一种剃须刀外壳镜面加工工艺
技术领域
本发明涉及抛光技术领域,具体涉及一种剃须刀外壳镜面加工工艺。
背景技术
现有技术中,剃须刀作为一种修容工具,搭配镜子使用是非常必要的,市场也不乏一些厂家在生产装配了镜子的剃须刀外壳,但是镜子作为易碎物品,而剃须刀作为需要经常移动位置的使用工具,极易发生摔落而导致镜子破碎,既容易伤害人体,且镜子摔坏后的剃须刀由于安全隐患问题也不会被继续使用,大大降低了产品的生命周期。
因此急需一种抛光工艺实现剃须刀外壳上金属层的镜面效果,解决传统装配镜子的剃须刀的安全和实用性问题,而传统的抛光工艺的步骤一般为首先通过水磨砂纸交叉打磨后采用研磨液或研磨膏精抛光,如专利申请号为201410497821.0的专利文件,但水磨砂纸打磨既费时间,也损耗过多的金属材料,若出现差错,更是需要不断的重复打磨重新磨出平坦金属层,且不适用于曲面打磨,而剃须刀外壳需求较薄的金属层,故传统的抛光工艺难以实现剃须刀外壳的镜面抛光。
发明内容
本发明的目的是针对传统抛光工艺难以实现剃须刀外壳的镜面抛光,提供一种时间短、金属损耗小、出错率低的剃须刀外壳镜面加工工艺,解决现有装配镜子的剃须刀不安全和低实用性的问题。
本发明的目的通过以下技术方案实现:
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:(1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为1000-5000目;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为白刚玉和/或立方氮化硅微粉,优选地,所述白刚玉与立方氮化硅微粉的重量比为3:1,所述磨料成分的粒度为6000-12000目。
本工艺首先通过超声波清洗去除待加工金属层表面的油脂、污渍等杂质,然后利用水喷砂工艺去除待加工金属层表面的毛刺、氧化皮等,还原金属本色,提高光洁度,实现待加工金属层亚光效果,最后利用粒度更好的抛光液进行精抛光,使待加工金属层表面粗糙度达到0.8μm以下,实现待加工金属层的镜面效果。
其中,所述步骤(2)水喷砂抛光的具体步骤为依次利用石英砂粒度为1000-3000、3000-5000的石英砂抛光液对所述待加工金属层进行交叉水喷砂抛光处理。借鉴水磨砂纸交叉打磨的方式,用粒度较大的石英砂抛光液掩盖粒度较小的石英砂抛光液的喷砂痕迹,避免出现划痕太深的现象。
其中,所述步骤(2)水喷砂抛光的抛光时间为30-60s,喷砂压力为0.1-0.3Mpa,喷射流与待加工金属层的夹角为15-60°。抛光时间、喷砂压力、喷射流角度是影响冲击磨削效果的重要因素,设置得太高,则冲击作用太强,易出现划痕;设置得太低,磨削作用太弱,不利于后续的研磨精抛光。
其中,所述步骤(3)研磨精抛光的研磨压力为0.3-0.7N/cm2,抛光时间为1-10min。研磨压力低于0.3 N/cm2,则研磨作用太弱,无法抛光出良好的镜面效果;研磨压力高于0.7N/cm2,则待加工金属层表面容易出现划痕,且使磨料进一步粉碎,抛光效果难以提升,抛光时间设置在1-10min,保障处理后的产品的镜面效果,且随着抛光时间的增长,磨料会被粉碎,继续抛光,抛光效果不能得到明显的提升,反而容易增加产品的废品率。
其中,所述步骤(3)之后还包括步骤(4a)化学抛光:利用化学抛光液对所述待加工金属层进行抛光处理,其中所述化学抛光液包括以下重量占比的原料:10%-30%的乙二酸、10-30%柠檬酸、10%-30%酒石酸、40%-50%的硫酸、1%-3%的阻垢缓蚀剂和1%-3%的金属螯合剂,所述化学抛光液的pH为1-3,所述阻垢缓蚀剂为羟基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸钠中的至少一种,所述金属螯合剂为EDTA。进一步使用了一种化学抛光液进行化学抛光,化学抛光液无硝酸成分,使用过程中不会产品黄烟等有害物质,该化学抛光液会腐蚀金属层凹凸不平的地方,产生的金属离子被金属螯合剂捕获,阻垢缓蚀剂能够在金属层形成保护层,防止化学抛光液的过度腐蚀。
其中,所述步骤(3)之后还包括步骤(4b)电解抛光:将所述待加工金属层作为阳极放入1800g/L~2000g/L的硫酸溶液中,在温度40℃~60℃,电压12V~18V的条件下电解2min~4min。电解抛光的质量与电解液以及电流与电压的大小有关。而影响电解抛光的参数较多,不易找到正确的电解抛光参数。发明人通过不断的实践,才得到了本工艺进一步通过电解抛光提供抛光效果的工艺参数,使待加工金属层的表面粗糙度能到降低到0.1μm以下。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 5-15份
一元羧酸 4-8份
水 50-60份
其中,所述一元羧酸为甲酸、乙酸、丙酸中的至少一种。本发明提供了一种石英砂抛光液的优选配方,能够有效的切削金属,利用该石英砂抛光液,可使表面粗糙度降低到1.0μm以下。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 10-20份
煤油 50-60份
植物油 5-10份
软脂酸 40-50份
光亮剂 0-2份
表面活性剂 0-2份
其中,所述光亮剂为苯并三氮唑、壬烷基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵中的至少一种,所述表面活性剂为十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺中的至少一种,优选地,所述表面活性剂为十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺按重量份数比2:1的比例混合组成,十二烷基硫酸钠为阴离子表面活性剂,易溶于水,与阴离子、非离子复配伍性好,具有良好的乳化、发泡、渗透、去污和分散性能;椰子油脂肪酸二乙醇酰胺具有良好的发泡、稳泡、渗透去污、抗硬水等功能,属非离子表面活性剂,本配比的表面活性剂配伍性极强。使用该精抛光液,可使表面粗糙度降低到0.6μm以下。
更进一步地,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 14-16份
煤油 54-46份
植物油 7-8份
软脂酸 44-46份
光亮剂 1-2份
表面活性剂 1-2份。
本发明还提供了一种镜面剃须刀外壳,所述剃须刀外壳设有镜面金属层,所述镜面金属层为平直板形或/和光滑凹面,所述镜面金属层为待加工金属层通过如上所述的一种镜面加工工艺加工形成的,所述剃须刀外壳为塑料或金属外壳,若剃须刀外壳为塑料外壳,则所述待加工金属层为电镀在塑料外壳上的金属层;若剃须刀外壳为金属外壳,则所述待加工金属层为金属外壳的一部分。通过本发明工艺加工得到的镜面剃须刀外壳,外壳的主原料不单一,可以为全金属,也可以为金属和塑料,镜面金属层的形状可设置成平面镜或/和凹面镜的形式,起到普通镜面或/和放大镜效果。
本发明的有益效果:1、本发明提供的镜面加工工艺,时间短、金属损耗小、出错率低,整个工序的时间控制在1个小时内,通过二次物理抛光,使待加工金属层达到镜面效果,粗糙度在0.8μm以下;2、该工艺加工得到的镜面剃须刀外壳,实用性高,不存在安全隐患问题,外壳样式及镜面效果多样。
具体实施方式
结合以下实施例对本发明作进一步描述。
实施例1
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:(1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗5min,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理45s,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为3000目;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光5min,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为白刚玉和立方氮化硅微粉,所述磨料成分的粒度为9000目。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 10份
一元羧酸 6份
水 55份
其中,所述一元羧酸由甲酸、乙酸、丙酸按重量比1:1:1的比例混合组成。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 15份
煤油 55份
植物油 7.5份
软脂酸 45份
光亮剂 1份
表面活性剂 1份
其中,所述光亮剂由苯并三氮唑、壬烷基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵按重量比1:1:1的比例混合组成,所述表面活性剂由十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺按重量比2:1的比例混合组成。
实施例2
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:(1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为1000目,水喷砂抛光的抛光时间为45s,喷砂压力为0.2Mpa,喷射流与待加工金属层的夹角为35°;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为白刚玉,所述磨料成分的粒度为6000目,研磨精抛光的研磨压力为0.5N/cm2,抛光时间为5.5min。(4a)化学抛光:利用化学抛光液对所述待加工金属层进行抛光处理,其中所述化学抛光液包括以下重量占比的原料:17%的乙二酸、17%柠檬酸、17%酒石酸、45%的硫酸、2%的阻垢缓蚀剂和2%的金属螯合剂,所述化学抛光液的pH为2,所述阻垢缓蚀剂为羟基乙叉二膦酸,所述金属螯合剂为EDTA。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 5份
一元羧酸 4份
水 50份
其中,所述一元羧酸由甲酸、乙酸、丙酸按重量比1:2:3的比例混合组成。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 10份
煤油 50份
植物油 5份
软脂酸 40份。
实施例3
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:(1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为5000目,水喷砂抛光的抛光时间为30s,喷砂压力为0.1Mpa,喷射流与待加工金属层的夹角为15°;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为立方氮化硅微粉,所述磨料成分的粒度为12000目,研磨精抛光的研磨压力为0.3N/cm2,抛光时间为1min。(4a)化学抛光:利用化学抛光液对所述待加工金属层进行抛光处理,其中所述化学抛光液包括以下重量占比的原料: 30%的乙二酸、10%柠檬酸、10%酒石酸、44%的硫酸、3%的阻垢缓蚀剂和3%的金属螯合剂,所述化学抛光液的pH为1,所述阻垢缓蚀剂为乙二胺四甲叉膦酸钠中的至少一种,所述金属螯合剂为EDTA。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 15份
一元羧酸 8份
水 60份
其中,所述一元羧酸为甲酸。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 20份
煤油 60份
植物油 10份
软脂酸 50份
光亮剂 2份
表面活性剂 2份
其中,所述光亮剂由苯并三氮唑、十六烷基三甲基溴化铵按重量比1:3的比例混合组成,所述表面活性剂由十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺按重量比2:3的比例混合组成。
实施例4
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:(1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为2500目,水喷砂抛光的抛光时间为60s,喷砂压力为0.3Mpa,喷射流与待加工金属层的夹角为60°;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为白刚玉和立方氮化硅微粉,所述磨料成分的粒度为7000目,研磨精抛光的研磨压力为0.7N/cm2,抛光时间为10min。(4b)电解抛光:将所述待加工金属层作为阳极放入1900g/L的硫酸溶液中,在温度50℃,电压16V的条件下电解3min。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 8份
一元羧酸 7份
水 56份
其中,所述一元羧酸由乙酸、丙酸按重量比1:3的比例混合组成。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 14份
煤油 54份
植物油 7份
软脂酸 42份
光亮剂 1.2份
表面活性剂 1.2份
其中,所述光亮剂由苯并三氮唑、壬烷基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵按重量比1:2:4的比例混合组成,所述表面活性剂由十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺按重量比3:2的比例混合组成。
实施例5
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:(1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为4000目,水喷砂抛光的抛光时间为40s,喷砂压力为0.15Mpa,喷射流与待加工金属层的夹角为20°;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为白刚玉和立方氮化硅微粉,所述磨料成分的粒度为10000目,研磨精抛光的研磨压力为0.4N/cm2,抛光时间为3min。(4b)电解抛光:将所述待加工金属层作为阳极放入1800g/L的硫酸溶液中,在温度40℃,电压12V的条件下电解2min。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 12份
一元羧酸 7份
水 57份
其中,所述一元羧酸由甲酸、丙酸按重量比5:1的比例混合组成。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 13份
煤油 53份
植物油 8份
软脂酸 47份
光亮剂 1.6份
表面活性剂 1.6份
其中,所述光亮剂由苯并三氮唑、壬烷基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵按重量比3:1:2的比例混合组成,所述表面活性剂由十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺按重量比1:2的比例混合组成。
实施例6
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:((1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为3500目,水喷砂抛光的抛光时间为55s,喷砂压力为0.25Mpa,喷射流与待加工金属层的夹角为20°;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为白刚玉和立方氮化硅微粉,所述磨料成分的粒度为8000目,研磨精抛光的研磨压力为0.6N/cm2,抛光时间为2min。(4a)化学抛光:利用化学抛光液对所述待加工金属层进行抛光处理,其中所述化学抛光液包括以下重量占比的原料:20%的乙二酸、15%柠檬酸、15%酒石酸、46%的硫酸、1%的阻垢缓蚀剂和3%的金属螯合剂,所述化学抛光液的pH为3,所述阻垢缓蚀剂由羟基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸钠按重量比2:1的比例混合组成,所述金属螯合剂为EDTA。(4b)电解抛光:将所述待加工金属层作为阳极放入2000g/L的硫酸溶液中,在温度60℃,电压18V的条件下电解4min。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 7份
一元羧酸 5份
水 52份
其中,所述一元羧酸由甲酸、丙酸按重量比1:1的比例混合组成。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 13份
煤油 57份
植物油 6份
软脂酸 43份
光亮剂 0.5份
表面活性剂 0.5份
其中,所述光亮剂由苯并三氮唑、壬烷基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵按重量比1:1:2的比例混合组成,所述表面活性剂由十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺按重量比1:4的比例混合组成。
实施例7
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:((1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为4600目,水喷砂抛光的抛光时间为35s,喷砂压力为0.2Mpa,喷射流与待加工金属层的夹角为30°;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为白刚玉和立方氮化硅微粉,所述磨料成分的粒度为11000目,研磨精抛光的研磨压力为0.4N/cm2,抛光时间为7min。(4a)化学抛光:利用化学抛光液对所述待加工金属层进行抛光处理,其中所述化学抛光液包括以下重量占比的原料:25%的乙二酸、10%柠檬酸、20%酒石酸、40%的硫酸、2%的阻垢缓蚀剂和3%的金属螯合剂,所述化学抛光液的pH为2,所述阻垢缓蚀剂乙二胺四甲叉膦酸钠,所述金属螯合剂为EDTA。(4b)电解抛光:将所述待加工金属层作为阳极放入1850g/L的硫酸溶液中,在温度45℃,电压14V的条件下电解3.5min。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 10份
一元羧酸 8份
水 58份
其中,所述一元羧酸由甲酸、乙酸按重量比3:1的比例混合组成。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 13份
煤油 54份
植物油 6份
软脂酸 42份
光亮剂 0.8份
表面活性剂 0.8份
其中,所述光亮剂由苯并三氮唑、壬烷基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵按重量比1:6:5的比例混合组成,所述表面活性剂由十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺按重量比2:1的比例混合组成。
实施例8
一种剃须刀外壳镜面加工工艺,对待加工金属层进行如下操作:((1)清洗:将所述待加工金属层浸泡于碱性溶液中进行超声波清洗,再用清水清洗;(2)水喷砂抛光:利用石英砂抛光液对所述待加工金属层进行水喷砂抛光处理,再用清水清洗,所述石英砂抛光液包括石英砂,所述石英砂的粒度为1500目,水喷砂抛光的抛光时间为50s,喷砂压力为0.25Mpa,喷射流与待加工金属层的夹角为50°;(3)研磨精抛光:利用精抛光液对所述待加工金属层进行抛光垫研磨精抛光,所述精抛光液包括磨料成分,所述磨料成分为白刚玉和立方氮化硅微粉,所述磨料成分的粒度为7500目,研磨精抛光的研磨压力为0.45N/cm2,抛光时间为6min。(4a)化学抛光:利用化学抛光液对所述待加工金属层进行抛光处理,其中所述化学抛光液包括以下重量占比的原料:15%的乙二酸、20%柠檬酸、15%酒石酸、48%的硫酸、1%的阻垢缓蚀剂和1%的金属螯合剂,所述化学抛光液的pH为2.5,所述阻垢缓蚀剂为羟基乙叉二膦酸,所述金属螯合剂为EDTA。(4b)电解抛光:将所述待加工金属层作为阳极放入1950g/L的硫酸溶液中,在温度55℃,电压17V的条件下电解3.8min。
其中,所述石英砂抛光液由以下重量份数的原料:
石英砂 12份
一元羧酸 7.5份
水 59份
其中,所述一元羧酸由甲酸、乙酸、丙酸按重量比4:1:5的比例混合组成。
其中,所述精抛光液由以下重量份数的原料组成:
磨料成分 11份
煤油 51份
植物油 6份
软脂酸 43份
光亮剂 0.9份
表面活性剂 1.2份
其中,所述光亮剂由苯并三氮唑、壬烷基酚聚氧乙烯醚、十六烷基三甲基溴化铵按重量比3:3:4的比例混合组成,所述表面活性剂由十二烷基磺酸钠和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺按重量比7:3的比例混合组成。
最后应当说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对本发明保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和范围。