CN106031913B - 涂敷装置以及涂敷方法 - Google Patents

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CN106031913B CN201510102889.9A CN201510102889A CN106031913B CN 106031913 B CN106031913 B CN 106031913B CN 201510102889 A CN201510102889 A CN 201510102889A CN 106031913 B CN106031913 B CN 106031913B
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Abstract

本发明提供涂敷装置以及涂敷方法,能够抑制开始进行涂敷处理时最初从喷嘴喷出的涂敷液以鼓起的方式被涂敷,能够从涂敷处理的开始时刻以适当的涂膜厚度对涂敷对象物进行涂敷,结构简单且用于进行涂膜厚度调节的控制容易。涂敷装置具备:涂敷液供给源,其通过加压将贮存于罐的涂敷液向涂敷液供给系统挤出并供给;喷嘴,其与涂敷液供给系统连接,一边喷出供给来的涂敷液一边相对于涂敷对象物移动,对涂敷对象物进行涂敷处理;开闭阀,其设于涂敷液供给系统,在开始进行涂敷处理时打开,向喷嘴供给涂敷液后关闭,停止涂敷液向喷嘴的供给;以及缓冲罐,其设于涂敷液供给系统,并且内部充满涂敷液,该缓冲罐抑制开闭阀打开时朝向喷嘴传播的压力变化。

Description

涂敷装置以及涂敷方法
技术领域
本发明涉及一种涂敷装置以及涂敷方法,即使采用加压供给方式,也能够抑制在开始进行涂敷处理时,最初从喷嘴喷出的涂敷液以鼓起的方式被涂敷的情况,能够从涂敷处理的开始时刻起以适当的涂膜厚度在涂敷对象物上进行涂敷,并且结构简单,且用于进行涂膜厚度调节的控制也较为容易。
背景技术
专利文献1、2公开了一种涂敷装置,该涂敷装置采用通过基于加压的挤出进行供给的加压供给方式,将贮存于罐内部的涂敷液向相对于基板等涂敷对象物进行相对移动的喷嘴供给,由此从喷嘴喷出涂敷液,对涂敷对象物进行涂敷处理。
专利文献1的“狭缝式涂敷装置”的课题在于提供不增加设备成本,且控制涂敷开始和结束时的药液的喷出量从而得到均匀的涂敷膜的狭缝式涂敷装置,在涂敷开始和结束时控制药液的喷出量的狭缝式涂敷装置中,具备:具有进行所述涂敷药液供给的开启(ON)/断开(OFF)的一直关闭的单动药液阀的机构、具有能够通过来自控制器的电信号自如地改变用于驱动(控制)该药液阀的开闭的空气压力的电动气动调整器的机构、以及具有用于向所述调整器传送电信号的控制器的机构。在专利文献1中,药液形成为在加压罐中通过精密调整器被加压,供给至药液阀的阀跟前的状态,并形成为通过所设定的电动气动调整器的空气压力将药液阀的阀打开,从而向狭缝喷嘴供给药液的结构。
专利文献2的“基板处理装置以及送液装置”的课题在于,提供在不产生颗粒的情况下高精度地输送处理液的装置,在对狭缝喷嘴输送抗蚀剂液(处理液)的送液机构中,设置有抗蚀剂泵和驱动机构。此外,在抗蚀剂泵设置小径的第一波纹管、大径的第二波纹管、第一波纹管与第二波纹管的接合部件、以及成为抗蚀剂液的流路的管。驱动机构使接合部件向下方移动,由此管的内部容积减小,管内的抗蚀剂液被输送至狭缝喷嘴。另外,驱动机构使接合部件向上方移动,管的内部容积增加,由此抗蚀剂液被抽吸至抗蚀剂泵。在专利文献2中,基板处理装置作为供给抗蚀剂液的供给机构而具备补给装置、缓冲罐、传感器,缓冲罐设置为用于通过暂时贮存抗蚀剂液而分离去除混入抗蚀剂液中的空气,控制系统控制缓冲罐,由此通过大气压进行抗蚀剂液向狭缝喷嘴的输送。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-254008号公报
专利文献2:日本特开2004-281640号公报
在图5中示出了加压供给方式的基本结构。在气密构造的罐a上,为了补充涂敷液b而连接有具有涂敷液补充用开闭阀c的涂敷液补充系统d,并且为了向罐a导入空气等加压用气体而连接有具有气体导入用开闭阀e的气体导入系统f。一边对导入至罐a的气体进行加压,以使罐a内部保持为规定的恒定压力值,一边通过该加压从罐a中挤出涂敷液b。
为了将从罐a挤出的涂敷液b向喷嘴g供给并喷出,在罐a与喷嘴g之间设置有具有开闭阀h的涂敷液供给系统i。喷嘴g与涂敷对象物j相对移动,由此利用从喷嘴g喷出的涂敷液b对涂敷对象物j进行涂敷处理。
在对涂敷对象物j进行涂敷处理时,预先从涂敷液补充系统d向罐a补充并贮存至少一次涂敷处理的量的涂敷液b。通过打开气体导入用开闭阀e而导入至罐a内部的气体通过该加压作用,从罐a向涂敷液供给系统i挤出涂敷液b。
详细而言,与因涂敷液b的挤出而导致的罐a内部的涂敷液b的减少相应地继续向罐a内部导入气体,由此一边将罐a内部保持为规定的恒定压力值,一边维持挤出涂敷液b的加压作用。
从加压至恒定压力值的罐a挤出的涂敷液b通过打开的开闭阀h向喷嘴g供给,供给至喷嘴g的涂敷液b始终以恒定的喷出压力从喷嘴g朝向涂敷对象物j喷出,在喷出过程中也不发生压力的变动。由此,具有以恒定的涂膜厚度对涂敷对象物j进行涂敷处理的优点。
在开始进行涂敷处理时,通常,从罐a内部到喷嘴g内部的整个范围内几乎充满涂敷液b,并且关闭涂敷液供给系统i的开闭阀h,切断涂敷液b的流通。此时,为了与涂敷处理的开始相应地供给涂敷液b而向罐a导入气体,通过该气体,罐a内部被加压至规定的恒定压力值。因此,涂敷液b从罐a朝向开闭阀h受到挤出作用。
因此,当打开开闭阀h时,虽然罐a内部大致是规定的恒定压力值,但由于之前处于关闭状态的开闭阀h瞬间打开,因而涂敷液b朝向喷嘴g突然流动,如图5的曲线图所示,与罐a内部的恒定的压力状态无关地,以略大的喷出量从喷嘴g喷出涂敷液b。
其结果是,在开始进行涂敷处理时,例如在最初从喷嘴g喷出的涂敷液b所涂敷的涂敷开始端k,如图中m部分所示那样,存在涂敷液b鼓起的课题。
发明内容
发明要解决的课题
本发明是鉴于上述以往的课题而完成的,其目的在于提供一种涂敷装置以及涂敷方法,即使采用加压供给方式,也能够抑制在开始进行涂敷处理时,最初从喷嘴喷出的涂敷液以鼓起的方式被涂敷的情况,能够从涂敷处理的开始时刻起以适当的涂膜厚度在涂敷对象物上进行涂敷,并且结构简单,且用于进行涂膜厚度调节的控制也较为容易。
用于解决课题的手段
本发明的涂敷装置的特征在于,具备:涂敷液供给源,其通过加压而将贮存于罐内的涂敷液向涂敷液供给系统挤出并供给;喷嘴,其与该涂敷液供给系统连接,一边喷出供给来的涂敷液,一边相对于涂敷对象物进行相对移动,对涂敷对象物进行涂敷处理;开闭阀,其设置于所述涂敷液供给系统,在开始进行涂敷处理时打开,向所述喷嘴供给涂敷液,之后关闭,停止涂敷液向该喷嘴的供给;以及缓冲罐,其设置于所述涂敷液供给系统,并且内部充满涂敷液,该缓冲罐抑制在所述开闭阀打开时朝向所述喷嘴传播的压力的变化。
所述涂敷装置的特征在于,所述缓冲罐为可变容量型。
所述涂敷装置的特征在于,代替所述缓冲罐,在所述涂敷液供给系统中设置有注射泵,该注射泵配置在所述开闭阀与所述喷嘴之间,该注射泵在开始进行涂敷处理时且是该开闭阀关闭的状态下,向该喷嘴供给涂敷液,代替在开始进行涂敷处理时打开该开闭阀的情况,该开闭阀与由所述注射泵进行的涂敷液的供给停止相应地打开。
所述涂敷装置的特征在于,在所述涂敷液供给源与所述喷嘴之间,以与涂敷液供给系统并行的方式设置有追加的涂敷液供给系统,在该追加的涂敷液供给系统中设置有注射泵,该注射泵在开始进行涂敷处理时且是所述开闭阀关闭的状态下,向所述喷嘴供给涂敷液,代替在开始进行涂敷处理时打开该开闭阀的情况,该开闭阀与由所述注射泵进行的涂敷液的供给停止相应地打开。
本发明的涂敷方法的特征在于,使用代替缓冲罐而具备注射泵的所述涂敷装置,在开始进行涂敷处理时且是所述开闭阀关闭的状态下,从所述注射泵向所述喷嘴供给涂敷液,接着,为了继续进行涂敷处理,与由所述注射泵进行的涂敷液的供给停止相应地打开所述开闭阀,从所述涂敷液供给源向所述喷嘴供给涂敷液。
本发明的涂敷方法的特征在于,使用具备追加的涂敷液供给系统的所述涂敷装置,在开始进行涂敷处理时且是所述涂敷液供给系统的所述开闭阀关闭的状态下,从所述注射泵经由所述追加的涂敷液供给系统向所述喷嘴供给涂敷液,接着,为了继续进行涂敷处理,与由所述注射泵进行的涂敷液的供给停止相应地打开所述开闭阀,从所述涂敷液供给源经由所述涂敷液供给系统向所述喷嘴供给涂敷液。
发明效果
在本发明的涂敷装置以及涂敷方法中,即使采用加压供给方式,也能够抑制在开始进行涂敷处理时,最初从喷嘴喷出的涂敷液以鼓起的方式被涂敷的情况,能够从涂敷处理的开始时刻起以适当的涂膜厚度在涂敷对象物上进行涂敷,并且结构简单,且还能够使用于进行涂膜厚度调节的控制变容易。
附图说明
图1是示出本发明的涂敷装置以及涂敷方法的第一实施方式的简要结构图。
图2是示出本发明的涂敷装置以及涂敷方法的第二实施方式的简要结构图。
图3是示出本发明的涂敷装置以及涂敷方法的第三实施方式的简要结构图。
图4是示出本发明的涂敷装置以及涂敷方法的第四实施方式的简要结构图。
图5是以往的涂敷装置的简要结构图。
附图标记说明
1、16、19、21 涂敷装置
2 涂敷液供给源
3 罐
4 涂敷液补充系统
5 气体导入系统
6 压力计
7 涂敷液补充用开闭阀
8 气体导入用开闭阀
9 涂敷液供给系统
9a 罐侧系统通路
9b 喷嘴侧系统通路
10 基台
11 涂敷对象物
11a 涂敷开始端
12 喷嘴
13a、13b、13c 开闭阀
15 缓冲罐
17 可变容量型缓冲罐
18 轴
20 注射泵
20a 活塞杆
20b 马达
20c 活塞
20d 工作缸
22 追加的涂敷液供给系统
22a 罐侧系统通路
22b 喷嘴侧系统通路
a 罐
b 涂敷液
c 涂敷液补充用开闭阀
d 涂敷液补充系统
e 气体导入用开闭阀
f 气体导入系统
g 喷嘴
h 开闭阀
i 涂敷液供给系统
j 涂敷对象物
k 涂敷开始端
m 涂敷液的鼓起
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的涂敷装置以及涂敷方法的优选实施方式进行详细说明。在图1中示出了第一实施方式的涂敷装置以及涂敷方法的简要结构。
第一实施方式的涂敷装置1具备涂敷液供给源2。涂敷液供给源2包括:气密构造的罐3,其贮存涂敷液b;涂敷液补充系统4,其与罐3连接,且向罐3补充涂敷液b;气体导入系统5,其与罐3连接,且为了将罐3内部加压至规定的恒定压力值而向罐3内部导入空气等气体;压力计6,其显示罐3内部的压力。
在涂敷液补充系统4中设置有涂敷液补充用开闭阀7,通过打开该涂敷液补充用开闭阀7而向罐3补充涂敷液b,通过关闭该涂敷液补充用开闭阀7而停止涂敷液b的补充。在涂敷处理开始前,预先向罐3内部补充并存积至少一次涂敷处理的量的涂敷液b。
在气体导入系统5中设置有气体导入用开闭阀8,通过打开该气体导入用开闭阀8而向罐3导入加压用的气体,通过关闭该气体导入用开闭阀8而停止气体的导入。对导入至罐3内部的气体进行加压,以使罐3内部保持为规定的恒定压力值,通过该加压,将贮存于罐3内部的涂敷液b从该罐3挤出,向后述的涂敷液供给系统9供给。
具体而言,与因涂敷液b的挤出而导致的罐3内部的涂敷液b的减少相应地继续向罐3内部导入气体,由此一边将罐3内部保持为规定的恒定压力值,一边维持挤出涂敷液b的加压作用。罐3内部的恒定压力值能够通过压力计6来确认。
在涂敷液供给源2的罐3上连接有涂敷液供给系统9的一端,通过加压而从罐3挤出的涂敷液b向该涂敷液供给系统9供给,并在其中流通。在涂敷液供给系统9的另一端连接有喷嘴12,该喷嘴12喷出通过该涂敷供给系统9而供给的涂敷液b,对载置于基台10的基板等涂敷对象物11进行涂敷处理。
在喷嘴12喷出涂敷液b时,这些喷嘴12与基台10中的任一方相对于另一方、或者双方彼此通过未图示的移动机构进行相对移动,从而利用从喷嘴12喷出的涂敷液b对涂敷对象物11进行涂敷处理。通常,涂敷处理从涂敷对象物11的长度方向一端即涂敷开始端11a开始,朝向涂敷对象物11的长度方向另一端即涂敷终止端(未图示)进行。
在设置于喷嘴12与罐3之间的涂敷液供给系统9中设置有开闭阀13a。通过打开开闭阀13a,从罐3(涂敷液供给源2)向喷嘴12供给涂敷液b,通过关闭开闭阀13a,停止涂敷液b向喷嘴12的供给。因此,开闭阀13a在开始涂敷处理时进行打开动作,在涂敷处理中维持开放状态。另外,在涂敷处理结束时等不进行涂敷处理时,开闭阀13a进行关闭动作,维持关闭状态。
开闭阀13a的开闭既可以手动也可以自动控制。
在涂敷液供给系统9中设置有缓冲罐15。涂敷液供给系统9包括与罐3连接的罐侧系统通路9a和与喷嘴12连接的喷嘴侧系统通路9b这两个系统通路,通过将这些系统通路9a、9b的端部插入缓冲罐15内部,从而缓冲罐15夹设在涂敷液供给系统9中。在本实施方式中,涂敷液供给系统9的开闭阀13a设置于罐侧系统通路9a。
在缓冲罐15的内部充满涂敷液b。对于涂敷液b向缓冲罐15的填充而言,只要预先打开开闭阀13a,从罐3送入即可。
在开始进行涂敷处理时,通常,从罐3内部到喷嘴12内部的整个范围充满涂敷液b,关闭开闭阀13a来切断涂敷液b的流通。此时,为了与涂敷处理的开始相应地供给涂敷液b而向罐3导入气体,通过该气体,罐3内部被加压至规定的恒定压力值。因此,涂敷液b从罐3朝向开闭阀13a受到挤压作用。
当打开开闭阀13a时,虽然罐3内部大致是规定的恒定压力值,但由于之前处于关闭状态的开闭阀13a瞬间打开,因而涂敷液b与罐3内部的恒定的压力状态无关地朝向喷嘴12突然流动,在涂敷液供给系统9中产生朝向喷嘴12传播的压力的变化。
缓冲罐15抑制开闭阀13a打开时产生的该压力变化。由于涂敷液b并非完全不具有压缩性的流体,而具有压缩弹性,因此,因打开开闭阀13a而从罐侧系统通路9a流入到缓冲罐15的涂敷液b通过大容量的缓冲罐15,在该缓冲罐15的内部利用涂敷液b自身的压缩弹性对突然流动的水击性的现象进行缓冲。由此,抑制在开闭阀13a打开时,通过涂敷液供给系统9朝向喷嘴12传播的压力的变化。
对第一实施方式的涂敷装置1的作用进行说明。在开始进行涂敷处理之前的准备阶段,从涂敷液补充系统4向罐3内部补充并贮存涂敷液b,之后,从气体导入系统5向罐3内部导入加压用的气体,将该罐3内部加压至规定的恒定压力值。
此时,涂敷液供给系统9的开闭阀13a关闭,涂敷液b的流通被切断,涂敷液b从罐3朝向开闭阀13a受到挤压作用。此时,从开闭阀13a到喷嘴12之间的整个范围充满涂敷液b,并在缓冲罐15内部也充满涂敷液b。
在开始从载置于基台10的涂敷对象物11的涂敷开始端11a对该涂敷对象物11进行涂敷处理时,打开涂敷液供给系统9的开闭阀13a。当开闭阀13a打开时,虽然罐3内部大致是规定的恒定压力值,但由于关闭的开闭阀13a瞬间打开,因此涂敷液b想要朝向喷嘴12突然流动。
从开闭阀13a的位置流通的涂敷液b流入到位于与开闭阀13a相比靠喷嘴12侧的缓冲罐15。如上所述,缓冲罐15能够利用自身的大容量和涂敷液b自身的压缩弹性对涂敷液b的水击性的流动进行缓冲,由此能够抑制在涂敷液供给系统9中朝向喷嘴12传播的压力的变化。因此,缓冲罐15中所存储的涂敷液b的容量至少需要是能够通过压缩弹性吸收在涂敷开始端11a涂敷液b鼓起的量的容量。
通过缓冲罐15来抑制伴随开闭阀13a打开而产生的压力变化,与从罐侧系统通路9a流入到缓冲罐15内的涂敷液流量相当的涂敷液b,从缓冲罐15经由喷嘴侧系统通路9b供给至喷嘴12。因此,如图1中的图表所示,即便开放开闭阀13a,从喷嘴12喷出的涂敷液b的喷出量也不会因此而急剧上升,而是从开始进行涂敷处理时起,以与向罐3内部施加的规定的恒定压力值大致对应的喷出量喷出。
由此,能够抑制在打开开闭阀13a而开始进行涂敷处理时,最初从喷嘴12喷出的涂敷液b以鼓起的方式被涂敷的情况。因此,能够从涂敷处理开始到之后连续的涂敷处理的整个过程中,以大致恒定量从喷嘴12喷出涂敷液b,由此能够以适当的涂膜厚度对涂敷对象物11进行涂敷处理。
第一实施方式的涂敷装置1仅是在涂敷液供给系统9中设置缓冲罐15,结构非常简单,并且无需进行针对涂膜厚度调节的特特殊控制,能够容易地实施。
在图2中示出了第二实施方式的涂敷装置以及涂敷方法的简要结构。在第二实施方式的涂敷装置16中,缓冲罐17采用容量可变型。为了使缓冲罐17的容量发生变化,在缓冲罐17中设置有能够调节向缓冲罐17内部压入的压入量的轴18。如果增加轴18向缓冲罐17内压入的压入量,则缓冲罐17的容量减小,相反如果减小压入量,则容量增大。
通过设置容量可变的缓冲罐17,与第一实施方式不同,能够对打开开闭阀13a时的涂敷液b的流动的响应性进行调节、即增加或减少在开始进行涂敷处理时从喷嘴12最初喷出的涂敷液b的喷出量,能够容易地进行调节,以消除涂敷开始端11a处的涂敷液b的鼓起。根据这样的第二实施方式,也能够实现与上述第一实施方式相同的作用效果。
在图3中示出了第三实施方式的涂敷装置以及涂敷方法的简要结构。在第三实施方式的涂敷装置19中,基本上,代替缓冲罐15、17而使用本身具有喷出涂敷液b的功能的注射泵20。注射泵20以在设置于罐侧系统通路9a的开闭阀13a与设置于喷嘴侧系统通路9b的开闭阀13b之间将上述的两个系统通路9a、9b的端部连接的方式,设置于涂敷液供给系统9中。
由此,注射泵20配置在开闭阀13a与开闭阀13b之间。注射泵20利用马达20b驱动活塞杆20a,将在活塞20c与工作缸20d之间以充满状态存储的涂敷液b向该注射泵20外侧、在本实施方式中向涂敷液供给系统9挤出。众所周知,注射泵20具有能够高精度地对涂敷液b等液体、气体的挤出量进行调节的功能,具有在喷出开始时不会产生涂敷液b在涂敷开始端11a鼓起这种情况的优点。
对于涂敷液b向注射泵20的填充而言,只要预先打开开闭阀13a并且关闭开闭阀13b,从罐3送入即可。开闭阀13b在送入涂敷液b时以外保持打开状态。注射泵20中预先存储的涂敷液b的量与上述第一以及第二实施方式的缓冲罐15的情况相同,至少需要能够通过压缩弹性吸收涂敷液b在涂敷开始端11a鼓起的量。
通过大容量的注射泵20,在该注射泵20的内部利用涂敷液b自身的压缩弹性对突然流动的水击性的现象进行缓冲。由此,在关闭开闭阀13b的状态下,当打开开闭阀13a时,能够抑制通过涂敷液供给系统9朝向喷嘴12传播的压力的变化。
由注射泵20进行的涂敷液b的挤出在开闭阀13a关闭的状态下进行。另一方面,开闭阀13a在涂敷液b以充满的方式存储于活塞20c与工作缸20d之间的状态下,进行打开动作。
具体而言,在开始进行涂敷处理时,注射泵20在开闭阀13a关闭的(开闭阀13b打开)状态下向喷嘴12供给涂敷液b。另一方面,对于开闭阀13a而言,与在开始进行涂敷处理时打开的第一以及第二实施方式不同,开闭阀13a在由注射泵20进行的涂敷液b的供给停止后与之相应地打开。
对第三实施方式的涂敷装置的涂敷方法进行说明。开始进行涂敷处理之前的准备阶段与第一以及第二实施方式相同。涂敷液供给系统9的开闭阀13a关闭,涂敷液b的流通被切断,涂敷液b从罐3朝向开闭阀13a受到挤压作用。此时,从开闭阀13a到喷嘴12之间的整个范围充满涂敷液b,并且在注射泵20内部也充满涂敷液b。
在开始进行涂敷处理时,在开闭阀13a关闭(开闭阀13b打开)的状态下,通过由马达20b驱动的注射泵20向喷嘴12供给涂敷液b,从喷嘴12喷出涂敷液b,进行初始阶段的涂敷。之后,为了继续进行涂敷处理,当因马达20b的停止而使得由注射泵20进行的涂敷液b向喷嘴12的供给停止时,在该供给与之相应地停止的同时,打开涂敷液供给系统9的开闭阀13a。
当开闭阀13a打开时,虽然罐3内部大致是规定的恒定压力值,但由于关闭的开闭阀13a瞬间打开,因而涂敷液b朝向喷嘴12突然流动,但与上述第一以及第二实施方式相同,如上所述,注射泵20能够通过自身的大容量和涂敷液b自身的压缩弹性对涂敷液b的水击性的流动进行缓冲,由此能够抑制从罐3经由涂敷液供给系统9朝向喷嘴12传播的压力的变化。
由此,如图3中的图表所示,即使开放开闭阀13a,从喷嘴12喷出的涂敷液b的喷出量也不会因此而急剧上升,而是在由注射泵20进行的初始阶段的涂敷之后,以与向罐3内部施加的规定的恒定压力值对应的喷出量喷出。
这样,通过能够实现高精度的喷出量控制的注射泵20和其之后的开闭阀13a的开放,能够抑制在开始进行涂敷处理时,最初从喷嘴12喷出的涂敷液b以鼓起的方式被涂敷。因此,能够在从涂敷处理开始到之后的连续涂敷处理的整个过程中,以大致恒定量从喷嘴12喷出涂敷液b,由此能够以适当的涂膜厚度对涂敷对象物11进行涂敷处理。
另外,由于注射泵20在被马达20b驱动时因活塞20c与工作缸20d的摩擦而产生微小的振动,在仅由注射泵20实施的涂敷处理中,存在涂膜厚度略微起伏的可能性。
注射泵20可以称为可变容量型的缓冲罐17,能够调节打开开闭阀13a时的涂敷液b的流动的响应性、即能够通过增加或减少开始进行涂敷处理时从喷嘴12最初喷出的涂敷液b的喷出量的方式进行调节。
在该第三实施方式中,仅在需要抑制伴随于开闭阀13a的开放而产生的涂敷液b的过度喷出的涂敷处理的初始阶段使用注射泵20,不会出现该注射泵20所引起涂敷液b的飞溅(在罐加压的情况下有时会飞溅),即发挥涂敷液b不在涂敷开始端11a鼓起的优点,之后,切换为发挥来自罐3的涂敷液b的挤出所带来的优点、即确保稳定的喷出量(在注射泵20的情况下,存在因振动引起的喷出变动的顾虑)的优点的涂敷处理,并且,能够利用注射泵20的作为缓冲罐的缓冲功能来防止该切换的瞬间的涂敷液b的过度流动,因此,能够一并连续地确保涂敷处理开始时的涂敷液b的鼓起防止以及之后的涂膜厚度的均匀化。
在这样的第三实施方式中,也能够实现与上述第一以及第二实施方式相同的作用效果。
第三实施方式的涂敷装置19仅是在涂敷液供给系统9中设置注射泵20,结构非常简单,并且用于进行涂膜厚度调节的控制也仅是同时进行注射泵20的停止和开闭阀13a的开放即可,非常简单,能够容易地实施。
在图4中示出了第四实施方式的涂敷装置以及涂敷方法的简要结构。第四实施方式的涂敷装置21基本上构成为,在第一实施方式的结构的基础上,将具有注射泵20的追加的涂敷液供给系统22以与涂敷液供给系统9并行配置的方式设置在罐3与喷嘴12之间。
注射泵20与上述大致相同,以在追加的涂敷液供给系统22的罐侧系统通路22a与喷嘴侧系统通路22b之间将上述的两个系统通路22a、22b的端部连接的方式,设置于追加的涂敷液供给系统22。与第三实施方式相同,在两个系统通路22a、22b中,以将注射泵20夹在中间的配置设置有开闭阀13b和追加的开闭阀13c。由此,注射泵20配置在罐3与喷嘴12之间。注射泵20将以充满状态存储在活塞20c与工作缸20d之间的涂敷液b向追加的涂敷液供给系统22挤出。开闭阀13b、13c分别与第三实施方式的开闭阀13b以及13a同样地进行动作。即,开闭阀13b仅在向注射泵20送入涂敷液b时关闭。
在第四实施方式中,注射泵20设置在追加的涂敷液供给系统22中,而未设置在具有开闭阀13a的涂敷液供给系统9中,因此无需具备抑制在打开开闭阀13a时产生的压力变化的功能,因此,与第三实施方式的情况不同,注射泵20以小容量形成。压力变化的抑制作用与第一以及第二实施方式相同,通过缓冲罐15(也可以是可变容量型的缓冲罐17)来实现。
在开始进行涂敷处理时,为了防止朝向罐3的倒流,在关闭开闭阀13c,并且关闭涂敷液供给系统9的开闭阀13a的状态下,注射泵20经由追加的涂敷液供给系统22向喷嘴12供给涂敷液b。另一方面,对于开闭阀13a而言,与在开始涂敷处理时打开的第一以及第二实施方式不同,开闭阀13a与由注射泵20进行的涂敷液b的供给停止相应地打开,由此从罐3经由涂敷液供给系统9向喷嘴12供给涂敷液b。
对第四实施方式的涂敷装置21的涂敷方法进行说明。开始进行涂敷处理之前的准备阶段与第一~第三实施方式相同。涂敷液供给系统9的开闭阀13a关闭,涂敷液b的流通被切断,涂敷液b从罐3朝向开闭阀13a受到挤出作用。
此时,在涂敷液供给系统9中,从开闭阀13a到喷嘴12之间的整个范围充满涂敷液b,并且在追加的涂敷液供给系统22中,从罐3到喷嘴12的整个范围也充满涂敷液b,且在注射泵20内部也充满涂敷液b。为了防止朝向罐3的倒流而将开闭阀13c关闭。
在开始进行涂敷处理时,在开闭阀13a关闭的状态下,通过被马达20b驱动的注射泵20经由追加的涂敷液供给系统22向喷嘴12供给涂敷液b,从喷嘴12喷出涂敷液b,进行初始阶段的涂敷。之后,为了继续进行涂敷处理,当因马达20b的停止而使得由注射泵20进行的涂敷液b向喷嘴12的供给停止时,在该供给与之相应地停止的同时,打开涂敷液供给系统9的开闭阀13a。
当开闭阀13a打开时,从罐3经由涂敷液供给系统9向喷嘴12供给涂敷液b。在涂敷液b流通于涂敷液供给系统9中时,与上述第一以及第二实施方式相同,缓冲罐15如上所述那样能够通过自身的大容量和涂敷液b自身的压缩弹性对涂敷液b的水击性的流动进行缓冲,由此能够抑制从罐3经由涂敷液供给系统9朝向喷嘴12传播的压力的变化。
由此,如图4中的图表所示,即使开放开闭阀13a,从喷嘴12喷出的涂敷液b的喷出量也不会因此而急剧上升,而是在由注射泵20进行的初始阶段的涂敷之后,以与向罐3内部施加的规定的恒定压力值对应的喷出量喷出。
这样,通过能够实现高精度的喷出量控制的注射泵20和缓冲罐15对之后的开闭阀13a的开放所发挥的压力缓冲作用,能够抑制在开始进行涂敷处理时,最初从喷嘴12喷出的涂敷液b以鼓起的方式被涂敷的情况。因此,在从涂敷处理开始到之后的连续涂敷处理的整个过程中,能够大致以恒定量从喷嘴12喷出涂敷液b,由此能够以适当的涂膜厚度对涂敷对象物11进行涂敷处理。
在第四实施方式中,无需言及,仅在需要抑制伴随于开闭阀13a的开放而产生的涂敷液b的过度喷出的涂敷处理的初始阶段使用注射泵20,之后,切换为来自罐3的涂敷液b的挤出所带来的喷出量稳定的涂敷处理,并通过缓冲罐15对刚进行该切换之后的涂敷液b的过度喷出进行缓冲,因此,能够确保涂敷处理开始时的涂敷液b的鼓起防止以及之后的涂膜厚度的均匀化。在这样的第四实施方式中,也实现与上述第一~第三实施方式相同的作用效果。
第四实施方式的涂敷装置21仅在第一实施方式的结构中设置具备注射泵20的追加的涂敷液供给系统22,能够使注射泵20的容量减小等,结构非常简单,并且与第三实施方式相同,能够通过同时进行注射泵20的停止和开闭阀13a的开放这样简单的控制而容易地实施。
缓冲罐15当然也可以采用第二实施方式中说明的可变容量型,由此还能够自如地进行涂膜厚度的调节。

Claims (6)

1.一种涂敷装置,其特征在于,具备:
涂敷液供给源,其通过加压而将贮存于罐内的涂敷液向涂敷液供给系统挤出并供给;
喷嘴,其与该涂敷液供给系统连接,一边喷出供给来的涂敷液,一边相对于涂敷对象物进行相对移动,对涂敷对象物进行涂敷处理;
开闭阀,其设置于所述涂敷液供给系统,在开始进行涂敷处理时打开,从所述涂敷液供给源向所述喷嘴供给涂敷液,之后关闭,停止涂敷液向该喷嘴的供给;以及
缓冲罐,其设置于所述涂敷液供给系统,并且内部充满容量至少为能够通过压缩弹性吸收涂敷液在涂敷开始端鼓起的量的涂敷液,该缓冲罐抑制在所述开闭阀打开时朝向所述喷嘴传播的压力的变化。
2.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,
所述缓冲罐为可变容量型。
3.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,
代替所述缓冲罐,在所述涂敷液供给系统中设置有注射泵,该注射泵配置在所述开闭阀与所述喷嘴之间,该注射泵在开始进行涂敷处理时且是该开闭阀关闭的状态下,向该喷嘴供给涂敷液,
代替在开始进行涂敷处理时打开该开闭阀的情况,该开闭阀与由所述注射泵进行的涂敷液的供给停止相应地打开。
4.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,
在所述涂敷液供给源与所述喷嘴之间,以与涂敷液供给系统并行的方式设置有追加的涂敷液供给系统,
在该追加的涂敷液供给系统中设置有注射泵,该注射泵在开始进行涂敷处理时且是所述开闭阀关闭的状态下,向所述喷嘴供给涂敷液,
代替在开始进行涂敷处理时打开该开闭阀的情况,该开闭阀与由所述注射泵进行的涂敷液的供给停止相应地打开。
5.一种涂敷方法,其特征在于,
使用权利要求3所述的涂敷装置,
在开始进行涂敷处理时且是所述开闭阀关闭的状态下,从所述注射泵向所述喷嘴供给涂敷液,
接着,为了继续进行涂敷处理,与由所述注射泵进行的涂敷液的供给停止相应地打开所述开闭阀,从所述涂敷液供给源向所述喷嘴供给涂敷液。
6.一种涂敷方法,其特征在于,
使用权利要求4所述的涂敷装置,
在开始进行涂敷处理时且是所述涂敷液供给系统的所述开闭阀关闭的状态下,从所述注射泵经由所述追加的涂敷液供给系统向所述喷嘴供给涂敷液,
接着,为了继续进行涂敷处理,与由所述注射泵进行的涂敷液的供给停止相应地打开所述开闭阀,从所述涂敷液供给源经由所述涂敷液供给系统向所述喷嘴供给涂敷液。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6426491B2 (ja) * 2015-02-13 2018-11-21 中外炉工業株式会社 塗布装置及び塗布方法
CN107029913A (zh) * 2017-04-06 2017-08-11 武汉华星光电技术有限公司 一种涂布装置及涂布方法
CN109574511A (zh) * 2017-09-29 2019-04-05 中外炉工业株式会社 基板的涂布方法以及基板的涂布装置
CN112221841B (zh) * 2020-09-11 2021-09-28 安徽华铂再生资源科技有限公司 一种蓄电池加工用点胶装置及其工作方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07216Y2 (ja) * 1989-03-03 1995-01-11 エース技研株式会社 粘性液塗着装置
JP2734478B2 (ja) * 1989-11-30 1998-03-30 三菱重工業株式会社 圧力脈動吸収装置
JPH0531434A (ja) * 1991-07-29 1993-02-09 Sony Corp 塗布装置
JP3499413B2 (ja) * 1996-12-10 2004-02-23 株式会社荏原製作所 高圧流体噴射装置
JPH11244761A (ja) * 1998-03-06 1999-09-14 Asahi Chem Ind Co Ltd 塗工装置
JP2001113214A (ja) * 1999-10-19 2001-04-24 Casio Comput Co Ltd 薄膜の形成方法、及び形成装置
JP4206643B2 (ja) 2001-02-28 2009-01-14 凸版印刷株式会社 スリット式塗布装置
JP2003010761A (ja) * 2001-06-27 2003-01-14 Dainippon Printing Co Ltd 塗工液の塗布方法及び装置
JP4392474B2 (ja) * 2003-02-21 2010-01-06 兵神装備株式会社 材料供給システム
JP4184124B2 (ja) 2003-03-14 2008-11-19 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4742511B2 (ja) * 2004-04-02 2011-08-10 東レ株式会社 塗布方法および塗布装置並びにディスプレイ用部材の製造方法
JP2010104883A (ja) * 2008-10-29 2010-05-13 Hitachi Maxell Ltd 塗布装置および塗布装置を用いる機能性支持体の製造方法
CA2797407A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-05 Toray Industries, Inc. Method for producing sizing agent-coated carbon fibers, and sizing agent-coated carbon fibers
JP5885755B2 (ja) * 2011-12-01 2016-03-15 タツモ株式会社 塗布装置および塗布方法
JP6006509B2 (ja) * 2012-03-08 2016-10-12 武蔵エンジニアリング株式会社 液体定量吐出装置および塗布装置
JP2014022545A (ja) * 2012-07-18 2014-02-03 Tokyo Electron Ltd 塗布装置及び塗布方法
JP6151053B2 (ja) * 2013-03-18 2017-06-21 東レ株式会社 塗布装置、塗布方法およびディスプレイ用部材の製造方法

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