CN106908986A - 像素结构及其显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种像素结构，包括基板、彩色滤光层、第一像素电极、第二像素电极、第一连接垫、第二连接垫、及第一间隔电极。第一像素电极与第二像素电极分别位于基板的第一子像素区与第二子像素区上，并与位于基板的第一子像素区与第二子像素区上的彩色滤光层重叠，且分别经由第一连接垫与第二连接垫电性连接切换元件。垂直投影于基板上，第一间隔电极位于第一连接垫与第二连接垫之间。第一间隔电极、第一连接垫与第二连接垫位于第一像素电极与第二像素电极之间。彩色滤光层上的开口未遮蔽第一连接垫、第二连接垫、及第一间隔电极的一部份。

Description

像素结构及其显示面板

技术领域

本发明涉及显示器领域，尤其是显示面板的像素结构。

背景技术

随着显示器技术的发展及线宽尺寸微缩，制程及产品上面临了新产生的诸多问题。例如，由于像素尺寸的缩减，同一区域间的像素间隔缩减。受到制程极限的影响，邻近的区域可能有导电线路因蚀刻的残留，而导致导电线路间电性连接，而导致短路的问题存在。导电线路的短路的区域，会导致局部产生暗点，需要特别检测及修复，进而影响了整体的生产良率及效率。

进一步地，线宽尺寸微缩同时使得金属线路的密度提升。金属的覆盖率高，导致开口率下降，而导致显示器的亮度及光学性质受到影响。

发明内容

本发明揭示的一态样关于一种像素结构。像素结构包括基板、彩色滤光层、第一像素电极、第二像素电极、第一连接垫、第二连接垫、以及第一间隔电极。基板具有多个二相邻的子像素区，二相邻的子像素区包含第一子像素区与第二子像素区。彩色滤光层设置于基板的第一子像素区与第二子像素区上。第一像素电极设置于基板的第一子像素区上，且第一像素电极与位于第一子像素区的彩色滤光层重叠。第二像素电极设置于基板的第二子像素区上，第二像素电极与位于第二子像素区的彩色滤光层重叠，且第一像素电极与第二像素电极相互分隔开来。第一连接垫与第二连接垫分别设置于基板上，且第一连接垫与第二连接垫相互分隔开来。第一间隔电极设置于基板上，且第一间隔电极垂直投影于基板上位于第一连接垫与第二连接垫垂直投影于基板上之间。第一间隔电极、第一连接垫与第二连接垫垂直投影于基板上皆位于第一像素电极与第二像素电极垂直投影于基板上之间。彩色滤光层具有开口，且开口皆未遮蔽第一连接垫至少一部份、第二连接垫至少一部份与第一间隔电极至少一部份。第一像素电极经由第一连接垫电性连接于第一连接垫所对应的切换元件，第一像素电极经由第二连接垫电性连接于第二连接垫所对应的切换元件。

在一些实施例中，第一间隔电极包含浮接电极。

在一些实施例中，第一间隔电极连接第一连接垫或第二连接垫其中一者。

在一些实施例中，第一间隔电极包含第一导电层与第二导电层。

在一些实施例中，第一导电层与第二导电层相互分隔开来。

在一些实施例中，第一导电层包含第一浮接电极，或是第一导电层连接一固定电位电极。第二导电层包含第二浮接电极，或是第二导电层连接第一连接垫或第二连接垫其中一者。

在一些实施例中，像素结构更包含第二间隔电极。第二间隔电极设置于基板上，且第二间隔电极垂直投影于基板上不位于第一连接垫与第二连接垫垂直投影于基板上之间。

在一些实施例中，像素结构更包含第三连接垫。第三连接垫设置于基板上，且第三连接垫皆与第一连接垫以及第二连接垫相互分隔开来。第二间隔电极垂直投影于基板上，且位于第二连接垫与第三连接垫垂直投影于基板上之间。第一间隔电极、第二间隔电极、第一连接垫、第二连接垫与第三连接垫垂直投影于基板上皆位于第一像素电极与第二像素电极垂直投影于基板上之间。

在一些实施例中，彩色滤光层的开口皆未遮蔽第一连接垫至少一部份、第二连接垫至少一部份、第三连接垫至少一部份、第一间隔电极至少一部份与二间隔电极至少一部份。

在一些实施例中，第一间隔电极或第二间隔电极其中一者包含浮接电极。

在一些实施例中，第一间隔电极连接第一连接垫或第二连接垫其中一者，且第二间隔电极连接第二连接垫或第三连接垫其中一者。

在一些实施例中，第二间隔电极包含第一导电层与第二导电层。

在一些实施例中，第一导电层与第二导电层相互分隔开来。

在一些实施例中，第一导电层包含第一浮接电极，或是第一导电层连接一固定电位电极。第二导电层包含第二浮接电极，或是第二导电层连接第二连接垫或第三连接垫其中一者。

在一些实施例中，第三连接垫连接第一固定电位电极与第二固定电位电极其中至少一者。

在一些实施例中，第一固定电位电极与第二固定电位电极交错。

在一些实施例中，像素结构更包含连接电极。第一像素电极或第二像素电极其中一者，经由连接电极连接第一连接垫或第二连接垫其中一者。

在一些实施例中，第一连接垫与第二连接垫对应于同一个切换元件。

在一些实施例中，第一连接垫与第二连接垫对应于不同的切换元件。

在一些实施例中，位于第一子像素区与第二子像素区上的彩色滤光层为相同的颜色。

在一些实施例中，位于第一子像素区与第二子像素区上的彩色滤光层为不同的颜色。

在一些实施例中，像素结构更包含第三间隔电极，设置于基板上，且第三间隔电极垂直投影于基板上不位于第一连接垫与第二连接垫垂直投影于该基板上之间。

在一些实施例中，第三间隔电极包含浮接电极或第三间隔电极连接固定电位电极。

在此，更提供了一种显示面板。显示面板包含上述实施例所述的像素结构，以及另一基板，设置于像素结构的基板上。

在上述所述的像素结构及应用像素结构的显示面板中，通过间隔电极垫高彩色滤光层的开口位于第一连接垫及第二连接垫之间的区域，利于制程时断开第一像素电极(例如：第一连接电极)与第二像素电极(例如：第二连接电极)之间的连接，解决第一像素电极(例如：第一连接电极)与第二像素电极(例如：第二连接电极)间短路的问题，从而提升制程的良率及稳定性。进一步地，还可以提升显示面板的开口率，提供更佳的光学品质。

附图说明

通过参照附图进一步详细描述本发明的示例性实施例，本发明的上述和其他示例性实施例，优点和特征将变得更加清楚，其中：

图1为第一实施例像素结构的局部上视示意图。

图2A为沿图1的A-A’线的剖面示意图。

图2B为沿图1的B-B’线的剖面示意图。

图2C为沿图1的C-C’线的剖面示意图。

图3为第二实施例像素结构的局部上视示意图。

图4为第三实施例像素结构的局部上视示意图。

图5为沿图3或图4的D-D’线的剖面示意图。

图6A为第四实施例像素结构的局部上视示意图。

图6B为沿图6A的E-E’线的剖面示意图。

图7为第五实施例像素结构的局部上视示意图。

图8A至8D为沿图7的F-F’线不同态样的的剖面示意图。

图9A为第六实施例像素结构的局部上视示意图。

图9B为沿图9A的G-G’线的剖面示意图。

图10A为第七实施例像素结构的局部上视示意图。

图10B为沿图10A的H-H’线的剖面示意图。

图11为显示面板的剖面示意图。

图12A为显示面板的实验例的上视示意图。

图12B为显示面板的实验例的光学示意图。

其中，附图标记：

1 像素结构 10 基板

11 二相邻的子像素区 111 第一子像素区

113 第二子像素区 20 彩色滤光层

21 开口 211 子开口

31 第一像素电极 311 第一连接电极

32 连接电极 33 第二像素电极

331 第二连接电极 35 第二固定电位电极

41 第一连接垫 43 第二连接垫

45 第三连接垫 51 第一间隔电极

511 第一导电层 513 第二导电层

53 第二间隔电极 531 第一导电层

533 第二导电层 55 第三间隔电极

61 切换元件 63 切换元件

70 绝缘层 81 扫描线

83 数据线 85 第一固定电位电极

90 第二基板 95 显示介质层

100 显示面板 D 漏极

G 栅极 S 源极

SE 半导体层

具体实施方式

在下文中将参照附图更全面地描述本发明，在附图中示出了本发明的示例性实施例。如本领域技术人员将认识到的，可以以各种不同的方式修改所描述的实施例，而不脱离本发明的精神或范围。

在附图中，为了清楚起见，放大了层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”可以指物理及/或电连接。

应当理解，尽管术语“第一”、“第二”、“第三”等在本文中可以用于描述各种元件、部件、区域、层及/或部分，但是这些元件、部件、区域、及/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一个元件、部件、区域、层或部分区分开。因此，下面讨论的“第一元件”、“部件”、“区域”、“层”、或“部分”可以被称为第二元件、部件、区域、层或部分而不脱离本文的教导。

这里使用的术语仅仅是为了描述特定实施例的目的，而不是限制性的。如本文所使用的，除非内容清楚地指示，否则单数形式“一”、“一个”和“该”旨在包括复数形式，包括“至少一个”。“或”表示“及/或”。如本文所使用的，术语“及/或”包括一个或多个相关所列项目的任何和所有组合。还应当理解，当在本说明书中使用时，术语“包括”及/或“包括”指定所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件的存在及/或部件，但不排除一个或多个其它特征、区域整体、步骤、操作、元件、部件及/或其组合的存在或添加。

此外，诸如“下”或“底部”和“上”或“顶部”的相对术语可在本文中用于描述一个元件与另一元件的关系，如图所示。应当理解，相对术语旨在包括除了图中所示的方位之外的装置的不同方位。例如，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其他元件的“下”侧的元件将被定向在其他元件的“上”侧。因此，示例性术语“下”可以包括“下”和“上”的取向，取决于附图的特定取向。类似地，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其它元件“下方”或“下方”的元件将被定向为在其它元件“上方”。因此，示例性术语“下面”或“下面”可以包括上方和下方的取向。

本文使用的“约”、“实质上”、或“近似”包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值，考虑到所讨论的测量和与测量相关的误差的特定数量(即，测量系统的限制)。例如，“约”可以表示在所述值的一个或多个标准偏差内，或±30％、±20％、±10％、±5％内。

除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，诸如在通常使用的字典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和本发明的上下文中的含义一致的含义，并且将不被解释为理想化的或过度正式的意义，除非本文中明确地这样定义。

本文参考作为理想化实施例的示意图的截面图来描述示例性实施例。因此，可以预期到作为例如制造技术及/或公差的结果的图示的形状变化。因此，本文所述的实施例不应被解释为限于如本文所示的区域的特定形状，而是包括例如由制造导致的形状偏差。例如，示出或描述为平坦的区域通常可以具有粗糙及/或非线性特征。此外，所示的锐角可以是圆的。因此，图中所示的区域本质上是示意性的，并且它们的形状不是旨在示出区域的精确形状，并且不是旨在限制权利要求的范围。

参阅图1、图2A、图2B及图2C。图1为第一实施例像素结构的局部上视示意图。图2A为沿图1的A-A’线的剖面示意图。图2B为沿图1的B-B’线的剖面示意图。图2C为沿图1的C-C’线的剖面示意图。在此，为方便阅读，图1中省略彩色滤光层以突显各元件的相对位置。

如图1、图2A至2C所示。像素结构1包括基板10、彩色滤光层20、第一像素电极31、第二像素电极33、第一连接垫41、第二连接垫43、以及第一间隔电极51。基板10具有多个二相邻的子像素区11，在此图式中，仅以两个作为示例，实际上不限于此。二相邻的子像素区11包含第一子像素区111与第二子像素区113。彩色滤光层20设置于基板10的第一子像素区111与第二子像素区113上。第一像素电极31设置于基板10的第一子像素区111上，且第一像素电极11与位于第一子像素区11的彩色滤光层20重叠。第二像素电极33设置于基板10的第二子像素区113上，且第二像素电极33与位于第二子像素区113的彩色滤光层20重叠，且第一像素电极31与第二像素电极33相互分隔开来。第一连接垫41与第二连接垫43，分别设置于基板10上，且第一连接垫41与第二连接垫43相互分隔开来。第一间隔电极51设置于基板10上，且第一间隔电极51垂直投影于基板10上是位于第一连接垫41与第二连接垫43垂直投影于基板10上之间。

如图1所示，第一间隔电极51、第一连接垫41与第二连接垫43垂直投影于基板10上皆位于第一像素电极31与第二像素电极33垂直投影于基板10上之间。而如图2A至2C所示，彩色滤光层20具有开口21，且开口21未遮蔽第一连接垫41至少一部份、第二连接垫43至少一部份、与第一间隔电极51至少一部份。换言之，开口21与第一连接垫41至少一部份、第二连接垫43至少一部份、与第一间隔电极51至少一部份重叠，或者是开口21暴露出第一连接垫41至少一部份、第二连接垫43至少一部份、与第一间隔电极51至少一部份。第一像素电极31经由第一连接垫41电性连接于第一连接垫41所对应的切换元件61，第二像素电极33经由第二连接垫43电性连接于第二连接垫43所对应的切换元件63。本实施例，由于设置第一间隔电极51在第一连接垫41与第二连接垫43之间可以自然地产生突起，易于在后续的蚀刻步骤将导电层分离为第一像素电极31及第二像素电极33时，避免第一像素电极31及第二像素电极33之间相互电性连接而发生短路。

本实施例的像素结构1，可选择性的更包括连接电极32，第一像素电极31或第二像素电极33其中一者，经由连接电极32连接第一连接垫41或第二连接垫43其中一者。举例而言，第一像素电极31经由连接电极32，例如第一连接电极311连接至第一连接垫41，而第二像素电极33经由连接电极32，例如第二连接电极331连接至第二连接垫43为示例，配置方式不限于此。于其它实施例中，也可以将第二像素电极33连接至第一连接垫41、第一像素电极31连接至第二连接垫43，只要不造成第一像素电极31与第二像素电极33彼此直接连接而使二者产生短路即可。

于本实施例中，第一间隔电极51可为浮接电极(floating electrode)，第一间隔电极51不与第一连接垫41或第二连接垫43连接(参阅图1)，且第一间隔电极51可为单层结构或多层结构。于部份实施例，第一间隔电极51的双层结构可包含第一导电层511与第二导电层513，在垂直投影于基板10上，第一导电层511与第二导电层513至少部份重叠，第一间隔电极51的第一导电层511与第二导电层513之间以绝缘层70彼此分隔(参阅图2A～2C)或者是第一间隔电极51的第一导电层511经由绝缘层70的孔洞(未标示)与第二导电层513连接，但第一间隔电极51仍不与第一连接垫41或第二连接垫43连接。

再次参阅图1，在一些实施例中，像素结构1可选择性的更包含第二间隔电极53。第二间隔电极53垂直投影于基板10上不位于第一连接垫41与第二连接垫43垂直投影于基板10上之间。在图1中，第二间隔电极53邻近第二连接垫43，而远离第一连接垫41。第二间隔电极53可为浮接电极(floating electrode)，不与第二连接垫43连接。本实施例的第二间隔电极53可为单层结构或多层结构。于部份实施例中，第二间隔电极53的双层结构可包含第一导电层531与第二导电层533。在垂直投影于基板10上，第一导电层531与第二导电层533至少部份重叠，第二间隔电极53的第一导电层531与第二导电层533之间以绝缘层70彼此分隔(参阅图2A～2C)或者是第二间隔电极53的第一导电层531经由绝缘层70的孔洞(未标示)与第二导电层533连接，但第二间隔电极53仍不与第一连接垫41或第二连接垫43连接。于本实施例中，第二间隔电极53与第一间隔电极51相分隔，但不限于此。于其它实施例中，第二间隔电极53可选择性的与第一间隔电极51连接。

再次参阅图1，在一些实施例中，像素结构1可选择性的更包含第三连接垫45。第三连接垫45设置于基板10上，且第三连接垫45皆与第一连接垫41以及第二连接垫43相互分隔开来。于本实施例中，第三连接垫45也可皆与第一间隔电极51以及第二间隔电极53相分隔。在此，第二间隔电极53垂直投影于基板10上，位于第二连接垫43与第三连接垫45垂直投影于基板10上之间。于其它实施例中，第一连接垫41位于第二连接垫43与第三连接垫45间，则第二间隔电极53垂直投影于基板10上，位于第一连接垫41与第三连接垫45垂直投影于基板10上之间。第一间隔电极51、第二间隔电极53、第一连接垫41、第二连接垫43与第三连接垫45垂直投影于基板10上皆位于第一像素电极31与第二像素电极33垂直投影于基板10上之间。如图2A至2C所示，彩色滤光层20的开口21皆未遮蔽第一连接垫41至少一部份、第二连接垫43至少一部份、第三连接垫45至少一部份、第一间隔电极51至少一部份、与第二间隔电极53至少一部份。换言之，开口21与第一连接垫41至少一部份、第二连接垫43至少一部份、第三连接垫45至少一部份、第一间隔电极51至少一部份、以及第二间隔电极53至少一部份重叠或者是开口21暴露出第一连接垫41至少一部份、第二连接垫43至少一部份、第三连接垫45至少一部份、第一间隔电极51至少一部份、与第二间隔电极53至少一部份。

如图1及图2A至2C所示，第一子像素区111与第二子像素区113，例如是由扫描线81及数据线83所界定，但不限于此。此外，本实施例以第一像素电极31与第二像素电极33的材料例如由透明导电材料所构成，且可为单层或多层结构，但不限于此。于其它实施例中，第一像素电极31与第二像素电极33的材料其中至少一者可为单层或多层的反射材料或反射材料与透明导电材料所构成。其中，透明导电材料包含铟锡氧化物、铟锌氧化物、铟镓锌氧化物、铟镓氧化物、纳米碳管/杆、有机透明导电材料、反射材料小于一预定厚度(例如：小于60埃)、或其它合适的材料。反射材料包含金属、合金、前述氮化物、前述氧化物、前述氮氧化物、或其它合适的材料。第一像素电极31、第二像素电极33可以分别连接至切换元件61的漏极D及切换元件63的漏极D。本实施例的切换元件61与切换元件63共用源极S来电性连接至数据线83，但不限于此。于其它实施例中，切换元件61与切换元件63有各自的源极S电性连接至数据线83。本实施例的切换元件61与切换元件63皆以底栅型晶体管为范例，即栅极G位于半导体层SE的下方，但不限于此。于其它实施例中，切换元件61与切换元件63可为顶栅型晶体管，即栅极G位于半导体层SE的上方或其它合适的晶体管类型，例如：立体晶体管。其中，半导体层SE的材料可为单层或多层结构，且其材料包含单晶硅、微晶硅、纳米晶硅、多晶硅、金属氧化物半导体、纳米碳管/杆、有机半导体或其它合适的材料。此外，本实施例的切换元件61与切换元件63的晶体管类型可实质上相同或不同，且切换元件61与切换元件63连接同一或不同的数据线83及/或同一或不同的扫描线81。

在一些实施例中，像素结构1的第三连接垫45可连接第一固定电位电极85与第二固定电位电极35其中至少一者。第二固定电位电极35可为单层或多层结构，且其材料可选自像素电极所述的材料，而第二固定电位电极35所选用的材料可与像素电极(例如：第一像素电极31或第二像素电极33)的材料实质上相同或不同。较佳地，第二固定电位电极35、第一像素电极31与第二像素电极33的材料可为透明导电材料，但不限于此。本实施例中，像素结构1的第三连接垫45可连接第一固定电位电极85及第二固定电位电极35，即第一固定电位电极85经由第三连接垫45连接第二固定电位电极35，且第一固定电位电极85与第二固定电位电极35交错，即第一固定电位电极85与第二固定电位电极35的延伸方向交错。第一固定电位电极85与第二固定电位电极35可以为接地电极，或者共通电极，也就是，第一固定电位电极85可以固定连接至0V，或者固定的共通电位，且共通电位也可选择性的为可被调整的电位。在一些实施例中，第二固定电位电极35一部份可选择性的设置于数据线83上，可降低数据线83对显示面板中的显示介质层95的影响(例如：图11)。

在一些实施例中，扫描线81、第一固定电位电极85、第一间隔电极51的多层结构中的第一导电层511、第二间隔电极53的多层结构中的第一导电层531、第三连接垫45可以为同一层，但前述各元件相分隔。第一连接垫41、第二连接垫43、数据线83、第一间隔电极51的多层结构中的第二导电层513、第二间隔电极53的多层结构中的第二导电层533、切换元件61的源/漏极S/D以及切换元件63的源/漏极S/D可以为同一层，但前述各元件相分隔。于其它实施例中，第一间隔电极51与第二间隔电极53其中至少一者可为单层结构，且单层结构可选为第一导电层531与511其中一者或者是第二导电层513与533其中一者。第一像素电极31、第二像素电极33、第二固定电位电极35可以为同一层，但前述各元件相分隔。在此仅为示例，但不限于此，只要电性连接方式合理的变化均可施行。

参阅图3、图4及图5。图3为第二实施例像素结构的局部上视示意图。图4为第三实施例像素结构的局部上视示意图。图5为沿图3或图4的D-D’线的剖面示意图。在此，为方便阅读，图3、4中省略彩色滤光层以突显各元件的相对位置。

如图3及图4所示，第二实施例、第三实施例的元件配置与第一实施例元件的相对位置大致相同，与第一实施例主要的不同之处在于，第二实施例及第三实施例的第一间隔电极51连接第一连接垫41或第二连接垫43其中一者。本实施例是以第一间隔电极51连接第一连接垫41为范例，但不限于此。于其它实施例中，第一间隔电极51可连接第二连接垫43，但第一间隔电极51并不一起连接第一连接垫41与第二连接垫43，以防止第一像素电极31与第二像素电极33短路。第二实施例及第三实施例的像素结构1可选择性的包含第二间隔电极53，则第二间隔电极53连接第二连接垫43，而第一间隔电极51连接第一连接垫41。第二实施例及第三实施例的像素结构1是以未存在第三连接垫45范例，但于第二实施例及第三实施例的其它实施例中，亦可选择性的包含第三连接垫45，第二间隔电极53可与第三连接垫45与第二连接垫其中一者连接，但第二间隔电极53并不一起连接第二连接垫43与第三连接垫45。对于其它相关的元件，例如：第一固定电位电极85、第二固定电位电极35、晶体管61与63以及其它元件或材料或膜层的描述可参阅第一实施例的内容，于此不再赘言。

如图3及图4所示，第二实施例与第三实施例之间的差异在于彩色滤光层20的开口21。如图3所示，第二实施例的彩色滤光层20的开口21可以为多个为子开口211连通而成，子开口211可以为多边形，子开口211的边界可以向内缩减，此目的在于缩减边界长度的同时，也可以缩短第一间隔电极51及第二间隔电极53的长度，有助于提升开口率。而如图4所示，第四实施例的彩色滤光层20的开口21为单一较大的开口，此方式是利于缩减第一连接垫41与第二连接垫43的间隙。

参阅图3及图4，像素结构1可选择性的更包括一第三间隔电极55，第三间隔电极53垂直投影于基板10上不位于第一连接垫41与第二连接垫43垂直投影于基板10上之间，且第三间隔电极53邻近第一连接垫41、而远离第二连接垫43。

第二实施例或第三实施例的第一间隔电极51与第二间隔电极53其中至少一者可为单层结构或多层结构。参阅图5，图5为图3或图4沿D-D’线的剖面示意图。如图5所示，第一间隔电极51可为多层结构，且其包含第一导电层511与第二导电层513，且二者相互分隔，而第二间隔电极53为单层结构，且仅包含第一导电层531为范例。参阅图3～5，第一间隔电极51的第一导电层511可连接第一固定电位电极85，第一间隔电极51的第二导电层513连接第一连接垫41，第二间隔电极53的导电层(单层结构)可连接第一固定电位电极85。于其它实施例中，第一间隔电极51可为单层结构，其可连接第一固定电位电极85，第二间隔电极53可为双层结构，第一导电层531可连接第一固定电位电极85，第二导电层533可连接第二连接垫43。第三间隔电极55可为单层或多层结构，其可依设计连接至相关的元件。本实施例是以第三间隔电极55可为单层结构，且连接于固定电位电极，例如：第一固定电位电极85为范例，然而，第三间隔电极55可为单层结构，其也可为浮接电极(floating electrode)。

参阅图6A及图6B。图6A为第四实施例像素结构的局部上视示意图。图6B为沿图6A的E-E’线的剖面示意图。在此，为方便阅读，图6A中省略彩色滤光层以突显各元件的相对位置。第四实施例与第一实施例元件配置的相对位置大致相同，且第四实施例的开口方式与第三实施例相同。第四实施例主要的不同之处在于第一间隔电极51为双层结构，且其可包含第一导电层511及第二导电层513，第二间隔电极53为双层结构，且其可包含第一导电层531及第二导电层533，其中，前述第一与第二间隔电极51/53的双层结构，其中一层可为浮接电极(floating electrode)，另外一层可连接所对应的元件，例如：第一固定电位电极85或者是连接垫41或43。举例而言，第一间隔电极51的第一导电层511与第二间隔电极53的第一导电极531连接第一固定电位电极85，第一间隔电极51的第二导电层513与第二间隔电极53的第二导电层533皆为可为浮接电极(floating electrode)，但不限于此。于其它实施例中，第一与第二间隔电极51/53的双层结构的每一层并不需要具有实质上相同的性质。举例而言，第一间隔电极51的第一导电层511连接第一固定电位电极85，而第二间隔电极53的第一导电层531可为浮接电极，第一间隔电极51的第二导电层513可为浮接电极，而第二间隔电极53的第二导电层533连接第一固定电位电极85或第二连接垫43，但不限于此。换言之，第一间隔电极51的第一导电层511包含浮接电极(或称为第一浮接电极)或者是第一导电层511连接固定电位电极(例如：第一固定电位电极85)，第一间隔电极51的第二导电层513包含浮接电极(或称为第二浮接电极)或者是第二导电层513连接第一连接垫41或第二连接垫43其中一者(即第一间隔电极51的第一导电层511与第二导电层513设计约略有六种设计关系)及/或第二间隔电极53的第一导电层531包含浮接电极(或称为第一浮接电极)或者是第一导电层531连接固定电位电极(例如：第一固定电位电极85)，第二间隔电极53的第二导电层533包含浮接电极(或称为第二浮接电极)或者是第二导电层533连接第二连接垫43或第三连接垫45其中一者(即约第二间隔电极53的第一导电层531与第二导电层533的设计约略有六种设计关系)。然而，必需注意的是，第一间隔电极51尽可能不一起连接第一连接垫41或第二连接垫43，以降低第一像素电极31与第二像素电极33可能会产生短路现象。

参阅图7、图8A至8D。图7为第五实施例像素结构的局部上视示意图。图8A至8D为沿图7的F-F’线不同态样的的剖面示意图。在此，为方便阅读，图7中省略彩色滤光层以突显各元件的相对位置。第五实施例的元件配置与第一实施例元件的相对位置大致相同，而开口21是采第二实施例的方式。第五实施例主要的不同之处在于第一间隔电极51及第二间隔电极53皆为单层结构的配置方式，且第一间隔电极51及第二间隔电极53可为浮接电极。如图8A所示，第一间隔电极51可包含第一导电层511、第二间隔电极53可包含第一导电层531。如图8B所示，第一间隔电极51可包含第一导电层511、第二间隔电极53可包含第二导电层533。如图8C所示，第一间隔电极51可包含第二导电层513、第二间隔电极53可包含第二导电层533。如图8D所示，第一间隔电极51可包含第二导电层513、第二间隔电极53可包含第一导电层531。

参阅图9A及图9B。图9A为第六实施例像素结构的局部上视示意图。图9B为沿图9A的G-G’线的剖面示意图。在此，为方便阅读，图9A中省略彩色滤光层以突显各元件的相对位置。第六实施例的元件配置与第五实施例元件的相对位置大致相同，且彩色滤光层20的开口21的方式大致与第二实施例相同。第六实施例与第五实施例主要差异在于，在开口21为由连通的子开口211所构成时，子开口211的边界上仍残留有彩色滤光层20。但即使残留有彩色滤光层20，仍无损镀覆导电层(例如透明导电层)时，在第一连接垫41与第二连接垫43之间自然地产生突起的作用，同样有助于在后续的蚀刻步骤将导电层(例如透明导电层)分离为第一像素电极31及第二像素电极33，避免第一像素电极31及第二像素电极33之间相互电性连接而发生短路。必需说明的是，于子开口211的边界上仍残留有彩色滤光层20的厚度(高度)会小于子开口211之外的彩色滤光层20的厚度(高度)，例如：于子开口211的边界上仍残留有彩色滤光层20的厚度(高度)约小于子开口211之外的彩色滤光层20的厚度(高度)一半以上。

参阅图10A及图10B。图10A为第七实施例像素结构的局部上视示意图。图10B为沿图10A的H-H’线的剖面示意图。在此，为方便阅读，图10A中省略彩色滤光层以突显各元件的相对位置。第七实施例与前述的实施例，主要的差异在于，第一间隔电极51及第二间隔电极53皆为双层结构。其中，第一间隔电极51的第一导电层511与第二间隔电极53的第一导电层531皆连接第一固定电位电极85与第三连接垫45，且延伸成一整片的膜层。整片的膜层垂直投影于基板10上，第一连接垫41、第二连接垫43、第一间隔电极51的第二导电层513、及第二间隔电极53的第二导电层533分别与一整片的膜层重叠，即第一连接垫41、第二连接垫43、第一间隔电极51的第二导电层513、及第二间隔电极53的第二导电层533分别位于一整片的膜层上。第一间隔电极51的第二导电层531连接第一连接垫41，第二间隔电极53的第二导电层531连接第二连接垫。于其它实施例中，第一间隔电极51的第一导电层511与第二间隔电极53的第一导电层531皆连接第一固定电位电极85，且第三连接垫45可选择性的连接第一固定电位电极85，且也不延伸成一整片的膜层，而第一间隔电极51的第二导电层513连接第一连接垫41，第二间隔电极53的第二导电层533连接第二连接垫43。

本发明的前述实施例中，第一子像素区111与第二子像素区113上的彩色滤光层20可以为实质上相同的颜色或者是第一子像素区111与第二子像素区113上的彩色滤光层20也可以为不同的颜色。于部份实施例中，第一子像素区111与第二子像素区113组成一个子像素，且第一子像素区111与第二子像素区113的第一像素电极31与第二像素电极33的电压不同。在其它实施例中，第一子像素区111与第二子像素区113可分别为独立的子像素。本发明的前述实施例的第一连接电极311、第一电极垫41、第二连接电极331、第二电极垫43、第三电极垫45、第一间隔电极51与第二间隔电极52的垂直投影于基板10的形状可为多边形、具有曲线的形状或其它合适的形状。本发明的前述部份实施例的开口21是以一整体的形状为范例时，其开口21也可包含多个子开口211，各子开口211相互连通，且第一间隔电极51与第二间隔电极52，较佳地，就可分别位于二相邻子开口211的连接处。

本发明的前述实施例的像素结构1中连接第一连接垫41的第一连接电极311垂直投影于基板10上的形状、连接第二电极垫43的第二连接电极331垂直投影于基板10上的形状与连接第三电极垫45的第二固定电位电极35垂直投影于基板10上的形状其中至少一者，以填满开口21中除了第一间隔电极51与第二间隔电极52之外的区域，但不限于此。于其它实施例中，连接第一电极垫41的第一连接电极311垂直投影于基板10上的形状、连接第二电极垫43的第二连接电极331垂直投影于基板10上的形状与连接第三电极垫45的第二固定电位电极35垂直投影于基板10上的形状其中至少一者可不填满开口21中除了第一间隔电极51与第二间隔电极52之外的区域。本发明的前述实施例的像素结构1中，第一间隔电极51、第二间隔电极52与第三间隔电极55其中至少一者的长度，可依设计而调整之。再者，本发明的前述实施例的像素结构1中的第一像素电极31与第二像素电极33其中至少一者，可选择性的包含多个狭缝(未绘示)与多个分枝电极(未绘示)，以形成多个区域(例如：配向区域)，且至少一个狭缝(未绘示)可位于相邻的两个分枝电极(未绘示)之间。

参阅图11，图11为显示面板的剖面示意图。如图11所示，显示面板100包含基板10、第二基板90、以及显示介质层95，基板10上可以配置上述各种实施例的像素结构1(以图2B为范例，但不以此为限)，第二基板90设置于配置有像素结构1的基板10上。显示介质层95配置于基板10与第二基板90之间，且显示介质层是以非自发光材料，例如：液晶材料为范例，但不限于此。上述的显示面板100可构成一种阵列开关上直接设置彩色滤光片(colorfilter on array，COA)的显示面板。

参阅图12A及图12B，图12A及图12B分别为显示面板的实验例的上视示意图及光学示意图。如图12A及图12B所示，图12A中五个位置的上视示意图及图12B的五个位置的光学示意图相互对应。图12A中的位置(1)为比较例1，其结构依据第二实施例的开口方式设置，但并未设置第一间隔电极及第二间隔电极。图12A中的位置(2)为比较例2，其结构依据第三实施例的开口方式设置，但并未设置第一间隔电极及第二间隔电极。图12A中的位置(3)为依据第二实施例的开口方式设置的实验例1，第一间隔电极为双层结构，第二间隔电极为单层结构。图12A中的位置(5)为依据第三实施例开口方式设置的实验例2，第一间隔电极为双层结构，第二间隔电极53为单层结构。图12A中的位置(4)为依据第一实施例及/或第四实施例的方式设置的实验例3，第一间隔电极及第二间隔电极均为双层结构。

前述实验的光学示意图如图12B所示，图12B中位置(1)、(2)分别为比较例1、2，在光学图中呈暗区，主要的原因来自于蚀刻导电层(例如透明导电层)以分离导电层成第一像素电极31及第二像素电极33时，仍会让多余的导电层(例如透明导电层)残留于开口中，而使得第一像素电极31及第二像素电极33可能会发生短路于开口中。图12B中的位置(3)～(5)的实验例1～3光学上均呈亮区，并以位置(4)，即实验例3的亮度最亮，为较佳的实施例，明显可知，第一间隔电极51、第二间隔电极53的设置，可有效的解决于蚀刻导电层(例如透明导电层)以分离导电层成第一像素电极31及第二像素电极33时，不会让多余的导电层(例如透明导电层)残留于开口中，就可有效的降低第一像素电极31及第二像素电极33发生短路的问题，且以双层结构垫高第一连接垫41及第二连接垫43之间的区域效果最佳。图12B中的位置(3)与(5)，即实验例1与2为次佳实施例，其于蚀刻导电层(例如：透明导电层)以分离导电层成第一像素电极31及第二像素电极33时，在部份子像素区的第二像素电极33与共通电极83仍可能会有多余的导电层(例如：透明导电层)残留于开口中而发生短路的现象，但第一像素电极31与第二像素电极33之间的短路，在制程时已可被第一间隔电极41产生的垫高效果所解决，因此，暗区已不会发生。次佳实验例(即次佳实施例)亦可以通过第二间隔层调整制程参数，例如增加第一导电层511或第二导电层513的厚度、或是调整蚀刻时间来解决，以此达到更佳的光学品质。

虽然已经结合目前被认为是实用的示例性实施例描述了本发明，但是应当理解，本发明不限于所公开的实施例，而是相反，旨在适用于各种修改和等同布置包括在所附权利要求的精神和范围内。

Claims (20)

1.一种像素结构，其特征在于，包括：

一基板，具有多个二相邻的子像素区，各该二相邻的子像素区包含一第一子像素区与一第二子像素区；

一彩色滤光层，设置于该基板的该第一子像素区与该第二子像素区上；

一第一像素电极，设置于该基板的该第一子像素区上，且该第一像素电极与位于该第一子像素区的该彩色滤光层重叠；

一第二像素电极，设置于该基板的该第二子像素区上，该第二像素电极与位于该第二子像素区的该彩色滤光层重叠，且该第一像素电极与该第二像素电极相互分隔开来；

一第一连接垫与一第二连接垫，分别设置于该基板上，且该第一连接垫与该第二连接垫相互分隔开来；以及

一第一间隔电极，设置于该基板上，且该第一间隔电极垂直投影于该基板上位于该第一连接垫与该第二连接垫垂直投影于该基板上之间；

其中，该第一间隔电极、该第一连接垫与该第二连接垫垂直投影于该基板上皆位于该第一像素电极与该第二像素电极垂直投影于该基板上之间；

该彩色滤光层具有一开口，且该开口皆未遮蔽该第一连接垫至少一部份、该第二连接垫至少一部份与该第一间隔电极至少一部份；以及

该第一像素电极经由该第一连接垫电性连接于该第一连接垫所对应的切换元件，该第二像素电极经由该第二连接垫电性连接于该第二连接垫所对应的切换元件。

2.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该第一间隔电极包含一浮接电极。

3.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该第一间隔电极连接该第一连接垫或该第二连接垫其中一者。

4.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该第一间隔电极包含一第一导电层与一第二导电层。

5.如权利要求4所述的像素结构，其特征在于，该第一导电层与该第二导电层相互分隔开来。

6.如权利要求5所述的像素结构，其特征在于，

该第一导电层包含一第一浮接电极、或者该第一导电层连接一固定电位电极；以及

该第二导电层包含一第二浮接电极或该第二导电层连接该第一连接垫或该第二连接垫其中一者。

7.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，更包含：

一第二间隔电极，设置于该基板上，且该第二间隔电极垂直投影于该基板上不位于该第一连接垫与该第二连接垫垂直投影于该基板上之间。

8.如权利要求7所述的像素结构，其特征在于，更包含：

一第三连接垫，设置于该基板上，且该第三连接垫皆与该第一连接垫以及该第二连接垫相互分隔开来，其中，该第二间隔电极垂直投影于该基板上位于该第二连接垫与该第三连接垫垂直投影于该基板上之间，且该第一间隔电极、该第二间隔电极、该第一连接垫、该第二连接垫与该第三连接垫垂直投影于该基板上皆位于该第一像素电极与该第二像素电极垂直投影于该基板上之间。

9.如权利要求8所述的像素结构，其特征在于，该彩色滤光层的该开口皆未遮蔽该第一连接垫至少一部份、该第二连接垫至少一部份、该第三连接垫至少一部份、该第一间隔电极至少一部份与该二间隔电极至少一部份。

10.如权利要求7所述的像素结构，其特征在于，该第一间隔电极或该第二间隔电极其中一者包含一浮接电极。

11.如权利要求8所述的像素结构，其特征在于，该第一间隔电极连接该第一连接垫或该第二连接垫其中一者，且该第二间隔电极连接该第二连接垫或该第三连接垫其中一者。

12.如权利要求8所述的像素结构，其特征在于，该第二间隔电极包含一第一导电层与一第二导电层。

13.如权利要求12所述的像素结构，其特征在于，该第一导电层与该第二导电层相互分隔开来。

14.如权利要求13所述的像素结构，其特征在于，

该第一导电层包含一第一浮接电极或该第一导电层连接一固定电位电极；以及

该第二导电层包含一第二浮接电极或该第二导电层连接该第二连接垫或该第三连接垫其中一者。

15.如权利要求8所述的像素结构，其特征在于，该第三连接垫连接一第一固定电位电极与一第二固定电位电极其中至少一者。

16.如权利要求15所述的像素结构，其特征在于，该第一固定电位电极与该第二固定电位电极交错且连接。

17.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，更包含：

一连接电极，该第一像素电极或该第二像素电极其中一者，经由该连接电极连接该第一连接垫或该第二连接垫其中一者。

18.如权利要求7所述的像素结构，其特征在于，更包含一第三间隔电极，设置于该基板上，且该第三间隔电极垂直投影于该基板上不位于该第一连接垫与该第二连接垫垂直投影于该基板上之间。

19.如权利要求18所述的像素结构，其特征在于，该第三间隔电极包含一浮接电极或该第三间隔电极连接一固定电位电极。

20.一种显示面板，其特征在于，包含：

如权利要求1所述的一种像素结构；以及

一另一基板，设置于该像素结构的该基板上。