CN106430965B - 一种樱花釉及其制备工艺 - Google Patents

一种樱花釉及其制备工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种樱花釉及其制备工艺,樱花釉由下述原料制备而成:底釉:钾长石、氧化铁、硅石、滑石、碳酸钙;面釉:钠长石、碳酸钙、碳酸钡、氧化锌、碳酸镁、高岭土、硅石、滑石;制备工艺:将底釉原料湿法球磨,过筛后调成釉浆施加在素烧坯体上;将面釉原料湿法球磨,过筛后调成釉浆施加在上完底釉的坯体上;将入窑坯体转入窑炉中,升温至900℃,进行中度还原烧至1000℃,进行高度还原烧至1300℃,随炉冷却至室温,即得到樱花釉瓷器。本发明制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。

Description

一种樱花釉及其制备工艺
技术领域
本发明涉及制釉领域,具体涉及一种樱花釉及其制备工艺。
背景技术
樱花釉属于红色釉料中的一种,釉面尺度厚,光照透射少,光线反射程度弱,显示出无光釉的一般特性。樱花釉烧成的瓷器清新别致,典雅秀丽,华贵庄重,韵味醇厚,既有推陈出新之意境,又有浑然天成之美感,令观赏者耳目一新。但目前鲜有公开的樱花釉的制备工艺,因此,需要一种方法简便、成功率高、适于施行的樱花釉的配方及制备工艺。
发明内容
本发明针对上述问题,提供一种樱花釉及其制备工艺。
本发明解决上述问题所采用的技术方案是:一种樱花釉,由下述重量份的原料制备而成:
底釉:钾长石55份~75份,氧化铁8份~15份,硅石6份~12份,滑石10份~18份,碳酸钙8份~15份;
面釉:钠长石25份~35份,碳酸钙10份~18份,碳酸钡2份~8份,氧化锌1份~5份,碳酸镁0.5份~2份,高岭土30份~42份,硅石2份~8份,滑石7份~15份。
进一步地,由下述重量份的原料制备而成:
底釉:钾长石60份~70份,氧化铁10份~13份,硅石8份~10份,滑石10份~15份,碳酸钙8份~12份;
面釉:钠长石25份~30份,碳酸钙12份~16份,碳酸钡3份~7份,氧化锌1份~4份,碳酸镁1份~2份,高岭土32份~40份,硅石3份~7份,滑石8份~13份。
本发明的另一发明目的,在于提供一种樱花釉的制备工艺,包括以下步骤:
步骤S1,上底釉:将所述重量份的钾长石、氧化铁、硅石、滑石、碳酸钙混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为10~12:2~6:4~8进行湿法球磨5h~10h,球磨后过80目~120目筛,调成50波美度~70波美度的釉浆,施加在素烧坯体上,自然干燥后,作为上完底釉的坯体;
步骤S2,上面釉:将所述重量份的钠长石、碳酸钙、碳酸钡、氧化锌、碳酸镁、高岭土、硅石、滑石混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为8~12:3~5:5~10进行湿法球磨5h~10h,球磨后过80目~120目筛,调成30波美度~45波美度的釉浆,施加在上完底釉的坯体上,自然干燥后,形成入窑坯体;
步骤S3,窑烧:将入窑坯体转入窑炉中,设置升温程序,以170℃/h~190℃/h的升温速率使入窑坯体从室温升温至300℃,以190℃/h~210℃/h的升温速率升温至600℃,以100℃/h~130℃/h的升温速率升温至900℃,以100℃/h~130℃/h的升温速率进行中度还原烧至1000℃,然后以35℃/h~55℃/h的升温速率进行高度还原烧至1300℃,随炉冷却至室温,即得到樱花釉瓷器。
进一步地,步骤S1中,素烧坯体为:成型后的坯体不上釉时,先在900℃~950℃的温度条件下烧一次得到的坯体。
更进一步地,素烧坯体的含水率为2.5%~3.5%。
进一步地,步骤S1中,自然干燥的时间为:20h~32h。
进一步地,步骤S2中,入窑坯体的含水率为1%~2.5%。
进一步地,步骤S2中,自然干燥的时间为:24h~36h。
进一步地,步骤S3中,中度还原烧中还原火焰高度为5cm~10cm。
进一步地,步骤S3中,高度还原烧中还原火焰高度为18cm~22cm。
本发明的优点是:
1.本发明采用先底釉再面釉的二次复合上釉技术,并结合有效的高温还原烧结技术,提高了樱花釉的烧结成功率,降低了釉料烧结时的能量消耗;
2.本发明底釉中以钾长石为主要原料,高温烧结时能够有效降低底釉的膨胀系数,使底釉和坯体之间良好键合,减少开裂,同时以氧化铁作为结晶形核剂,丰富了底釉的颜色,呈现美丽的青色,增加了整体釉料的美感;
3.本发明面釉中含有碳酸钡、碳酸镁等矿物原料,可以显著的较低釉料的熔化温度,起到有效的助熔作用,并增加了釉面的光泽感和失透度,并且面釉的热胀系数高,烧成后开裂的缝隙和底釉良好的融合为一体,呈现出绚丽的樱花色彩,使产品性能显著提升。
具体实施方式
以下对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
实施例1
一种樱花釉,由下述重量份的原料制备而成:
底釉:钾长石55份,氧化铁8份,硅石6份,滑石10份,碳酸钙8份;
面釉:钠长石25份,碳酸钙10份,碳酸钡2份,氧化锌1份,碳酸镁0.5份,高岭土30份,硅石2份,滑石7份。
本实施例制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。
实施例2
一种樱花釉,由下述重量份的原料制备而成:
底釉:钾长石75份,氧化铁15份,硅石12份,滑石18份,碳酸钙15份;
面釉:钠长石35份,碳酸钙18份,碳酸钡8份,氧化锌5份,碳酸镁2份,高岭土42份,硅石8份,滑石15份。
本实施例制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。
实施例3
一种樱花釉,由下述重量份的原料制备而成:
底釉:钾长石60份,氧化铁10份,硅石8份,滑石10份,碳酸钙8份;
面釉:钠长石25份,碳酸钙12份,碳酸钡3份,氧化锌1份,碳酸镁1份,高岭土32份,硅石3份,滑石8份。
本实施例制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。
实施例4
一种樱花釉,由下述重量份的原料制备而成:
底釉:钾长石70份,氧化铁13份,硅石10份,滑石15份,碳酸钙12份;
面釉:钠长石30份,碳酸钙16份,碳酸钡7份,氧化锌4份,碳酸镁2份,高岭土40份,硅石7份,滑石13份。
本实施例制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。
实施例5
一种樱花釉,由下述重量份的原料制备而成:
底釉:钾长石65份,氧化铁12份,硅石9份,滑石12份,碳酸钙10份;
面釉:钠长石28份,碳酸钙14份,碳酸钡5份,氧化锌3份,碳酸镁1.5份,高岭土36份,硅石5份,滑石11份。
本实施例制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。
实施例6
一种樱花釉的制备工艺,包括以下步骤:
步骤S1,上底釉:将所述重量份的钾长石、氧化铁、硅石、滑石、碳酸钙混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为10:2:4进行湿法球磨5h,球磨后过80目筛,调成50波美度的釉浆,施加在素烧坯体上,自然干燥20h后,作为上完底釉的坯体;其中,素烧坯体为成型后的坯体不上釉时,先在900℃的温度条件下烧一次得到的坯体;素烧坯体的含水率为2.5%;
步骤S2,上面釉:将所述重量份的钠长石、碳酸钙、碳酸钡、氧化锌、碳酸镁、高岭土、硅石、滑石混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为8:3:5进行湿法球磨5h,球磨后过80目筛,调成30波美度的釉浆,施加在上完底釉的坯体上,自然干燥24h后,形成含水率为1%的入窑坯体;
步骤S3,窑烧:将入窑坯体转入窑炉中,设置升温程序,以170℃/h的升温速率使入窑坯体从室温升温至300℃,以190℃/h的升温速率升温至600℃,以100℃/h的升温速率升温至900℃,以100℃/h的升温速率进行中度还原烧至1000℃,然后以35℃/h的升温速率进行高度还原烧至1300℃,随炉冷却至室温,即得到樱花釉瓷器;其中,中度还原烧中还原火焰高度为5cm;高度还原烧中还原火焰高度为18cm。
本实施例制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。
实施例7
一种樱花釉的制备工艺,包括以下步骤:
步骤S1,上底釉:将所述重量份的钾长石、氧化铁、硅石、滑石、碳酸钙混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为12:6:8进行湿法球磨10h,球磨后过120目筛,调成70波美度的釉浆,施加在素烧坯体上,自然干燥32h后,作为上完底釉的坯体;其中,素烧坯体为成型后的坯体不上釉时,先在950℃的温度条件下烧一次得到的坯体;素烧坯体的含水率为3.5%;
步骤S2,上面釉:将所述重量份的钠长石、碳酸钙、碳酸钡、氧化锌、碳酸镁、高岭土、硅石、滑石混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为12:5:10进行湿法球磨10h,球磨后过120目筛,调成45波美度的釉浆,施加在上完底釉的坯体上,自然干燥36h后,形成含水率为2.5%的入窑坯体;
步骤S3,窑烧:将入窑坯体转入窑炉中,设置升温程序,以190℃/h的升温速率使入窑坯体从室温升温至300℃,以210℃/h的升温速率升温至600℃,以130℃/h的升温速率升温至900℃,以130℃/h的升温速率进行中度还原烧至1000℃,然后以55℃/h的升温速率进行高度还原烧至1300℃,随炉冷却至室温,即得到樱花釉瓷器;其中,中度还原烧中还原火焰高度为10cm;高度还原烧中还原火焰高度为22cm。
本实施例制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。
实施例8
一种樱花釉的制备工艺,包括以下步骤:
步骤S1,上底釉:将所述重量份的钾长石、氧化铁、硅石、滑石、碳酸钙混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为11:4:6进行湿法球磨8h,球磨后过100目筛,调成60波美度的釉浆,施加在素烧坯体上,自然干燥26h后,作为上完底釉的坯体;其中,素烧坯体为成型后的坯体不上釉时,先在920℃的温度条件下烧一次得到的坯体;素烧坯体的含水率为3%;
步骤S2,上面釉:将所述重量份的钠长石、碳酸钙、碳酸钡、氧化锌、碳酸镁、高岭土、硅石、滑石混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为10:4:7进行湿法球磨7h,球磨后过100目筛,调成38波美度的釉浆,施加在上完底釉的坯体上,自然干燥32后,形成含水率为2%的入窑坯体;
步骤S3,窑烧:将入窑坯体转入窑炉中,设置升温程序,以180℃/h的升温速率使入窑坯体从室温升温至300℃,以200℃/h的升温速率升温至600℃,以120℃/h的升温速率升温至900℃,以110℃/h的升温速率进行中度还原烧至1000℃,然后以45℃/h的升温速率进行高度还原烧至1300℃,随炉冷却至室温,即得到樱花釉瓷器;其中,中度还原烧中还原火焰高度为8cm;高度还原烧中还原火焰高度为20cm。
本实施例制备的樱花釉瓷器釉底隐隐呈现淡雅的青色,白色釉面上如同水墨画般点缀着片片桃色,如同绽放樱花,清新别致,典雅秀丽,韵味醇厚。
以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种樱花釉的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤S1,上底釉:底釉由下述重量份的原料制备而成:钾长石55份~75份,氧化铁8份~15份,硅石6份~12份,滑石10份~18份,碳酸钙8份~15份;将所述重量份的钾长石、氧化铁、硅石、滑石、碳酸钙混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为10~12:2~6:4~8进行湿法球磨5h~10h,球磨后过80目~120目筛,调成50波美度~70波美度的釉浆,施加在素烧坯体上,自然干燥后,作为上完底釉的坯体;
步骤S2,上面釉:面釉由下述重量份的原料制备而成:钠长石25份~35份,碳酸钙10份~18份,碳酸钡2份~8份,氧化锌1份~5份,碳酸镁0.5份~2份,高岭土30份~42份,硅石2份~8份,滑石7份~15份;将所述重量份的钠长石、碳酸钙、碳酸钡、氧化锌、碳酸镁、高岭土、硅石、滑石混合均匀,转移至球磨机内,按照料:球:水的质量比为8~12:3~5:5~10进行湿法球磨5h~10h,球磨后过80目~120目筛,调成30波美度~45波美度的釉浆,施加在上完底釉的坯体上,自然干燥后,形成入窑坯体;
步骤S3,窑烧:将入窑坯体转入窑炉中,设置升温程序,以170℃/h~190℃/h的升温速率使入窑坯体从室温升温至300℃,以190℃/h~210℃/h的升温速率升温至600℃,以100℃/h~130℃/h的升温速率升温至900℃,以100℃/h~130℃/h的升温速率进行中度还原烧至1000℃,然后以35℃/h~55℃/h的升温速率进行高度还原烧至1300℃,随炉冷却至室温,即得到樱花釉瓷器。
2.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,步骤S1中,所述底釉由下述重量份的原料制备而成:钾长石60份~70份,氧化铁10份~13份,硅石8份~10份,滑石10份~15份,碳酸钙8份~12份。
3.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,步骤S1中,所述素烧坯体为:成型后的坯体不上釉时,先在900℃~950℃的温度条件下烧一次得到的坯体。
4.根据权利要求3所述的制备工艺,其特征在于,所述素烧坯体的含水率为2.5%~3.5%。
5.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,步骤S1中,所述自然干燥的时间为:20h~32h。
6.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,步骤S2中,所述面釉由下述重量份的原料制备而成:钠长石25份~30份,碳酸钙12份~16份,碳酸钡3份~7份,氧化锌1份~4份,碳酸镁1份~2份,高岭土32份~40份,硅石3份~7份,滑石8份~13份。
7.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,步骤S2中,所述入窑坯体的含水率为1%~2.5%。
8.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,步骤S2中,所述自然干燥的时间为:24h~36h。
9.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,步骤S3中,所述中度还原烧中还原火焰高度为5cm~10cm。
10.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,步骤S3中,所述高度还原烧中还原火焰高度为18cm~22cm。
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