CN107099826A - 一种稳定型无毒电镀液的配方 - Google Patents

一种稳定型无毒电镀液的配方 Download PDF

Info

Publication number
CN107099826A
CN107099826A CN201710476638.6A CN201710476638A CN107099826A CN 107099826 A CN107099826 A CN 107099826A CN 201710476638 A CN201710476638 A CN 201710476638A CN 107099826 A CN107099826 A CN 107099826A
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
hydrogen peroxide
formula
type non
plating liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710476638.6A
Other languages
English (en)
Inventor
张锐
张鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Friends Of City Of Chuzhou Precision Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Friends Of City Of Chuzhou Precision Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Friends Of City Of Chuzhou Precision Manufacturing Co Ltd filed Critical Friends Of City Of Chuzhou Precision Manufacturing Co Ltd
Priority to CN201710476638.6A priority Critical patent/CN107099826A/zh
Publication of CN107099826A publication Critical patent/CN107099826A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

本发明公开了一种稳定型无毒电镀液的配方,按照重量份由以下原料组成:氯化锰20份‑30份、钼酸铵15份‑25份、硫酸铜40份‑50份、亚硝酸钠20份‑26份、丙烷磺酸锡10份‑15份、氢氧化钾8份‑12份、氰化铜30份‑40份、氧化锌15份‑25份、碳酸钾6份‑10份、氨水15份‑20份、柠檬酸8份‑12份、双氧水10份‑20份、双氧水稳定剂2份‑6份和适量的去离子水,本发明一种稳定型无毒电镀液的配方具有无毒、促进溶解、提高电流密度和高稳定性的优点。

Description

一种稳定型无毒电镀液的配方
技术领域
本发明涉及电镀技术领域,具体是一种稳定型无毒电镀液的配方。
背景技术
在机械加工过程中,零部件表面粘附的防锈油脂、切削液、机械油、润滑油脂、磨削液、脱模剂等与尘埃、打磨粉尘混粘在一起,形成较厚的污垢。若热处理前未将以上污垢除去,则其淬火烧结成顽固的固体油垢后除油除锈很难清洗干净,施镀时气泡附着其上使镀层形成气体滞留型针孔。热处理工件表面不可避免地会粘附一层油污,当灰尘落在表面上,并与油脂混粘在一起,时间久了很难清洗干净,从而使工件表面形成不明显的细小油斑,施镀时气泡滞留其上形成针孔。另外采用网带式电阻炉淬火时,工件表面的油污与灰尘等杂质颗粒混粘在一起,烧结成顽固的固体油垢,硝盐回火时,以上油垢又与硝基盐形成顽固的热聚合物,电镀时很难把以上污物彻底除净,氢气泡易粘附在污物上面,难以排出,从而使镀层产生针孔与麻点现象,且随着气泡逐渐长大,镀层会自动胀破,产生脱皮现象,从而导致电镀液具有毒性、安定性不好,不适合连续操作的缺点,而且一般的电镀液都是集中混合制成,在混合过程中部分组分会提前反应,造成电镀液的不稳定。
发明内容
本发明的目的在于提供一种稳定型无毒电镀液的配方,解决上述技术缺陷。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种稳定型无毒电镀液的配方,按照重量份由以下原料组成:氯化锰20份-30份、钼酸铵15份-25份、硫酸铜40份-50份、亚硝酸钠20份-26份、丙烷磺酸锡10份-15份、氢氧化钾8份-12份、氰化铜30份-40份、氧化锌15份-25份、碳酸钾6份-10份、氨水15份-20份、柠檬酸8份-12份、双氧水10份-20份、双氧水稳定剂2份-6份和适量的去离子水。
上述一种稳定型无毒电镀液的配方,按照重量份由以下原料组成:氯化锰20份-28份、钼酸铵15份-23份、硫酸铜40份-48份、亚硝酸钠20份-24份、丙烷磺酸锡10份-13份、氢氧化钾8份-10份、氰化铜30份-38份、氧化锌15份-23份、碳酸钾6份-8份、氨水15份-18份、柠檬酸8份-10份、双氧水10份-18份、双氧水稳定剂2份-4份和适量的去离子水。
上述一种稳定型无毒电镀液的配方,按照重量份由以下原料组成:氯化锰25份、钼酸铵20份、硫酸铜45份、亚硝酸钠23份、丙烷磺酸锡13份、氢氧化钾10份、氰化铜35份、氧化锌20、碳酸钾8份、氨水18份、柠檬酸10份、双氧水15份、双氧水稳定剂4份和适量的去离子水。
上述的一种稳定型无毒电镀液的配方,所述双氧水稳定剂聚乙烯多胺盐。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明一种稳定型无毒电镀液的配方具有无毒、促进溶解、提高电流密度和高稳定性的优点。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。
实施例1
一种稳定型无毒电镀液的配方,按照重量份由以下原料组成:氯化锰20份-30份、钼酸铵25份、硫酸铜50份、亚硝酸钠26份、丙烷磺酸锡15份、氢氧化钾12份、氰化铜40份、氧化锌25份、碳酸钾10份、氨水20份、柠檬酸12份、双氧水20份、双氧水稳定剂6份和适量的去离子水。
所述双氧水稳定剂聚乙烯多胺盐。
实施例2
一种稳定型无毒电镀液的配方,按照重量份由以下原料组成:氯化锰20份-30份、钼酸铵15份、硫酸铜40份、亚硝酸钠20份、丙烷磺酸锡10份、氢氧化钾8份、氰化铜30份、氧化锌15份、碳酸钾6份、氨水15份、柠檬酸8份、双氧水10份、双氧水稳定剂2份和适量的去离子水。
所述双氧水稳定剂聚乙烯多胺盐。
实施例3
一种稳定型无毒电镀液的配方,按照重量份由以下原料组成:氯化锰25份、钼酸铵20份、硫酸铜45份、亚硝酸钠23份、丙烷磺酸锡13份、氢氧化钾10份、氰化铜35份、氧化锌20、碳酸钾8份、氨水18份、柠檬酸10份、双氧水15份、双氧水稳定剂4份和适量的去离子水。
所述双氧水稳定剂聚乙烯多胺盐。
本发明一种稳定型无毒电镀液的配方具有无毒、促进溶解、提高电流密度和高稳定性的优点。
上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明,但是本专利并不限于上述实施方式,在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本专利宗旨的前提下做出各种变化。

Claims (4)

1.一种稳定型无毒电镀液的配方,其特征在于,按照重量份由以下原料组成:氯化锰20份-30份、钼酸铵15份-25份、硫酸铜40份-50份、亚硝酸钠20份-26份、丙烷磺酸锡10份-15份、氢氧化钾8份-12份、氰化铜30份-40份、氧化锌15份-25份、碳酸钾6份-10份、氨水15份-20份、柠檬酸8份-12份、双氧水10份-20份、双氧水稳定剂2份-6份和适量的去离子水。
2.根据权利要求1所述一种稳定型无毒电镀液的配方,其特征在于,按照重量份由以下原料组成:氯化锰20份-28份、钼酸铵15份-23份、硫酸铜40份-48份、亚硝酸钠20份-24份、丙烷磺酸锡10份-13份、氢氧化钾8份-10份、氰化铜30份-38份、氧化锌15份-23份、碳酸钾6份-8份、氨水15份-18份、柠檬酸8份-10份、双氧水10份-18份、双氧水稳定剂2份-4份和适量的去离子水。
3.根据权利要求1所述一种稳定型无毒电镀液的配方,其特征在于,按照重量份由以下原料组成:氯化锰25份、钼酸铵20份、硫酸铜45份、亚硝酸钠23份、丙烷磺酸锡13份、氢氧化钾10份、氰化铜35份、氧化锌20、碳酸钾8份、氨水18份、柠檬酸10份、双氧水15份、双氧水稳定剂4份和适量的去离子水。
4.根据权利要求1所述的一种稳定型无毒电镀液的配方,其特征在于,所述双氧水稳定剂聚乙烯多胺盐。
CN201710476638.6A 2017-06-21 2017-06-21 一种稳定型无毒电镀液的配方 Pending CN107099826A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710476638.6A CN107099826A (zh) 2017-06-21 2017-06-21 一种稳定型无毒电镀液的配方

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710476638.6A CN107099826A (zh) 2017-06-21 2017-06-21 一种稳定型无毒电镀液的配方

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107099826A true CN107099826A (zh) 2017-08-29

Family

ID=59663542

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710476638.6A Pending CN107099826A (zh) 2017-06-21 2017-06-21 一种稳定型无毒电镀液的配方

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107099826A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114377651A (zh) * 2021-12-11 2022-04-22 上海电力大学 一种石墨烯/二氧化锰微纳米马达及其制备与应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103556191A (zh) * 2013-10-29 2014-02-05 常熟市伟达电镀有限责任公司 无毒的电镀液
CN104499011A (zh) * 2014-11-28 2015-04-08 安徽华灿彩钢薄板科技有限公司 一种电镀液
CN105332025A (zh) * 2014-08-12 2016-02-17 无锡永发电镀有限公司 一种铜-镍-锰合金电镀液及其电镀方法
CN106119911A (zh) * 2016-08-21 2016-11-16 无锡瑾宸表面处理有限公司 稳定型电镀液
CN106811780A (zh) * 2015-12-01 2017-06-09 湖北童河通讯器材科技有限公司 一种电镀液

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103556191A (zh) * 2013-10-29 2014-02-05 常熟市伟达电镀有限责任公司 无毒的电镀液
CN105332025A (zh) * 2014-08-12 2016-02-17 无锡永发电镀有限公司 一种铜-镍-锰合金电镀液及其电镀方法
CN104499011A (zh) * 2014-11-28 2015-04-08 安徽华灿彩钢薄板科技有限公司 一种电镀液
CN106811780A (zh) * 2015-12-01 2017-06-09 湖北童河通讯器材科技有限公司 一种电镀液
CN106119911A (zh) * 2016-08-21 2016-11-16 无锡瑾宸表面处理有限公司 稳定型电镀液

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张允诚 等: "《电镀手册》", 31 December 2011, 国防工业出版社 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114377651A (zh) * 2021-12-11 2022-04-22 上海电力大学 一种石墨烯/二氧化锰微纳米马达及其制备与应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103924245A (zh) 一种化学退镀液和退镀方法
CN101665962A (zh) 一种钢铁基底上碱性无氰镀铜电镀液及其制备方法
KR101839233B1 (ko) 아연-니켈 합금 전기 도금액 조성물, 이를 이용한 아연-니켈 합금 전기 도금강판의 제조방법 및 이로부터 제조된 아연-니켈 합금 전기도금강판
CN101643926A (zh) 一种无氰预镀铜电镀液
Sharma et al. Pulse electroplating of ultrafine grained tin coating
CN104562107A (zh) 一种高耐蚀环保黑色锡钴合金电镀液及其电镀方法
US10577705B2 (en) Steel sheet for container and method for producing steel sheet for container
TW201407004A (zh) 電解退鍍液及應用該電解退鍍液進行退鍍的方法
CN107099826A (zh) 一种稳定型无毒电镀液的配方
CN112899738B (zh) 一种强酸性条件下钢铁基体直接无氰镀铜电镀液及其制备方法
JP2007308801A (ja) ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物及びその用途
JP6852454B2 (ja) Sn系合金めっき鋼板及びSn系合金めっき鋼板の製造方法
CN107400907A (zh) 碱性无氰镀镉除氢脆剂及其电镀液、电镀液的制备方法
CN102644072A (zh) 用于钢铁磷化的组合物及其用途
CN103540972A (zh) 高硬度的电镀液
Zhu et al. Copper coating electrodeposited directly onto AZ31 magnesium alloy
JP2007138216A (ja) 化成処理性および耐型かじり性に優れた冷延鋼板およびその製造方法
CN109706490A (zh) 一种镀锌增白电镀液
JPS5864393A (ja) 錫−亜鉛合金めつき浴
Zhu et al. Corrosion of tinplate T54S and T61 in humid atmosphere and saline solution
CN109722684A (zh) 一种金属合金抗静电电镀液
CN109763155A (zh) 一种含环氧氯丙烷的镀铜抗氧化电镀液
CN109722688A (zh) 一种金属合金抗氧化电镀液
CN109706491A (zh) 一种金属合金电镀液
CN105970230A (zh) 一种环保型化学抛光液

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20170829