CN106417010A - 一种苦苣苔科植物的组织培养方法 - Google Patents

一种苦苣苔科植物的组织培养方法 Download PDF

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李唯奇
贾艳霞
林亮
袁彬
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01HNEW PLANTS OR NON-TRANSGENIC PROCESSES FOR OBTAINING THEM; PLANT REPRODUCTION BY TISSUE CULTURE TECHNIQUES
    • A01H4/00Plant reproduction by tissue culture techniques ; Tissue culture techniques therefor
    • A01H4/008Methods for regeneration to complete plants

Abstract

本发明涉及一种苦苣苔科植物的组织培养方法,包括以下步骤:将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片;将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基;切取叶圆片上诱导出的不定芽,将其转入正常MS培养基中得到苦苣苔科植物的单株生根幼苗,本发明不仅能够提高由单一叶圆片诱导出的不定芽的数量,提高组培苗的繁殖效率,而且具有操作简便,劳动量少和劳动强度小,接种量大的特点,具有很好的方法通用性,为苣苔科植物,尤其是圆叶唇柱苣苔、美丽唇柱苣苔、吊石苣苔、齿叶吊石苣苔、保山吊石苣苔这五种苣苔科植物规模化快繁奠定基础。

Description

一种苦苣苔科植物的组织培养方法
技术领域
本发明涉及生物工程技术领域,尤其涉及一种苦苣苔科植物的组织培养方法。
背景技术
苦苣苔科植物多为具根状茎的草本,少数为灌木或乔木。叶对生或基生,稀轮生或互生,通常为单叶,不分裂,稀羽状分裂或为羽状复叶。花通常组成聚伞花序,两性,辐射对称或左右对称。萼片4~5枚。花冠钟状或辐状,多数两唇形,雄蕊全部能育,或4或2枚能育;雌蕊由2枚心皮形成,子房上位,半下位或完全下位,1室,或2室、胚珠多数。蒴果,室背或室间纵裂,稀盖裂(盾座苣属)或为浆果。约有135属2000种,分布于热带和亚热带,少数温带。中国有56属约413种,自西南、华南北达河北、辽宁西南部,多数分布于华南和云南东南部溶岩地区,有28属为中国特有属。本科不少植物的花美丽,可供观赏,著名的有大岩桐属、非洲紫苣苔属、好望角苣苔属、芒毛苣苔属和欧洲苣苔属。中国产的石吊兰、牛耳朵、蚂蝗七、猫耳朵、降龙草等在民间供药用。该科根据子叶、子房等特征分为2亚科,即苦苣苔亚科和大岩桐亚科。但是目前并没有什么有效的方法对其进行组织培养。
发明内容
鉴于目前技术存在的上述不足,本发明提供一种苦苣苔科植物的组织培养方法,本发明不仅能够提高由单一叶圆片诱导出的不定芽的数量,提高组培苗的繁殖效率,而且具有操作简便,劳动量少和劳动强度小,接种量大的特点,具有很好的方法通用性,为苣苔科植物,尤其是圆叶唇柱苣苔、美丽唇柱苣苔、吊石苣苔、齿叶吊石苣苔、保山吊石苣苔这五种苣苔科植物规模化快繁奠定基础。
本发明的采用如下技术方案:
一种苦苣苔科植物的组织培养方法,包括以下步骤:
将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片;
将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基;
切取叶圆片上诱导出的不定芽,将其转入正常MS培养基中得到苦苣苔科植物的单株生根幼苗。
进一步地,所述将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片的步骤包括:
在无菌条件下,选取苗龄为8-10周的试管苗的叶片;
通过直径为3mm的无菌打孔器,将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片。
进一步地,所述将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基的步骤中,在25℃,光周期14小时光照/10黑暗小时,光强为40μmol m-2s-1下培养。
进一步地,所述不定芽诱导培养基包括以下成分组成:MS基础培养基、0.09M蔗糖、0.5mg l-1BA和2.5gl-1Phytagel。
进一步地,所述切取叶圆片上诱导出的不定芽,将其转入正常MS培养基中得到苦苣苔科植物的单株生根幼苗的步骤中,在25℃,光周期14小时光照/10黑暗小时,光强为40μmol m-2s-1下,在正常MS培养基中培养8-10周。
进一步地,所述苦苣苔科植物为圆叶唇柱苣苔、美丽唇柱苣苔、吊石苣苔、齿叶吊石苣苔或保山吊石苣苔。
进一步地,所述将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基的步骤中,叶圆片的远轴面与不定芽诱导培养基接触。
该发明的有益效果在于:本发明不仅能够提高由单一叶圆片诱导出的不定芽的数量,提高组培苗的繁殖效率,而且具有操作简便,劳动量少和劳动强度小,接种量大的特点,具有很好的方法通用性,为苣苔科植物,尤其是圆叶唇柱苣苔、美丽唇柱苣苔、吊石苣苔、齿叶吊石苣苔、保山吊石苣苔这五种苣苔科植物规模化快繁奠定基础。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1所示本发明提供的一种苦苣苔科植物的组织培养方法,包括以下步骤,
步骤S1:将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片,其中具体包括步骤(1):在无菌条件下,选取苗龄为8-10周的试管苗的叶片;步骤(2):通过直径为3mm的无菌打孔器,将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片。吊石苣苔、齿叶吊石苣苔和美丽唇柱苣苔的8-10周苗龄的试管苗大约有5-6轮叶片,一般选择第2,3轮的离体叶片用于叶圆片制备。其中,用于叶圆片制备的圆叶唇柱苣苔叶片的大约长3cm宽2cm;美丽唇柱苣苔叶片大约长3.4cm宽2.4cm;保山吊石苣苔的离体叶片大约长1.6cm宽1.2cm;吊石苣苔的离体叶片大约长2.5cm宽1.3cm;齿叶吊石苣苔的离体叶片大约长2cm宽1.2cm。
步骤S2:将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基:其中包括在25℃,光周期14小时光照/10黑暗小时,光强为40μmol m-2s-1下培养,进一步,不定芽诱导培养基包括以下成分组成:MS基础培养基、0.09M蔗糖、0.5mg l-1BA和2.5gl-1Phytagel,在进一步优选,将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基中,叶圆片的远轴面与不定芽诱导培养基接触。
步骤S3:切取叶圆片上诱导出的不定芽,将其转入正常MS培养基中得到苦苣苔科植物的单株生根幼苗,其中包括在25℃,光周期14小时光照/10黑暗小时,光强为40μmol m- 2s-1下,在正常MS培养基中培养8-10周。
在本发明中,苦苣苔科植物为为圆叶唇柱苣苔(Chirita dielsii)、美丽唇柱苣苔(Chirita speciosa)、吊石苣苔(Lysionotus pauciflorus vac.Pauciflorus)、齿叶吊石苣苔(Lysionotus serratus var.serratus)、保山吊石苣苔(Lysionotussulphureoides)。综上所述,本发明的一种苦苣苔科植物的组织培养方法,包括以下步骤:将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片;将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基;切取叶圆片上诱导出的不定芽,将其转入正常MS培养基中得到苦苣苔科植物的单株生根幼苗,本发明不仅能够提高由单一叶圆片诱导出的不定芽的数量,提高组培苗的繁殖效率,而且具有操作简便,劳动量少和劳动强度小,接种量大的特点,具有很好的方法通用性,为苣苔科植物,尤其是圆叶唇柱苣苔、美丽唇柱苣苔、吊石苣苔、齿叶吊石苣苔、保山吊石苣苔这五种苣苔科植物规模化快繁奠定基础。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域技术的技术人员在本发明公开的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种苦苣苔科植物的组织培养方法,其特征在于,包括以下步骤:
将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片;
将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基;
切取叶圆片上诱导出的不定芽,将其转入正常MS培养基中得到苦苣苔科植物的单株生根幼苗。
2.根据权利要求1所述的一种苦苣苔科植物的组织培养方法,其特征在于,所述将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片的步骤包括:
在无菌条件下,选取苗龄为8-10周的试管苗的叶片;
通过直径为3mm的无菌打孔器,将苦苣苔科植物的离体叶片打孔,得到叶圆片。
3.根据权利要求1所述的一种苦苣苔科植物的组织培养方法,其特征在于,所述将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基的步骤中,在25℃,光周期14小时光照/10黑暗小时,光强为40μmol m-2s-1下培养。
4.根据权利要求1-3任一所述的一种苦苣苔科植物的组织培养方法,其特征在于,所述不定芽诱导培养基包括以下成分组成:MS基础培养基、0.09M蔗糖、0.5mg l-1BA和2.5gl-1Phytagel。
5.根据权利要求4所述的一种苦苣苔科植物的组织培养方法,其特征在于,所述切取叶圆片上诱导出的不定芽,将其转入正常MS培养基中得到苦苣苔科植物的单株生根幼苗的步骤中,在25℃,光周期14小时光照/10黑暗小时,光强为40μmol m-2s-1下,在正常MS培养基中培养8-10周。
6.根据权利要求4所述的一种苦苣苔科植物的组织培养方法,其特征在于,所述苦苣苔科植物为圆叶唇柱苣苔、美丽唇柱苣苔、吊石苣苔、齿叶吊石苣苔或保山吊石苣苔。
7.根据权利要求4所述的一种苦苣苔科植物的组织培养方法,其特征在于,所述将得到的叶圆片转入不定芽诱导培养基的步骤中,叶圆片的远轴面与不定芽诱导培养基接触。
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