镂空区呈一字形。
优选地，所述掩膜版上还设有至少一个垫高部；所述垫高部位于所述外圈部上。
本发明还提供一种上述掩膜的使用方法，包括以下步骤：
S1、将掩膜版放置在显示器上；其中，所述掩膜版的遮挡部遮挡在显示器的显示区上，镂空部对应在显示器的阴极环处；
S2、将防反射膜材料透过所述镂空部沉积在所述阴极环上。
本发明的制备阴极环防反射膜用的掩膜，利于在阴极环上设置防反射膜，具有不影响器件光电性能、工艺匹配程度高、遮挡效果好、工艺兼容性高，工艺优化快速简便等优点，解决了显示器的阴极环亮边问题。本发明适用于各种型号显示器的阴极环防反射膜的制备遮挡。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：
图1是本发明一实施例的制备阴极环防反射膜用的掩膜的结构示意图；
图2是图1所示掩膜配合在显示器上的结构示意图；
图3是使用本发明掩膜版设置阴极环防反射膜后的显示器结构示意图。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本发明的具体实施方式。
如图1、2所示，本发明一实施例的制备阴极环防反射膜用的掩膜，可包括掩膜版，在制备阴极环防反射膜时起到遮挡保护的作用。掩膜版上设有对应显示器1上显示区3的遮挡部10、对应显示器1上阴极环2的镂空部20。
在设置阴极环防反射膜时，掩膜版设置在阴极环所在显示器1上方。在OLED微型显示器等显示器1中，阴极环2位于显示器1上显示区3的外围。
本发明的掩膜版中，遮挡部10位于掩膜版的中部，正对于显示器1的显示区3，对显示区3全部遮挡，防止防反射膜沉积到显示区3上，影响器件亮度及显示均匀性，并大幅降低溅射高能粒子对器件造成的损伤。镂空部20环绕在遮挡部10的外围，从而阴极环2可通过镂空部20露出，方便将防反射膜设置其上。
镂空部20的宽度为阴极环2宽度的50％-500％，以能够完全覆盖阴极环2且不影响显示区3为佳，具体尺寸以显示器显示尺寸和阴极环尺寸为参考。
位于镂空部20外围的掩膜版部分形成掩膜版的外圈部30。
进一步地，掩膜版上还设有加强筋40。加强筋40穿过镂空部20连接在遮挡部10和外圈部30之间。加强筋40的设置保证了掩膜版的强度；加强筋40的宽度可为阴极环宽度的50％-500％。
为优化防反射膜的覆盖效果，达到更好的防反射，可通过改变镂空部20和加强筋40的宽度，以调整所要设置的防反射膜的宽度等。
本实施例中，如图1所示，掩膜版的外周为矩形。其中，遮挡部10的形状为矩形；加强筋40连接在遮挡部10的对角处。镂空部20包括四个环绕在遮挡部10侧边的镂空区21；加强筋30则位于相邻的镂空区21之间。每一镂空区21呈一字形。
加强筋40少量为佳。优选地，相邻的两个镂空区21之间设一个加强筋40。
进一步地，本发明中，掩膜版上还设有至少一个垫高部50。垫高部50位于镂空部20的外围，设置在外圈部30上，可将掩膜版撑高在阴极环2上方。垫高部50的作用在于利用PVD成膜的阴影扩散作用，增大防反射膜图案在加强筋30遮挡处的扩散区域，使得防反射膜在被加强筋30遮挡的区域处也有相互扩散重叠，得到更好的阴极环覆盖效果。
本发明的掩膜版，优选为合金板，如铁镍合金薄板。制作时：
1、在铁镍合金薄板上旋涂光刻胶，并将掩模版图案光刻在铁镍合金薄板上；掩模版图案包括对应遮挡部10的遮挡区、对应外圈部30的边缘区以及对应加强筋30的连接区，连接区连接在遮挡区和边缘区之间。
2、用干法或湿法刻蚀将铁镍合金薄板上没有光刻胶的部分刻穿，刻穿部分形成镂空部20，制得掩模版。
本发明的掩膜版，在设置阴极环防反射膜时对其进行遮挡保护，从而可通过溅射、蒸镀等各类PVD工艺在阴极环上设置防反射膜。
参考图1-3，本发明的掩膜的使用方法，包括以下步骤：
S1、将掩膜版放置在显示器1上。
其中，掩膜版的遮挡部10遮挡在显示器1的显示区3上，镂空部20对应在显示器1的阴极环2处。加强筋30跨过阴极环2的对角处，外圈部40对应显示器1上阴极环2的外围部分。
S2、将防反射膜材料透过镂空部20沉积在阴极环2上。
其中，防反射膜材料可通过溅射、蒸镀等工艺沉积在阴极环2上，形成阴极环2的防反射膜4，如图3所示。
在一些实施例中，步骤S2中，可通过双蒸发源共蒸镀法将防反射膜材料透过镂空部20沉积在阴极环2上。防反射膜材料包括Si；形成的防反射膜4厚度可为
(埃米)。
进一步地，对于设有垫高部50的掩膜版，将垫高部50朝向显示器1放置掩膜版，从而掩膜版可通过垫高部50撑高在显示器1上。防反射膜材料通过镂空部20设置在阴极环2上，并可扩散至阴极环2的对角处，以填充加强筋20遮挡的阴极环对角部分，获得整体的环状的防反射膜4，得到更好的阴极环覆盖效果。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (4)
1.一种制备阴极环防反射膜用的掩膜，其特征在于，包括掩膜版，所述掩膜版为合金板；所述掩膜版上设有对应显示器（1）上显示区（3）的遮挡部（10）、对应显示器（1）上阴极环（2）的镂空部（20），所述遮挡部（10）位于所述掩膜版的中部，所述镂空部（20）环绕在所述遮挡部（10）的外围；
位于所述镂空部（20）外围的掩膜版部分形成所述掩膜版的外圈部（30）；所述掩膜版上还设有加强筋（40）；所述加强筋（40）穿过所述镂空部（20）连接在所述遮挡部（10）和外圈部（30）之间；所述加强筋（40）的宽度为阴极环宽度的50%-500%；
所述遮挡部（10）的形状为矩形，所述镂空部（20）包括四个环绕在所述遮挡部（10）侧边的镂空区（21），所述加强筋（40）位于相邻的所述镂空区（21）之间并连接在所述遮挡部（10）的对角处；每一所述镂空区（21）的两端不伸出其相邻的两个所述镂空区（21）相背的一侧，且所述镂空区（21）的位于所述加强筋（40）两侧的端部均为尖头结构；所述掩膜版上还设有至少一个垫高部（50）；所述垫高部（50）位于所述外圈部（30）上，用于将掩膜版撑高在阴极环（2）上，利用PVD成膜的阴影扩散作用，增大防反射膜图案在所述加强筋（40）遮挡处的扩散区域，使得防反射膜在被所述加强筋（40）遮挡的区域处相互扩散重叠；
所述掩膜版制作时：
在合金板上旋涂光刻胶，并将掩模版图案光刻在合金板上；掩模版图案包括对应遮挡部（10）的遮挡区、对应外圈部（30）的边缘区以及对应加强筋（40）的连接区，连接区连接在遮挡区和边缘区之间；
用干法或湿法刻蚀将合金板上没有光刻胶的部分刻穿，刻穿部分形成镂空部（20），制得掩模版。
2.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，所述镂空部（20）的宽度为阴极环（2）宽度的50%-500%。
3.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，每一所述镂空区（21）呈一字形。
4.一种权利要求1-3任一项所述的掩膜的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、将掩膜版放置在显示器（1）上；其中，所述掩膜版的遮挡部（10）遮挡在显示器（1）的显示区（3）上，镂空部（20）对应在显示器（1）的阴极环（2）处；
S2、将防反射膜材料透过所述镂空部（20）沉积在所述阴极环（2）上，形成厚度为1000Å的防反射膜（4）。
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