CN107203059B - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

公开了一种显示装置和一种制造显示装置的方法。该显示装置包括：第一基底，限定其顶表面、面对顶表面的底表面以及使顶表面和底表面彼此连接的侧表面。侧表面包括：通过以下限定的第一侧表面：第一图案化表面，包括第一图案，第一图案的长在第一图案化表面的平面图中沿斜线方向延伸；以及第二图案化表面，从第一图案化表面的上端部倾斜地延伸，第二图案化表面包括第二图案，第二图案的长在第二图案化表面的平面图中从第一图案化表面的上端部沿垂直方向延伸。

Description

显示装置及其制造方法
本申请要求于2016年3月18日提交的第10-2016-0032909号韩国专利申请的优先权和所有权益，该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。
技术领域
发明涉及一种显示装置和一种制造该显示装置的方法。
背景技术
显示装置的重要性已经随着多媒体的发展而增加。响应这样的情形，已使用诸如液晶显示装置(LCD)和有机发光显示装置(OLED)的各种类型的显示装置。
在它们之中，液晶显示装置是最广泛使用的平板显示装置中的一种，包括有诸如像素电极和共电极的场产生电极的两个显示基底以及置于该两个显示基底之间的液晶层。液晶显示装置通过将电压施加到场产生电极而在液晶层中产生电场，通过电场确定液晶层的液晶分子的方向并且利用定向的液晶分子控制入射光的偏振，从而显示图像。
液晶显示装置或有机发光显示装置通过将显示基底之中的一个或两个或更多个基底层压而形成，但由于在制造工艺期间会发生的冲击，对于基底有损坏的风险。因此，存在正在执行用于改善基底的强度的各种技术尝试的情形。
发明内容
发明的一个或更多个示例性实施例提供了一种抑制在其基底的端部处产生的裂纹朝向基底的中心部分生长的显示装置。
发明的一个或更多个示例性实施例提供了一种包括改善了强度的基底的显示装置。
发明的一个或更多个示例性实施例提供了一种用于制造显示装置的方法，所述显示装置抑制在其的基底的端部处产生的裂纹朝向基底的中心部分生长。
发明的一个或更多个示例性实施例提供了一种用于制造包括改善了强度的基底的显示装置的方法。
发明的一个或更多个示例性实施例提供了一种用于制造显示装置的方法，所述显示装置防止在其显示区域的外部中发生的漏光现象。
然而，发明不受在这里阐述的示例性实施例的限制。通过参照下面给出的发明的详细描述，发明未被提及的以上或其它特征对于发明所属领域的普通技术人员而言将变得更明显。
根据发明的实施例的显示装置包括：第一基底，限定第一基底的顶表面、面对顶表面的第一基底的底表面以及使顶表面和底表面彼此连接的侧表面。侧表面包括通过以下限定的第一侧表面：第一图案化表面，包括第一图案，第一图案的长在第一图案化表面的平面图中沿斜线方向延伸；以及第二图案化表面，从第一图案化表面的上端部倾斜地延伸，第二图案化表面包括第二图案，第二图案的长在第二图案化表面的平面图中从第一图案化表面的上端部沿垂直方向延伸。
一种根据发明的用于制造显示装置的方法的示例性实施例包括：准备第一基底和面对第一基底的第二基底，第一基底包括由第一图案化表面和第二图案化表面限定的第一侧表面；以及使第一基底和第二基底彼此结合以形成显示装置。准备第一基底包括：设置第一基底的初始状态，所述第一基底限定第一基底的顶表面、面对顶表面的第一基底的底表面以及使顶表面和底表面彼此连接的第一基底的连接表面；在第一连接表面处形成从顶表面倾斜的上图案化表面，上图案化表面包括第二图案化表面的第二图案，通过垂直抛光第一连接表面的上端部使第二图案的长垂直于第一连接表面的长地延伸；在同一第一连接表面处形成从底表面倾斜的下图案化表面，通过垂直抛光第一连接表面的下端部，下图案化表面包括第二图案化表面的第二图案；以及通过斜线地抛光上图案化表面和下图案化表面，形成第一基底的从底表面延伸的第一图案化表面。
一种显示装置包括：第一基底，限定第一基底的彼此面对的顶表面和底表面，以及围绕顶表面和底表面的外周的第一基底的四个侧表面，其中，四个侧表面包括第一侧表面和面对第一侧表面的第二侧表面，第一侧表面包括具有第一图案的第一图案化表面，第一图案的长在第一图案化表面的平面图中沿斜线方向延伸，第一图案化表面的下边缘与底表面接触。
其它示例性实施例的具体事项包括在具体实施方式和附图中。
根据发明的示例性实施例，至少存在以下效果。
可以抑制裂纹从基底的端部或表面部分朝向基底的中心部分生长。
此外，可以改善基底在其端部或表面部分处的强度。
根据发明的示例性实施例的进一步效果不受以上示出内容限制，并且在此包括进一步的各种效果。
附图说明
通过参照附图详细地描述发明的示例性实施例，发明的以上和其它特征将变得更加明显，在附图中：
图1是根据发明的显示装置的示例性实施例的局部透视图；
图2是根据发明的图1的显示装置的俯视平面图；
图3是根据发明的显示装置的示例性实施例的截面侧视图；
图4是根据发明的显示装置的第一基底的示例性实施例的放大的俯视平面图；
图5是根据发明的显示装置的像素的示例性实施例的放大的剖视图；
图6是根据发明的显示装置的第一基底和第二基底的截面侧视图；
图7是根据发明的显示装置的第一基底和第二基底的另一截面侧视图；
图8是根据发明的在显示装置的侧表面处的第一图案的示例性实施例的放大的平面图；
图9、图9a和图9b是根据发明的在显示装置的侧表面处的第一图案的其它示例性实施例的放大的平面图；
图10是根据发明的显示装置的另一示例性实施例的透视图；
图11是图10的显示装置的剖视图；
图12是根据发明的用于解释制造显示装置的方法中的工艺的示例性实施例的透视图；
图13是根据发明的用于解释在图12中的工艺的结果的剖视图；
图14是根据发明的用于解释制造显示装置的方法中的工艺的又一示例性实施例的剖视图；
图15是根据发明的用于解释图14中的工艺的剖视图；以及
图16是根据发明的用于解释图14和图15中的工艺的结果的剖视图。
具体实施方式
通过参考将参照附图详细描述的示例性实施例，发明的特征和用于实现该特征的方法将是明显的。然而，发明不限于在下文中公开的示例性实施例，但可以以多种形式实施。在说明书中限定的诸如详细的构造和元件的内容只不过是提供用来帮助本领域普通技术人员全面理解发明的具体细节，并且发明仅限制在所附权利要求的范围内。
用来表示元件在另一元件上或者位于不同层或一个层上的术语“在……上”包括元件直接在另一元件或层上的情况和元件经由另一层或又一元件而位于另一元件或层上的情况的两种情况。在发明的整个描述中，贯穿各种图形，同样的附图标记用于同样的元件。
尽管使用术语“第一”、“第二”等来描述不同的构成元件，但是这样的构成元件不受该术语限制。该术语仅用来将一个构成元件与其它构成元件区分开。因此，在下面的描述中，第一构成元件可以是第二构成元件。
在这里使用的术语仅用于描述具体实施例的目的而非意图限制。如在这里使用的，除非上下文另有明确指示，否则单数形式“一个”、“一种”和“该/所述”也意图包括复数形式(包括“至少一个(种)”)。“至少一个(种)”将不解释为限制“一个”或“一种”。“或(或者)”意味着“和/或(或者)”。如在这里使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项目的任何组合和所有组合。将进一步理解的是，当在此说明书中使用术语“包括”和/或其变型或者“包含”和/或其变型时，表明存在陈述的特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但是不排除存在或添加一个或更多个其它特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
此外，可以在这里使用诸如“下面的”或“底部”和“上面的”或“顶部”的相对术语，以描述如附图中示出的一个元件与另一元件的关系。将理解的是，除了附图中描绘的方位之外，相对术语意图包含装置的不同方位。例如，如果翻转附图中的一幅图中的装置，则描述为在其它元件的“下面的”侧上的元件将随后被定位在所述其它元件的“上面的”侧上。因此，示例性术语“下面的”可根据附图的具体方位包含“下面的”和“上面的”两种方位。相似地，如果翻转附图中的一幅图中的装置，则描述为“在”其它元件“下方”或“之下”的元件将随后被定位“在”所述其它元件“上方”。因此，示例性术语“在……下方”或“在……之下”可包含上方和下方两种方位。
如在这里使用的“大约”或“近似”包括陈述的值，并意味着：考虑到正在被谈及的测量以及与具体量的测量有关的误差(即，测量系统的局限性)，在由本领域的普通技术人员确定的具体值的可接受偏差范围之内。例如，“大约”可意味着在一个或多个标准偏差内，或者在所陈述的值的±30％、±20％、±10％或±5％之内。
除非另外定义，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，除非这里明确这样定义，否则术语(诸如在通用字典中定义的术语)应当被解释为具有与在相关领域的环境和本公开中它们的含义一致的含义，而将不以理想化或过于形式化的含义来进行解释。
在这里参照是理想化的实施例的示意性图示的截面图示来描述示例性实施例。这样，将预期到由例如制造技术和/或公差造成的图示的形状的变化。因此，在这里描述的实施例不应被解释为受限于在这里示出的区域的具体形状，而是将包括由例如制造造成的形状上的偏差。例如，示出为或描述为平坦的区域典型地具有粗糙和/或非线性特征。此外，示出的尖角可以是圆形的。因此，在附图中示出的区域本质上是示意性的，它们的形状不意图示出区域的精确形状并且不意图限制本权利要求的范围。
在下文中，将参照附图来描述发明的示例性实施例。
图1是根据发明的显示装置的示例性实施例的局部透视图。图2是根据发明的图1的显示装置的俯视平面图。图3是根据发明的图1的显示装置的截面侧视图。图4是根据发明的显示装置的第一基底的示例性实施例的放大的俯视平面图。图5是根据发明的显示装置的像素的示例性实施例的放大的剖视图。图6和图7是根据发明的显示装置的第一基底和第二基底的截面侧视图。图8是根据发明的显示装置的侧表面的第一图案的示例性实施例的放大的平面图。
参照图1至图8，根据发明的显示装置的示例性实施例包括具有或限定第一侧表面SW1的第一基底500。第一侧表面SW1包括或限定第一加工表面GR1和从第一加工表面GR1的上端部GR1_U倾斜地延伸的第二加工表面GR2。在下文中，表面GR1和表面GR2可以另外地分别称作第一抛光表面和第二抛光表面。
首先，参照图1和图2，第一基底500可以包括具有耐热性和渗透性的材料或者由该材料形成。例如，第一基底500可以包括透明玻璃或塑料或者由该透明玻璃或塑料形成，但不限于此。
第一基底500可以包括或限定彼此面对的上表面500_T和下表面500_B。此外，第一基底500可以包括在上表面500_T和下表面500_B的外周处的四个侧表面。该四个侧表面均使上表面500_T和下表面500_B连接到彼此。四个侧表面可以包括第一侧表面SW1和设置为面对第一侧表面SW1的第二侧表面SW2。在示例性实施例中，例如，第一侧表面SW1的至少一部分和第二侧表面SW2的至少一部分可以是与图1的Y-Z平面平行的平面。上表面500_T和下表面500_B可以设置在与X-Y平面平行的平面中。
第一侧表面SW1可以包括或限定第一抛光表面GR1和第二抛光表面GR2。第一抛光表面GR1可以面对第二侧表面SW2，诸如平行于第二侧表面SW2。在第二侧表面SW2平行于Y-Z平面的示例性实施例中，第一抛光表面GR1可以以与第二侧表面SW2相同的方式与Y-Z平面平行。第二抛光表面GR2可以沿截面(厚度或Z方向)设置在第一抛光表面GR1上，诸如从第一抛光表面GR1延伸。第二抛光表面GR2可以被设置为或形成为从第一抛光表面GR1的上端部GR1_U向上倾斜。即，第二抛光表面GR2可以是与X-Y平面形成预定角度的倾斜表面。第一抛光表面GR1和第二抛光表面GR2中的一个可以延伸以限定第一抛光表面GR1和第二抛光表面GR2中的另一个。
第二抛光表面GR2的下端部可以与第一抛光表面GR1的上端部GR1_U接触。即，第二抛光表面GR2的下端部或下边缘可以与第一抛光表面GR1的上端部GR1_U基本相同。因此，在下文中，为了便于解释，第二抛光表面GR2的下端部和第一抛光表面GR1的上端部GR1_U将由作为相同的附图标记的GR1_U来表示。与第一抛光表面GR1的上端部GR1_U相比，第二抛光表面GR2的上端部GR2_U可以进一步朝向第一基底500的内部区域设置。即，从第二侧表面SW2到第二抛光表面GR2的上端部GR2_U的距离可以比从第二侧表面SW2到第二抛光表面GR2的下端部(例如，第一抛光表面GR1的上端部GR1_U)的距离小。
在示例性实施例中，第一抛光表面GR1的下端部或下边缘GR1_D可以与第一基底500的下表面500_B接触并交汇，第二抛光表面GR2的上端部GR2_U可以与第一基底500的上表面500_T接触并交汇。换言之，第一侧表面SW1可以由限定了整个第一侧表面SW1的第一抛光表面GR1和第二抛光表面GR2的仅两个抛光表面制成。
在第一方向上纵向延伸的第一图案GP1可以形成在第一抛光表面GR1上。第一图案GP1可以另外地称作第一抛光图案GP1。这里的第一抛光图案GP1可以指按预定的规则设置或形成在表面的平面上的图案或纹理的单元或者两个或更多个单元的组。此外，抛光图案可以包括凹雕图案或浮雕图案。即，抛光图案可以通过与在凹进的外围处的表面的平面相比从该表面的平面相对地凹进的凹雕来形成，或者可以通过与在浮雕的外围处的表面的平面相比从该表面的平面相对地突出的浮雕来形成。
也就是说，形成有或设置有第一抛光图案GP1的第一抛光表面GR1可以是具有微小的凹的(例如，凹进的)部分和凸出的(例如，浮雕)部分的整个不均匀的表面。在制造显示装置的示例性实施例中，可以通过如稍后描述的抛光工艺来引起不均匀的表面。
第一抛光图案GP1可以设置为多个，并且所述多个第一抛光图案GP1可以设置为以恒定的间隔彼此分隔开，使得限定整个不均匀的表面。在示例性实施例中，第一抛光图案GP1沿其纵向延伸的第一方向可以是相对于平面表面的平面的边缘的长的斜线方向。参照图6，例如，第一方向可以是从第一抛光表面GR1的上端部GR1_U或下端部GR1_D以恒定角度倾斜的方向。这可以是由于如稍后将描述的将斜线抛光工艺施加到第一侧表面SW1的事实。然而，这是示例，并且发明不受上述制造方法限制。
下面将参照图8更详细地描述第一抛光图案GP1。
第二图案GP2可以形成在或设置在第二抛光表面GR2上。第二图案GP2可以另外地称作第二抛光图案GP2。与第一抛光表面GR1相似，第二抛光表面GR2可以是具有微小的凹的部分和凸出的部分的整个不均匀的表面。
第二抛光图案GP2可以设置为多个，并且所述多个第二抛光图案GP2可以设置为以恒定的间隔彼此分隔开，使得限定整个不均匀的表面。第二抛光图案GP2可以在与第一抛光图案GP1沿其纵向延伸的第一方向不同的第二方向上纵向延伸。在示例性实施例中，第二方向可以是与第二抛光表面GR2的上端部GR2_U的长垂直的方向。
焊盘P可以在第一基底500上设置为多个。多个焊盘P可以设置在第一基底500的非显示区域NDA上。下面将参照图4详细地描述在第一基底500的非显示区域NDA上的焊盘P。
再次参照图1和图2，根据发明的显示装置的示例性实施例还可以包括设置在第一基底500上的第二基底1000。
第二基底1000可以设置为与第一基底500叠置。第二基底1000的面积可以比第一基底500的面积小。因此，第二基底1000可以至少部分地暴露第一基底500的上表面500_T和第一侧表面SW1。在示例性实施例中，第二基底1000与第一基底500的显示区域DA叠置，并且可以至少部分地暴露第一基底500的非显示区域NDA。此外，多个焊盘P可以设置在第一基底500的非显示区域NDA的被第二基底1000暴露的一部分上。
第二基底1000可以包括彼此面对的第一侧壁1000_1和第二侧壁1000_2。在示例性实施例中，第一侧壁1000_1可以与Y-Z平面平行。此外，第一侧壁1000_1可以设置为比第一基底500的第一侧表面SW1接近显示装置的内部区域。在俯视平面图中，多个焊盘P可以设置在第一侧壁1000_1的下端部与第一基底500的第二抛光表面GR2的上端部GR2_U之间。
在示例性实施例中，第一基底500可以是显示装置的薄膜晶体管(显示器)基底的基础基底，在其上设置有薄膜晶体管基底的多个薄膜晶体管。第二基底1000可以是显示装置的滤色器(显示器)基底的基础基底，在其上设置有滤色器CF。彼此结合以在其间设置光学介质的两个显示基底可以限定显示装置的显示面板。显示面板可以使用光来显示图案，可以通过诸如背光的单独光源来提供所述光。然而，发明不限于此，在另一示例性实施例中，薄膜晶体管和滤色器都可以设置在显示面板的单个显示基底之内的第一基底500上。此外，在另一实施例中显示装置可以是有机发光显示装置，在这种情况下，第二基底1000可以是显示装置的密封基底。
参照图3，第一基底500和第二基底1000可以通过密封剂SLT彼此附着。即，密封剂SLT可以置于第一基底500与第二基底1000之间以使第一基底500与第二基底1000彼此结合。结合的第一基底500和第二基底1000与设置在其上的显示基底的各种元件一起可以形成显示装置的显示面板。
随后，将参照图4和图5来更具体地描述第一基底500。图4和图5将根据发明的显示装置的示例性实施例示出为液晶显示装置。
第一基底500可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。显示区域DA和非显示区域NDA可以限定整个第一基底500。显示区域DA是在显示装置上显示图像的区域。非显示区域NDA是设置有各种信号线以允许在显示区域DA中显示图像并且在其中不显示有图像的区域。
将更具体地示出显示区域DA。像素PX、栅极线GL和数据线DL可以在显示区域DA处设置为多个。在示例性实施例中，多个像素PX通过多条数据线DL与多条栅极线GL之间的相互交汇来划分，但发明不限于此。多个像素PX可分别连接到多条数据线DL和多条栅极线GL。像素PX的薄膜晶体管可以连接到数据线DL和栅极线GL中的对应的一条。
下面将参照图4具体地示出多个像素PX。
用于连接数据线DL与焊盘P的数据扇出线DFL可以设置在非显示区域NDA中。数据扇出线DFL可以将提供到焊盘P的信号发送到数据线DL并因此到像素PX。
多个焊盘P可以设置在整个非显示区域NDA的一侧上。焊盘P和数据扇出线DFL中的每个限定其长度大于其宽度。焊盘P可以具有比数据扇出线DFL的宽度相对大的宽度以促进与诸如印刷电路板(未示出)的信号提供装置的电接触。为了便于解释，非显示区域NDA的设置有焊盘P的区域将被具体地称作焊盘部分PA。在示例性实施例中，焊盘部分PA不与第二基底1000叠置并且可以设置在第二基底1000的第一侧壁1000_1的下端部与第一基底500的第一侧表面SW1的上端部之间。
接着，将参照图5来详细地描述设置在显示区域DA中的像素PX的示例性实施例。
栅电极GE可以设置在第一基底500上。栅电极GE可以设置为或形成为从栅极线GL突出。栅极线GL的一部分可以限定栅电极GE。在与稍后将描述的源电极SE和漏电极DE的作用下，栅电极GE可以形成薄膜晶体管的三个端子中的一个端子。栅电极GE、源电极SE和漏电极DE均可以在显示区域DA中设置为多个。
栅电极GE和栅极线GL可以包括包含铝合金的铝(Al)基金属、包含银合金的银(Ag)基金属、包含铜合金的铜(Cu)基金属、包含钼合金的钼(Mo)基金属、铬(Cr)、钛(Ti)和钽(Ta)中的一种或更多种或者由上述一种更多种形成。然而，这些材料是示例，栅电极GE和栅极线GL的材料不限于此，具有获得期望的显示装置的性质的金属或聚合物材料可以用作栅电极GE和栅极线GL的材料。
栅极绝缘膜GI可以设置在栅电极GE和栅极线GL上。栅极绝缘膜GI覆盖栅电极GE和栅极线GL并且可以设置在或形成在整个第一基底500之上。在制造显示装置的示例性实施例中，栅极绝缘膜GI可以通过混合从诸如氧化硅(SiOX)和氮化硅(SiNX)的无机绝缘材料以及诸如苯并环丁烯(BCB)、丙烯酸类材料和聚酰亚胺的有机绝缘材料中选择的一种或更多种材料来形成。然而，这些材料仅是示例，栅极绝缘膜GI的材料不限于此。
半导体图案层700可以设置在栅极绝缘膜GI上。
半导体图案层700可以包括非晶硅或多晶硅或者由该非晶硅或多晶硅形成。然而，发明不限于此，半导体图案层700也可以包括氧化物半导体。
半导体图案层700在俯视平面图中可以具有诸如岛状形状或线性形状的各种形状。当半导体图案层700具有线性形状时，半导体图案层700可以在显示装置的截面厚度方向上位于数据线DL下面，以延伸到栅电极GE的顶部并且与栅电极GE叠置。
在示例性实施例中，在除了薄膜晶体管的沟道部CH之外的全部区域中，半导体图案层700可以图案化成与稍后将描述的数据线DL、源电极SE和漏电极DE基本相同的平面的形状。
也就是说，半导体图案层700可以设置为与除了薄膜晶体管的沟道部CH之外的数据线DL、源电极SE和漏电极DE的整个区域叠置。
沟道部CH可以设置在彼此面对的源电极SE与漏电极DE之间。沟道部CH暴露在彼此面对的源电极SE与漏电极DE之间。沟道部CH用于使源电极SE和漏电极DE彼此电连接，沟道部CH的具体形状不受限制。
以相对高的浓度掺杂有n型杂质的欧姆接触层(未示出)可以设置在半导体图案层700的顶部上。欧姆接触层可以与半导体图案层700的全部或一部分叠置。然而，在半导体图案层700包括氧化物半导体的示例性实施例中可以省略欧姆接触层。
当半导体图案层700是氧化物半导体时，半导体图案层700可以包括氧化锌(ZnO)或者由氧化锌形成。另外，可以对半导体图案层700掺杂从镓(Ga)、铟(In)、锡(Sn)、锆(Zr)、铪(Hf)、镉(Cd)、银(Ag)、铜(Cu)、锗(Ge)、钆(Gd)、钛(Ti)和钒(V)材料中选择的一种或更多种离子。作为示例，作为氧化物半导体的半导体图案层700可以包括从ZnO、ZnGaO、ZnInO、ZnSnO、GaInZnO、CdO、InO、GaO、SnO、AgO、CuO、GeO、GdO、HfO、TiZnO、InGaZnO和InTiZnO中选择的一种或更多种材料。然而，这些材料仅是示例，氧化物半导体的类型不限于此。
数据线DL、源电极SE和漏电极DE可以设置在半导体图案层700上。数据线DL、源电极SE和漏电极DE可以限定数据导体。数据线DL、源电极SE和漏电极DE在第一基底500上在它们的层中与薄膜晶体管基底位于同一层中。
源电极SE可以以分支的形式偏离数据线DL，并且可以设置为沿显示装置的截面厚度方向延伸到半导体图案层700的顶部。数据线DL的一部分可以限定源电极SE。
漏电极DE与源电极SE分隔开且可以沿显示装置的截面厚度方向设置在半导体图案层700的顶部处，并且在俯视平面图中位于栅电极GE或沟道部CH周围以面对源电极SE。漏电极DE可以与稍后将描述的像素电极PE接触并且电连接到该像素电极PE。
数据线DL、源电极SE和漏电极DE可以具有单层膜结构或多层膜结构，该膜结构包括镍(Ni)、钴(Co)、钛(Ti)、银(Ag)、铜(Cu)、钼(Mo)、铝(Al)、铍(Be)、铌(Nb)、金(Au)、铁(Fe)、硒(Se)或钽(Ta)之中的至少一种或由此至少一种形成。此外，也能够应用通过在金属中包括从钛(Ti)、锆(Zr)、钨(W)、钽(Ta)、铌(Nb)、铂(Pt)、铪(Hf)、氧(O)和氮(N)中选择的一种或更多种元素来形成的合金。然而，上述材料是示例，数据线DL、源电极SE和漏电极DE的材料不限于此。
虽然图5示出单个薄膜晶体管设置在单个像素PX中，但理所当然的是，发明的范围不限于此。即，在其它示例性实施例中，设置在单个像素PX中的薄膜晶体管的数量可以是多个。此外，当多个薄膜晶体管设置在单个像素PX中时，单个像素PX可以被划分为与相应的薄膜晶体管对应的多个畴。
钝化膜PASS可以设置在数据线DL、源电极SE、漏电极DE和半导体图案层700上。钝化膜PASS可以包括无机绝缘材料或有机绝缘材料或者由它们制成。
像素电极PE可以设置在钝化膜PASS上。在示例性实施例中，像素电极PE可以包括诸如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)的透明导体或者诸如铝的反射导体或者由它们形成。像素电极PE可以在显示区域DA和/或单个像素PX中设置为多个。
像素电极PE可以具有平板形状(例如，没有开口或缝隙)，或者可以具有限定有一个或更多个缝隙的结构。此外，像素电极PE可以共同地包括两个或更多个子像素电极，在这种情况下，可以对子像素电极分别施加不同的电压。
第二基底1000可以设置为面对第一基底500。第二基底1000可以包括具有耐热性和渗透性的物质或者由该物质形成。例如，第二基底1000可以由透明玻璃或塑料形成，但不限于此。第二基底1000可以包括显示区域和非显示区域，与第一基底500的显示区域和非显示区域相似。显示区域和非显示区域可以限定整个第二基底1000。显示区域是第二基底1000的显示装置在其处显示图像的区域。第二基底1000的非显示区域是不显示图像的区域。
黑矩阵BM和滤色器CF可以设置在第二基底1000上。黑矩阵BM和滤色器CF可以在第二基底1000上设置为多个。
黑矩阵BM可以设置为与栅极线GL和/或数据线DL叠置。此外，黑矩阵BM也可以与薄膜晶体管叠置。
黑矩阵BM可以用于阻挡从显示装置外部入射的光或者防止光从显示装置内部传播到显示装置外部。为此，黑矩阵BM可以包括诸如包含黑色颜料的一种光敏树脂的光敏树脂或者由该光敏树脂形成。然而，这是示例，黑矩阵BM的材料不限于此，许多物质中的任一种只要其物理性质阻挡从显示装置外部入射的光就可以用作黑矩阵的材料。
滤色器CF可以设置在显示装置的不被黑矩阵BM覆盖或叠置的部分(即，被黑矩阵BM暴露的部分)中。滤色器CF可以通过改变由将光提供到显示面板的显示基底的背光(未示出)传播的光的波长来呈现各种显示颜色。在示例性实施例中，滤色器CF可以包括红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器，但发明不限于此。
覆膜OC可以设置在黑矩阵BM和滤色器CF上。覆膜OC是扁平的膜并且可以设置在整个第二基底1000之上。
共电极CE可以设置在覆膜OC上。可以将共电压施加到共电极CE。当将不同的电压分别施加到共电极CE和像素电极PE时，可以在共电极CE与像素电极PE之间形成电场。
布置有多个液晶分子的液晶层LC可以设置在其上有相应元件的第一基底500与第二基底1000之间。可以通过形成在共电极CE与像素电极PE之间的电场来控制液晶层LC。因此，通过控制设置在液晶层LC中的液晶的移动来控制用于显示图像的光。
接着，将参照图6、图7和图8来更具体地描述显示装置的侧表面的示例性实施例。
图6是在Y-Z平面的法线方向上示出图1的显示装置的第一侧表面SW1的截面侧视图。
参照图6，具有第一抛光图案GP1的第一抛光表面GR1、具有第二抛光图案GP2的第二抛光表面GR2以及第二基底1000的第一侧壁1000_1可以沿显示装置的厚度方向(Z方向)顺序地布置。
因为第一抛光图案GP1和第二抛光图案GP2与以上所述的基本相同，所以将不提供其详细的描述。
在示例性实施例中，第二基底1000的第一侧壁1000_1可以是未加工的表面，例如，没有进行抛光。即，根据制造显示装置的示例性实施例，第二基底1000的第一侧壁1000_1可以是未进行机械加工的第二基底1000的初始状态的表面，但发明不限于此。
在另一示例性实施例中，第二基底1000的第一侧壁1000_1可以是诸如由在制造显示装置的示例性实施例中对其初始状态进行加工或机械加工造成的抛光表面。
图7是在Y-Z平面的法线方向上示出图1的显示装置的第二侧表面SW2的截面侧视图。
参照图7，第二侧表面SW2和第二侧壁1000_2可以沿显示装置的厚度方向(Z方向)顺序地设置。在示例性实施例中，第二侧表面SW2和第二侧壁1000_2可以彼此对齐，诸如在与Y-Z平面平行的平面中彼此共面。此外，可以在第二侧表面SW2和第二侧壁1000_2中的每个上设置或形成相同的(抛光的)图案。参照图7，例如，与设置在第一抛光表面GR1处的抛光图案相同的第一抛光图案GP1可以设置在或形成在第二侧表面SW2和第二侧壁1000_2处。即，如在图7中通过斜线示出的，可以形成斜线抛光图案(diagonal polished pattern)。在制造显示装置的示例性实施例中，如稍后将描述的，可以通过将斜线抛光工艺应用到第二侧表面SW2来形成斜线抛光图案。
随后，将参照图8来更具体地描述第一抛光图案GP1。
第一抛光图案GP1可以限定其长大于其宽。第一抛光图案GP1的长延伸为向第一抛光表面GR1的上端部GR1_U或下端部GR1-D倾斜，诸如相对于第一抛光表面GR1的上端部GR1_U或下端部GR1-D的长以恒定的角度倾斜。在示例性实施例中，单个的第一抛光图案GP1可以与第一抛光表面GR1的下端部GR1_D形成第一角度θ1，相邻的第一抛光图案GP1可以与第一抛光表面GR1的下端部GR1_D形成第二角度θ2。在示例性实施例中，第一角度θ1和第二角度θ2可以彼此相同。即，在示例性实施例中，彼此平行的多个第一抛光图案GP1可以设置在第一抛光表面GR1处。
在实施例中，第一角度θ1可以是从下端部GR1_D沿逆时针方向获取的锐角。更具体地，在逆时针方向上，第一角度θ1相对于第一抛光表面GR1的上端部GR1_U或下端部GR1-D的长可以是大约50度或更小且大约0度或更大。随着第一角度θ1更接近0度，可以增大第一基底500的长度。
当执行用于制造显示装置的各种工艺时，会在基底的端部或表面处产生细裂纹。同时，一旦最初产生裂纹，这样的裂纹会远离外表面并朝向基底的内部生长而损坏基底的中心部分。为了减少或有效地防止这种情形，在会形成裂纹的部分处对基底施加抛光工艺。即，第一基底500的抛光是一种被采用来减少或有效地防止第一基底500的端部或表面的裂纹行进并朝向第一基底500的内部生长的情形的工艺。如上所述，当将角度应用到抛光(例如，当第一抛光图案GP1的长作为斜线倾斜延伸时)时，能够更有效地减少或有效地防止端部的裂纹朝向第一基底500的内部行进。
在示例性实施例中，相邻的第一抛光图案GP1之间的距离可以彼此相同。即，如图8中所示，d1和d2可以彼此相同。
虽然在上面已经给出第一抛光图案GP1形成在第一抛光表面GR1的整个表面之上的情况的描述，但发明不限于此，第一抛光图案GP1也可以部分地形成在第一抛光表面GR1上。
在下文中，将描述根据发明的另一实施例的显示装置。在以下示例中，将用相同的附图标记表示与以上描述相同的构造，且将省略或简化重复的描述。
图9是根据发明的在显示装置的侧表面处的第一图案的另一示例性实施例的放大的平面图。
参照图9，在根据发明的显示装置的另一示例性实施例中，侧表面的第一抛光图案GP1之间的距离可以彼此不同。即，如图9中所示，d1和d2可以彼此不同。在制造显示装置的示例性实施例中，如稍后将描述的可以通过抛光轮的运动速度的改变来形成不同的距离。
图9a是根据发明的在显示装置的侧表面处的第一图案的又一示例性实施例的放大的平面图。
参照图9a，在根据发明的显示装置的又一示例性实施例中，第一抛光图案GP1_a的斜线方向可以是与图8的第一抛光图案GP1的斜线方向交叉的方向。
也就是说，图8的第一抛光图案GP1是从第一抛光表面GR1的上端部GR1_U由右到左的斜线方向。相反，在图9a中的第一抛光图案GP1_a的斜线方向可以是从第一抛光表面GR1的上端部GR1_U由左到右的斜线方向。
在制造显示装置的示例性实施例中，第一抛光图案的斜线的方向可以根据执行斜线抛光的抛光轮的旋转方向来确定。即，用于执行斜线抛光的抛光轮可以沿顺时针方向或逆时针方向旋转，在由左到右的斜线方向或者由右到左的斜线方向上的第一抛光图案GP1可以根据抛光轮的旋转方向形成在第一抛光表面GR1上。
图9b是根据发明的在显示装置的侧表面处的第一图案的再一示例性实施例的放大的平面图。
参照图9b，在根据发明的显示装置的再一示例性实施例中，第一抛光表面GR1可以包括在由左到右的斜线方向上延伸的第一抛光图案GP1_a和在由右到左的斜线方向上延伸的第一抛光图案GP1。
在示例性实施例中，同一第一抛光表面GR1的一部分可以包括从第一抛光表面GR1的上端部GR1_U在由左向右的斜线方向上延伸的第一抛光图案GP1_a，其它部分可以包括从第一抛光表面GR1的上端部GR1_U在由右向左的斜线方向上延伸的第一抛光图案GP1。
此外，虽然图9b示出均设置为彼此分隔开并且彼此不叠置的从第一抛光表面GR1的上端部GR1_U在由左到右的斜线方向上延伸的多个第一抛光图案GP1_a和从第一抛光表面GR1的上端部GR1_U在由右到左的斜线方向上延伸的多个第一抛光图案GP1，但发明不限于此，在另一示例性实施例中都可以至少部分地叠置。
沿彼此叠置的不同的方向延伸的第一抛光图案在制造显示装置的示例性实施例中的斜线抛光工艺期间可以因抛光轮的旋转方向的改变而改变。然而，这是示例，理所当然的是，发明的结构特征不受制造方法的限制。
图10是根据发明的显示装置的另一示例性实施例的透视图。图11是图10的显示装置的截面侧视图。
参照图10和图11，显示装置可以是弯曲的显示装置或弯曲的显示面板。
显示装置可以包括均弯曲的同时具有恒定的曲率的第一基底500a和第二基底1000a。
诸如图1中所述的，第一基底500a可以包括第一侧表面SW1和与具有第一抛光表面GR1和第二抛光表面GR2的第一侧表面SW1相对的第二侧表面SW2。相似地，诸如在图7中针对1000_2描述的，第二基底1000a可以包括第一侧表面1000_1和与第一侧表面1000_1相对并且具有抛光表面的第二侧表面1000_2。因为第一基底500a的第一侧表面SW1和第二侧表面SW2以及第二基底1000a的第一侧表面1000_1和第二侧表面1000_2与在图1的实施例中描述的那些基本相同，所以将不提供其详细的描述。
当第一基底500a和第二基底1000a是弯曲的时，可以产生由于弯曲而产生的应力，因此，会增大相应基底的端部或表面的裂纹朝向基底的内部行进的力。如上所述，当弯曲的第一基底500a的第一侧表面SW1和第二侧表面SW2包括抛光表面时，可以减少或有效地防止这样的裂纹的行进，因此，可以改善弯曲的第一基底500a的强度的稳定性。相似地，当第二基底1000a的第一侧表面1000_1和/或第二侧表面1000_2包括抛光表面时，可以减少或有效地防止裂纹的行进，因此，可以改善弯曲的第二基底1000a的强度的稳定性。
在下文中，将描述根据发明的用于制造显示装置的方法的示例性实施例。下面将描述的构造中的一些构造与上述液晶显示装置的构造相同，为了避免重复的描述，可以不提供一些构造的描述。
图12是根据发明的用于解释制造显示装置的方法中的工艺的示例性实施例的透视图。图13是根据发明的用于解释在图12中的工艺的结果的剖视图。图14是根据发明的用于解释制造显示装置的方法中的工艺的又一示例性实施例的剖视图。图15是根据发明的用于解释图14中的工艺的剖视图。图16是根据发明的用于解释图14和图15中的工艺的结果的剖视图。
参照图12至图16，根据发明的用于制造显示装置的方法的示例性实施例包括准备具有第一侧表面SW1的第一基底500和面对第一基底500的第二基底1000的操作。准备第一基底500包括针对其初始状态，垂直抛光第一侧表面SW1的上端部以形成第一上抛光表面GR_U的操作、垂直抛光第一侧表面SW1的下端部以形成第一下抛光表面GR_D的操作、以及斜线抛光第一侧表面SW1以最终形成第一基底500的第一抛光表面GR1和第二抛光表面GR2的操作。
首先，执行准备具有第一侧表面SW1的第一基底500和面对第一基底500的第二基底1000的操作。
第一基底500和第二基底1000可以与根据发明的显示装置的示例性实施例中描述的第一基底和第二基底基本相同。因此，将不提供其详细的描述。
随后，针对第一基底500的初始状态，可以参照图12执行垂直抛光第一侧表面SW1的上端部以形成上抛光表面GR_U的操作。为了便于描述将定义术语。在根据发明的制造显示装置的方法中，可以通过抛光装置来执行抛光，抛光装置包括均具有主加工表面MS和子加工表面SS的抛光轮WH1、WH2、WH3和WH4以及使抛光轮WH1、WH2、WH3和WH4分别旋转的旋转轴R1、R2、R3和R4。
主加工表面MS指由与旋转轴R1、R2、R3和R4平行的表面组成的表面，子加工表面SS指垂直于旋转轴R1、R2、R3和R4的表面。即，主加工表面MS的外周可以具有围绕相应旋转轴或与相应旋转轴同轴的圆形形态。
垂直(例如，竖直)抛光指利用主加工表面MS的抛光，当执行竖直抛光时，可以在被竖直抛光加工的物体上形成在竖直方向上的抛光图案。
斜线抛光指利用子加工表面SS进行抛光，当执行斜线抛光时，可以在被斜线抛光加工的物体上形成在斜线方向上的抛光图案。
将参照图13来描述这样的构造。当在第一侧表面SW1的上端部处执行垂直(竖直)抛光时，可以使上抛光表面GR_U形成为第一侧表面SW1的一部分。与在上述根据发明的显示装置的示例性实施例中所描述的第二抛光表面GR2相似，可以在上抛光表面GR_U上形成第二抛光图案GP2。在示例性实施例中，第二抛光图案GP2的长可以在与图12中的旋转轴R1的长垂直的方向上延伸，或者在与上抛光表面GR_U的上端部GR_U1垂直的方向上延伸。
随后，可以执行垂直抛光第一侧表面SW1的下端部以形成下抛光表面GR_D的操作。当在第一侧表面SW1的下端部处执行竖直抛光时，可以使下抛光表面GR_D形成为第一侧表面SW1的一部分。可以在下抛光表面GR_D上形成第二抛光图案GP2。在示例性实施例中，第二抛光图案GP2的长可以在与旋转轴R2垂直的方向上延伸，或者在与下抛光表面GR_D的下端部或上端部GR_D1垂直的方向上延伸。
在上面，虽然已经给出相继地执行以下操作的示例的描述：垂直抛光第一基底500的初始状态的第一侧表面SW1的上端部以形成上抛光表面GR_U的操作；以及垂直抛光第一基底500的初始状态的第一侧表面SW1的下端部以形成下抛光表面GR_D的操作，但在其它示例性实施例中可以同时执行该两个操作而不受此限制。如图12中所示，可以通过第一抛光轮WH1来执行抛光第一侧表面SW1的上端部，可以通过第二抛光轮WH2来执行抛光第一侧表面SW1的下端部。即，可以通过竖直设置的第一抛光轮WH1和第二抛光轮WH2来同时地或顺序地执行抛光第一侧表面SW1的上端部和下端部。
为了垂直抛光，可以使抛光轮WH1和WH2以及第一基底500彼此相对运动。即，如图12中所示，第一基底500可以沿Y轴正方向(图12中的箭头Y)运动，或者抛光轮WH1和WH2可以沿Y轴负方向(图12中与箭头Y相反)运动。因此，可以完全地抛光第一侧表面SW1的上端部或下端部。
图13示出了在图12中示出的抛光第一侧表面SW1的上端部或下端部的结果。
在示例性实施例中，上抛光表面GR_U的宽度W1可以比下抛光表面GR_D的宽度W2大。此外，上抛光表面GR_U的斜率可以小于下抛光表面GR_D的斜率。一般而言，竖直抛光伴随着基底的强度的减小，如上所述，当不同地形成第一基底500的作为中间工艺表面的上抛光表面GR_U和下抛光表面GR_D的宽度和斜率时，能够减少施加到第一基底500的顶部的损坏。第一基底500的作为中间工艺表面的上抛光表面GR_U和下抛光表面GR_D可以在第一基底500的末端处诸如通过竖直表面彼此连接。
随后，参照图14、图15和图16，执行斜线抛光第一侧表面SW1的中间部分以形成第一抛光表面GR1的操作。
如上所述，可以通过抛光轮WH3和WH4的子加工表面SS来执行斜线抛光。当执行斜线抛光时，切割第一侧表面SW1的一部分，与在第一基底的初始状态(图12)中的第一侧表面SW1的原始位置(图12)相比，第一侧表面SW1可以进一步位于朝向第一基底500的内部区域。
具体地，当执行斜线抛光时，可以使子加工表面SS在与第一侧表面SW1和第二侧表面SW2平行地设置的状态下更接近它们以与第一侧表面SW1和第二侧表面SW2接触。子加工表面SS可以根据旋转轴R3和旋转轴R4的旋转而旋转，斜线抛光图案(例如，第一抛光图案GP1)可以通过子加工表面SS的旋转形成在第一侧表面SW1和第二侧表面SW2上。即，第一抛光图案GP1可以限定其延伸为从第一侧表面SW1的下端部或上端部以恒定角度倾斜的长(见图8)。
当对第一侧表面SW1执行斜线抛光时，上抛光表面GR_U的宽度W1可以通过抛光轮WH4切割或去除第一基底500的末端部分而减少到宽度W3。此外，可以通过切割来去除整个的下抛光表面GR_D。即，第一基底500的在其第一侧表面SW1处的全部切割长度可以等于或大于下抛光表面GR_D的初始宽度W2。然而，在其它示例性实施例中，可以保留下抛光表面GR_D的一部分。在这种情况下，第一侧表面SW1可以包括三个抛光表面，即，第一抛光表面GR1、第二抛光表面GR2和下抛光表面GR_D的保留的部分。
当上抛光表面GR_U的一部分通过诸如切割被去除时，上抛光表面GR_U的保留的部分可以变为针对根据发明的显示装置的最终状态描述的第二抛光表面GR2。
当斜线抛光工艺完成时，如在图16中所示，第一抛光表面GR1和第二抛光表面GR2可以共同地形成显示装置的最终状态的第一侧表面SW1。因为第一抛光表面GR1和第二抛光表面GR2可以与在根据发明的显示装置的示例性实施例中描述的抛光表面基本相同，所以将不提供其详细的描述。
虽然参照发明的示例性实施例已经具体地示出并描述了发明，但本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离如由权利要求限定的发明的精神和范围的情况下，可以在此做出形式和细节上的各种改变。示例性实施例应仅以描述性的含义来考虑，而不是出于限制性的目的。

Claims (22)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
第一基底，限定所述第一基底的顶表面、面对所述顶表面的所述第一基底的底表面以及将所述顶表面和所述底表面彼此连接的所述第一基底的侧表面，所述侧表面包括：
第一侧表面，所述第一侧表面包括：第一图案化表面，包括第一图案，所述第一图案的长在所述第一图案化表面的平面图中相对于所述第一图案化表面的平面的边缘沿斜线方向延伸。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一侧表面还包括从所述第一图案化表面的上端部倾斜地延伸的第二图案化表面，所述第二图案化表面包括第二图案，所述第二图案的长在所述第二图案化表面的平面图中从所述第一图案化表面的所述上端部沿垂直方向延伸。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一基底的所述侧表面还包括：
第二侧表面，面对所述第一侧表面并且包括所述第一图案，所述第一图案的长在所述第二侧表面的平面图中相对于所述第二侧表面的平面的边缘沿斜线方向延伸。
4.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一图案和所述第二图案是浮雕图案或凹雕图案。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一图案化表面和所述第二图案化表面均包括分别由设置为多个的所述第一图案和所述第二图案限定的整个不均匀的表面。
6.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述第一基底包括：显示区域，显示所述显示装置的图像；和非显示区域，设置在所述显示区域外侧，且不显示所述显示装置的所述图像。
7.根据权利要求6所述的显示装置，所述显示装置还包括：
第二基底，与所述第一基底的所述显示区域叠置，并设置为面对所述第一基底。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其中，
所述第二基底限定所述第二基底的顶表面、面对所述顶表面的所述第二基底的底表面和将所述顶表面和所述底表面彼此连接的侧壁，所述侧壁包括第一侧壁和面对所述第一侧壁的第二侧壁，
所述第二基底的所述第一侧壁设置在与所述第一基底的所述第一侧表面相同的所述显示装置的侧处，且在所述显示装置的平面图中位于所述第一侧表面的内侧上，
所述第二基底的所述第二侧壁设置在与所述第一基底的所述第二侧表面相同的所述显示装置的侧处，且与所述第二侧表面共面。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，彼此共面的所述第二基底的所述第二侧壁和所述第一基底的所述第二侧表面均包括所述第一图案。
10.根据权利要求7所述的显示装置，其中，
在所述显示装置的俯视平面图中，所述第一基底的所述顶表面的一部分被所述第二基底暴露，
所述显示装置还包括设置为多个的焊盘，所述焊盘设置在所述第一基底的所述顶表面的暴露的部分上。
11.根据权利要求7所述的显示装置，所述显示装置还包括：
薄膜晶体管，设置在所述第一基底上；以及
滤色器，设置在所述第二基底上。
12.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述第一图案设置为彼此分隔开的多个，
所述多个第一图案中的每个相对于所述第一图案化表面的上端部形成第一角度。
13.根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述多个第一图案相对于所述第一图案化表面的所述上端部包括：
第一倾斜图案，所述第一倾斜图案的长沿由左到右的斜线方向延伸，以及
第二倾斜图案，所述第二倾斜图案的长沿由右到左的斜线方向延伸。
14.根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述第一角度为50度或更小。
15.根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述多个第一图案之间的距离彼此相同。
16.根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述多个第一图案之间的距离彼此不同。
17.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一基底是弯曲的。
18.一种显示装置，所述显示装置包括：
第一基底，限定所述第一基底的彼此面对的顶表面和底表面，以及围绕所述顶表面和所述底表面的外周的所述第一基底的四个侧表面，
其中，
所述四个侧表面包括第一侧表面和面对所述第一侧表面的第二侧表面，
所述第一侧表面包括具有第一图案的第一图案化表面，所述第一图案的长在所述第一图案化表面的平面图中相对于所述第一图案化表面的平面的边缘沿斜线方向延伸，
所述第一图案化表面的下边缘与所述底表面接触。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其中，所述第一侧表面还包括：从所述第一图案化表面的上端部倾斜地延伸的第二图案化表面，所述第二图案化表面包括第二图案，所述第二图案的长沿与所述第一图案化表面的所述上端部垂直的方向延伸，所述第二图案化表面的上边缘接触所述顶表面。
20.一种用于制造显示装置的方法，所述方法包括以下步骤：
准备第一基底和面对所述第一基底的第二基底，所述第一基底包括由第一图案化表面和第二图案化表面限定的第一侧表面；以及
使所述第一基底和所述第二基底彼此结合以形成所述显示装置，
其中，所述准备所述第一基底的步骤包括：设置所述第一基底的初始状态，所述第一基底限定所述第一基底的顶表面、面对所述顶表面的底表面以及将所述顶表面和所述底表面彼此连接的所述第一基底的连接表面；在第一连接表面处形成从所述顶表面倾斜的上图案化表面，所述上图案化表面包括所述第二图案化表面的第二图案，通过垂直抛光所述第一连接表面的上端部使所述第二图案的长与所述第一连接表面的长垂直地延伸；在同一所述第一连接表面处形成从所述底表面倾斜的下图案化表面，通过垂直抛光所述第一连接表面的下端部使所述下图案化表面包括所述第二图案化表面的所述第二图案；以及通过斜线抛光所述上图案化表面和所述下图案化表面形成所述第一基底的从所述底表面延伸的所述第一图案化表面。
21.根据权利要求20所述的方法，其中，通过所述斜线抛光来去除所述下图案化表面以形成所述第一基底的所述第一图案化表面。
22.根据权利要求20所述的方法，其中，所述第一基底的所述第一图案化表面通过所述斜线抛光包括第一图案，所述第一图案的长在所述第一图案化表面的平面图中相对于所述第一图案化表面的平面的边缘沿斜线方向延伸。
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