CN106587139A - 一种微米级SnO方形片的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种微米级SnO方形片的制备方法,该方法采用氯化锡作为锡源,氢氧化钠和氯化钠作为配位剂及反应调节剂,使用水热法成功得到了微米级SnO方形片状材料。制备所需原料丰富,成本低,无废弃物产生。制备工艺简单,重复性好。SnO作为一种功能基体材料,在催化剂、还原剂、玻璃工业、电化学储能等方面有着广泛的应用。

Description

一种微米级SnO方形片的制备方法
技术领域
本发明属于纳米材料制备技术领域,尤其涉及一种微米级方形形貌氧化亚锡材料的制备方法。
背景技术
二元化合物SnO是一种具有宽禁带宽度(2.5~3.0eV)的p型半导体材料,在SnO材料中Sn的 5s轨道和氧的2p轨道能量相近,这种能量关系使SnO中的价带顶位置的能级不为氧原子 完全占有,从而导致了SnO较强的空穴导电能力,SnO半导体被认为是一种潜在的透明导电氧化物材料(TCO)。SnO 在电化学储能方面也有着重要的应用,其具有较好的导电性,这有利于电子的快速传输,在作为钠离子电池负极材料时,被报道具有较好的电化学性能。SnO还是一种很有潜力的气敏材料,对多种气体有敏感性。另外,SnO还被广泛用于电镀、玻璃工业。因此,利用简单的方法,制备出形貌可控的SnO材料具有重要意义。目前,在现有的公开文献报道中,制备SnO材料时多使用表面活性剂作为结构导向剂,表面活性剂会增加制备成本,同时其会附着在样品表面,难以清洗。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种微米级SnO方形片材料的制备方法,该方法成本低、操作简单、重复性高。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:一种纳米氧化亚铜的制备方法,该方法具体为:二水合氯化亚锡、水、氢氧化钠、氯化钠放置于150mL的烧杯中,在室温下搅拌,然后将所得液体转移至水热反应釜中,于烘箱中反应。产物经离心,用去离子水和无水乙醇洗涤至少三遍,并置于真空干燥箱中干燥至少6h,制得微米级SnO方形片材料。
所得溶液中,二水合氯化亚锡、水、氯化钠的质量比控制在:4-5:60-80:0.4-0.7。
所得溶液中,二水合氯化亚锡与氢氧化钠的物质的量之比为1:2。
混合溶液在室温下搅拌的时间为:0.5-2h。
水热反应温度为:200-220℃,时间为5-10h。
样品干燥为真空干燥,且温度为40-60℃。
本发明的有益效果是:
(1)应用本发明的方法能够快速、稳定地得到微米级SnO方形片材料。
(2)本方法条件温和,重复性极好,工艺简单、可控,制得的产物纯度高。
(3)本发明制备的微米级SnO材料在催化、气敏材料、电化学储能材料等方面有着广泛的应用。
(4)本发明在制备微米级SnO方形片材料时均未使用任何表面活性剂,即可制备出大小均一、形貌可控的SnO材料。
附图说明
图1(a)是本发明微米级SnO方形片材料的SEM图片;
图1(b)是图1a的局部方法图;
图2是本发明微米级SnO方形片材料的XRD图片。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐明本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明讲授的内容之后,本领域技术人员对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
实施例1
一种微米级SnO方形片材料的制备方法,该方法具体为:将4.5g二水合氯化亚锡、60mL水、1.6g氢氧化钠、0.4g氯化钠放置于150mL的烧杯中,在室温下搅拌1h,然后将所得液体转移至水热反应釜中,于烘箱中200℃反应6h。产物经离心,用去离子水和无水乙醇洗涤三遍,并置于真空干燥箱中于40℃下干燥6h,制得微米级SnO方形片材料。
图1(a)和图1(b)是微米级SnO方形片材料的SEM图片,从图中可以看出,所制备的SnO为方形片状结构,尺寸均匀,形貌规整。
图2是微米级SnO方形片材料的XRD图片,图中各峰位均能与SnO标准峰位对应(PDF#06-0395),证明所制备微米级SnO方形片的纯度较高,无其他副产物产生。
实施例2
一种微米级SnO方形片材料的制备方法,该方法具体为:将4g二水合氯化亚锡、80mL水、1.42g氢氧化钠、0.5g氯化钠放置于150mL的烧杯中,在室温下搅拌1h,然后将所得液体转移至水热反应釜中,于烘箱中210℃反应6h。产物经离心,用去离子水和无水乙醇洗涤三遍,并置于真空干燥箱中于40℃下干燥6h,制得微米级SnO方形片材料。
实施例3
一种微米级SnO方形片材料的制备方法,该方法具体为:将5g二水合氯化亚锡、70mL水、1.8g氢氧化钠、0.7g氯化钠放置于150mL的烧杯中,在室温下搅拌1.5h,然后将所得液体转移至水热反应釜中,于烘箱中200℃反应8h。产物经离心,用去离子水和无水乙醇洗涤三遍,并置于真空干燥箱中于40℃下干燥6h,制得微米级SnO方形片材料。

Claims (6)

1.一种微米级SnO方形片的制备方法,其特征在于,该方法具体为:将二水合氯化亚锡、水、氢氧化钠、氯化钠放置于150mL的烧杯中,在室温下搅拌,然后将所得液体转移至水热反应釜中,于烘箱中反应;水热产物经离心,用去离子水和无水乙醇洗涤至少三遍,并置于真空干燥箱中干燥不少于6h,制得微米级SnO方形片材料。
2.根据权利要求1所述的一种微米级SnO方形片的制备,其特征在于:二水合氯化亚锡、水、氯化钠的质量比控制在:4-5:60-80:0.4-0.7。
3.根据权利要求1所述的一种微米级SnO方形片的制备,其特征在于:所得溶液中,二水合氯化亚锡与氢氧化钠的物质的量之比为1:2。
4.根据权利要求1所述的一种微米级SnO方形片的制备,其特征在于:混合溶液在室温下搅拌的时间为0.5-2h。
5.根据权利要求1所述的一种微米级SnO方形片的制备,其特征在于:水热反应温度为200-220℃,反应时间为5-10h。
6.根据权利要求1所述的一种微米级SnO方形片的制备,其特征在于:样品干燥为真空干燥,且温度为40-60℃。
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