CN107003457B - 光学膜的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供使用了同时多层涂布的、能够减少光学膜的涂布故障的制造方法。本发明涉及光学膜的制造方法，是在基材上形成有至少2层以上的光学功能层的光学膜的制造方法，具有：通过动态粘弹性测定来确认形成上述各光学功能层的涂布液的损耗弹性模量的损耗弹性模量确认工序、和在基材上将形成上述各光学功能层的涂布液进行同时多层涂布的涂布工序，在上述涂布工序中形成上述各光学功能层的涂布液的、由下述式1定义的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下时进行涂布。ΔG”＝G”(60)‑G”(0) (式1)(其中，G”(60)表示测定时间60分钟时的损耗弹性模量的值，G”(0)表示测定时间0分钟时的损耗弹性模量的值。)

Description

光学膜的制造方法

技术领域

本发明涉及光学膜的制造方法。

背景技术

光学膜是可将光透射或反射吸收的膜，可发挥折射、双折射、防反射、视野角扩大、光漫射及亮度提高等的光学功能。

光学膜作为红外屏蔽膜、紫外线屏蔽膜、防反射膜、取向膜、偏振膜、偏振片保护膜、相位差膜、视野角扩大膜、亮度提高膜及电磁波屏蔽膜等在液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)等的平板显示器(FPD)、或者建筑物、车辆的窗玻璃等中使用。

作为光学膜的一例，可列举出形成至少2层以上的光学功能层而使用的光学膜。作为光学膜，例如已知分别调整高折射率层和低折射率层的光学膜厚、具有在基材的表面层叠的多层层叠膜结构的光学膜。已知这样的膜选择性地反射特定的波长的光，具有多层层叠膜结构的光学膜已用作光学反射膜。

就光学反射膜而言，只通过调整各层的膜厚、折射率，就能够控制反射波长。由此，就光学反射膜而言，通过与其使用目的相符的设计，能够对于红外线、紫外线、可见光选择性地使其反射。

其中，特别地，由于近年来的对于节能对策的关心的高涨，从减少对冷气设备施加的负荷的观点出发，安装于建筑物、车辆的窗玻璃而将太阳光的热线的透过进行阻断的红外屏蔽膜的期望正在提高。

作为红外屏蔽膜的形成方法，主要提案有使用蒸镀法、溅射法等的干式制膜法来形成由使高折射率层和低折射率层交替地层叠的构成所组成的层叠膜的方法。但是，就干式制膜法而言，在形成中所使用的真空装置等变为大型，制造成本高，大面积化是困难的，而且基材被限定于耐热性原材料。

已知有代替具有上述这样的课题的干式制膜法而使用湿式涂布法来形成红外屏蔽膜的方法(例如参照日本特开2009-86659号公报)。

作为一般用湿式涂布在基材上制作2层以上的层叠膜的方法，有1层1层地涂布·干燥而进行层叠的逐次涂布和同时将多个层涂布的同时多层涂布。作为逐次涂布，有旋涂法、棒涂法、刮刀涂布、照相凹版涂布等，特别是在制作光学反射膜等的多层膜的情况下，由于涂布·干燥次数增多，因此生产率低。另一方面，作为同时多层涂布，有使用了帘式涂布、滑珠(スライドビード)涂布等的方法，由于能够同时形成多个层，因此生产率高，因此优选采用同时多层涂布。

发明内容

同时多层涂布如上述那样具有生产率高的优点。但是，在以往的方法中，存在所制造的光学膜的涂布故障容易发生的问题。

因此，本发明的目的为提供使用了同时多层涂布的、能够减少光学膜的涂布故障的制造方法。

用于解决课题的手段

本发明的上述课题通过以下的手段而得到解决。

即，光学膜的制造方法，其是在基材上形成有至少2层以上的光学功能层的光学膜的制造方法，具有：通过动态粘弹性测定来确认形成上述各光学功能层的涂布液的损耗弹性模量的损耗弹性模量确认工序、和在基材上将形成上述各光学功能层的涂布液进行同时多层涂布的涂布工序，在上述涂布工序中形成上述各光学功能层的涂布液的、由下述式1定义的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下时进行涂布。

ΔG”＝G”(60)-G”(0) (式1)

(其中，G”(60)表示测定时间60分钟时的损耗弹性模量的值，G”(0)表示测定时间0分钟时的损耗弹性模量的值。)

附图说明

图1为可用作分散装置的一实施方式的乳化分散机的示意图。在图1中，1表示定子齿，2表示转子齿，4及5表示剪切对象液(形成光学功能层的涂布液)，以及La表示间隙。

图2为可用作分散装置的一实施方式的压力式均化器的示意图。在图2中，11表示阀片，12表示阀，14表示剪切对象液(形成光学功能层的涂布液)，以及Lb表示间隙。

图3为可用作一实施方式的光学膜制造系统的概略构成图。在图3中，101表示涂布液制备釜，102、105及109表示送液装置，103及108表示过滤装置，104表示涂布液贮存釜，106表示分散装置，107表示脱泡装置，114表示涂布装置，115表示固化装置，116表示干燥装置，117表示光学膜制造系统，L1表示供给路径，以及R1表示循环路径。

具体实施方式

本发明的一方式为光学膜的制造方法，其是在基材上形成有至少2层以上的光学功能层的光学膜的制造方法，具有：通过动态粘弹性测定来确认形成上述各光学功能层的涂布液的损耗弹性模量的损耗弹性模量确认工序、和在基材上将形成上述各光学功能层的涂布液进行同时多层涂布的涂布工序，在上述涂布工序中形成上述各光学功能层的涂布液的、由下述式1定义的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下时进行涂布。

ΔG”＝G”(60)-G”(0) (式1)

(其中，G”(60)表示测定时间60分钟时的损耗弹性模量的值，G”(0)表示测定时间0分钟时的损耗弹性模量的值。)

根据这样的构成，可以提供使用了同时多层涂布的、能够减少光学膜的涂布故障的制造方法。

本发明人为了解决在以往的方法中发生了光学膜的涂布故障的问题，进行了深入研究。

在其过程中，发现涂布液的损耗弹性模量(G”)的增加与作为涂布故障的拖尾、条纹等的膜面缺陷有关，关注于这点。

在此，本发明人推测：在涂布机的间隙间及涂布时的膜面上发生来自涂布液的凝聚、由于其凝聚体的存在而涂布液的流动部分地发生变化，由此涂布故障发生。另外推测：涂布液中的凝聚发生的程度与涂布液的损耗弹性模量(G”)的值有关，凝聚体的数量越增多，或者尺寸越变大，则其值越增加。予以说明，就凝聚而言，推测由于因分子间力所引起的凝聚、因交联反应的进行所引起的化学交联的进行、以及因高分子链的缠结的发生等所引起的物理交联的进行等而发生。

对此，以往没有关注涂布液的损耗弹性模量(G”)的增加为涂布故障发生的原因，未能稳定地供给涂布故障的发生得到了抑制的光学膜。

因此，本发明人对于形成各光学功能层的涂布液，设置在涂布液制备后测定动态粘弹性而进行损耗弹性模量的确认的损耗弹性模量确认工序，进而，在涂布工序中使用损耗弹性模量的时间变化为一定值以下的涂布液。

发现通过这样做能够抑制涂布故障的发生、稳定地提供外观优异的光学膜，完成了本发明。

予以说明，本发明的一方式在长时间涂布时显现出更为显著的效果。对于这点，本发明人推测是因为：由于经时，容易发生来自涂布液的凝聚，因此更为显著地得到本发明的效果。

应予说明，以上述为起点，本申请中记载的机理基于推测，其正确和错误不会对本发明的技术范围产生影响。

以下，对本发明的实施方式进行说明。应予说明，本发明并不只限定于以下的实施方式。另外，附图的尺寸比率为了说明的方便而进行了夸大，有时与实际的比率不同。

另外，只要无特别说明，操作及物性等的测定在室温(20～25℃)/相对湿度40～50％RH的条件下进行测定。

以下，对本发明的光学膜的制造方法详细地说明。

[光学膜的制造方法]

在本发明的一方式涉及的光学膜的制造方法中，对形成各光学功能层的涂布液(本说明书中也称为“涂布液”)并无特别限制，可使用市售的涂布液，另外，也可使用为了得到作为光学功能层所期望的特性而制备的涂布液。

(涂布液的制备方法)

以下，对形成光学功能层的涂布液的制备方法进行说明。

对涂布液的制备方法并无特别限制，可列举出添加具有所期望的功能的材料、进行搅拌混合的方法。此时，对各成分的添加顺序也无特别限制，可一边搅拌一边依次添加各成分进行混合，另外也可一边搅拌一边一次地添加而混合。就涂布液而言，根据需要可进一步使用溶剂来调整为适当的粘度。

在以下的说明中，主要对于将折射率不同的折射率层层叠而成的光学反射膜、特别是红外屏蔽膜的制造方法进行说明，但本发明的对象并不限定于此。应予说明，光学反射膜相当于光学膜，折射率层相当于光学功能层。

作为被同时多层涂布的涂布液，并无特别限制，例如能够优选使用形成构成光学反射膜的高折射率层及低折射率层的涂布液(本说明书中，也简称为“高折射率层用涂布液”和“低折射率层用涂布液”)。作为涂布液，此外可列举出具有高折射率层和低折射率层的中间的折射率的中折射率层用的涂布液；用于使涂布变得容易的低粘度的滑移层用的涂布液；为了抑制在滑动面的涂布液的缩流而在最上层能够使用的低表面张力的涂布液等。

就对于各折射率层的涂布液而言，优选含有无机氧化物粒子、高分子、交联成分、或者根据需要所添加的其他的添加剂、或溶剂等。应予说明，本说明书中，将相对于另一方、折射率高的折射率层称为高折射率层，将相对于另一方、折射率低的折射率层称为低折射率层。

以下，对构成涂布液的各成分详述。

(交联成分)

本发明的优选的一方式为光学膜的制造方法，其中，形成各光学功能层的涂布液的至少1者含有交联成分。

交联成分具有使涂布液构成成分交联的功能。

在涂布液含有交联成分时，也可能有时无意的交联反应经时地进行。此时，认为：由于在涂布液中由于交联而产生的凝聚体的数量或大小分别经时地增加，因此损耗弹性模量也经时地增加。

由此，在本发明的一方式涉及的光学膜的制造方法中，在形成各光学功能层的涂布液的至少1者含有交联成分的情况下，得到更为显著的涂布故障的减轻效果。

在此，在通过交联成分使后述的水溶性高分子交联的情况下，可对折射率层赋予耐水性。在以下对将高分子交联的交联成分进行说明，但交联成分并不限定于此。

作为可使用的交联成分，只要与高分子发生交联反应，则并无特别限制。在高分子为未改性聚乙烯醇或改性聚乙烯醇的情况下，例如优选使用硼酸及其盐(以硼原子作为中心原子的含氧酸及其盐)等，更具体地，原硼酸、二硼酸、偏硼酸、四硼酸、五硼酸、八硼酸或它们的盐等。硼酸及其盐可单独使用，也可使用2种以上。

作为交联成分，此外也能够使用公知的化合物。交联成分一般为具有可与高分子反应的基团的化合物、或者促进树脂所具有的不同的基团之间的反应的化合物，根据树脂的种类适当地选择使用。作为交联成分的具体例，并无特别限制，例如可列举出二缩水甘油基乙基醚、乙二醇二缩水甘油基醚、1,4-丁二醇二缩水甘油基醚、1,6-二缩水甘油基环己烷、N,N-二缩水甘油基-4-缩水甘油氧基苯胺、山梨醇多缩水甘油基醚、甘油多缩水甘油基醚等的环氧系交联成分；甲醛、乙二醛等的醛系交联成分；2,4-二氯-4-羟基-1,3,5-S-三嗪等的活性卤素系交联成分；1,3,5-三-丙烯酰基-六氢-S-三嗪、双乙烯基磺酰基甲基醚等的活性乙烯基系化合物；铝明矾等。

予以说明，涂布液中的交联成分的浓度，以固体成分换算计，优选为0.001～2质量％。如果交联成分在上述范围，则涂布液具有一定的拉丝性、粘性，对于成膜变得更为有利，另外，所形成的折射率层可具有更为优选的耐水性，因此优选。另外，在涂布液中的交联成分的浓度以固体成分换算计为0.001～1质量％时，能够使涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)更小，因此更优选。涂布液中的交联成分的浓度更优选为0.01～1质量％，进一步优选为0.05～0.20质量％。

另外，就光学功能层中的交联成分的含量而言，相对于光学功能层全体的质量，优选为0.02～20质量％。如果交联成分的含量在上述范围内，则充分地确保光学功能层的作为膜的强度，因此优选。从同样的观点出发，光学功能层中的交联成分的含量更优选为0.2～10质量％，进一步优选为0.5～2质量％。

本发明的优选的一方式为光学膜的制造方法，其中，形成光学功能层的涂布液的至少1者含有高分子和无机氧化物粒子。

(高分子)

就能够使用的高分子而言，并无特别限制，例如可列举出聚乙烯醇类、聚乙烯基吡咯烷酮类、聚丙烯酸、丙烯酸-丙烯腈共聚物、丙烯酸钾-丙烯腈共聚物、醋酸乙烯酯-丙烯酸酯共聚物、或者丙烯酸-丙烯酸酯共聚物等丙烯酸系树脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸-丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-α-甲基苯乙烯-丙烯酸共聚物、或者苯乙烯-α-甲基苯乙烯-丙烯酸-丙烯酸酯共聚物等苯乙烯丙烯酸树脂、苯乙烯-苯乙烯磺酸钠共聚物、苯乙烯-丙烯酸2-羟基乙酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸2-羟基乙酯-苯乙烯磺酸钾共聚物、苯乙烯-马来酸共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、乙烯基萘-丙烯酸共聚物、乙烯基萘-马来酸共聚物、醋酸乙烯酯-马来酸酯共聚物、醋酸乙烯酯-巴豆酸共聚物、醋酸乙烯酯-丙烯酸共聚物等的醋酸乙烯酯系共聚物和这些的盐等的合成水溶性高分子；明胶、增稠多糖类等的天然水溶性高分子等。

即使在这些高分子中，从制造时的处理和膜的柔软性的方面出发，优选为聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮类和含有其的共聚物、明胶、增稠多糖类(特别是纤维素类)，从光学特性的观点出发，更优选为聚乙烯醇。这些高分子可以1种单独地使用，也可将2种以上并用而使用。

就本发明的一实施方式中使用的聚乙烯醇而言，可使用合成品，或者也可使用市售品。作为聚乙烯醇使用的市售品并无特别限制，例如可列举出PVA-102、PVA-103、PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-120、PVA-124、PVA-135、PVA-203、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-235、PVA-617(以上为株式会社クラレ制造)、JC-25、JC-33、JF-03、JF-04、JF-05、JP-03、JP-04、JP-05、JP-45(以上为日本酢ビ·ポバール株式会社制造)等。

作为优选使用的聚乙烯醇，除了将聚醋酸乙烯酯水解而得到的通常的聚乙烯醇以外，也包含改性聚乙烯醇。作为改性聚乙烯醇，并无特别限制，例如可列举出阳离子改性聚乙烯醇、阴离子改性聚乙烯醇、非离子改性聚乙烯醇、乙烯醇系聚合物等。

将醋酸乙烯酯水解而得到的聚乙烯醇的平均聚合度优选100以上。如果为该范围，则具有与金属氧化物的吸附更为优异、金属氧化物的分散性变得更为良好的效果。从同样的观点出发，平均聚合度更优选为200～5,000。进而，除了上述效果，从能够使涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)进一步变小的观点出发，平均聚合度更优选为200～3000。其中，平均聚合度是指粘均聚合度，按照JIS K6726：1994测定。

另外，皂化度优选70～100摩尔％。如果为该范围，则具有在水中的溶解性良好、涂布后的膜缺陷变少的效果。从同样的观点出发，皂化度更优选为80～99.5摩尔％。

作为阳离子改性聚乙烯醇，并无特别限制，例如可列举出日本特开昭61-10483号公报中记载的、在上述聚乙烯醇的主链或侧链中具有伯～叔氨基、季铵基的聚乙烯醇，阳离子改性聚乙烯醇例如通过将具有阳离子性基团的烯属不饱和单体和醋酸乙烯酯的共聚物皂化等而得到。

对阴离子改性聚乙烯醇并无特别限制，例如可列举出日本特开平1-206088号公报中记载的、具有阴离子性基团的聚乙烯醇、日本特开昭61-237681号公报和日本特开昭63-307979号公报中记载的、乙烯醇和具有水溶性基团的乙烯基化合物的共聚物和日本特开平7-285265号公报中记载的具有水溶性基团的改性聚乙烯醇等。

另外，作为非离子改性聚乙烯醇，并无特别限制，例如可列举出日本特开平7-9758号公报中记载的、使聚氧化烯基加成于乙烯醇的一部分的聚乙烯醇衍生物、日本特开平8-25795号公报中记载的具有疏水性基团的乙烯基化合物与乙烯醇的嵌段共聚物、具有硅烷醇基的硅烷醇改性聚乙烯醇、具有乙酰乙酰基、羰基、羧基等反应性基团的反应性基团改性聚乙烯醇等。另外，作为乙烯醇系聚合物，可列举出エクセバール(商品名：株式会社クラレ制造)、ニチゴーGポリマー(商品名：日本合成化学工业株式会社制造)等。

就聚乙烯醇而言，也能够将聚合度、改性的种类不同等的2种以上并用。在使聚乙烯醇为2种以上的情况下，可分别添加各聚乙烯醇。

高分子的重均分子量优选1,000以上且200,000以下，更优选3,000以上且40,000以下。重量平均分子量例如能够使用凝胶渗透色谱(GPC)在下述测定条件下测定。

予以说明，涂布液中的高分子的浓度以固体成分换算计优选为0.9～10质量％。如果高分子的浓度在上述范围内，则涂布液具有一定的粘性，对于制膜可变得有利，因此优选。从同样的观点出发，高分子的浓度更优选为1～8质量％。

另外，光学功能层中的高分子的含量相对于光学功能层全体的质量优选为18～70质量％。如果高分子的含量在上述范围内，则充分地确保光学功能层的作为膜的强度，因此优选。从同样的观点出发，高分子的含量更优选为20～65质量％。

(无机氧化物粒子)

作为无机氧化物粒子，并无特别限制，例如能够使用选自Li、Na、Mg、Al、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Rb、Sr、Y、Nb、Zr、Mo、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、La、Ta、Hf、W、Ir、Tl、Pb、Bi和稀土类金属、以及硅(Si)中的1种或2种以上的无机氧化物等。

无机氧化物粒子的平均粒径以优选的顺序表示，优选为100nm以下、4～50nm、4～30nm。其中，平均粒径是指一次平均粒径。就无机氧化物粒子的平均粒径而言，在对无机氧化物粒子进行了被覆处理的情况下(例如二氧化硅附着氧化钛等)，无机氧化物粒子的平均粒径是指母体(二氧化硅附着氧化钛的情况下为处理前的氧化钛)的平均粒径。

在低折射率层用涂布液中，优选使用氧化硅(二氧化硅、SiO₂)作为无机氧化物粒子。其中，作为氧化硅，例如可列举出合成非晶质二氧化硅、胶体二氧化硅等。予以说明，胶体二氧化硅能够通过硅酸钠的采用酸等的复分解、将通过离子交换树脂层而得到的硅溶胶加热熟化而得到。作为这样的胶体二氧化硅，并无特别限制，例如能够使用日本特开昭57-14091号公报、日本特开昭60-219083号公报、日本特开昭60-219084号公报、日本特开昭61-20792号公报、日本特开昭61-188183号公报、日本特开昭63-17807号公报、日本特开平4-93284号公报、日本特开平5-278324号公报、日本特开平6-92011号公报、日本特开平6-183134号公报、日本特开平6-297830号公报、日本特开平7-81214号公报、日本特开平7-101142号公报、日本特开平7-179029号公报、日本特开平7-137431号公报和国际公开第94/26530号小册子等中记载的胶体二氧化硅等。另外，这样的氧化硅(SiO₂)可使用市售品。作为市售的胶体二氧化硅，并无特别限制，例如可列举出スノーテックス(注册商标)OXS(日产化学工业株式会社制造)等。

作为高折射率层用涂布液中所含有的无机氧化物，并无特别限制，例如可列举出氧化钛、氧化锌、氧化铝(alumina)、氧化锆、氧化铪、氧化铌、氧化钽、氧化镁、氧化钡、氧化铟、氧化锡、氧化铅、作为由这些氧化物构成的复合氧化物的铌酸锂、铌酸钾、钽酸锂、铝·镁氧化物(MgAl₂O₄)等的粒子和复合粒子。作为无机氧化物，从形成透明、折射率更高的高折射率层的观点出发，优选为钛、氧化锆等的高折射率无机氧化物微粒，即，氧化钛微粒、氧化锆微粒，更优选为金红石型(正方晶形)二氧化钛粒子。

另外，作为氧化钛粒子，并无特别限制，例如可使用对水系的氧化钛溶胶的表面进行改性而使分散状态稳定了的产物、如国际公开第2013/054912号中记载那样用含硅的水合氧化物将氧化钛粒子被覆了的产物等、采用公知的方法制造的核壳粒子。作为用含硅的水合氧化物将氧化钛粒子被覆了的产物，例如可列举出使SiO₂附着于金红石型二氧化钛粒子的表面的二氧化硅附着二氧化钛溶胶等。

予以说明，对涂布液中的无机氧化物粒子的浓度并无特别限制，以固体成分换算计，优选为1～15质量％。如果涂布液中的无机氧化物粒子的含量为1质量％以上，则更容易得到所期望的折射率，因此优选。另外，如果涂布液中的无机氧化物粒子的含量为15质量％以下，则膜的柔软性提高，制膜变得更为容易，因此优选。从同样的观点出发，更优选为2～10质量％。

另外，相对于光学功能层全体的质量，光学功能层中的无机氧化物粒子的含量优选为20～90质量％。如果无机氧化物粒子的含量在上述范围内，则光学膜的光反射效率进一步提高，因此优选。从同样的观点出发，更优选为35～80质量％，进一步优选为55～75质量％。

(其他添加剂)

作为其他添加剂，并无特别限制，例如可列举出日本特开昭57-74193号公报、日本特开昭57-87988号公报和日本特开昭62-261476号公报等中记载的紫外线吸收剂、阴离子、阳离子或非离子的各种表面活性剂、硫酸、磷酸、醋酸、柠檬酸、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钾等pH调节剂、消泡剂、二甘醇等的润滑剂、防腐剂、防霉剂、抗静电剂、消光剂、抗氧化剂、阻燃剂、红外线吸收剂、色素、颜料、乳液树脂、粘度调节剂、触变性赋予剂等公知的各种添加剂等。另外，只要是本领域技术人员，它们的添加量也能够适当地确定，它们的混合也能够参照以往公知的常识、或者将其组合而进行。

在此，柠檬酸可作为pH调节剂来发挥功能。予以说明，涂布液中的柠檬酸的浓度以固体成分换算计，优选为0.01～2质量％。如果柠檬酸在上述范围内，则从确保高分子和金属氧化物的在液体中的稳定性、抑制凝聚的观点出发而优选。另外，涂布液中的柠檬酸的浓度以固体成分换算计，为0.01～1质量％时，能够进一步使涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)变小，因此特别优选。

另外，涂布液中的表面活性剂的浓度以固体成分换算计，优选为0.005～0.3质量％，更优选为0.005～0.1质量％。

(溶剂)

作为溶剂，并无特别限制，例如可列举出水、有机溶剂、或者它们的混合溶剂等。作为上述有机溶剂，并无特别限制，例如可列举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丁醇等的醇类；醋酸乙酯、醋酸丁酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯等的酯类；二乙基醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚等的醚类；二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等的酰胺类；丙酮、甲乙酮、乙酰丙酮、环己酮等的酮类等。这些有机溶剂可单独使用或者将2种以上混合使用。从环境方面、操作的简便性等的观点出发，作为涂布液的溶剂，优选使用水、或者水和甲醇、乙醇、或醋酸乙酯的混合溶剂，更优选使用水。

(损耗弹性模量确认工序)

本发明的一方式涉及的光学膜的制造方法具有通过动态粘弹性测定来确认形成各光学功能层的涂布液的损耗弹性模量的损耗弹性模量确认工序。

损耗弹性模量确认工序是测定所制备的涂布液的损耗弹性模量、确认由下述式1定义的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的工序。

ΔG”＝G”(60)-G”(0) (式1)

(其中，G”(60)表示测定时间60分钟时的损耗弹性模量的值，G”(0)表示测定时间0分钟时的损耗弹性模量的值。)

在涂布液中存在其损耗弹性模量经时地进行变化，在这样的涂布液中，伴随着经时的损耗弹性模量的增加，涂布故障的发生频率增加。在此，在用比测定时间60分钟短的时间来确认了损耗弹性模量的时间变化的情况下，在发生涂布故障的情况与没有发生涂布故障的情况的比较中，两者的测定结果的差异小，检测精度有可能降低。认为这是因为：在如上述这样的短的测定时间内，可能存在涂布时成为涂布故障的原因的凝聚体的数非常少、或者尺寸非常小的情况。因此，为了得到足够的检测精度，使用与涂布故障的相关良好的测定时间60分钟时的测定值作为评价指标。

予以说明，如果测定开始时(测定时间0分钟)与测定时间60分钟时的损耗弹性模量的差值，即损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下，则作为涂布故障的拖尾、条纹等面状缺陷的发生得到抑制。

损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定的结果，就其值成为3.0以下的涂布液而言，在比60分钟短的时间下几乎不引起使涂布故障发生的频率的凝聚的发生和使涂布故障发生的尺寸的凝聚体的发生。此时，由于在一般的涂布工序中在比60分钟短的时间内涂布液从涂布机中被排出、在膜上相接，由此推测涂布故障得到抑制。

由此，假设损耗弹性模量确认工序中的测定的结果为损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0时，在后述的损耗弹性模量调整工序中需要调整涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)以使得成为3.0以下。

这样涂布液经过确认损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的工序，进而根据需要经过调整损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的工序，由此能够稳定地且可靠地提供抑制了涂布故障的光学膜。

其中，涂布液的损耗弹性模量(G”)能够通过使用了流变仪的动态粘弹性测定、例如在下述的装置和条件下测定。

装置：Rheo Stress 6000(Thermo SCIENTIFIC公司制造)

传感器系统：锥板(圆锥半径60mm、圆锥角度＝1°)

剪切应力：0.5Pa

测定频率：1Hz

测定时间：60分钟

测定温度：35℃

样品量：1mL

应予说明，因为损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的判断需要60分钟的时间，认为在算出了值的时刻，测定中使用的涂布液的状态与测定开始时的状态相比发生了变化。例如，测定中使用的溶液在测定开始时具有损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下的状态，但在测定结束后认为也可能变化到损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0的状态。

因此，在本发明的一方式中的光学膜的制造中，作为损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下的涂布液，能够将损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)被推定为3.0以下的涂布液在后述的涂布工序中使用。即，作为在后述的涂布工序中进行涂布的涂布液，能够准备与损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时的涂布液相同状态的溶液而使用。作为该涂布液，也可与进行了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定的涂布液自身独立地重新准备配方与进行了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定的涂布液相同、并且涂布液制备后经过了与直至损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时的时间相同时间的涂布液。另外，在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)起因于可逆的变化而发生的体系中，对于进行了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定的涂布液，根据需要可在后述的损耗弹性模量调整工序中进行调整以使损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下而使用。

另外，损耗弹性模量确认工序可通过使用配方与光学膜的制造中使用的涂布液相同、并且使其经过与涂布液制备后直至损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时的时间相同时间而制备的模拟液，相对于实际的光学膜的制造事先进行而设置。这种情况下，就光学膜的制造中使用的涂布液而言，由于事先推定损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)是否成为了3.0以下以及损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0的情况下为了使其成为3.0以下所需要的条件，因此在实际的光学膜的制造中可以不设置使用了实际的涂布液的再次的损耗弹性模量确认工序。

予以说明，在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下时，能够不经过后述的损耗弹性模量调整工序而将涂布液涂布。但是，即使损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下的情况下，以进一步的涂布故障的改善为目的，优选在损耗弹性模量调整工序中进行调整以使损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)进一步变小。

从进一步抑制涂布故障的发生的观点出发，损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)优选为2.0以下，更优选为1.0以下。

另外，损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)优选为0以上。在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)不到0的情况下，在涂布液中有可能发生其构成成分的分解。是因为此时涂布液的粘度等也经时地变得不稳定，与其相伴，膜厚控制也变得不稳定，因此在膜面中容易发生不均。

(损耗弹性模量调整工序)

本发明的优选的一方式为光学膜的制造方法，其在损耗弹性模量确认工序和后述的涂布工序之间还具有如下的损耗弹性模量调整工序：对于在形成各光学功能层的涂布液中至少损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0的涂布液，对涂布液进行分散，由此对涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)进行调整以使得成为3.0以下。

就损耗弹性模量调整工序而言，在上述的损耗弹性模量确认工序中损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0时，能够在损耗弹性模量确认工序中对涂布液进行分散，由此对确认了损耗弹性模量的涂布液进行调整以使得损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下。

在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0的情况下，通常,就损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)而言,通过进行使涂布液分散的处理而减少。作为其理由，推测原因在于：损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0的涂布液为发生凝聚的频率高、凝聚体的尺寸大的状态，结果通过进行涂布液的再分散，凝聚体的数量变少，或者凝聚体的尺寸变小。

予以说明，如在上述的损耗弹性模量确认工序的说明中所述那样，因为损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的判断需要60分钟的时间出发，认为在算出了值的时刻，测定中使用的涂布液的状态变化为与测定开始时的涂布液的状态不同的状态。

因此，在设置损耗弹性模量调整工序的情况下，作为损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下的涂布液，能够将损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)被推定为3.0以下的涂布液在后述的涂布工序中使用。即，作为在后述的涂布工序中涂布的涂布液，能够准备与损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时的涂布液相同状态的溶液而使用。作为该涂布液，也可与进行了最后的(确认了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下时的)损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定的涂布液自身独立地重新准备配方与进行了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定的涂布液相同、并且涂布液制备后直至最后的弹性弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时进行相同的处理、经过了相同时间的涂布液。另外，在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)起因于可逆的变化而发生的体系中，对于进行了最后的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的动态粘弹性测定的涂布液，根据需要可在损耗弹性模量调整工序中再次进行调整以使损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下而使用。

另外，就损耗弹性模量调整工序中的制备条件而言,可应用使用与光学膜的制造中使用的涂布液相同配方的模拟液所找出的制备条件。即，可使用模拟液，相对于实际的光学膜的制造事先地找到用于使损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下的条件，应用该条件。通过这样使用模拟液来推定制备条件而应用其值，也能够将实际的光学膜的制造中的、通过使用实际的涂布液的损耗弹性模量确认工序和损耗弹性模量调整工序的反复的、找出用于使损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下的条件的操作省略。

进而，在损耗弹性模量调整工序中，也可反复进行调整以使得涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下，维持涂布液的状态以使得损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)不超过3.0以下。作为这样的方法，例如可列举出如下的方法：对于在最初的损耗弹性模量确认工序中损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0的涂布液，在损耗弹性模量调整工序中进行调整以使得损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下，然后，每经过一定时间就再次在损耗弹性模量调整工序中进行调整。这样的方法例如能够在后述的具有循环工序的光学膜制造系统等中实施。

其中，就在经过了损耗弹性模量确认工序后在损耗弹性模量调整工序中被分散了的涂布液而言，根据需要，可再次在损耗弹性模量确认工序中测定损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)。

予以说明，即使在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下的情况下，以进一步的涂布故障的改善为目的，优选进一步调整损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)。对于优选的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值及其理由，记载于上述的损耗弹性模量确认工序的说明中。

就涂布液而言，能够通过进行剪切处理而使其分散。

(剪切处理)

本说明书中，“剪切处理”是指给予某些剪切力的处理。但是，根据本发明，能够采用如下的方法：在具有规定的间隙的流路等中，以规定的速度使剪切对象液(形成光学功能层的涂布液)移动，对该剪切对象液给予剪切力。

本说明书中，“剪切速度”根据下述式2算出。

剪切速度(1/秒)＝速度(m/秒)/最小间隔(m) (式2)

其中，“最小间隙”是指剪切对象液移动的流路中给予剪切力的最小的间隙。另外，“速度”是指剪切对象液通过上述最小间隙时的剪切对象液的移动速度。此时，以一定的速度使剪切对象液移动的情况下，通过最小间隙时赋予最高的剪切力。

根据本发明，对剪切处理并无特别限制，例如可采用分散机、高速搅拌装置、排出装置、或者它们的组合等来进行。

将涂布液向上述装置的导入方法、导入速度(流量)也无特别限制，对于导入，例如能够使用旋转式泵等的公知的手段进行，另外，对于导入速度(流量：L/分钟)，能够根据装置的规模适当地改变。

以下,对各个装置的优选的实施方式进行说明。

(分散装置)

作为分散装置，并无特别限制，例如可使用乳化分散机、压力式均化器、高速旋转剪切型均化器等。以下对使用了乳化分散机和压力式均化器的情况的剪切处理详细地说明。

图1为作为分散装置的一形态的乳化分散机的示意图。图1的乳化分散机具有作为固定齿的定子齿1和作为旋转齿的转子齿2。在上述定子齿1与上述转子齿2的间隙(剪切间隙)La中移动的剪切对象液4在转子齿2的半径方向上产生速度梯度(剪切速度)。通过该速度梯度，在上述定子齿1和上述转子齿2间产生内部摩擦力(剪切力)。

在图1中，剪切间隙La相当于式2中的“最小间隙”，在作为最小间隙的剪切间隙La中进行移动时的剪切对象液4的速度相当于式2中的“速度”。予以说明，剪切对象液5向剪切间隙La的导入从转子齿2的狭缝间隙在上述半径方向进行，因此流入剪切间隙La的剪切对象液4与导入的剪切对象液5连续地反复碰撞。即，通过图1的乳化分散机，对于剪切对象液连续地进行了剪切和混合。

在上述乳化分散机中，剪切间隙中的定子齿与转子齿的最小间隙优选为0.05～0.5mm，更优选为0.1～0.4mm。另外，作为转子齿的旋转速度，优选为1～500m/s，更优选为3～300m/s，进一步优选为5～50m/s。通过适当地设定剪切间隙中的定子齿与转子齿的最小间隙、转子齿的旋转速度等，从而能够调节剪切速度。

作为如上述的乳化分散机，例如能够使用エバラマイルダー(株式会社荏原制作所制造)、マイルダー(大平洋机工株式会社制造)等。

图2为作为分散装置的一形态的压力式均化器的示意图。图2的压力式均化器具有阀片11和阀12。由加压机构(未图示)供给的剪切对象液14在阀片11间高压且高速地移动。该剪切对象液在通过阀片11和阀12的狭窄的间隙Lb时，在碰撞阀12而使流动的方向改变了的剪切对象液与要通过间隙Lb的剪切对象液之间发生液体之间的摩擦，作为其结果，认为在剪切对象液中产生大的剪切力。该剪切力与最小间隙Lb成比例。

图2中，间隙Lb为给予剪切力的最小的间隙，相当于式2中的“最小间隙”。另外，在作为最小间隙的间隙Lb中进行移动时的剪切对象液14的速度相当于式2中的“速度”。

上述压力式均化器中，阀片与阀的距离优选为0.05～0.5mm，更优选为0.1～0.4mm。另外，作为通过阀片和阀间时的速度，优选为1～500m/s，更优选为3～330m/s，进一步优选为5～300m/s。通过适当地设定阀片与阀的距离、加压机构中的剪切对象液的供给条件等，从而能够调节剪切速度。

作为如上述的压力式均化器，例如能够使用压力式均化器LAB1000(株式会社エスエムテー制造)等。

予以说明，高速旋转剪切型均化器为具有与乳化分散机类似的构成、在高速旋转的转子与经由狭窄的间隙而接近的定子之间进行剪切处理的处理装置。

作为高速旋转剪切型均化器，例如能够使用T.K.ロボミックス(プライミクス株式会社制造)、クレアミックスCLM-0.8S(エム·テクニック株式会社制造)、均化器(マイクロテック·ニチオン社制造)等。

予以说明，剪切处理的温度也因剪切速度的数值、剪切对象液的种类而不同，但优选为20～70℃，从给予装置的热负荷、作业安全性的观点出发，更优选为25～60℃。

作为使用分散装置来控制损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的方法，可列举出适当地设定分散装置的转子的旋转条件、适当地设定分散器内的液体的停滞时间等。通过提高分散装置的转子的转数，剪切速度增加，在损耗弹性模量(G”)的值降低的方向上起作用。作为其理由，认为是因为对涂布液施加强的剪切应力。此时，涂布液的损耗弹性模量(G”)如上述那样，测定时间越长，则越强地显现出分散的效果，因此在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)降低的方向上起作用。

根据本发明的一实施方式，进行剪切处理时的、对剪切对象液的剪切速度优选为0.1×10⁴(1/秒)以上。如果为这样的范围，则能够有效地发挥本发明的所期望的效果。从同样的观点出发，更优选为0.5×10⁴～1000×10⁴(1/秒)，进一步优选为1×10⁴～200×10⁴(1/秒)，特别优选为1×10⁴～20×10⁴(1/秒)。但是，根据本发明的另一实施方式，即使为不到0.1×10⁴(1/秒)，也能够得到具有本发明的效果涉及的性能的光学膜。

另外，通过降低旋转式泵等的流量而降低涂布液向分散装置的导入速度，分散器内的涂布液的停滞时间延长，损耗弹性模量(G”)的值降低。作为其理由，认为是因为进行较长时间剪切处理。此时，就涂布液的损耗弹性模量(G”)而言,如上述那样，测定时间越长，则越强地显现出分散的效果，因此在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)降低的方向上起作用。

另外，就在将涂布液分散的装置的容器(分散容器)内滞留的由下述式3表示的滞留时间而言，从分散性的观点出发，优选为0.5～35秒，更优选为0.8～30秒，进一步优选为1～30秒，特别优选为1～15秒。

滞留时间(秒)＝分散容器容量(L)/泵流量(L/分钟)×60 (式3)

(涂布工序)

就本发明的一方式涉及的光学膜的制造方法而言，在涂布工序中，在基材上将损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下的、至少2个以上的光学功能层的涂布液进行同时多层涂布。

从进一步抑制涂布故障的发生的观点出发，损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)优选为2.0以下，更优选为1.0以下。

其中，如上所述，在涂布液中存在其损耗弹性模量经时地变化的涂布液，在这样的涂布液中，随着经时的损耗弹性模量的增加，涂布故障的发生频率增加。由此，就涂布工序而言，从据认为损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下的涂布液的状态直至将该涂布液从涂布机排出而与膜相接的时间优选为短时间。作为这样的时间，优选不到60分钟，更优选40分钟以下，进一步优选30分钟以下。

予以说明，如上所述，使用反复进行调整以使得涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下、维持涂布液的状态以使得损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)不超过3.0以下的方法的情况下，能够将涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值保持在一定值以下。由此，从损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下的涂布液的状态直至将涂布液从涂布机排出而与膜相接的时间能够认为只是从贮存这样的涂布液的贮存釜(贮存罐)将涂布液供给至涂布工序的时间。由此，使用该方法的情况下，能够缩短直至将涂布液从涂布机排出而与膜相接的时间，使涂布液的损耗弹性模量的变化减小变得更为容易，因此优选。

形成光学功能层的涂布液的涂布方法只要是同时多层涂布方式，则并无特别限制，例如优选使用美国专利第2,761,419号说明书、美国专利第2,761,791号说明书等中记载的使用料斗的滑珠涂布方法、挤出涂布法等。

进行同时多层涂布时的涂布和干燥方法优选为如下的方法：将形成各光学功能层的涂布液加热到30～60℃，在基材上进行了形成各光学功能层的涂布液的同时多层涂布后，将形成的涂膜的温度优选地暂且冷却至1～15℃(固化)，然后在10℃以上进行干燥。更优选的干燥条件为湿球温度5～50℃、膜面温度10～50℃的范围的条件。例如，喷射60～80℃的温风1～5秒来进行干燥。另外，作为涂布后即刻的冷却方式，从提高形成了的涂膜的均一性的观点出发，优选以水平固化方式进行。

本方式的一实施方式的制造方法中，涂布速度优选为10m/分钟以上，更优选为30m/分钟以上。采用本发明的制造方法，即使以这样快的速度，也能够得到膜厚的均一性提高、干涉斑纹减少的多层层叠膜。

就各光学功能层而言，可以以成为优选的干燥时的厚度的方式进行涂布。

作为干燥方法，并无特别限制，例如使用温风干燥、红外干燥、微波干燥。另外，与采用单一工序的干燥相比，优选多段工序的干燥，更优选设为恒率干燥部的温度＜减率干燥部的温度。这种情形的恒率干燥部的温度范围优选设为30～60℃，减率干燥部的温度范围优选设为50～100℃。

其中，上述固化意味如下的工序：采用使冷风等接触涂膜而使温度降低等手段，提高涂膜组合物的粘度，降低各层间和各层内的物质的流动性，或者另外使其凝胶化。使冷风从表面与涂布膜接触，将用手指按压涂布膜的表面时手指上没有粘附任何物质的状态定义为固化完成的状态。

从涂布了的时刻直至使冷风接触而使固化完成的时间(固化时间)优选为5分钟以内，更优选为2分钟以内。另外，对下限的时间并无特别限制，但优选取10秒以上的时间。如果固化时间过短，则层中的成分的混合变得不充分的可能性提高。另一方面，如果固化时间过长，则层形成成分的层间扩散发展，各光学功能性层的功能显现性变得不充分的可能性提高。例如，光学功能层具有将高折射率层和低折射率层交替地层叠的结构的情况下，其折射率差变得不充分的可能性提高。

(基材)

作为光学膜中应用的基材，只要为透明，则并无特别限制，能够使用公知的树脂膜。作为基材的具体例，并无特别限制，例如可列举出聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、聚芳酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰胺、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚砜、聚醚砜、聚醚醚酮、聚酰亚胺、芳香族聚酰胺、聚醚酰亚胺等。这些中，从成本、得到的容易性的观点出发，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)等。

另外，使用了上述树脂膜的基材可以为未拉伸膜，也可为拉伸膜。基材为PET、PEN这样的具有结晶性的树脂膜的情况下，从强度的提高、热膨胀抑制的观点出发，优选为在拉伸后热固定化了的膜。

基材的厚度优选为5～300μm，更优选为15～150μm，进一步优选为30～100μm。另外，基材可以为将2张以上重叠而成的基材，此时，基材的种类可以相同，也可不同。

上述基材在制膜过程中可在单面或两面设置下拉层。该下拉层可在线地或在制膜后形成。作为下拉层的形成方法，例如可列举出涂布下拉层涂布液、将得到的涂膜干燥的方法等。下拉层能够使用公知的下拉层，可以为单层结构，也可以为层叠结构。

基材可还具有导电性层、抗静电层、气体阻隔层、易粘接层(粘接层)、防污层、除臭层、滴流层、易滑层、硬涂层、耐磨损性层、压敏粘合层、中间膜层等公知的功能层。另外，这些功能层可在两面形成。

基材具有上述的下拉层、功能层等中间层的情况下，基材和中间层的总膜厚优选为5～500μm，更优选为25～250μm，进一步优选为30～100μm。

[光学膜制造系统]

接着，对作为本发明的一实施方式的制造方法中使用的优选的制造系统的例子进行说明。但是，本发明的制造方法并不限定于使用了该制造系统的情形。

图3为表示能够在作为本发明的一实施方式的制造方法中使用的光学膜制造系统的例子的概略构成图。

图3中所示的光学膜制造系统117通过将多个装置连接而构成，经过由各装置实现的多个工序来制造光学膜。图3中所示的例子中，光学膜制造系统117大致地划分，进行制备工序、循环工序和涂布工序。

光学膜制造系统117在制备工序中制备形成光学膜的光学功能层的涂布液。

(制备工序)

制备工序包含涂布液制备釜101、送液装置102和过滤装置103。

涂布液制备釜101为用于制备涂布液的容器。对涂布液的制备方法并无特别限制，为将形成光学功能层的成分，例如水溶性高分子、金属氧化物粒子、交联成分等添加到溶剂中，进行搅拌混合的方法。此时，对各成分的添加顺序也无特别限制，可边搅拌边依次添加各成分并混合，也可边搅拌边一次性地添加并混合。就这些涂布液的制备方法而言，对每个涂布液适当地确定。为了将涂布液供给至循环工序中所包含的涂布液贮存釜104，将涂布液制备釜101连接至涂布液贮存釜104。

送液装置102设置于从涂布液制备釜101使涂布液流出的路径。送液装置102例如为泵，可控制制备了的涂布液的流出、流出的停止。送液装置102在使涂布液流出时，可适当地设定涂布液的流量、速度。

过滤装置103设置于从涂布液制备釜101使涂布液流出的路径。过滤装置103将涂布液中混杂的异物、涂布液中产生的气泡、凝聚产生的异物除去。将除去了异物的涂布液送至循环工序。

(循环工序)

光学膜制造系统117在循环工序(涂布液循环系统)中使制备了的涂布液在保持为适当的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值的同时循环。循环工序包含涂布液贮存釜104、送液装置105、分散装置106、脱泡装置107、过滤装置108和循环路径R1。

光学膜制造系统117中，损耗弹性模量确认工序可包含于循环工序。另外，根据需要，损耗弹性模量调整工序也可包含于循环工序。损耗弹性模量确认工序能够通过从涂布液贮存釜104中对涂布液进行取样、测定损耗弹性模量(G”)而实现。予以说明，取样位置只要实现本发明的目的、为涂布工序前，则可以为其他位置。另外，作为损耗弹性模量调整工序，能够通过利用分散装置106对涂布液进行分散，确认其损耗弹性模量(G”)而实现。

涂布液贮存釜104贮存涂布液以使得能够连续地供给涂布液。就涂布液贮存釜104而言，优选在涂布液贮存釜104的内部中也具有用于使涂布液循环的搅拌装置。由此，能够使涂布液贮存釜104内的涂布液的物性变得均一。将用于使涂布液从涂布液贮存釜104流出、将流出了的涂布液再次返回涂布液贮存釜104的循环路径R1连接至涂布液贮存釜104。另外，用于将涂布液送至涂布工序的供给路径L1也连接至涂布液贮存釜104。

送液装置105设置在循环路径R1上。送液装置105例如为泵，可控制涂布液贮存釜104中贮存的涂布液的流出、流出的停止。送液装置105在使涂布液流出时，可适当地设定涂布液的流量、速度。

分散装置106设置在循环路径R1上。分散装置106根据需要能够对涂布液实施分散处理，优选地实施利用剪切力的分散处理。通过这样的分散处理，例如，能够使损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值超过3.0的涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值减小，调整为所期望的值。作为分散装置，能够使用上述的分散装置。

脱泡装置107将涂布液中所含的气泡、涂布液内溶入的溶存空气除去。就脱泡的原理而言，考虑例如利用离心力将气泡和液体分离、通过抽真空将气泡排出；利用超声波。但是，只要能够脱泡，脱泡装置107可以为利用其他的任何原理的装置。

过滤装置108将涂布液中混杂的异物、涂布液中产生的气泡、凝聚产生的异物除去。将除去了异物的涂布液经过循环路径R1返回至涂布液贮存釜104。

如以上那样，在循环工序中，涂布液从涂布液贮存釜104流出至循环路径R1，实施了采用分散装置106、脱泡装置107和过滤装置108的处理后，返回至涂布液贮存釜104。返回到涂布液贮存釜104的涂布液在涂布液贮存釜104内被搅拌的同时移动后，可再次流出至循环路径R1，反复进行上述的处理。

循环工序中的分散装置106、脱泡装置107和过滤装置108的处理强度能够根据光学膜的用途、使用的涂布液的性质等条件适当地设定以使得将涂布液的物性保持在适当的范围内。

循环工序中，通过在使制备了的涂布液循环的同时在适当的强度下连续地实施分散处理、脱泡处理、过滤处理等，能够将涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值调整到适于涂布的范围内。

予以说明，根据送液装置105的设定等，将每一定时间规定的流量的涂布液从涂布液贮存釜104依次送至循环路径R1进行循环。循环了的涂布液返回至涂布液贮存釜104并被搅拌，因此能够将涂布液贮存釜104中所容纳的涂布液全体的物性长期地保持在适于涂布的状态。此时，从容易将涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值调整到适于涂布的范围内出发，优选以涂布液通过循环路径2次以上的方式设定。其中，就循环路径的通过次数而言，如果将涂布液贮存釜104的容积设为A(L)，将循环路径的送液速度设为B(L/分钟)，则操作了A/B(分钟)时方便地计算为1次。通过设为上述通过次数，涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值稳定，容易将涂布时的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值调节为3.0以下。

在涂布液贮存釜104中容纳的涂布液能够通过连接至涂布液贮存釜104的供给路径L1，送至涂布工序。涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下，涂布液不必经过这以上的损耗弹性模量调整工序的情况下，能够将涂布液经过供给路径L1送至涂布工序。这种情况下，有时也可在循环工序中不通过循环路径而使涂布液从涂布液贮存釜104通过供给路径L1送至涂布工序。

予以说明，图3中，在循环路径R1上按分散装置106、脱泡装置107和过滤装置108的顺序排列了装置。但是，这些装置的顺序可适当地改变。另外，也可将多个上述装置的功能综合的1个装置提供到循环工序中。例如，可将分散装置106和脱泡装置107的功能综合的分散脱泡装置提供到循环工序中。另外，在循环工序中可设置上述以外的装置，另外也可不设置上述装置的任一个。

作为光学膜制造系统中的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的管理方法，可列举出如下的方法等：对涂布工序前的涂布液进行取样，测定涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)，涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下的情况下，进行到下一工序的涂布工序，涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)超过3.0的情况下，再次进行调整涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的处理。涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的管理可以通过人的操作进行，也可采用使用了控制装置的管理系统。作为使用了控制装置的管理系统，例如可列举出光学膜制造系统117的循环工序还包含测定装置和控制装置的构成。本构成例如可列举出：将测定装置设置在循环路径R1上，测定通过循环路径R1的涂布液的物性，将表示其结果的信息通知控制装置，控制装置可基于由测定装置通知的表示测定结果的信息控制送液装置105和分散装置106。

适当地设定循环工序的反复，以使得涂布工序中的涂布液的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)成为3.0以下，优选为2次以上。越进行反复操作，越在损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)降低的方向上前进，因此对反复数的上限并无特别限定，但如果考虑效果的饱和和生产率，优选为4次以下。循环工序中的涂布液的流速从液体贮存量的观点出发，优选为5L/分钟以上。

(涂布工序)

接着，利用送液装置109将制备和循环了的涂布液经过供给路径L1供给至涂布装置。

送液装置109将从循环工序的涂布液贮存釜104流出的涂布液送至设置于供给路径L1的各装置。送液装置109例如为泵，可控制制备了的涂布液的流出、流出的停止。送液装置109在使涂布液流出时，可适当地设定涂布液的流量、速度。

光学膜制造系统117在涂布工序中，将涂布液涂布于基材，生成高分子膜。涂布工序包含涂布装置114、固化装置115和干燥装置116。

涂布装置114将涂布液涂布于基材。将涂布液重叠多层而涂布于基材(所谓多层涂布)的情况下，至少相邻地重叠的涂布液由不同的分配、材料制备。因此，图3中，例示了光学膜制造系统117具有1个涂布液制备釜101的形态，但优选为如下的形态：光学膜制造系统具有至少2个以上的涂布液制备釜，在该制造系统中，多种涂布液经过各自的制备工序和供给工序，被供给至涂布装置114。

涂布工序中，优选在连续地搬运的基材上涂布涂布液。

如以上那样，采用光学膜制造系统117，能够使涂布液循环而不间断地施以分散处理。因此，能够将随着时间的经过等损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的值变化的涂布液在适于均匀的涂布的状态下连续稳定地供给。

另外，在本发明的一实施方式中，作为在光学膜制造系统117中设置一个循环工序的实施方式进行了说明，但并不限定于此。可在光学膜制造系统117中设置多个循环工序。

予以说明，光学膜制造系统117中，将循环路径R1和供给路径L1作为各自分开的路径连接至循环工序的涂布液贮存釜104，在各自的路径中设置了送液装置、分散装置等。但是，循环路径R1与供给路径L1也可将路径、装置的一部分共用，将一者的路径中的设备省略。即，可将供给路径L1连接至循环路径R1的中途，将供给路径L1上的路径、装置的一部分省略。

[光学膜]

就通过本发明的制造方法所制造的光学膜的结构而言，只要是在基材上形成了至少2层以上的光学功能层的结构，则并无特别限定。

本发明的优选的一方式为光学膜的制造方法，其中，光学膜的各光学功能层含有高折射率层及低折射率层、具有使高折射率层和低折射率层交替地层叠而成的结构。应予说明，在本说明书中，将相对于另一方、折射率高的折射率层称为高折射率层，将相对于另一方、折射率低的折射率层称为低折射率层。

作为具有这样的构成的光学膜，例如可列举出光学反射膜。

本发明的优选的一方式为制造方法，其中，光学膜为光学反射膜。

另外，本发明的更优选的一方式为制造方法，其中，光学反射膜为红外屏蔽膜。

就光学反射膜而言，通过具有这样的构成、适当地控制高折射率层及低折射率层的光学膜厚(膜厚×折射率)，能够将特定波长的光线反射。由此，光学反射膜例如在将波长200～400nm的光线(紫外线)反射的情况下可成为紫外屏蔽膜，在将波长400～700nm的光线(可见光)反射的情况下可成为可见光着色膜，在将波长700～1200nm的光线(红外线)反射的情况下可成为红外屏蔽膜。此外，通过适当地设计层叠体的光学膜厚等，也能够控制反射的光线的波长和反射率，制成金属光泽调膜。这些中，光学反射膜可屏蔽的光线优选为波长200nm～1000μm的紫外线～红外线区域的光线，更优选为具有250～2500nm的波长的光线，进一步优选为波长700～1200nm的近红外线区域的光线。

一般地，在光学反射膜中，从用少的层数就能够提高所期望的波长区域的反射率这样的观点出发，优选将低折射率层与高折射率层的折射率之差设计得大。在本发明涉及的光学反射膜中，在由低折射率层及高折射率层构成的单元的至少1个中，进行邻接的低折射率层和高折射率层的折射率差优选为0.1以上，更优选为0.3以上，进一步优选为0.35以上，特别优选为0.4以上。在光学反射膜具有多个高折射率层及低折射率层的单元的情况下，优选全部的单元中的高折射率层和低折射率层的折射率差在上述优选的范围内。但是，光学反射膜的结构并不限定于此，例如，也可以是最表层、最下层成为上述优选的范围外的值的构成。

如上述那样，是高折射率层还是低折射率层是由与邻接的折射率层的关系确定的相对的关系，但高折射率层的折射率(nH)优选为1.60～2.50，更优选为1.70～2.50，进一步优选为1.80～2.20，特别优选为1.90～2.20。另一方面，低折射率层的折射率(nL)优选为1.10～1.60，更优选为1.30～1.55，进一步优选为1.30～1.50。

本发明中，高折射率层和低折射率层的折射率例如能够按照下述的方法求出。

制作在基材上以单层涂设待测定折射率的各折射率层的样品，将该样品裁切为10cm×10cm后，按照下述的方法求出折射率。作为分光光度计，使用U-4000型(株式会社日立制作所制造)，将各样品的测定侧的背面粗面化处理后，用黑色的喷雾剂进行光吸收处理，防止光在背面的反射，在5度正反射的条件下测定25点的可见光区域(400nm～700nm)的反射率，求出平均值，由其测定结果求出平均折射率。

特定波长区域的反射率由邻接的2层的折射率差和层叠数决定，折射率之差越大，则用越少的层数就得到相同的反射率。对于该折射率差和必要的层数，能够使用市售的光学设计软件计算。例如，光学反射膜为红外屏蔽膜的情况下，为了得到红外反射率90％以上，如果折射率差比0.1小，则超过100层的层叠变得必要，不仅生产率降低，而且层叠界面处的散射变大，透明性降低，另外没有故障地制造也变得非常困难。从提高反射率和减少层数的观点出发，对折射率差没有上限，但实质上1.4左右为极限。

作为本发明涉及的光学反射膜的优选的高折射率层和低折射率层的层数，从上述的观点出发，作为总层数的范围，为100层以下、即50单元以下，更优选为40层(20单元)以下，进一步优选为30层(15单元)以下，特别优选为10层(5单元)以下。另外，本发明的光学反射膜可以为将至少1个上述单元层叠的构成，例如可以为层叠膜的最表层、最下层两者都成为高折射率层或低折射率层的层叠膜。作为本发明涉及的光学反射膜，优选与基材邻接的最下层为低折射率层、最表层也为低折射率层的层构成。

本发明涉及的光学反射膜的全体的厚度优选为12μm～315μm，更优选为15μm～200μm，进一步优选为20μm～100μm。另外，低折射率层的每1层的厚度优选为20～800nm，更优选为50～350nm，进一步优选为100～200nm。另一方面，高折射率层的每1层的厚度优选为20～800nm，更优选为50～350nm，进一步优选为100～200nm。

进而，作为本发明涉及的光反射膜的光学特性，JIS R3106：1998中所示的可见光区域的透射率优选为50％以上，更优选为75％以上，进一步优选为85％以上，另外，优选在波长900nm～1400nm的区域中具有反射率超过50％的区域。

本发明涉及的光学膜在基材下或者基材的相反侧的最表面层上，以进一步的功能的附加为目的，可具有导电性层、抗静电层、气体阻隔层、易粘接层(粘接层)、防污层、除臭层、滴流层、易滑层、硬涂层、耐磨损性层、防反射层、电磁波屏蔽层、紫外线吸收层、红外吸收层、印刷层、荧光发光层、全息图层、剥离层、压敏粘合层、粘接层、本发明的高折射率层及低折射率层以外的红外线屏蔽层(金属层、液晶层)、着色层(可见光线吸收层)、夹层玻璃中所利用的中间膜层等的功能层的1者以上。

本发明的优选的一方式为通过光学膜的制造方法所制造的光学膜。

[用途]

另外，本发明的优选的一方式为在基体的至少一面设置了光学膜的光学层叠体。特别地，优选光学膜是光学反射膜的光学反射体，特别优选为光学膜是红外屏蔽膜的红外屏蔽体。

作为基体的具体的例子，并无特别限制，例如可列举出玻璃、聚碳酸酯树脂、聚砜树脂、丙烯酸系树脂、聚烯烃树脂、聚醚树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚硫醚树脂、不饱和聚酯树脂、环氧树脂、蜜胺树脂、酚醛树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、聚乙烯醇树脂、苯乙烯树脂、氯乙烯树脂、金属板、陶瓷等。对树脂的种类并无特别限制，可以是热塑性树脂、热固化性树脂、电离放射线固化性树脂的任一种，也可将它们的2种以上组合使用。本发明的一方式中可使用的基体能够使用用挤出成型、压延成型、注射成型、中空成型、压缩成型等的公知的方法所制造的基体。对基体的厚度并无特别限制，但优选为0.1mm～5cm。

在光学膜为光学反射膜的情况下，就用于将光学反射膜与基体贴合的粘接层或压敏粘合层而言，优选将光学反射膜设置于光线(例如日光、热线等)入射面侧。另外，就将作为光学反射膜的1种的红外屏蔽膜夹持在窗玻璃与基体之间而言，由于能够密封而免受水分等的周围的气体的影响、耐久性优异，因此优选。从环境耐久性的观点出发，优选将作为光学反射膜的1种的红外屏蔽膜设置在室外、车的外侧(外贴用)。

作为本发明的一实施方式中可应用的粘接剂或压敏粘合剂，例如能够使用以光固化性或热固化性的树脂作为主成分的粘接剂或压敏粘合剂。

对粘接剂或压敏粘合剂并无特别限制，但优选对于紫外线具有耐久性的粘接剂或压敏粘合剂，更优选丙烯酸系粘接剂或压敏粘合剂、或者有机硅系粘接剂或压敏粘合剂，从压敏粘合特性、成本的观点出发，进一步优选丙烯酸系粘接剂或压敏粘合剂。另外，从剥离强度的控制容易出发，在丙烯酸系粘接剂或压敏粘合剂中，特别优选溶剂系。使用溶液聚合聚合物作为丙烯酸类溶剂系的粘接剂或压敏粘合剂的情况下，作为其单体，能够使用公知的单体。

另外，作为粘接剂或压敏粘合剂，也可使用作为夹层玻璃的中间层而使用的聚乙烯醇缩丁醛系树脂或乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系树脂。作为聚乙烯醇缩丁醛系树脂或乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系树脂的具体例，并无特别限制，例如可列举出可塑性聚乙烯醇缩丁醛(积水化学工业株式会社制造、三菱モンサント化成株式会社制造等)、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(デュポン株式会社制造、武田药品工业株式会社制造(デュラミン))、改性乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(東ソー株式会社制造(メルセン(注册商标)G))等。

予以说明，就粘接层或压敏粘合剂而言，可适当添加配合紫外线吸收剂、抗氧化剂、抗静电剂、热稳定剂、润滑剂、填充剂、着色剂、粘接调整剂等。

作为光学膜的1种的红外屏蔽膜或作为光学层叠体的1种的光学反射体(红外屏蔽体)的绝热性能、日照热屏蔽性能，一般地能够通过按照JIS R3209(复层玻璃)、JIS R3106(板玻璃类的透射率·反射率·放射率·日照热取得率的试验方法)、JIS R3107(板玻璃类的热阻和建筑中的热贯流率的计算方法)的方法来求出。就日照透射率、日照反射率、放射率、可见光透射率的测定而言，(1)使用波长(300～2500nm)的分光测光器测定各种单板玻璃的分光透射率、分光反射率。另外，使用波长5.5～50μm的分光测定器测定放射率。应予说明，浮法板玻璃、磨板玻璃、型板玻璃、热线吸收板玻璃的放射率使用既定值。(2)日照透射率、日照反射率、日照吸收率、修正放射率的算出按照JIS R3106，算出日照透射率、日照反射率、日照吸收率、垂直放射率。关于修正放射率，通过用JIS R3107中所示的系数乘以垂直放射率而求出。就绝热性、日照热屏蔽性的算出而言，(1)使用厚度的测定值、修正放射率，按照JIS R3209算出复层玻璃的热阻。但是，在中空层超过2mm的情况下，按照JIS R3107求出中空层的气体热导率。(2)在绝热性、复层玻璃的热阻中加上热传导阻抗而用热贯流阻抗求出。(3)就日照热屏蔽性而言，根据JIS R3106求出日照热取得率，从1中减去而算出。

另外，在光学膜为薄型的情况下，能够优选地应用于显示器面板的表面。作为该用途的一例，例如可列举出在等离子体显示器面板中将红外屏蔽膜贴合于高透明PET膜、导入了显示器画面中的实例。通过该用途中的红外屏蔽膜的使用，能够屏蔽由等离子体显示器面板放射的红外线，能够有助于人体的保护、电子设备相互的失误动作的防止和遥控器的失误动作的防止等。

实施例

以下，列举实施例对本发明进一步详细地说明，但本发明并不受这些实施例任何限定。应予说明，实施例中使用“份”或“％”的表示的情况下，只要无特别说明，则表示“质量份”或“质量％”。

[低折射率层用涂布液的制备]

将胶体二氧化硅(スノーテックス(注册商标)OXS、日产化学工业株式会社制造、固体成分10质量％)38质量份加热到45℃，加入3质量％硼酸水溶液3质量份，搅拌。进而在45℃的状态下依次添加·搅拌作为水溶性高分子的聚乙烯醇(JP-45、聚合度4500、皂化度87摩尔％、日本酢ビ·ポバール株式会社制造)的6质量％水溶液39质量份和表面活性剂的5质量％水溶液(ソフタゾリンLSB-R、川研ファインケミカル制造)1质量份，制备了低折射率层用涂布液1。

[损耗弹性模量确认工序]

使用流变仪(Rheo Stress 6000(Thermo SCIENTIFIC公司制造))在下述条件下测定了在上述制备的低折射率层用涂布液1的损耗弹性模量(G”)。

装置：Rheo Stress 6000(Thermo SCIENTIFIC公司制造)

传感器系统：锥板(圆锥半径60mm、圆锥角度＝1°)

剪切应力：0.5Pa

测定频率：1Hz

测定时间：60分钟

测定温度：35℃

样品量：1mL

首先，确认了测定开始时即测定时间0分钟时的损耗弹性模量的值G”(0)。然后，继续进行测定，确认了测定时间60分钟时的损耗弹性模量的值即G”(60)。由得到的G”(0)及G”(60)的值、通过下述式1算出了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)，结果低折射率层用涂布液1的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.8。

ΔG”＝G”(60)-G”(0) (式1)

[损耗弹性模量调整工序]

使用旋转式泵、以1.0(L/分钟)的流量将上述的低折射率层用涂布液1送液到作为分散装置的マイルダーMDN303V(太平洋机工株式会社制造)，通过在温度45℃、剪切速度8.38×10⁴(1/秒)下进行剪切处理而使其分散，制备了低折射率层用涂布液2。与低折射率层用涂布液1同样地算出了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)，结果低折射率层用涂布液1的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为0.5。

进而，在低折射率层用涂布液2的损耗弹性模量调整工序中，将分散装置的剪切应力及旋转式泵的流量变为下述表1中记载的值，除此之外同样地制备了低折射率层用涂布液3～9。另外，在上述低折射率层用涂布液4的制备中，将聚乙烯醇从JP-45(聚合度4500、皂化度87摩尔％、日本酢ビ·ポバール株式会社制造)变为PVA-224(聚合度2400、皂化度87摩尔％、株式会社クラレ)，除此之外同样地制备了低折射率层用涂布液10。

进而，在上述低折射率层用涂布液4的制备中，将3质量％硼酸水溶液从3质量份变为2质量份，除此之外同样地制备了低折射率层用涂布液11。

予以说明，将它们的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)记载于下述表1中。

[高折射率层用涂布液的制备]

(二氧化硅附着二氧化钛溶胶的制备)

在15.0质量％氧化钛溶胶(SRD-W、平均粒径5nm、金红石型二氧化钛粒子、堺化学工业株式会社制造)0.5质量份中加入了纯水2质量份后，加热到90℃。接着，缓慢地添加硅酸水溶液(用纯水稀释硅酸钠4号(日本化学工业株式会社制造)以使得SiO₂浓度成为0.5质量％的产物)0.5质量份。接着，在高压釜中、175℃下进行18小时加热处理，冷却后，通过用超滤膜进行浓缩，得到了固体成分浓度为6质量％的使SiO₂附着于表面的二氧化钛溶胶(以下也简称为“二氧化硅附着二氧化钛溶胶”)。

(高折射率层用涂布液的制备)

相对于上述得到的二氧化硅附着二氧化钛溶胶(固体成分20.0质量％)140质量份，加入1.92质量％柠檬酸水溶液48质量份，进而加入8质量％的聚乙烯醇水溶液(PVA-135、聚合度3500、皂化度98摩尔％、株式会社クラレ制造)113质量份，搅拌。然后，加入表面活性剂的5质量％水溶液(ソフタゾリンLSB-R、K川研ファインケミカル制造)0.4质量份，搅拌，制备了高折射率层用涂布液1。

[损耗弹性模量确认工序]

用与在上述的低折射率层用涂布液1的制备中的损耗弹性模量确认工序同样的方法测定了上述制备的高折射率层用涂布液1的损耗弹性模量(G”)，结果高折射率层用涂布液1的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.2。

[损耗弹性模量调整工序]

用与上述的低折射率层用涂布液2的制备中的损耗弹性模量调整工序同样的方法及条件使上述的高折射率层用涂布液1分散、制备了高折射率层用涂布液2。然后，再次通过损耗弹性模量确认工序求出了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)，结果高折射率层用涂布液2的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为0.4。

进而，在高折射率层用涂布液2的损耗弹性模量调整工序中，将分散装置的剪切应力及旋转式泵的流量变为下述表2中记载的值，除此之外同样地制备了高折射率层用涂布液3～7。另外，在上述高折射率层用涂布液5的制备中，将聚乙烯醇从PVA-135(聚合度3500、皂化度98摩尔％、株式会社クラレ)变为PVA-124(聚合度2400、皂化度98摩尔％、株式会社クラレ)，除此之外同样地制备了高折射率层用涂布液8。

进而，在上述低折射率层用涂布液5的制备中，将1.92质量％柠檬酸水溶液从48质量份变为60质量份，除此之外同样地制备了高折射率层用涂布液9。

予以说明，它们的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)记载于表2。

[表1]

[表2]

[涂布工序]

与上述的弹性弹性模量确认工序并行地，使用高折射率用涂布液1及低折射率用涂布液1进行了涂布。即，使用与上述的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时相同的状态的涂布液进行了涂布。更具体地，与损耗弹性模量确认工序中使用的涂布液自身独立地准备配方与进行了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定的涂布液相同并且经过了与涂布液制备后直至损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时的时间相同的时间的、与损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时(测定时间0分钟)相同的状态的新的涂布液，使用其进行了涂布。

作为涂布装置，使用了可以进行9层多层涂布的滑动料斗涂布装置。边将高折射率层用涂布液1和低折射率层用涂布液1保温于40℃，边在加热至40℃的、300mm宽的厚50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(东洋纺株式会社制造、コスモシャイン(注册商标)A4300、两面易粘接层)上进行了合计9层的同时多层涂布，以使最下层和最上层为低折射率层，其以外使低折射率层和高折射率层彼此交替地配置，并且使干燥时的平均膜厚成为低折射率层各层150nm、高折射率层各层130nm。刚涂布后，喷射10℃的冷风，进行固化。此时，直至即使用手指触摸表面也没有任何物质附着于手指的时间(固化时间)为10秒。固化完成后，喷射60℃的温风来使其干燥，由此制造了由合计9层构成的比较例1的红外屏蔽膜。

进而，在比较例1的红外屏蔽膜的涂布工序中，将上述的高折射率层用涂布液及、低折射率层用涂布液变为下述表3中记载的组合以外，同样地制造了实施例1～16和比较例2～4的红外屏蔽膜。

[光学膜(红外屏蔽膜)的评价]

(通过目视对涂布故障的确认)

对于在上述制造的各红外屏蔽膜，以目视确认长10m×宽0.25m的范围，以目视确认拖尾、条纹的个数，将其值除以2.5，由此算出了每1m×1m的平均的涂布故障数。其中，评价为△以上(平均故障数为1.0个/m²以下)时表示是实用的特性。

◎：0个/m²

○：超过0～0.1个/m²

△：超过0.1～1.0个/m²

×：超过1.0～10个/m²

××：超过10个/m²

[表3]

如由上述表3的结果看到那样，就通过对于低折射率层用涂布液及高折射率层用涂布液、具有损耗弹性模量确认工序、将损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为3.0以下的涂布液进行同时多层涂布的制造方法所制造的实施例1～16的红外屏蔽膜而言，确认了涂布故障即拖尾、条纹少，膜质良好。

另外，在实施例1～16中，低折射率层用涂布液含有作为交联成分的硼酸。其中，含有交联成分的涂布液经时地在涂布液中进行交联反应，因此一般地与不含交联成分的体系相比，凝聚体更容易发生，其尺寸也变得更大。但是，尽管涂布液含有交联成分，但实施例1～16的红外屏蔽膜的膜质良好，由此确认了本发明在含有交联成分的涂布液中是特别有用的。

其中，由实施例3和实施例14的比较确认了：通过降低涂布液中的硼酸的量，即使在同一分散条件下ΔG”的值也变得更小，使涂布故障减少。

另外，由实施例9和实施例16的比较确认了：通过增加涂布液中的柠檬酸的量，即使在同一分散条件下ΔG”的值也变得更小，使涂布故障减少。

进而，由实施例3和实施例13、实施例9和实施例15的比较确认了：涂布液中的聚乙烯醇的聚合度小时，即使在同一分散条件下ΔG”的值也变得更小，使涂布故障减少。

就比较例1～4而言，低折射率层用涂布液及高折射率层用涂布液的至少一者的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为本发明的范围外，该情况下，涂布故障的发生频率高。由此认为：就作为涂布故障的拖尾、条纹而言，在用同时多层涂布所形成的各层形成时发生，为了其改善，需要抑制各层中发生的凝聚，因此结果使通过同时多层涂布而形成的全部层的损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)为本发明的范围内，由此得到了显著的效果。

另外，在实施例1中，使用使涂布工序中的涂布开始时刻从损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时(测定时间0分钟)延迟了30分钟的状态的涂布液进行了涂布。更具体地，与损耗弹性模量确认工序中使用的涂布液自身独立地准备配方与进行了损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定的涂布液相同并且经过了与涂布液制备后直至损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时的时间相同的时间的、与损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时(测定时间0分钟)相同的状态的新的涂布液，将其进一步放置了30分钟后进行了涂布。此时，从准备了与损耗弹性模量的时间变化(ΔG”)的测定开始时(测定时间0分钟)相同的状态的涂布液的时刻直至将放置30分钟后的涂布液从涂布机排出而与膜相接的时间为不到60分钟。其结果，确认了得到与实施例1同样良好的结果。

[光学层叠体的制作]

使用上述制作的实施例1～16的各个红外屏蔽膜，制作了作为光学层叠体的红外屏蔽体。具体地，在厚5mm、20cm×20cm的尺寸的透明丙烯酸类树脂盘上用丙烯酸类粘接剂将实施例1～16的各个红外屏蔽膜粘接，制作了对应的光学层叠体(红外屏蔽体)1～16。

[光学层叠体的评价]

就上述制作的光学层叠体(红外屏蔽体)1～16而言，通过利用本发明的实施例1～16的红外屏蔽膜，能够确认优异的红外屏蔽性。

本申请基于2014年11月26日申请的日本专利申请No.2014-239324号，通过参照将其公开内容延迟地并入。

Claims (9)

1.一种光学膜的制造方法，是在基材上形成有至少2层以上的光学功能层的光学膜的制造方法，其特征在于，具有：

通过动态粘弹性测定来确认形成所述各光学功能层的涂布液的损耗弹性模量的损耗弹性模量确认工序、和

在基材上将形成所述各光学功能层的涂布液进行同时多层涂布的涂布工序，

在所述涂布工序中，在形成所述各光学功能层的涂布液的损耗弹性模量的时间变化ΔG”为3.0以下时进行涂布，所述涂布液的损耗弹性模量的时间变化ΔG”由下述式1定义，

ΔG”＝G”(60)-G”(0) (式1)

其中，G”(60)表示测定时间60分钟时的损耗弹性模量的值，G”(0)表示测定时间0分钟时的损耗弹性模量的值。

2.权利要求1所述的光学膜的制造方法，其中，在所述损耗弹性模量确认工序和所述涂布工序之间还具有下述的损耗弹性模量调整工序：对于在形成所述各光学功能层的涂布液中至少所述损耗弹性模量的时间变化ΔG”超过3.0的涂布液，分散所述涂布液，由此调整所述涂布液的所述损耗弹性模量的时间变化ΔG”以使得成为3.0以下。

3.权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其中，形成所述各光学功能层的涂布液的至少1者含有交联成分。

4.权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其中，形成所述各光学功能层的涂布液的至少1者含有高分子及无机氧化物粒子。

5.权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其中，所述光学功能层包含高折射率层及低折射率层、具有将所述高折射率层及所述低折射率层交替地层叠而成的结构。

6.权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其中，所述光学膜为光学反射膜。

7.权利要求6所述的光学膜的制造方法，其中，所述光学反射膜为红外屏蔽膜。

8.一种光学膜，是通过权利要求1～7的任一项所述的制造方法所制造的。

9.一种光学层叠体，其中，在基体的至少一面设置有权利要求8所述的光学膜。