CN106019866A - 电子照相感光体、处理盒和成像装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了电子照相感光体、包括该电子照相感光体的处理盒及成像装置,该电子照相感光体包括导电性基体,以及单层型感光层,其设置在所述导电性基体上并且包含粘合剂树脂、选自羟基镓酞菁颜料和氯镓酞菁颜料的至少一种电荷产生材料、在说明书中定义的第一电子传输材料、在说明书中定义的第二电子传输材料以及在说明书中定义的空穴传输材料,其中相对于100重量份的所述感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份,并且在35℃至50℃的温度和0.5Hz的频率的条件下测量动态粘弹性时获得的平均损失弹性模量E"小于或等于1.000×106。本发明的电子照相感光层抑制了在高温高湿环境下重复成像时出现色斑。
Description
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和成像装置。
背景技术
在专利文献1公开的处理盒和成像装置中,感光体是感光鼓,包括作为支撑件的圆柱形刚体,初级差转印单元是辊式初级转印辊,介于中间转印带和感光鼓之间的接触压力P[N/cm2],介于感光鼓和中间转印带的表面之间的摩擦系数,感光鼓的表面的塑性应变强度HP[N/mm2]以及中间转印带的表面的塑性应变强度HI[N/mm2]满足特定的关系。
在专利文献2公开的电子照相感光体中,包含特定的醌类化合物的感光层设置在导电性基体上。
专利文献3公开的电子照相感光体中,通用的硬度值是150至220,弹性变形率为48%至65%。
[专利文献1]JP-A-2004-029534
[专利文献2]JP-A-5-000992
[专利文献3]JP-A-2005-250455
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种电子照相感光体,包括单层型型感光层,所述单层型感光层包含:粘合剂树脂、至少一种选自羟基镓酞菁颜料和氯镓酞菁颜料的电荷产生材料、由式(1)表示的第一电子传输材料和由式(3)表示的空穴传输材料,相对于100重量份的所述感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份,其中,相比于电子照相感光体包括不包含由式(2)表示的第二电子传输材料的感光层的情况或者在35℃至50℃的温度和0.5Hz的频率的条件下测量的平均损失弹性模量E"高于1.000×106的感光层的情况,所述电子照相感光层抑制了在高温高湿环境下重复成像时出现色斑。
上述目的是通过以下构造实现的。
根据本发明的第一方面,提供了一种电子照相感光体,包括:
导电性基体,以及
单层型感光层,其设置在所述导电性基体上并且包含粘合剂树脂、选自羟基镓酞菁颜料和氯镓酞菁颜料的至少一种的电荷产生材料、由以下式(1)表示的第一电子传输材料、由以下式(2)表示的第二电子传输材料以及由以下式(3)表示的空穴传输材料,
其中相对于100重量份的所述感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份,并且在35℃至50℃的温度和0.5Hz的频率的条件下测定动态粘弹性时,所述感光层的平均损失弹性模量E"小于或等于1.000×106:
其中R11、R12、R13、R14、R15、R16和R17各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基,R18表示烷基、-L19-O-R20、芳基或芳烷基,L19表示亚烷基,并且R20表示烷基;
其中R21、R22、R23和R24各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、卤原子或苯基;以及
其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、苯氧基、卤原子、或可具有选自烷基、烷氧基和卤原子的取代基的苯基,并且p和q各自独立表示0或1。
根据本发明的第二方面,在根据第一方面的电子成像感光体中,单层型感光层的平均损失弹性模量E"是小于或等于8.0×105。
根据本发明的第三方面,在根据第一方面的电子成像感光体中,电荷产生材料是V型羟基镓酞菁颜料。
根据本发明的第四方面,在根据第一方面的电子成像感光体中,空穴传输材料是其中式(3)中的p和q各自表示1的空穴传输材料。
根据本发明的第五方面,在根据第一方面的电子成像感光体中,第一电子传输材料是由式(1)表示的电子传输材料,其中R18表示芳烷基或具有5至10个碳原子的支链烷基。
根据本发明的第六方面,在根据第一方面的电子成像感光体中,第二电子传输材料是由式(2)表示的电子传输材料,其中R21至R24中的至少一者表示具有4个碳原子的支链烷基。
根据本发明的第七方面,在根据第一方面的电子成像感光体中,第一电子传输材料与第二电子传输材料的重量比(式(1)的第一电子传输材料/式(2)的第二电子传输材料)是2/1至4/1。
根据本发明的第八方面,提供了一种能够从成像装置中拆卸下来的处理盒,包括:
根据第一至七方面所述的电子照相感光体。
根据本发明的第九方面,提供了一种成像装置,包括:
根据第一至七方面所述的电子照相感光体;
充电单元,其对所述电子照相感光体的表面进行充电;
静电潜像形成单元,其在已经带电的所述电子照相感光体的表面上形成静电潜像;
显影单元,其利用包含调色剂的显影剂将形成于所述电子照相感光体表面上的静电潜像显影,以形成调色剂图像;以及
转印单元,其将所述调色剂图像转印到记录介质的表面。
根据本发明的第一或第二方面,提供了一种电子照相感光体,包括单层型感光层,其中所述单层型感光层包含粘合剂树脂、至少一种电荷产生材料、由以下式(1)表示的第一电子传输材料以及由以下式(3)表示的空穴传输材料,所述电荷产生材料选自羟基镓酞菁颜料和氯镓酞菁颜料,并且相对于100重量份的所述感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份,其中,相比于电子照相感光体包括不包含由式(2)表示的第二电子传输材料的感光层的情况或者在35℃至50℃的温度和0.5Hz的频率的条件下测量的平均损失弹性模量E"高于1.000×106的感光层的情况,所述电子照相感光层抑制了在高温高湿环境下重复成像时出现色斑,。
根据本发明的第三方面,提供了一种电子照相感光体,其中,与仅使用氯镓酞菁颜料作为电荷产生材料的情况相比,灵敏度更高。
根据本发明的第四方面,提供了一种电子照相感光体,其中,与仅使用示例性化合物(3-21)作为由式(3)表示的空穴传输材料的情况相比,灵敏度更高。
根据本发明的第五方面,提供了一种电子照相感光体,其中,与仅使用示例性化合物(1-2)、示例性化合物(1-11)、或示例性化合物(1-17)作为由式(1)表示的电子传输材料的情况相比,灵敏度更高。
根据本发明的第六和第七方面,提供了与电子照相感光体分别不具有第六方面和第七方面所述的构造的情况相比,灵敏度更高的电子照相感光。
根据本发明的第八或第九方面,提供了一种处理盒或成像装置,其中,电子照相感光体包括单层型感光层,所述单层型感光层包含粘合剂树脂、至少一种电荷产生材料、由以下式(1)表示的第一电子传输材料和由以下式(3)表示的空穴传输材料,所述电荷产生材料选自羟基镓酞菁颜料和氯镓酞菁颜料,其中相对于100重量份的所述感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份,与电子成像感光体包括不包含由式(2)表示的电子传输材料的感光层的情况相比,或者在35℃至50℃的温度和0.5Hz的频率的条件下测量的平均损失弹性模量E"高于1.000×106的感光层被施用于处理盒或成像装置的情况相比,该处理盒或成像装置抑制了在高温高湿环境下重复成像时出现色斑。
附图说明
将基于以下附图对本发明的示例性实施方案进行详细说明,其中:
图1是示出根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体的示意性部分截面图;
图2是示出根据本发明示例性实施方案的成像装置的示意性构造图;以及
图3是示出根据本发明另一示例性实施方案的成像装置的示意性构造图。
具体实施方式
下面将详细说明作为本发明的例子的示例性实施方案。
电子照相感光体
根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体为带正电的有机感光体(下文有时称为简称为“感光体”或“单层型感光体”),其包括导电性基体和位于导电性基体上的单层型感光层。
接着,在单层型感光层中,包含粘结剂树脂、选自羟基镓酞菁颜料和氯镓酞菁颜料的至少一种电荷产生材料(在下文称为“特定电荷产生材料”)、由式(1)表示的第一电子传输材料(下文称为“式(1)的第一电子传输材料”)、由式(2)表示的第二电子传输材料(下文称为“式(2)的第二电子传输材料”)和由式(3)表示的空穴传输材料(下文称为“式(3)的空穴传输材料”),相对于100重量份的所述感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份,并且在35℃至50℃的温度和0.5Hz的频率的条件下测量的平均损失弹性模量E"小于或等于1.000×106。
此外,单层型感光层为具有空穴传输性质和电子传输性以及电荷产生能力的感光层。
通过上述构造,根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体抑制了在高温高湿环境下(例如,在28℃和85%的环境中)重复成像时出现色斑(例如,在不希望出现图像的部分出现虚像)。猜测原因如下。
首先,单层型感光体在单层型感光层中包含电荷产生材料、空穴传输材料和电子传输材料,因此不能获得与包括层叠感光层的有机感光体相同的灵敏度,所以需要更高的灵敏度。
从这一点考虑,在包含特定电荷产生材料、式(1)的第一电子传输材料以及式(3)的空穴传输材料的单层型感光层中,灵敏度易于提高。
但是,该单层型感光层耐热性低,因此,当在高温高湿环境(例如,在28℃和85%的环境中)重复成像时,出现色斑。特别是,相对于100重量份的感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份以提高所述单层型感光层的灵敏度时,所述单层型感光层的耐热性降低,易于出现色斑。
据认为,这是因为当单层型感光层的耐热性降低时,所述单层型感光层的机械性随着环境温湿度发生变化,也就是说,据认为,当在特定温度范围内单层型感光层的损失弹性模量高,在高温高湿环境(例如28℃和85%的环境)中重复成像时,则出现色斑。另一方面,通过单层型感光层中电子传输材料的类型和含量能够改变损失弹性模量。
因此,包含特定的电荷产生材料、式(1)的第一电子传输材料以及式(3)的空穴传输材料的单层感光层包含具有高耐热性的式(2)的第二电子传输材料。然后,在包括35℃至50℃的温度和0.5Hz的频率的条件下测量动态粘弹性时,单层型感光层的平均损失弹性模量E"为小于或等于1.000×106。因此,其中包含特定的电荷产生材料、式(1)的第一电子传输材料以及式(3)的空穴传输材料的并且相对于100重量份的感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份的单层型感光层的耐热性有所升高。
通过以上描述,据推测,根据本发明示例性实施方案的感光体抑制了在高温高湿环境(例如28℃和85%的环境)下重复成像时出现色斑。
此外,在本发明示例性实施方案的感光体中,单层型感光层包含特定的电荷产生材料、式(1)的第一电子传输材料以及式(3)的空穴传输材料,因此灵敏度升高。也就是说,根据本发明示例性实施方案的感光体,同时实现了高灵敏度并抑制了在高温高湿环境下出现色斑。
此处,从抑制出现色斑的角度考虑,单层型感光层的平均损失弹性模量E"优选为小于或等于8.0×105。
通过以下方法测定单层型感光层的平均损失弹性模量E"。首先,厚度为22μm和大小为5mm×30mm的测量样品是从测量目标感光体的单层型感光层中取样的。此外,可以使用单层型感光层用涂布液来制备测量样品。
接着,利用动态粘弹性测量装置DMS6100(由Seiko Instruments公司制造)测定测量样品的动态弹性,由此获得平均损失弹性模量E"。测量条件包括张力模式、0.5Hz的频率,温度以10℃/分钟的升温速率从35℃升至50℃。由此获得平均损失弹性模量E"作为共计30个数据(其是温度从35℃升至50℃的同时测量的)的平均值。
下文将结合附图对本示例性实施方案的电子照相感光体进行详细描述。
图1示意性地示出了根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体10的一部分的截面图。
图1中示出的电子照相感光体10包括(例如)导电性基体3、然后依次位于导电性基体3上的底涂层1和单层型感光层2。
此外,底涂层1是根据需要设置的层。即,单层型感光层2可以直接设置在导电性基体3上,或隔着底涂层1设置在导电性基体3上。
此外,还可以设置其它层。具体来说,例如,根据需要可以在单层型感光层2上设置保护层。
下文将对根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体的各层进行详细说明。此外,省略符号进行说明。
导电性基体
导电性基体的例子包括使用了金属(如铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金和铂)及其合金(如不锈钢)的金属板、金属鼓和金属带。此外,导电性基体的其它例子包括涂覆、沉积或层叠有导电性化合物(如导电性聚合物和氧化铟)、金属(如铝、钯和金)或其合金的纸、树脂膜和带。术语“导电性”是指体积电阻率小于1013Ωcm。
当在激光打印机中使用电子照相感光体时,为了防止在用激光照射时形成的干涉条纹,优选将导电性基体的表面粗糙化使之具有0.04μm至0.5μm的中心线平均粗糙度(Ra)。此外,当将非相干光用作光源时,用于防止干涉条纹的表面粗糙化并没有特别的必要性,但是由于抑制了由导电性基体表面上的凹凸不平引起的缺陷的产生,因而适于实现更长的使用寿命。
表面粗糙化方法的例子包括将研磨机悬浮于水中并喷射悬浮液至支承体上的湿式珩磨、通过按压导电性基体与旋转磨石接触并连续过程的无心磨削、以及阳极氧化处理等。
用于表面粗糙化的方法的其它例子包括:通过在导电性基体的表面上形成其中分散有导电性或半导电性颗粒的树脂层,从而通过分散在该层中的颗粒实现表面粗糙化,而不将导电性基体的表面粗糙化的表面粗糙化方法。
在通过阳极氧化进行的表面粗糙化处理中,通过其中金属(例如铝)导电性基体作为阳极在电解液中被阳极氧化的阳极氧化处理,从而在导电性基体的表面上形成氧化膜。电解液的例子包括硫酸溶液和草酸溶液。然而,通过阳极氧化而没有加以改性所形成的多孔阳极氧化膜是具有化学活性的,易于被污染,根据环境的不同电阻变化大。因此,优选进行密封处理,在该密封处理中,在加压水蒸汽或沸水中(其中可以加入金属盐如镍盐)通过由水合反应引起的体积膨胀来密封阳极氧化膜的细孔,从而将阳极氧化物转化为更稳定的水合氧化物。
阳极氧化膜的膜厚优选为0.3μm至15μm。当阳极氧化膜的厚度在上述范围内时,趋向于发挥对于注入的阻挡性,并且趋向于抑制由于重复使用而引起的残留电势的增加。
可以用酸性处理溶液或勃姆石处理对导电性基体进行处理。
利用酸性处理液的处理如下进行。首先,制备包含磷酸、铬酸和氢氟酸的酸性处理液。酸性处理液中磷酸、铬酸和氢氟酸的混合比(例如)为10重量%至11重量%的磷酸、3重量%至5重量%的铬酸和0.5重量%至2重量%的氢氟酸。总酸性成分的浓度优选为13.5重量%至18重量%的范围。处理温度优选为(例如)42℃至48℃。膜的膜厚优选为0.3μm至15μm。
勃姆石处理是这样进行的:将基体浸没在温度为90℃至100℃的纯水中5分钟至60分钟,或者使基体与温度为90℃至120℃的热水蒸汽接触5分钟至60分钟。膜厚度优选为0.1μm至5μm。可以使用对膜溶解性低的电解液(例如己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐和柠檬酸盐溶液)对膜进一步进行阳极氧化处理。
底涂层
底涂层为(例如)包括无机颗粒和粘结剂树脂的层。
无机颗粒的例子包括粉末电阻(体积电阻率)约为102Ωcm至1011Ωcm的无机颗粒。
其中,作为具有上述电阻值的无机颗粒,优选诸如氧化锡颗粒、氧化钛颗粒、氧化锌颗粒、和氧化锆颗粒之类的无机颗粒,更优选氧化锌颗粒。
通过BET法测定的无机颗粒的比表面积优选为(例如)10m2/g以上。
无机颗粒的体积平均粒径优选为(例如)50nm至2000nm(更优选60nm至1000nm)。
无机颗粒相对于粘结剂树脂的含量优选为(例如)10重量%至80重量%,更优选为40重量%至80重量%。
无机颗粒可以是经过表面处理的无机颗粒。可以组合使用两种或更多种经过不同的表面处理或具有不同粒径的无机颗粒。
表面处理剂的例子包括硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝偶联剂和表面活性剂。硅烷偶联剂是特别优选的,并且具有氨基的硅烷偶联剂是更优选的。
具有氨基的硅烷偶联剂的例子包括3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷和N,N-双(2-羟乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷,但不限于此。
可使用这些硅烷偶联剂中的两种或多种的混合物。例如,具有氨基的硅烷偶联剂可与另外的硅烷偶联剂组合使用。硅烷偶联剂的其它例子包括:乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(2-羟乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷,但不限于此。
使用表面处理剂进行表面处理的方法可为已知方法中的任意一种方法,并且可以是干法或湿法。
用于处理的表面处理剂相对于无机颗粒的量优选为(例如)0.5重量%至10重量%。
在此,从电特性的长期稳定性和载流子阻挡性(carrier blockingproperties)优异的角度考虑,底涂层中优选包含无机颗粒和电子受体化合物(受体化合物)。
电子受体化合物的例子包括电子传输材料,包括(例如):醌类化合物,如四氯苯醌和四溴苯醌;四氰基醌二甲烷化合物;芴酮类化合物,如2,4,7-三硝基芴酮和2,4,5,7-四硝基-9-芴酮;噁二唑类化合物,如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-萘基)-1,3,4-噁二唑以及2,5-双(4-二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑;氧杂蒽酮类化合物;噻吩类化合物;以及联苯醌类化合物,如3,3',5,5'-四叔丁基联苯醌。
特别是,作为电子受体化合物,具有蒽醌结构的化合物是优选的。作为具有蒽醌结构的电子受体化合物,优选羟基蒽醌类化合物、氨基蒽醌类化合物和氨基羟基蒽醌类化合物等,并且具体来说,蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚、红紫素等是特别优选的。
电子受体化合物可与无机颗粒一起分散包含在底涂层中,或可以附着在无机颗粒的表面而被包含在底涂层中。
将电子受体化合物附着至无机颗粒表面的方法的例子包括干法和湿法。
干法为这样一种将电子受体化合物附着至无机颗粒表面的方法,其中在用具有高剪切力的混合机等搅拌无机颗粒的同时,直接或以电子受体化合物溶解于有机溶剂中的溶液的形式将电子受体化合物滴加到无机颗粒上,或将其与干燥空气或氮气一起喷到无机颗粒上。电子受体化合物的滴加或喷雾优选在不高于溶剂沸点的温度下进行。在将电子受体化合物滴加或喷雾后,可以进一步对无机颗粒在100℃以上的温度下进行烘烤。烘烤可以在能够获得所需的电子照相特性的任意温度和时间下进行,而没有限制。
湿法为这样一种将电子受体化合物附着到无机颗粒表面的方法,其中利用搅拌、超声波、砂磨机、碾磨机、球磨机等将无机颗粒分散于溶剂中,之后添加电子受体化合物,并进一步搅拌或分散混合物,之后除去溶剂。作为除去溶剂的方法,通过过滤或蒸馏来除去溶剂。在除去溶剂后,可以进一步对颗粒在100℃以上的温度下进行烘烤。烘烤可以在能够获得所需的电子照相特性的任意温度和时间下进行,而没有限制。在湿法中,可以在添加表面处理剂之前除去无机颗粒中所含的水分,并且除去水分的方法的例子包括通过搅拌加热溶剂中的无机颗粒来除去水分的方法、或通过与溶剂共沸来除去水分的方法。
此外,可以在使用表面处理剂对无机颗粒进行表面处理之前或之后进行电子受体化合物的附着,电子受体化合物的附着也可以与利用表面处理剂进行的表面处理同时进行。
电子受体化合物相对于无机颗粒的含量优选为(例如)0.01重量%至20重量%,更优选为0.01重量%至10重量%。
底涂层中使用的粘结剂树脂的例子包括已知材料,包括(例如)已知的高分子化合物如缩醛树脂(如聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅-醇酸树脂、脲醛树脂、酚树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸乙酯树脂、醇酸树脂和环氧树脂;锆螯合物;钛螯合物;铝螯合物;钛醇盐化合物;有机钛化合物;以及硅烷偶联剂。
底涂层中所用的粘结剂树脂的其它例子包括具有电荷传输基团的电荷传输树脂和导电性树脂(例如聚苯胺)。
其中,不溶于上层的涂布溶剂的树脂适合作为底涂层中所用的粘结剂树脂,并且特别合适的是:通过热固性树脂反应而得到的树脂,所述热固性树脂例如为脲醛树脂、酚树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸乙酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂和环氧树脂;以及通过使选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇树脂以及聚乙烯醇缩醛树脂构成的组中的至少一种树脂与固化剂反应而得到的树脂。
在这些粘结剂树脂以两种或更多种组合使用的情况下,混合比例酌情而定。
可以在底涂层中加入各种添加剂以提高电特性、环境稳定性或图像质量。
添加剂的例子包括已知的材料,例如,多环缩合型或偶氮型电子传输颜料、锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物和硅烷偶联剂。还可以将用于上述无机颗粒的表面处理的硅烷偶联剂加入到底涂层中作为添加剂。
作为添加剂的硅烷偶联剂的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N,N-双(2-羟乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷。
锆螯合物的例子包括丁醇锆、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮丁醇锆、乙酰乙酸乙酯丁醇锆、醋酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、十二酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸丁醇锆、硬脂酸丁醇锆和异硬脂酸丁醇锆。
钛螯合物的例子包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚物、四(2-乙基己基)钛酸酯、乙酰丙酮钛、聚乙酰丙酮钛、辛二醇钛、乳酸钛的铵盐、乳酸钛、乳酸钛的乙基酯、三乙醇胺钛和聚硬脂酸羟基钛。
铝螯合物的例子包括异丙醇铝、二异丙醇单丁氧基铝、丁醇铝、二乙基乙酰乙酸二异丙醇铝和三(乙基乙酰乙酸)铝。
这些添加剂可以单独使用,或作为两种或更多种添加剂的混合物或缩聚物使用。
底涂层的维氏硬度优选为35以上。
将底涂层的表面粗糙度(微观不平度十点高度(ten point heightof irregularities))调节在(1/(4n))λ至(1/2)λ的范围内,以抑制莫尔图像(moire image),其中λ表示用于曝光的激光的波长,n表示上层的折射率。
为了调节表面粗糙度,可以将树脂颗粒等加入到底涂层中。树脂颗粒的例子包括有机硅树脂颗粒和交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒。另外,为了调节表面粗糙度,可以对底涂层的表面进行抛光。抛光方法的例子包括磨光、喷砂处理、湿式珩磨、磨削处理(grindingtreatment)。
对底涂层的形成没有特别限制,使用那些已知的形成方法。然而,例如,底涂层的形成通过以下方式来进行:使底涂层形成用涂布液(该涂布液是通过将上述组分加入到溶剂中而获得的)形成涂膜,并干燥涂膜,之后根据需要进行加热。
用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂的例子包括醇溶剂、芳族烃溶剂、卤代烃溶剂、酮溶剂、酮醇溶剂、醚溶剂和酯溶剂。
这些溶剂的例子包括常见的有机溶剂,如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲乙酮、环己酮、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。
在底涂层形成用涂布液的制备中用于分散无机颗粒的方法的例子包括已知的方法,例如使用辊磨机、球磨机、振动式球磨机、碾磨机、砂磨机、胶体磨和涂料振动器等的方法。
此外,用于将底涂层形成用涂布液涂布到导电性基体上的方法包括常规的方法,例如刮涂法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法和帘涂法。
底涂层的膜厚度优选设定为(例如)15μm以上的范围,更优选为20μm至50μm。
中间层
尽管未在图中示出,但是可以在底涂层和感光层之间设置中间层。
中间层为(例如)包括树脂的层。中间层中所用的树脂的例子包括诸如缩醛树脂(如聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅-醇酸树脂、酚醛树脂和三聚氰胺树脂等高分子化合物。
中间层可以是包括有机金属化合物的层。中间层中所用的有机金属化合物的例子包括含有诸如锆、钛、铝、锰和硅等金属原子的有机金属化合物。
中间层中所用的这些化合物可以单独使用,或者作为多种化合物的混合物或缩聚物使用。
其中,包含含有锆原子或硅原子的有机金属化合物的层是优选的。
对中间层的形成没有特别限定,使用那些公知的形成方法。然而,例如,中间层的形成通过以下方式来进行:使中间层形成用涂布液(所述涂布液是通过将上述组分加入到溶剂中而获得的)形成涂膜,并干燥涂膜,之后根据需要进行加热。
作为用于形成中间层的涂布方法,可使用常规的方法,例如浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、刀片涂布法和帘涂法。
中间层的膜厚度优选设定为(例如)0.1μm至3μm的范围。此外,可以将中间层用作底涂层。
单层型感光层
单层型感光层包含粘合剂树脂、电荷产生材料、电子传输材料和空穴传输材料。单层型感光层根据需要可包含其它添加剂。
粘结剂树脂
对粘结剂树脂没有特别限定,其例子包括聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-醋酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、有机硅树脂、有机硅-醇酸树脂、酚醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。这些粘结剂树脂可以单独使用,或两种或更多种组合使用。
在这些粘结剂树脂中,从感光层的成膜性的角度考虑,例如粘均分子量为30,000至80,000的聚碳酸酯树脂是特别优选的。
相对于感光层的总固形物含量,粘结剂树脂的含量为35重量%至60重量%,优选为20重量%至35重量%。
电荷产生材料
对于电荷产生材料,应用选自羟基镓酞菁颜料和氯镓酞菁颜料中的至少一者。
对于电荷产生材料,根据需要,这些颜料可以单独使用,或组合使用。然后,对于电荷产生材料,从为感光体提供更高的灵敏度和抑制图像出现色斑的角度考虑,羟基镓酞菁颜料是优选的。
对于羟基镓酞菁颜料没有特别的限制,作为羟基镓酞菁颜料,从为感光体提供更高的灵敏度和抑制图像出现色斑的角度考虑,V型羟基镓酞菁颜料是更优选的。
特别地,从获得更优异的分散性的角度考虑,优选在600nm至900nm的波长带的分光吸收光谱中,在810nm至839nm的范围内具有最大峰波长的羟基镓酞菁颜料作为羟基镓酞菁颜料。当使用羟镓酞菁颜料作为用于电子照相感光体的材料时,能够容易地获得优异的分散性、足够的灵敏度、带电性和暗衰减特性。
此外,在810nm至839nm的范围内具有最大峰波长的羟基镓酞菁颜料中,优选地具有特定范围内的平均粒径和特定范围内的BET比表面积。。具体来说,平均粒径优选为0.20μm以下,更优选为0.01μm至0.15μm,而BET比表面积优选为45m2/g以上,更优选为50m2/g以上,特别优选为55m2/g至120m2/g。平均粒径为体积平均粒径值(平均粒径d50),其通过激光衍射散射粒度分布分析仪(LA-700,由Horiba公司制造)测得。另外,采用BET比表面积分析仪(FLOWSORB II2300,由Shimadzu公司制造)按照氮气置换法测得所述BET比表面积的值。
在此,在平均粒径超过0.20μm或比表面积小于45m2/g的情况下,存在颜料颗粒粗大化或形成颜料颗粒聚集体的趋势。此外,在一些情况下,易于在分散性、灵敏度、充电性和暗衰减特性等特性方面产生缺陷,结果容易形成图像质量缺陷。
羟基镓酞菁颜料的最大粒径(一次粒径的最大值)优选为1.2μm以下,更优选为1.0μm以下,还更优选为0.3μm以下。如果该最大粒径超过上述范围,则容易出现黑点。
从感光体抑制由暴露于荧光等引起的浓度偏差的角度考虑,优选羟基镓酞菁颜料的平均粒径为0.2μm以下,最大粒径为1.2μm以下,且比表面积为45m2/g以上。
优选的是,羟基镓酞菁颜料是在使用CuKα特征X-射线的X-射线衍射光谱中,在7.3、16.0、24.9和28.0的布拉格角(2θ±0.2°)处具有衍射峰的V-型羟基镓酞菁颜料
另一方面,对氯镓酞菁颜料没有特别限定,但优选作为电子照相感光体材料能够提供优异的灵敏度的、在7.4°、16.6°、25.5°和28.3°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有衍射峰的氯镓酞菁颜料。
氯镓酞菁颜料的分光吸收光谱的优选的最大峰波长、平均粒径、最大粒径和比表面积值与羟基镓酞菁颜料的那些相同。
相对于感光层的总固形物含量,电荷产生材料的含量为1重量%至5重量%,优选为1.2重量%至4.5重量%。
电子传输材料
作为电子传输材料,使用式(1)的第一电子传输材料(由式(1)表示的第一电子传输材料)和式(2)的第二电子传输材料(由式(2)表示的第二电子传输材料)。
首先,将描述式(1)的第一电子传输材料(由式(1)表示的第一电子传输材料)。
在式(1)中,R11、R12、R13、R14、R15、R16和R17各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基。R18表示烷基、-L19-O-R20、芳基或芳烷基。此外,L19表示亚烷基,并且R20表示烷基;
在式(1)中,由R11至R17表示的卤原子的例子包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子等等。
在式(1)中,由R11至R17表示的烷基的例子包括具有1至4个碳原子(优选1至3个碳原子)的直链或支链烷基。其具体例子包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等。
在式(1)中,由R11至R17表示的烷氧基的例子包括具有1至4个碳原子(优选1至3个碳原子)的烷氧基。其具体例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁氧基等。
在式(1)中,由R11至R17表示的芳基的例子包括苯基和甲苯基等。其中,由R11至R17表示的芳基优选苯基。
在式(1)中,由R11至R17表示的芳烷基的例子包括苄基、苯乙基和苯丙基等。
在式(1)中,由R18表示的烷基的例子包括具有1至12个碳原子(优选5至10个碳原子)的直链烷基和具有3至10个碳原子(优选5至10个碳原子)的支链烷基。
具有1至12个碳原子的直链烷基的例子包括甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基和正十二烷基等。
具有3至10个碳原子的支链烷基的例子包括异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基、异庚基、仲庚基、叔庚基、异辛基、仲辛基、叔辛基、异壬基、仲壬基、叔壬基、异癸基、仲癸基和叔癸基等。
在式(1)中,在由R18表示的-L19-O-R20所表示的基团中,L19表示亚烷基且R20表示烷基。
由L19表示的亚烷基的例子包括具有1至12个碳原子的直链或支链亚烷基,包括亚甲基、亚乙基、正亚丙基、异亚丙基、正亚丁基、异亚丁基、仲亚丁基、叔亚丁基、正亚戊基、异亚戊基、新亚戊基和叔亚戊基等。
由R20表示的烷基的例子包括与由R11至R17表示的烷基相同的那些基团。
在式(1)中,由R18表示的芳基的例子包括苯基、甲基苯基、二甲基苯基和乙基苯基等。
此外,对于由R18表示的芳基,从溶解性的角度考虑,优选的是芳基进一步被烷基取代。取代芳基的烷基的例子包括与由R11至R17表示的烷基相同的那些基团。
在式(1)中,由R18表示的芳烷基的例子包括由-R18A-Ar表示的基团。在这种情况中,R18A表示亚烷基,Ar表示芳基。
由R18A表示的亚烷基的例子包括具有1至12个碳原子的直链或支链亚烷基,包括亚甲基、亚乙基、正亚丙基、异亚丙基、正亚丁基、异亚丁基、仲亚丁基、叔亚丁基、正亚戊基、异亚戊基、新亚戊基和叔亚戊基。
由Ar表示的芳基的例子包括苯基、甲基苯基、二甲基苯基和乙基苯基等。
在式(1)中,由R18表示的芳烷基的具体例子包括苄基、甲基苄基、二甲基苄基、苯乙基、甲基苯乙基、苯丙基和苯丁基等。
对于式(1)的第一电子传输材料,从高灵敏度和防止出现色斑的角度考虑,优选的是,电子传输材料中的R18表示具有5至10个碳原子的支链烷基或芳烷基,特别优选的是电子传输材料中的R11至R17各自独立地氢原子、卤原子或烷基,并且R18表示具有5至10个碳原子的支链烷基或芳烷基。
下文将描述式(1)的第一电子传输材料的示例性化合物,但并不限于此。此外,以下示例性化合物编号将描述为示例性化合物(1-编号)。具体而言,例如,示例性化合物15将被描述为“示例性化合物(1-15)”。
示例性化合物 | R11 | R12 | R13 | R14 | R15 | R16 | R17 | R18 |
1 | H | H | H | H | H | H | H | -n-C7H15 |
2 | H | H | H | H | H | H | H | -n-C8H17 |
3 | H | H | H | H | H | H | H | -n-C5H11 |
4 | H | H | H | H | H | H | H | -n-C10H21 |
5 | Cl | Cl | Cl | Cl | Cl | Cl | Cl | -n-C7H15 |
6 | H | Cl | H | Cl | H | Cl | Cl | -n-C7H15 |
7 | CH3 | CH3 | CH3 | CH3 | CH3 | CH3 | CH3 | -n-C7H15 |
8 | C4H9 | C4H9 | C4H9 | C4H9 | C4H9 | C4H9 | C4H9 | -n-C7H15 |
9 | CH3O | H | CH3O | H | CH3O | H | CH3O | -n-C8H17 |
10 | C6H5 | C6H5 | C6H5 | C6H5 | C6H5 | C6H5 | C6H5 | -n-C8H17 |
11 | H | H | H | H | H | H | H | -n-C4H9 |
12 | H | H | H | H | H | H | H | -n-C11H23 |
13 | H | H | H | H | H | H | H | -n-C9H19 |
14 | H | H | H | H | H | H | H | -CH2-CH(C2H5)-C4H9 |
15 | H | H | H | H | H | H | H | -(CH2)2-Ph |
16 | H | H | H | H | H | H | H | -CH2-Ph |
17 | H | H | H | H | H | H | H | -n-C12H25 |
18 | H | H | H | H | H | H | H | -C2H5-O-CH3 |
此外,上述示例性化合物的缩写符号表示如下含义。
·Ph:苯基
下文将描述式(2)的电子传输材料(由式(2)表示的电子传输材料)。
在式(2)中,R21、R22、R23和R24各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、卤原子或苯基。
在式(2)中,由R21至R24表示的烷基的例子包括具有1至6个碳原子的直链或支链烷基。具体例子包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基和己基等、。
由R21至R24表示的烷基的例子可以是被取代的烷基,取代烷基的取代基的例子包括环烷基、氟取代的烷基等。
在式(2)中,由R21至R24表示的烷氧基的例子包括具有1至6个碳原子的直链或支链的烷氧基,其具体例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁氧基等。
在式(2)中,由R21至R24表示的卤原子的例子包括氯原子、碘原子、溴原子和氟原子等。
在式(2)中,由R21至R24表示的苯基的可以是取代的苯基。取代的苯基的取代基的例子包括烷基(例如,具有1至6个碳原子的烷基)、烷氧基(例如,具有1至6个碳原子的烷氧基)、二苯基等等。
对于式(2)的第二电子传输材料,从高灵敏度和防止出现色斑的角度考虑,优选下述电子传输材料,其中R21至R24的至少一者(优选,大于或等于3)表示具有4个碳原子的支链烷基。
下文将描述式(2)的第二电子传输材料的示例性化合物,但本发明不限于此。此外,跟随示例性化合物的编号描述为示例性化合物(2-编号)。
具体而言,例如,跟随示例性化合物的编号(2)被描述为“示例性化合物(2-2)”。
此处,式(1)的第一电子传输材料和式(2)的第二电子传输材料可以独立地使用,或两种或更多种组合使用。此外,在不影响本发明示例性实施方案的目的的范围内,根据需要,除了式(1)的第一电子传输材料和式(2)的第二电子传输材料之外,还可以连同使用其它电子传输材料。
此外,优选的是,在含有其它电子传输材料时,相对于全部电子传输材料,其含量为小于或等于10重量%。
其它电子传输材料的例子包括:诸如醌化合物的电子传输化合物,例如对苯醌、氯醌、溴醌和蒽醌;四氰基喹啉二甲烷化合物;芴酮化合物,如2,4,7-三硝基芴酮;氧杂蒽酮化合物;二苯甲酮化合物;氰基乙烯基化合物;乙烯化合物;等等。
可以独立地使用这些电子传输材料中的一种,或者使用它们中两种或更多种的组合,但电子传输材料并不限于此。
下文将描述电子传输材料的含量。
从高灵敏度的角度考虑,相对于100重量份的感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量为大于或等于4重量份,优选大于或等于5重量份。
此外,从高灵敏度和防止出现色斑的角度考虑,式(1)的第一电子传输材料与式(2)的第二电子传输材料的重量比(式(1)的第一电子传输材料/式(2)的第二电子传输材料)优选为2/1至4/1。
空穴传输材料
对于空穴传输材料,使用式(3)的空穴传输材料(由式(3)表示的空穴传输材料)。
在式(3)中,R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、苯氧基、卤原子或可以具有选自烷基、烷氧基和卤原子的取代基的苯基。p和q各自独立地表示0或1。
在式(3)中,由R1至R6表示的烷基的例子包括具有1至4个碳原子的直链或支链烷基,具体包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基,等等。
其中,对于烷基,优选甲基和乙基。
在式(3)中,由R1至R6表示的烷基的例子包括具有1至4个碳原子的烷氧基,其具体例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁氧基,等等。
在式(3)中,由R1至R6表示的卤原子的例子包括氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,等等。
在式(3)中,由R1至R6表示的苯基的例子包括取代的苯基;低级烷基取代的苯基,例如对甲苯基和2,4-二甲基苯基;低级烷氧基取代的苯基,例如对甲氧基苯基;卤原子取代的苯基,例如对氯苯基,等等。
此外,能够取代苯基的取代基的例子包括由R1至R6表示的烷基、烷氧基和卤原子。
在式(3)的空穴传输材料中,从高灵敏度和防止出现色斑的角度考虑,优选这样的空穴传输材料,其中p和q表示1,更优选空穴传输材料中的R1至R6各自独立地表示氢原子、烷基或烷氧基,并且p和q表示1。
下文将描述具有式(3)的空穴传输材料的示例性化合物,但并不限于此。
此外,以下示例性化合物编号被描述为下面的示例性化合物(3-编号)。具体来说,例如,示例性化合物15被描述为“示例性化合物(3-15)”。
示例性化合物 | p | q | R1 | R2 | R3 | R4 | R5 | R6 |
1 | 1 | 1 | H | H | H | H | H | H |
2 | 1 | 1 | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me |
3 | 1 | 1 | 4-Me | 4-Me | H | H | 4-Me | 4-Me |
4 | 1 | 1 | 4-Me | H | 4-Me | H | 4-Me | H |
5 | 1 | 1 | H | H | 4-Me | 4-Me | H | H |
6 | 1 | 1 | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me |
7 | 1 | 1 | H | H | H | H | 4-Cl | 4-Cl |
8 | 1 | 1 | 4-MeO | H | 4-MeO | H | 4-MeO | H |
9 | 1 | 1 | H | H | H | H | 4-MeO | 4-MeO |
10 | 1 | 1 | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO |
11 | 1 | 1 | 4-MeO | H | 4-MeO | H | 4-MeO | 4-MeO |
12 | 1 | 1 | 4-MeO | H | 4-MeO | H | 4-MeO | 4-F |
13 | 1 | 1 | 3-Me | H | 3-Me | H | 3-Me | H |
14 | 1 | 1 | 4-Cl | H | 4-Cl | H | 4-Cl | H |
15 | 1 | 1 | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl |
16 | 1 | 1 | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me |
17 | 1 | 1 | 4-Me | 4-MeO | 4-Me | 4-MeO | 4-Me | 4-MeO |
18 | 1 | 1 | 3-Me | 4-MeO | 3-Me | 4-MeO | 3-Me | 4-MeO |
19 | 1 | 1 | 3-Me | 4-Cl | 3-Me | 4-Cl | 3-Me | 4-Cl |
20 | 1 | 1 | 4-Me | 4-Cl | 4-Me | 4-Cl | 4-Me | 4-Cl |
示例性化合物 | p | q | R1 | R2 | R3 | R4 | R5 | R6 |
21 | 1 | 0 | H | H | H | H | H | H |
22 | 1 | 0 | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me |
23 | 1 | 0 | 4-Me | 4-Me | H | H | 4-Me | 4-Me |
24 | 1 | 0 | H | H | 4-Me | 4-Me | H | H |
25 | 1 | 0 | H | H | 3-Me | 3-Me | H | H |
26 | 1 | 0 | H | H | 4-Cl | 4-Cl | H | H |
27 | 1 | 0 | 4-Me | H | H | H | 4-Me | H |
28 | 1 | 0 | 4-MeO | H | H | H | 4-MeO | H |
29 | 1 | 0 | H | H | 4-MeO | 4-MeO | H | H |
30 | 1 | 0 | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO |
31 | 1 | 0 | 4-MeO | H | 4-MeO | H | 4-MeO | 4-MeO |
32 | 1 | 0 | 4-Me | H | 4-Me | H | 4-Me | 4-F |
33 | 1 | 0 | 3-Me | H | 3-Me | H | 3-Me | H |
34 | 1 | 0 | 4-Cl | H | 4-Cl | H | 4-Cl | H |
35 | 1 | 0 | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl |
36 | 1 | 0 | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me |
37 | 1 | 0 | 4-Me | 4-MeO | 3-Me | 4-MeO | 4-Me | 4-MeO |
38 | 1 | 0 | 3-Me | 4-MeO | 3-Me | 4-MeO | 3-Me | 4-MeO |
39 | 1 | 0 | 3-Me | 4-Cl | 3-Me | 4-Cl | 3-Me | 4-Cl |
40 | 1 | 0 | 4-Me | 4-Cl | 4-Me | 4-Cl | 4-Me | 4-Cl |
示例性化合物 | p | q | R1 | R2 | R3 | R4 | R5 | R6 |
41 | 0 | 0 | H | H | H | H | H | H |
42 | 0 | 0 | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me |
43 | 0 | 0 | 4-Me | 4-Me | 4-Me | 4-Me | H | H |
44 | 0 | 0 | 4-Me | H | 4-Me | H | H | H |
45 | 0 | 0 | H | H | H | H | 4-Me | 4-Me |
46 | 0 | 0 | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Me | H | H |
47 | 0 | 0 | H | H | H | H | 4-Cl | 4-Cl |
48 | 0 | 0 | 4-MeO | H | 4-MeO | H | H | H |
49 | 0 | 0 | H | H | H | H | 4-MeO | 4-MeO |
50 | 0 | 0 | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO | 4-MeO |
51 | 0 | 0 | 4-MeO | H | 4-MeO | H | 4-MeO | 4-MeO |
52 | 0 | 0 | 4-Me | H | 4-Me | H | 4-Me | 4-F |
53 | 0 | 0 | 3-Me | H | 3-Me | H | 3-Me | H |
54 | 0 | 0 | 4-Cl | H | 4-Cl | H | 4-Cl | H |
55 | 0 | 0 | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl | 4-Cl |
56 | 0 | 0 | 3-Me | 3-Me | 3-Me | 3-Ce | 3-Me | 3-Me |
57 | 0 | 0 | 4-Me | 4-MeO | 4-Me | 4-MeO | 4-Me | 4-MeO |
58 | 0 | 0 | 3-Me | 4-MeO | 3-Me | 4-MeO | 3-Me | 4-MeO |
59 | 0 | 0 | 3-Me | 4-Cl | 3-Me | 4-Cl | 3-Me | 4-Cl |
60 | 0 | 0 | 4-Me | 4-Cl | 4-Me | 4-Cl | 4-Me | 4-Cl |
示例性化合物 | p | q | R1 | R2 | R3 | R4 | R5 | R6 |
61 | 1 | 1 | 4-Pr | 4-Pr | 4-Pr | 4-Pr | 4-Pr | 4-Pr |
62 | 1 | 1 | 4-PhO | 4-PhO | 4-PhO | 4-PhO | 4-PhO | 4-PhO |
63 | 1 | 1 | H | 4-Me | H | 4-Me | H | 4-Me |
64 | 1 | 1 | 4-C6H5 | 4-C6H5 | 4-C6H5 | 4-C6H5 | 4-C6H5 | 4-C6H5 |
此外,上述示例性化合物中的缩写符号表示以下意思。
·4-Me:在苯基的4位取代的甲基
·3-Me:在苯基的3位取代的甲基
·4-Cl:在苯基的4位取代的氯原子
·4-MeO:在苯基的4位取代的甲氧基
·4-F:在苯基的4位取代的氟原子
·4-Pr:在苯基的4位取代的丙基
·4-PhO:在苯基的4位取代的苯氧基
可以独立地使用式(3)的空穴传输化合物中的一者或使用它们中两者或更多者的组合。此外,在不影响本发明示例性实施方案的范围内,根据需要,除了特定的空穴传输材料之外,还可以连同使用其它空穴传输材料。
此外,优选的是,除了式(3)的空穴传输化合物之外包含其它空穴传输材料时,相对于全部空穴传输材料,其它空穴传输材料的含量为小于或等于25重量%。
其它空穴传输材料的例子包括诸如三芳基胺化合物、联苯胺化合物、芳基烷化合物、芳基取代的乙烯基化合物、均二苯代乙烯化合物、蒽化合物和腙化合物等的化合物。
其它空穴传输材料的具体例子包括下文所述的由式(B-1)表示的化合物以及下文所述的由式(B-2)表示的化合物。
在式(B-1)中,RB1表示氢原子或甲基。n11表示1或2。ArB1和ArB2各自独立地表示取代或未取代芳基、-C6H4-C(RB3)=C(RB4)(RB5)或-C6H4-CH=CH-CH=C(RB6)(RB7);RB3至RB7各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基。取代基的例子包括卤原子、具有1至5个碳原子的烷基、具有1至5个碳原子的烷氧基、以及被具有1至3个碳原子的烷基取代的取代氨基。
在式(B-2)中,RB8和RB8’可以彼此相同或不同,并且各自独立地表示氢原子、卤原子、具有1至5个碳原子的烷基、或具有1至5个碳原子的烷氧基。RB9、RB9’、RB10和RB10’可以相同或不同,并且各自独立地表示卤原子、具有1至5个碳原子的烷基、具有1至5个碳原子的烷氧基、被具有1至2个碳原子的烷基取代的氨基、取代或未取代的芳基、-C(RB11)=C(RB12)(RB13)或-CH=CH-CH=C(RB14)(RB15);并且RB11至RB15各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基。m12、m13、n12和n13各自独立地表示0至2的整数。
此处,在由式(B-1)表示化合物和由式(B-2)表示化合物中,具有"-C6H4-CH=CH-CH=C(RB6)(RB7)"的由式(B-1)表示化合物以及具有"-CH=CH-CH=C(RB14)(RB15)"的由式(B-2)表示化合物是特别优选的。
相对于感光层的总固形物含量,空穴传输材料的含量为10重量%至40重量%,并且优选为20重量%至35重量%。
此外,当使用两种或更多中空穴传输材料时,空穴传输材料的含量是全部空穴传输材料的含量。
空穴传输材料与电荷传输材料之比
空穴传输材料与电子传输材料的重量比(空穴传输材料/电子传输材料)优选为50/50至90/10,更优选为60/40至80/20。
此外,当连同使用其它电荷传输材料时,该比例是总量之比。
其它添加剂
单层型感光层可含有其它已知的添加剂,如表面活性剂、抗氧化剂、光稳定剂和热稳定剂。此外,当单层型感光层为表面层的情况时,其可含有氟树脂颗粒、硅油等。
单层型感光层的形成
通过使用感光层形成用涂布液形成单层型感光层,该感光层形成用涂布液是通过向溶剂中加入上述成分而获得的。
溶剂的例子包括通常的有机溶剂,例如:芳香烃溶剂,如苯、甲苯、二甲苯和氯苯;酮溶剂,如丙酮和2-丁酮;卤代脂肪烃溶剂,如二氯甲烷、氯仿和二氯乙烷;以及环状醚溶剂或直链醚溶剂,如四氢呋喃和乙醚。这些溶剂可单独使用或使用其两种或更多种的组合。
作为将颗粒(例如,电荷发生材料)分散于感光层形成用涂布液中的方法,可列举:介质分散机,如球磨机、振动球磨机、碾磨机、砂磨机和卧式砂磨机;或者无介质分散机,如搅拌机、超声分散机、辊磨机、或高压均质器。高压均质器的例子包括在高压状态下通过分散液的液-液碰撞或液-壁碰撞以将颗粒分散的碰撞型均质器;或者在高压状态下穿过微细的流路从而将颗粒分散的贯穿型均质器(penetration type homogenizer)。
用感光层形成用涂布液涂布底涂层的方法的例子包括浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、气刀涂布法和帘涂法。
单层型感光层的膜厚度优选为5μm至60μm的范围内,更优选为5μm至50μm的范围内,还更优选为10μm至40μm的范围内。
其它层
如上所述,根据需要,根据本发明示例性实施方案的感光体可以设置有其它层。其它层的例子包括保护层,其设置在感光层之上作为最外表面层。设置保护层的目的是(例如)为了防止在充电时感光层发生化学变化,或是为了进一步提高感光体表面的机械强度。为此,使用由固化膜(交联膜)形成的层作为保护层。这些层的例子包括由下文1)和2)表示的层。
1)由组成中含有含反应性基团的电荷传输材料的固化膜构成的层(即,含有含反应性基团的电荷传输材料的聚合物或交联体的层),其中该含反应性基团的电荷传输材料在同一分子中具有反应性基团以及电荷传输骨架,
2)由组成中含有非反应性电荷传输材料以及含反应性基团的非电荷传输材料的固化膜构成的层(即,含有非反应性电荷传输材料以及含反应性基团的非电荷传输材料的聚合物或交联体的层),其中所述含反应性基团的非电荷传输材料具有反应性基团,而不具有电荷传输骨架。
含反应性基团的电荷传输材料中的反应性基团的例子包括已知反应性基团,如链聚合性基团、环氧基、-OH、-OR(此处,R表示烷基)、-NH2、-SH、-COOH和-SiRQ1 3-Qn(ORQ2)Qn(此处,RQ1表示氢原子、烷基、或者取代或未取代的芳基,RQ2表示氢原子、烷基、或三烷基甲硅烷基,并且Qn表示1至3的整数)。
对链聚合性基团没有特别的限制,只要该链聚合性基团为能够进行自由基聚合性的官能团即可,并且该链聚合性基团包括具有至少包含碳双键基团的官能团。链聚合性基团的具体例子含有选自乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基硫醚基、乙烯基苯基、苯乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及其衍生物等中的至少一者的基团。其中,从具有优异的反应性的角度考虑,链聚合性基团优选是含有选自乙烯基、乙烯基苯基、苯乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及其衍生物中的至少一者的基团。
对含反应性基团的电荷传输材料的电荷传输骨架没有特别的限制,只要该电荷传输骨架具有电子照相感光体中已知的结构即可,其例子包括衍生自含氮空穴传输化合物(例如三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物或腙系化合物)的骨架,该骨架具有与氮原子共轭的结构。其中,优选三芳基胺骨架。
含反应性基团的电荷传输材料包含反应性基团以及电荷传输骨架,非反应性电荷传输材料和含反应性基团的非电荷传输材料可选自已知材料。
保护层可含有其它已知的添加剂。
对保护层的形成没有特别的限制,可使用已知的形成方法。例如,在形成保护层时,由保护层形成用涂布液形成涂膜,将该涂膜干燥,随后根据需要进行硬化处理(如加热),其中该保护层形成用涂布液是通过将上述成分加入溶剂中而获得的。
用于制备保护层形成用涂布液的溶剂的例子包括芳族溶剂,例如甲苯或二甲苯;酮类溶剂,例如甲基乙基酮、甲基异丁基酮和环己酮;酯类溶剂,例如乙酸乙酯或乙酸丁酯;醚类溶剂,例如四氢呋喃和二噁烷;溶纤剂类溶剂,例如乙二醇单甲醚;和醇类溶剂,例如异丙醇和丁醇。这些溶剂可单独使用、或者两种或更多种组合使用。
此外,保护层形成用涂布液可为不含溶剂的涂布液。
利用保护层形成用涂布液涂布感光层的方法的例子包括常见方法,如浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、气刀涂布法和帘涂法。
保护层的膜厚(例如)优选为1μm至20μm,更优选为2μm至10μm。
成像装置(和处理盒)
根据本发明示例性实施方案的成像装置包括:电子照相感光体;充电单元,其对所述电子照相感光体的表面充电;静电潜像形成单元,其在已充电的电子照相感光体的表面上形成静电潜像;显影单元,其利用包含调色剂的显影剂将形成于电子照相感光体的表面上的静电潜像显影,并形成调色剂图像;以及转印单元,其将调色剂图像转印至记录介质的表面上。此外,作为电子照相感光体,使用上述根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体。
作为根据本发明示例性实施方案的成像装置,包括已知成像装置,如包括这样的定影单元的装置,该定影单元将已转印至记录介质表面的调色剂图像定影;直接转印型装置,该直接转印型装置将形成于电子照相感光体表面上的调色剂图像直接转印至记录介质上;中间转印型装置,该中间转印型装置将形成于电子照相感光体表面上的调色剂图像一次转印至中间转印部件的表面上,然后将已转印至一次转印部件表面上的调色剂图像二次转印至记录介质的表面上;设置有清洁单元的装置,该清洁单元在调色剂转印之后、充电之前对电子照相感光体的表面进行清洁;设置有除电单元(erasing unit)的装置,在调色剂图像转印之后、充电之前,该除电单元利用除电光照射图像保持部件的表面以进行除电;以及设置有电子照相感光体的加热单元的装置,该加热单元用于通过提高电子照相感光体的温度从而降低相对温度。
在中间转印型装置的情况中,转印单元的构成例如包括:中间转印部件,调色剂图像被转印至该中间转印部件的表面上;一次转印单元,其将形成于图像保持部件的表面上的调色剂图像一次转印至中间转印部件的表面上;和二次转印单元,其将已转印至中间转印部件的表面上的调色剂图像二次转印至记录介质的表面上。
根据本发明示例性实施方案的成像装置可为具有干式显影系统的成像装置和具有湿式显影系统(使用液体显影剂的显影系统)的成像装置中的任意一种。
此外,在根据本示例性实施方案的成像装置中,设置有电子照相感光体的部分(例如)可以是能够从成像装置上拆卸下来的盒结构(处理盒)。作为该处理盒,(例如)适宜使用包括根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体的处理盒。此外,除了该电子照相感光体外,处理盒可还包括选自由(例如)充电单元、静电潜像形成单元、显影单元和转印单元构成的组中的至少一者。
下文示出了本发明示例性实施方案的成像装置的一个例子,但本发明并不限于此。此外,描述了图中示出的主要部件,省略了其它解释。
图2为示意性示出根据本发明示例性实施方案的成像装置的构成的图。
如图2所示,根据本发明示例性实施方案的成像装置100设有:具有电子照相感光体7的处理盒300、曝光装置9(静电潜像形成单元的一个例子)、转印装置40(一次转印装置)、以及中间转印部件50。此外,在成像装置100中,曝光装置9被设置在这样一个位置:其中曝光装置9可以通过处理盒300中的开口而将光照射在电子照相感光体7上,并且转印装置40隔着中间转印部件50而设置在与电子照相感光体7相对的位置。中间转印部件50设置为与电子照相感光体7部分接触。此外,虽然图中没有显示,但该成像装置还包括将转印到中间转印部件50上的调色剂图像转印到记录介质(例如,纸)上的二次转印装置。此外,中间转印部件50、转印装置40(一次转印装置)、和二次转印装置(未示出)相当于转印单元的实例。
图2中的处理盒300支撑在壳体内作为一个整体的电子照相感光体7、充电装置8(充电单元的一个例子)、显影装置11(显影单元的一个例子)和清洁装置13(清洁单元的一个例子)。清洁装置13具有清洁刮片(清洁部件的一个例子)131,且该清洁刮片131被设置为与电子照相感光体7的表面相接触。此外,清洁部件可为导电性或绝缘性纤维部件(其并不是清洁刮片131的典型的实施方案),并可单独使用、或者与清洁刮片131组合使用。
此外,作为成像装置,图2示出了这样的例子,其中成像装置包括用于向电子照相感光体7的表面上供给润滑剂14的纤维状部件132(辊状)、以及有助于清洁工艺的纤维状部件133(呈平刷状),但这些部件可视需要而设置。
以下,将描述根据本发明示例性实施方案的成像装置的各个构成。
充电装置
作为充电装置8,例如,使用采用导电性或半导电性的充电辊、充电刷、充电膜、充电橡胶刮片、充电管等的接触型充电装置。此外,还可使用已知的充电装置本身如非接触型辊状充电器,以及利用了电晕放电的栅格充电器和电晕管充电器。
曝光装置
曝光装置9可以是以预定的成像方式(image-wise manner)将电子照相感光体7的表面曝光于射线(如半导体激光射线、LED射线和液晶快门射线)下的光学设备。光源的波长可以是在电子照相感光体的光谱敏感波长范围内的波长。作为半导体激光的波长,主要是激光发射波长在780nm附近的近红外波长。然而,可使用的激光射线波长并不局限于这种波长,并可使用发射波长在600nm范围的激光、或者作为蓝色激光的具有在400nm至450nm范围内的任意发射波长的激光。为形成彩色图像,使用能够获得多波束输出的平面发光型激光光源是有效的。
显影装置
作为显影装置11,例如可使用常用显影装置,其中成像时与磁性或非磁性单组份或双组份显影剂接触或不接触。对这种显影装置11没有特别限定,只要其具有上述功能即可,并且可根据所需用途适当选择。其例子包括已知的显影装置,其中利用刷或辊将单组份或双组份显影剂施加至电子照相感光体7上。其中,使用在其表面上保持有显影剂的显影辊的显影装置是优选的。
显影装置11中使用的显影剂可以是仅由调色剂形成的单组份显影剂、或者是由调色剂和载体形成的双组份显影剂。此外,显影剂可为磁性显影剂或非磁性显影剂。作为这些显影剂,可使用已知显影剂。
清洁装置
作为清洁装置13,使用设有清洁刮片131的清洁刮片型装置。
此外,除了清洁刮片型,还可使用毛刷清洁型,以及同时进行显影和清洁的类型。
转印装置
转印装置40的例子包括已知的转印充电装置自身,如使用带、辊、膜、橡胶片等的接触型转印充电装置;利用电晕放电的栅格转印充电装置和电晕管转印充电装置。
中间转印部件
作为中间转印部件50,可使用被赋予半导电性的由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等构成的带形式(中间转印带)。另外,除了带形式以外,所述中间转印部件还可采取鼓的形式。
图3是示出了本发明示例性实施方案的成像装置的另一个例子的示意性结构图。
图3所示成像装置120是其中配备有四个处理盒300的串联型全色成像装置。在成像装置120中,四个处理盒300彼此平行地置于中间转印部件50上,并且一个电子照相感光体可被用于一种颜色。此外,除了成像装置120是串联型以外,成像装置120与成像装置100具有相同的构造。
此外,根据本发明示例性实施方案的成像装置100不限于上述构成。例如,为了使得残留调色剂的极性均匀且有利于利用清洁刷等进行清洁,以设置在沿着电子照相感光体7的旋转方向的转印装置40的下游侧、以及沿着电子照相感光体7的旋转方向的清洁装置13的上游侧的方式,在电子照相感光体7周围设置第一除电装置。此外,为了对电子照相感光体7的表面除电,可以在沿着电子照相感光体的旋转方向的清洁装置13的下游侧、以及沿着电子照相感光体的旋转方向的充电装置8的上游侧设置第二除电装置。
另外,根据本发明示例性实施方案的成像装置100并不局限于上述构造,可以应用已知的构造,例如,将形成于电子照相感光体7上的调色剂图像直接转印至记录介质的成像装置。
实施例
下文中将结合实施例和比较例对本发明示例性实施方案进行详细说明,但是本发明示例性实施方案不限于这些实施例。此外,在以下说明中,除非另外指明,否则“份”、“重量份”和“%”均基于重量计算。
实施例1
感光层的形成
使用直径为的玻璃珠将包含以下物质的混合物分散于砂磨机中4小时:下文描述的表1中示出的1.5重量份的羟基镓酞菁颜料作为电荷产生材料,60.5重量份的双酚Z聚碳酸酯(粘性平均分子量:50,000)作为粘结剂树脂,组成比如下文描述的表1所示(但是,组成比的详情示于表3中)作为电子传输材料,下文描述的表1中示出的34重量份的空穴传输材料作为空穴传输材料,以及250重量份的四氢呋喃作为溶剂,由此获得感光层形成用涂布液。
采用浸涂法,将所得的感光层形成用涂布液涂布到直径为30mm、长度为244.5mm、厚度为1mm的铝基材料上,在140℃下干燥并固化30分钟,由此形成厚度为30μm的单层型感光层。
通过上述步骤制备电子照相感光体。
实施例2至17和比较例1至20
按照与实施例1相同的方式制备电子照相感光体,不同之处在于电子传输材料(在表中以“ETM”示出)的组成比(但是,组成比的详情示于表3)、空穴传输材料(在表中以“HTM”示出)的类型和添加量以及电荷产生材料(在表中以“CGM”示出)的类型按照表1和2改变。但是,当改变各组分的量时,升高或降低粘结剂树脂的量(份数)使得感光层的总含量为100重量份。
此外,在表1至3中,“-”表示没有添加材料。
评价
对每个所得的电子照相感光体进行以下评价。结果示于表1和2中。此外,在各所得的电子照相感光体中,包含表3示出的组成比的电子传输材料的感光层的平均损失弹性模量(在包括35℃至50C的温度和0.5Hz频率的条件下测量动态粘弹性时的平均损失弹性模量)示于表3。
色斑的评价
如下所述对色斑进行评价。在28℃及湿度为85%的高温高湿环境下,使用安装有感光体HL5340D(由Brother公司制造)的改装清洁机。在+800V的充电电压下打印2,000张50%半色调图像。之后,将装置静止过夜,第二天早上将空白纸装入机器中,对在白纸上形成的色斑的数量计数,并基于如下标准进行评价。
A:未产生色斑。
B:确认到1至9个色斑。
C:确认到10个以上的色斑。
感光体灵敏度的评价
将感光体灵敏度评价为将其充电至+800V时的半衰曝光量(half-reduction exposure amount)。具体来说,使用静电复印纸试验装置(静电分析仪EPA-8100,Kawaguchi Electric Works制造)在20℃和40%RH的环境中将感光体充电至+800V,然后以在感光体的表面上提供1μW/cm2的方式用800nm的单色光照射感光体,该单色光是使用单色仪由钨灯的光中获得的。
之后,测量刚刚充电后感光体表面的电势V0(V)、以及通过用光照射感光体表面使得表面电势变成1/2×V0(V)时的半衰曝光量E1/2(μJ/cm2)。评价标准如下。
A;半衰曝光量小于或等于0.15μJ/cm2。
B;半衰曝光量大于0.15μJ/cm2并且小于或等于0.18μJ/cm2。
C;半衰曝光量大于0.18μJ/cm2并且小于或等于0.20μJ/cm2。
D;半衰曝光量大于0.20μJ/cm2。
表1
表2
表3
从以上结果可以看出,在本实施例中获知的是,与比较例相比,色斑数减少,并且灵敏度提高。
此外,表1至表3中缩写的详情如下。
电子传输材料
·ETM1:由式(1)表示的电子传输材料的示例性化合物(1-14)
·ETM2:由式(2)表示的电子传输材料的示例性化合物(2-3)
·ETM3:由式(2)表示的电子传输材料的示例性化合物(2-2)
·ETM4:由式(1)表示的电子传输材料的示例性化合物(1-2)
·ETM5:由式(1)表示的电子传输材料的示例性化合物(1-11)
·ETM6:由式(1)表示的电子传输材料的示例性化合物(1-17)
·ETM7:具有以下结构的电子传输材料ETM7
空穴传输材料
·HTM1:由式(3)表示的空穴传输材料的示例性化合物(3-1)
·HTM2:由式(3)表示的空穴传输材料的示例性化合物(3-21)
·HTM3:由式(3)表示的空穴传输材料的示例性化合物(3-41)
·HTM4:具有以下结构的空穴传输材料HTM4
·HTM5:N,N’-二苯基-N,N’-双(3-甲基苯基)-[1,1’]二苯基-4,4’-二胺(具有以下结构的空穴传输材料HTM5)
电荷产生材料
·CGM1(ClGaPC):氯镓酞菁:其在使用CuKα特征X射线的X射线衍射光谱中在至少7.4°、16.6°、25.5°和28.3°的布拉格角(2θ±0.2°)的位置处具有衍射峰的氯镓酞菁颜料(在600nm至900nm的波长范围内的光谱吸收谱的最大峰波长:780nm,平均粒径:0.15μm,最大粒径:0.2μm,比表面积值:56m2/g)
·CGM2(HOGaPC):羟基镓酞菁(V-型):在使用CuKα特征X射线的X射线衍射光谱中在至少7.3°、16.0°、24.9°和28.0°的布拉格角(2θ±0.2°)的位置处具有衍射峰V-型羟基镓酞菁颜料(在600nm至900nm的波长范围内的光谱吸收谱的最大峰波长:820nm,平均粒径:0.12μm,最大粒径:0.2μm,比表面积值:60m2/g)
·CGM3(H2PC):X-型无金属酞菁(氢原子配位在酞菁骨架中心的酞菁)
提供对本发明示例性实施方案的上述描述是为了举例和说明。并非旨在穷举,或将本发明限制为所公开的精确形式。明显地,对于本领域技术人员而言,许多变型和修改将是显而易见的。选择并描述这些实施方案为的是更好地说明本发明的原理及其实际应用,从而使得本领域技术人员理解本发明的多种实施方案,并且其多种变型适用于所预期的特定用途。本发明的范围旨在通过所附权利要求及其等同形式来限定。
Claims (9)
1.一种电子照相感光体,包括:
导电性基体,以及
单层型感光层,其设置在所述导电性基体上并且包含粘合剂树脂、选自羟基镓酞菁颜料和氯镓酞菁颜料的至少一种的电荷产生材料、由以下式(1)表示的第一电子传输材料、由以下式(2)表示的第二电子传输材料以及由以下式(3)表示的空穴传输材料,
其中相对于100重量份的所述感光层的总固形物含量,全部电子传输材料的总含量大于或等于4重量份,并且在35℃至50℃的温度和0.5Hz的频率的条件下测定动态粘弹性时,所述感光层的平均损失弹性模量E"小于或等于1.000×106,
其中R11、R12、R13、R14、R15、R16和R17各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基,R18表示烷基、-L19-O-R20、芳基或芳烷基,L19表示亚烷基,并且R20表示烷基;
其中R21、R22、R23和R24各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、卤原子或苯基;以及
其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、苯氧基、卤原子、或可具有选自烷基、烷氧基和卤原子的取代基的苯基,并且p和q各自独立表示0或1。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光体,
其中,所述单层型感光层的平均损失弹性模量E"小于或等于8.0×105。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光体,
其中,所述电荷产生材料是V型羟基镓酞菁颜料。
4.根据权利要求1所述的电子照相感光体,
其中,所述空穴传输材料是其中式(3)中的p和q各自表示1的空穴传输材料。
5.根据权利要求1所述的电子照相感光体,
其中,所述第一电子传输材料是由式(1)表示的电子传输材料,其中R18表示芳烷基或具有5至10个碳原子的支链烷基。
6.根据权利要求1所述的电子照相感光体,
其中,所述第二电子传输材料是由式(2)表示的电子传输材料,其中R21至R24中的至少一者表示具有4个碳原子的支链烷基。
7.根据权利要求1所述的电子照相感光体,
其中,所述第一电子传输材料与所述第二电子传输材料的重量比(式(1)的第一电子传输材料/式(2)的第二电子传输材料)是2/1至4/1。
8.一种处理盒,所述处理盒能从成像装置中拆卸下来,包括:
根据权利要求1至7中任一项所述的电子照相感光体。
9.一种成像装置,包括:
根据权利要求1至7中任一项所述的电子照相感光体;
充电单元,其对所述电子照相感光体的表面进行充电;
静电潜像形成单元,其在已经带电的所述电子照相感光体的表面上形成静电潜像;
显影单元,其利用包含调色剂的显影剂将形成于所述电子照相感光体表面上的静电潜像显影,以形成调色剂图像;以及
转印单元,其将所述调色剂图像转印到记录介质的表面。
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