CN107108441A - 包括至少两个蒸馏步骤以获得纯化的卤化的羧酸卤化物的蒸馏方法、以及该纯化的卤化的羧酸卤化物的用途 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于获得具有减少的杂质含量的卤化的羧酸卤化物的方法、该具有减少的杂质含量的卤化的羧酸卤化物的馏分、以及其在农业和药物活性化合物的制造中的用途。

Description

包括至少两个蒸馏步骤以获得纯化的卤化的羧酸卤化物的蒸 馏方法、以及该纯化的卤化的羧酸卤化物的用途
本申请要求欧洲申请号14182035.7的优先权，出于所有目的将所述申请的全部内容通过援引方式并入本申请。
本发明涉及一种用于获得具有减少的杂质含量的氟化的和/或氯化的羧酸卤化物的方法、具有减少的杂质含量的氟化的羧酸卤化物和/或氯化的羧酸卤化物的馏分、以及其在农业和药物活性化合物的制造中的用途。
氟化的和/或氯化的羧酸卤化物，例如三氟乙酰氯(TFAC)、二氟乙酰氯(DFAC)或氯二氟乙酰氯(CDFAC)，是化学合成中(例如在除草剂、表面活性剂和药物的制备中)的有价值的中间体。例如，三氟乙酰氯是用于合成4-乙氧基-1,1,1-三氟甲基-3-丁烯-2-酮的起始材料，该4-乙氧基-1,1,1-三氟甲基-3-丁烯-2-酮可适当地被转化成农业活性成分的环状中间体，参见，例如WO 2011/3860和WO 2010037688。CDFAC可以，例如，被转化为氟取代的-3-氧代-烷酸(alcanoic acid)，这些氟取代的-3-氧代-烷酸可以进一步被转化为农业活性化合物的中间体，参见例如WO 2010037688和WO 2012/25469。DFAC，例如，被用于合成CDK抑制剂，如在WO 2006/64251中描述的，或农业活性化合物，如例如在WO 2005/42468中描述的。
EP 0638539 A描述了用以下操作合成氟化的羧酸氯化物，该操作包括在-60℃下的低温冷凝器、随后在40cm的填充柱中的“精馏”。产物的纯度没有报告。
DE 1069137描述了氟化的和氯化的羧酸氯化物的合成，其中蒸馏该产物。实例以典型的实验室规模进行操作；产物的纯度没有报告。
特别地，为了农业和药物活性化合物的结构单元的工业制造，氟化的羧酸卤化物的纯度对下游产物的品质、装置的可行性(特别是考虑到腐蚀性杂质)和废物管理是至关重要的。对于用于纯化氟化的羧酸卤化物的可规模化的方法存在持续的工业需要。
因此，本发明涉及一种用于获得具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物的方法，该方法包括使包含具有式(I)R1-C(O)X的化合物和杂质的粗馏分经受至少两个蒸馏步骤的步骤a)，其中该至少两个蒸馏步骤在不同压力下进行。在优选的方式中，a)包括至少三个蒸馏步骤，这些步骤由在不同压力下进行的高压蒸馏步骤、中压蒸馏步骤和低压蒸馏步骤组成。
本发明进一步涉及通过所述蒸馏方法可获得的具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物的馏分，特别是当具有式(I)的化合物是通过氧化具有式(II)R1-CHX’2的化合物来制造时，并且本发明进一步涉及该具有减少的杂质含量的馏分用于制造药物或农业活性化合物的用途。
本发明的另一方面是一种用于制造农业或药物活性化合物的方法，该方法包括用于获得具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物的该方法。
已经发现，具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物(特别是TFAC和CDFAC)可以有利地通过施用包括在不同压力下的至少两个、优选至少三个蒸馏步骤的蒸馏方法来获得。该方法使得有可能通过物理方法实现杂质与具有式(I)R1-C(O)X的化合物(特别地TFAC、DFAC和CDFAC)的有效分离。所回收的纯化的具有(I)R1-C(O)X的馏分可以作为起始材料用于实验室规模或工业规模合成和制造另外的化合物和结构单元(特别是用于农业或药物活性化合物)，同时具有减少的量的杂质，这允许对于装置的减少的腐蚀以及在下游过程中减少的量的杂质和废物。该方法有效地减少了无机的(例如卤化氢)以及有机的杂质二者。尤其是，如果卤化氢、特别是HCl以显著的量存在，该纯化方法还允许将所述卤化氢作为含有卤化氢和减少的量的杂质的馏分回收。此类馏分可以适当地被用于下游过程，例如在烷烃或烯烃的氧氯化中。氧氯化的一个实例是由乙烯制造氯乙烯。根据本发明的方法可以以容易的方式进行并且允许使用蒸汽加热/水冷却。
在根据本发明的方法中，R1是被至少一个氟和/或至少一个氯原子取代的C1至C3烷基。在一个方面中，R1被至少1、优选至少2个氟原子取代；例如，R1是被至少氟原子取代的甲基，并且由此R1选自由CH2F、CF2H和CF3组成的组。在另一方面中，R1是被至少一个氟和至少一个氯原子取代的甲基；在此方面，R1选自由CFClH、CF2Cl和CFCl2组成的组，其中优选CF2Cl。在又另一方面，R1是被至少一个氯原子并且不被其他卤化物物种取代的甲基，并且由此R1选自由CH2Cl、CCl2和CCl3组成的组。R1可以进一步选自乙基、正丙基和异丙基，其被至少一个氟原子、至少一个氟原子和至少一个氯原子、或至少一个氯原子取代。根据本发明的具有式(I)R1-C(O)X的优选的化合物是三氟乙酰氯(TFAC)、二氟乙酰氯(DFAC)、二氟氯代乙酰氯(CDFAC)和三氯乙酰氯，其中TFAC和CDFAC是最优选的化合物。在一个方面中，当R1＝CH2Cl、CCl2或CCl3、特别是CH2Cl时，用于获得具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物的方法包括至少三个蒸馏步骤、优选三个蒸馏步骤，这些步骤在不同压力下进行。
在本发明中使用的酰基卤可以例如通过卤化的前体烷烃的光氧化获得，具体地如在US 5,569,782(将其内容通过援引方式并入本申请)中所描述的。具体地，是本发明的特别优选的具有式(I)的化合物的三氟乙酰氯可以通过1,1,1-三氟-2,2-二氯乙烷(HCFC-123)的光氧化获得。在例如EP 0623577、US 5545298 A、US 4643851、US 5241113、US5659078、US 6255524和US 7754927中描述了制造具有式(I)的酰基卤的其他方式。总体上，根据本发明的纯化方法适合于减少在含有具有式(I)的化合物和杂质的粗馏分中的杂质，不论生产根据式(I)的化合物的方式如何。鉴于根据本发明的纯化方法的有效性，特别优选通过氧化式(II)R1-CHX’2来制造含有具有式(I)的化合物和杂质的馏分，其中R1具有与上述相同的定义，并且X’是相同或不同的，其中X’是选自下组的卤素，该组由Cl、F和Br组成，特别地其中X’是Cl。
根据本发明，使包含具有式(I)R1-C(O)X的化合物和杂质的粗馏分经受在不同压力下进行的至少两个、优选三个蒸馏步骤。当施用两个蒸馏步骤时，这些步骤由高压蒸馏步骤和低压蒸馏步骤组成。在优选的实施例中，a)包括至少三个蒸馏步骤，这些步骤由高压蒸馏步骤、中压蒸馏步骤和低压蒸馏步骤组成。根据优选的实施例，第一进行该高压蒸馏步骤，第二进行该中压蒸馏步骤，并且第三进行该低压蒸馏步骤。总体上，该至少两个、优选至少三个蒸馏步骤可以以适合于粗馏分的杂质分布的顺序进行，以便获得含有化合物(I)和减少的量的杂质的馏分。
在本说明书中，对压力的任何提及都与在蒸馏柱顶部测量的绝对压力相对应。
在优选的实施例中，在a)中施用三个蒸馏步骤。关于在不同蒸馏步骤中施用的压力值，该中压蒸馏步骤总体上在低于该高压蒸馏步骤至少1巴的压力下进行。总体上，在该高压蒸馏步骤与该中压蒸馏步骤之间的压力差是从1至10巴。经常地，在该高压蒸馏步骤与该中压蒸馏步骤之间的压力差是等于或大于1巴、优选等于或大于2巴并且最优选等于或大于3巴。经常地，在该高压蒸馏步骤与该中压蒸馏步骤之间的压力差是等于或小于10巴、优选等于或小于9巴并且最优选等于或小于8巴。总体上，在该中压蒸馏步骤与该低压蒸馏步骤之间的压力差是从0.2至9巴。经常地，在该中压蒸馏步骤与该低压蒸馏步骤之间的压力差是等于或大于0.2巴、优选等于或大于0.4巴并且最优选等于或大于0.6巴。经常地，在该低压蒸馏步骤与该中压蒸馏步骤之间的压力差是等于或小于9巴、优选等于或小于8巴并且最优选等于或小于7巴。
当在a)中施用三个蒸馏步骤时，总体上，在该高压蒸馏步骤中的压力是从12至18巴。经常地，在该高压蒸馏步骤中的压力是等于或大于12巴、优选等于或大于13巴并且最优选等于或大于14巴。经常地，在该高压蒸馏步骤中的压力是等于或低于18巴、优选等于或低于17巴并且最优选等于或低于16巴。
当在a)中施用三个蒸馏步骤时，总体上，在该中压蒸馏步骤中的压力是从6至12巴。经常地，在该中压蒸馏步骤中的压力是等于或大于6巴、优选等于或大于6.5巴并且最优选等于或大于7巴。经常地，在该高压蒸馏步骤中的压力是等于或低于12巴、优选等于或低于11巴并且最优选等于或低于10巴。
当在a)中施用三个蒸馏步骤时，总体上，在该低压蒸馏步骤中的压力是从1至9巴。经常地，在该低压蒸馏步骤中的压力是等于或大于1巴、优选等于或大于1.5巴并且最优选等于或大于2巴。经常地，在该低压蒸馏步骤中的压力是等于或低于9巴、优选等于或低于8巴并且最优选等于或低于7巴。
在本发明的一个方面，作为顶部产物从该低压蒸馏步骤中回收具有减少的杂质含量的具有式(I)的化合物的馏分。
在本发明的另一方面，作为底部产物从该低压蒸馏步骤中回收具有减少的杂质含量的具有式(I)的化合物的馏分。
在一个实施例中，当在a)中施用三个蒸馏步骤时，在从14至16、优选在15巴的压力下进行该高压蒸馏步骤，在从8.5至10.5、优选在9.5巴的压力下进行随后的中压蒸馏步骤，并且在从2至4、优选在3巴的压力下进行随后的低压蒸馏步骤。在此实施例中，经常在该低压蒸馏步骤中运行的柱的顶部作为顶部产物回收含有具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物、特别地TFAC的馏分。
在另一个实施例中，当在a)中施用三个蒸馏步骤时，在从14至16、优选在15巴的压力下进行该高压蒸馏步骤，在从6至8、优选在7巴的压力下进行随后的中压蒸馏步骤，并且在从5至7、优选在6巴的压力下进行随后的低压蒸馏步骤。在此实施例中，经常在该低压蒸馏步骤中作为底部产物回收含有具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物、特别地TFAC的馏分。
在其下运行每个蒸馏步骤的温度根据含有具有式(I)R1-C(O)X的化合物和杂质的粗馏分的杂质分布、以及在每个单独的蒸馏步骤中所运行的压力和柱进行选择。
在一个实施例中，该具有式(I)的化合物是TFAC，并且在该低压蒸馏步骤中作为顶部产物回收含有TFAC和减少的量的杂质的馏分，其中在a)中施用三个蒸馏步骤。优选地，该TFAC是根据描述于US 5,569,782中的方法制造的。在这种情况下，在其下进行该高压蒸馏步骤的温度是从50℃至80℃；经常地，该温度是等于或高于50℃，优选地，该温度是等于或高于53℃，并且最优选地该温度是等于或高于56℃。在此实施例中，经常地，该温度是等于或低于80℃，优选地，该温度是等于或低于75℃，并且最优选地该温度是等于或低于70℃。在此实施例的优选的方面中，该高压蒸馏步骤的温度是从60℃至68℃。经常地，在冷却的装置(例如在等于或小于-10℃的温度下、优选在等于或小于-20℃的温度下)中在该高压蒸馏步骤的蒸馏柱的顶部收集馏出物。如以上描述的，在一个实施例中，作为该中间蒸馏步骤的顶部产物收集含有具有式(I)的化合物和减少的量的杂质的馏分。根据此实施例，在其下进行该中压蒸馏步骤的温度是从50℃至80℃；经常地，该温度是等于或高于50℃，优选地，该温度是等于或高于53℃，并且最优选地该温度是等于或高于56℃。在此实施例中，经常地，该温度是等于或低于80℃，优选地，该温度是等于或低于75℃，并且最优选地该温度是等于或低于70℃。此外，根据此实施例，在其下进行该低压蒸馏步骤的温度是从60℃至110℃；经常地，该温度是等于或高于60℃，优选地，该温度是等于或高于65℃，并且最优选地该温度是等于或高于70℃。在此实施例中，经常地，在该低压蒸馏步骤中的温度是等于或低于110℃，优选地，该温度是等于或低于100℃，并且最优选地该温度是等于或低于95℃。在此实施例的优选的方面中，该低压蒸馏步骤中的温度是从75℃至90℃。
在另一个实施例中，作为该低压蒸馏步骤的底部产物回收含有具有式(I)的化合物和减少的量的杂质的馏分，其中在a)中施用三个蒸馏步骤。如果该具有式(I)的化合物是TFAC并且根据描述于US 5,569,782中的光氧化制造，这是特别有用的，并且，出人意料地，与在之前的实施例中的量相比，甚至进一步减少在含有TFAC的馏分中的杂质的量，其中作为顶部产物回收该含有TFAC和减少的量的杂质的馏分。根据此实施例，在其下进行该中压蒸馏步骤的温度是从90℃至115℃；经常地，该温度是等于或高于90℃，优选地，该温度是等于或高于94℃，并且最优选地该温度是等于或高于98℃。在此实施例中，经常地，该温度是等于或低于115℃，优选地，该温度是等于或低于111℃，并且最优选地该温度是等于或低于107℃。在此实施例的优选的方面中，该中压蒸馏步骤中的温度是从100℃至106℃。在此实施例的另一个方面中，该低压蒸馏步骤中的温度是从25℃至55℃。经常地，在该低压蒸馏步骤中的温度是等于或高于25℃，优选地，该温度是等于或高于30℃，并且最优选地该温度是等于或高于35℃。在此实施例中，经常地，在该低压蒸馏步骤中的温度是等于或低于55℃，优选地，该温度是等于或低于50℃，并且最优选地该温度是等于或低于45℃。在此实施例的优选的方面中，该低压蒸馏步骤中的温度是从36℃至40℃。
总体上，可以在一个或多个蒸馏柱中进行根据本发明的a)的该至少两个、优选三个蒸馏步骤的每一个。每个蒸馏步骤将优选使用单个柱。
可以用于根据本发明的方法的蒸馏柱是本身已知的。例如，可以使用常规的板式柱或双流型板式柱或可替代地具有散装或规整填料的柱。在高压蒸馏中的理论板数总体上为至少10。它经常是至少20。至少35的数目给出了良好的结果。
在低压蒸馏中的理论板数总体上为至少5。它经常是至少15。至少30的数目给出了良好的结果。
在中压蒸馏中的理论板数总体上为至少6。它经常是至少16。至少31的数目给出了良好的结果。
在高压蒸馏中的质量再沸比总体上为至少1。频繁地，该质量再沸比为至少3。更频繁地，该质量再沸比为至少8。优选至少10的质量再沸比。
在高压蒸馏中的质量再沸比总体上为最多100。频繁地，该质量再沸比为最多50。更频繁地，该质量再沸比为最多30。优选最多25的质量再沸比。
在低压蒸馏中的质量回流比总体上为至少2。频繁地，该质量回流比为至少4。优选至少5的质量回流比。在低压柱中的质量回流比总体上为最多50。频繁地，该质量回流比为最多30。优选最多20的质量回流比。
在中压蒸馏中的质量回流比总体上为至少30％。频繁地，该质量回流比为至少50％。优选至少70％的质量回流比。在低压柱中的质量回流比总体上为最多40％。频繁地，该质量回流比为最多50％。优选最多60％的质量回流比。
根据本发明的各蒸馏步骤可以以连续或不连续的模式进行操作。
在本发明的一个实施例中，具有式(I)的化合物的粗馏分已经通过起始于具有式(II)R1-CHX’2的化合物的氧化方法获得，其中X’是相同或不同的，其中X’是选自下组的卤素，该组由Cl、F和Br组成，特别地其中X’是Cl并且其中R1具有与上述相同的定义。在此实施例的一个优选的方面中，该氧化方法是在氧气存在下的光氧化方法，特别是其中所述光氧化进一步在加入的元素氯的存在下进行。当使用掺杂有金属碘化物的Hg高压灯作为源用于活化辐射时，特别是其中该金属碘化物选自由碘化镓、碘化铊或碘化镉组成的组，根据此实施例的光氧化是特别有利的。此类方法的细节描述于EP 0638539 A(将其以其全文并入本申请)。
在本发明的一个方面，具有式(I)的化合物的粗馏分进一步含有在制备具有式(I)的化合物的制造过程中形成的显著量的HX’，其中X’是如以上所定义的，特别是HCl。如果在氧化方法(特别是在氧和元素氯存在下的光氧化，如描述于EP 0638539 A中的)中由具有式(II)的化合物制备具有式(I)的化合物特别是这种情况。在如果显著量的HX’存在于含有具有式(I)的化合物的粗馏分中的情况中，根据本发明的纯化方法允许在一个或多个蒸馏步骤中作为产物流回收具有减少的杂质含量的HX’、特别是HCl的馏分。优选地，在该高压蒸馏步骤的顶部作为顶部产物取出具有减少的杂质含量的HX’、特别是HCl的馏分。术语《显著量的HX’》旨在表示在含有式(I)的粗馏分中从2至50重量％的HX'含量。经常地，在该粗馏分中的HX’含量是等于或大于2重量％、更优选等于或大于10重量％、并且甚至更优选等于或大于13重量％。经常地，在该粗馏分中的HX’含量是等于或小于50重量％、更优选等于或大于40重量％、并且甚至更优选等于或大于30重量％。在最优选的方式中，在含有式(I)的粗馏分中的HX’含量是从15至20重量％。在优选的方面，该HX’是HCl，并且在从14至16巴的压力下在高压蒸馏步骤中作为顶部产物被回收，并且被截留在-20℃的冷却装置中。该回收的HCl馏分具有至少95重量％、更优选96重量％、并且最优选至少98重量％的纯度。
在本发明的最优选的实施例中，TFAC是由123(1,1-二氯-2,2,2-三氟乙烷)通过如在EP 0638539 A中描述的在O2和Cl2存在下的光氧化制造的并且经受在a)中的三个蒸馏步骤。可以有效减少在此反应中产生的有机副产物(即COCl2、COF2和113a(1-氯-2,2,2-三氟乙烷))以及残余的起始材料123的含量、以及无机副产物HCl和起始材料Cl2的含量。在此实施例的一个方面，Cl2包含在作为顶部产物从低压蒸馏回收的馏分(还包含TFAC)中，其中作为该低压蒸馏步骤的底部产物回收含有TFAC和减少的量的杂质的馏分。可以将Cl2/TFAC混合物再循环到该光氧化步骤。
本发明还涉及通过根据本发明的方法可获得的具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物的馏分，特别地当该具有式(I)的化合物是通过氧化具有式(II)的化合物制造的时，优选地其中该具有式(I)的化合物选自由三氟乙酰氯、二氟乙酰氯和二氟氯代乙酰氯组成的组。在此实施例的一个优选的方面，该具有式(I)的化合物是通过如描述于EP0638539 A中的123的光氧化制造的TFAC。在作为底部产物从该低压蒸馏步骤回收含有TFAC的馏分的情况中，其中在a)中进行三个蒸馏步骤，在该回收的馏分中的氟化物的含量是非常低的。经常地，氟离子(F-)含量是低于50ppm。优选地，该氟离子(F-)含量是低于30ppm，并且更优选地，该氟离子(F-)含量是低于10ppm。在作为顶部产物从该低压蒸馏步骤回收含有TFAC的馏分的情况中，在所回收的馏分中的氟化物的含量是低的。经常地，氟离子(F-)含量是低于150ppm。优选地，该氟离子(F-)含量是低于120ppm，并且更优选地，该氟离子(F-)含量是低于100ppm。在最优选的方面，该氟离子(F-)含量是低于40ppm。通过这种方法实现的(F-)含量经常是高于5ppm；总体上可以实现从5至90ppm的(F-)含量。该(F-)含量适当地通过所水解的样品的离子色谱来确定。此外，含有TFAC和减少的量的杂质的馏分通常含有从0至400ppm、优选地从0至300ppm、并且更优选地从0至250ppm的123。最优选地，123含量是低于100ppm。123含量适当地通过GC确定。含有TFAC和减少的量的杂质的馏分通常含有从0至30、优选地从0至20、并且最优选地从0至15ppm的Cl2。Cl2含量适当地通过所水解的样品的离子色谱来确定。含有TFAC和减少的量的杂质的馏分通常含有从0％至2％、优选地从0％至1％、并且更优选地从0％至0.5％的HCl。最优选地，HCl含量是低于0.01％。该HCl含量适当地通过所水解的样品的离子色谱来确定。含有TFAC和减少的量的杂质的馏分通常含有从0％至0.2％、优选地从0％至0.1％、并且更优选地从0％至0.05％的COCl2。最优选地，COCl2含量是低于0.01％。含有TFAC和减少的量的杂质的馏分通常含有从0％至0.2％、优选地从0％至0.1％、并且更优选地从0％至0.05％的COF2。最优选地，COF2含量是低于0.01％。含有TFAC和减少的量的杂质的馏分通常含有从0％至0.5％、优选地从0％至0.2％、并且最优选地从0％至0.1％的113a。COCl2、COF2和113a的含量是通过GC适当地检测的。
具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物的馏分(特别是如果(I)是TFAC、CDFAC或DFAC)可以被用于制造农业或药物活性化合物。可以例如在以上提及的公开物中发现通过本发明回收的馏分如何可以进一步作为起始材料用于制造农业或药物活性化合物的方法。
本发明还涉及一种用于制造农业或药物活性化合物的方法，该方法包括根据本发明的方法。用于进一步制造活性成分或其中间体的下游方法步骤从所获得的具有式(I)的化合物的馏分的纯度受益良多，因为可以在下游过程中实现更少的副产物、更少的废物、更高的选择性和更低的装置腐蚀。可以例如在以上提及的公开物中发现其中通过本发明回收的馏分可以进一步作为起始材料用于制造农业或药物活性化合物的方法。
以下实例旨在说明本发明而非限制其范围。
如果通过援引方式并入本申请的任何专利、专利申请、以及公开物的披露内容与本申请的说明相冲突到了可能导致术语不清楚的程度，则本说明应该优先。
实例
TFAC的制造
TFAC是根据在EP 0638539 A中描述的方法制造的，并且该粗产物被用作有待经受三步蒸馏方法的含有TFAC和杂质的粗馏分。
实例1：
使该含有TFAC和杂质的馏分在15巴下加压并且经受第一蒸馏柱(DN 50，具有1cm直径的陶瓷填充物，高度6米，材料：Inox 1.4571钢)。将柱底部物(sump)保持在63℃；在该第一蒸馏柱的顶部，通过在-20℃截留回收主要含有HCl的馏分。该柱底部物主要含有TFAC、123、Cl2和COCl2。然后使该柱底部物经受在9.5巴下的第二次蒸馏(柱DN 50，具有1cm直径的陶瓷填充物，高度6米，材料：Inox 1.4571钢)。将柱底部物保持在63℃，在该柱的顶部，回收在53℃下的主要含有Cl2的馏分以及COCl2的少量馏分。然后使此第二次蒸馏的柱底部物经受在3巴下的第三次蒸馏(柱DN 50，具有1cm直径的陶瓷填充物，高度6米，材料：Inox1.4571钢)，其中在顶部(在18℃下，柱底部物84℃)回收含有TFAC和减少的量的杂质的馏分。
实例2：
使该含有TFAC和杂质的馏分在15巴下加压并且经受第一蒸馏柱(DN 50，具有1cm直径的陶瓷填充物，高度6米，材料：Inox 1.4571钢)。将柱底部物保持在63℃；在该第一蒸馏柱的顶部，通过在-20℃截留回收主要含有HCl的馏分。该柱底部物主要含有TFAC、123、Cl2和COCl2。然后使该柱底部物经受在7巴下的第二次蒸馏(柱DN 50，具有1cm直径的陶瓷填充物，高度6米，材料：Inox 1.4571钢)。将柱底部物保持在104℃，在该柱的顶部回收在40℃下的主要含有TFAC和Cl2的馏分。然后使此第二次蒸馏的柱底部物经受在6巴下的第三次蒸馏(柱DN 50，具有1cm直径的陶瓷填充物，高度6米，材料：Inox 1.4571钢)，其中在顶部(在20℃下)蒸馏出主要含有TFAC和Cl2的馏分。作为含有TFAC和减少的量的杂质的馏分回收此第三次蒸馏的底部物(柱底部物)。
表I以重量％/ppm计的含量

Claims (17)

1.一种用于获得具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物的方法，其中R1是氟化的和/或氯化的C1-C3烷基并且X是卤素，该方法包括：a)使包含具有式(I)R1-C(O)X的化合物和杂质的粗馏分经受至少两个蒸馏步骤，其中该至少两个蒸馏步骤是在不同压力下进行的；以及b)至少回收该具有减少的杂质含量的具有式(I)的化合物的馏分。
2.根据权利要求1所述的方法，其中a)包括至少三个蒸馏步骤，这些步骤由高压蒸馏步骤、中压蒸馏步骤和低压蒸馏步骤组成。
3.根据权利要求2所述的方法，其中该高压蒸馏步骤和该中压蒸馏步骤在低于该高压蒸馏步骤至少1巴的压力下进行，并且该低压蒸馏步骤在低于该中压蒸馏步骤至少0.2巴的压力下进行。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中R1选自由氟化的和/或氯化的甲基和氟化的和/或氯化的乙基组成的组。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中R1选自由CF3、CClF2、CCl2F、CHF2、CHClF、CH2Cl和CCl2H组成的组。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中X选自由Cl、F和Br组成的组，优选X是Cl。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中该具有式(I)的化合物选自由三氟乙酰氯、二氟乙酰氯和二氟氯代乙酰氯组成的组。
8.根据权利要求2至7中任一项所述的方法，其中在该高压蒸馏步骤与该中压蒸馏步骤之间的压力差是从1至10巴，并且其中在该中压蒸馏步骤与该低压蒸馏步骤之间的压力差是从1至8巴。
9.根据权利要求2至8中任一项所述的方法，其中在该高压蒸馏步骤中的压力是从12至18巴，在该中压蒸馏步骤中的压力是从6至12巴，并且在该低压蒸馏步骤中的压力是从1至9巴。
10.根据权利要求2至9中任一项所述的方法，其中第一进行该高压蒸馏步骤，第二进行该中压蒸馏步骤，并且第三进行该低压蒸馏步骤。
11.根据权利要求2至10中任一项所述的方法，其中从该低压蒸馏步骤中作为顶部产物回收该具有减少的杂质含量的具有式(I)的化合物的馏分。
12.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其中从该低压蒸馏步骤中作为底部产物回收该具有减少的杂质含量的具有式(I)的化合物的馏分。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的方法，其中该具有式(I)的化合物的粗馏分已经通过起始于具有式(II)R1-CHX’2的化合物的氧化方法获得，其中X’是相同或不同的，其中X’是选自下组的卤素，该组由Cl、F和Br组成，特别地其中X’是Cl，并且其中R1具有与上述相同的定义。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的方法，其中该包含具有式(I)R1-C(O)X的化合物和杂质的粗馏分含有HX、特别是HCl，并且其中回收具有减少的杂质含量的HX、特别是HCl的馏分，其中X具有与上述相同的定义。
15.一种具有减少的杂质含量的具有式(I)R1-C(O)X的化合物的馏分，该馏分通过根据权利要求1至14中任一项所述的方法、特别地通过根据权利要求13所述的方法可获得的，优选地其中该具有式(I)的化合物选自由三氟乙酰氯、二氟乙酰氯和二氟氯代乙酰氯组成的组。
16.一种用于制造农业或药物活性化合物的方法，该方法包括根据权利要求1至14中任一项所述的方法。
17.根据权利要求15所述的馏分用于制造药物或农业活性化合物的用途。
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