CN105753336B - 一种表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，包括步骤(1)：醋酸镍、乙二醇胺、非离子性水溶性高分子和溶剂混合、搅匀制得镍前驱体溶液：步骤(2)：向镍前驱体溶液中投加硝酸水溶液，搅拌均匀后投加光聚合单体和光致引发剂，搅匀后制得镍溶胶；所述的光聚合单体的投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.1～1倍；步骤(3)：将步骤(2)制得的镍溶胶涂覆在基板上，干燥脱溶得到干膜；步骤(4)：所述干膜再在真空条件下热处理，制得碳—氧化镍复合薄膜；所述热处理的温度为400‑600℃。本发明还包括采用上述制备方法制得的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜，其具有良好光谱选择吸收性。
Description
技术领域
本发明涉及太阳光谱选择吸收薄膜光热领域，具体涉及一种表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜及其制备方法。
背景技术
太阳能光谱选择吸收膜要求在300nm～3000nm波段具有较高的吸收率，能够把太阳能转变为热能，同时又要在中远红外波段具有较高的反射率，以降低自身热辐射造成的热量损失。由于材料在中远红外波段辐射率是自由载流子与电磁波作用的结果，因此辐射率与薄膜电导率直接相关。传统选择吸收薄膜广泛采用串联结构，即在金属衬底上镀制介电材料薄膜，利用金属具有较高的电导率以获得低辐射率，利用介电材料薄膜获得高光谱吸收率。但是该类膜系具有多层膜结构，工艺复杂，控制难度增加，成本高。
多孔涂层通过控制涂层表面的形貌和结构，使表面不连续性的尺寸与可见光谱峰值相当，从而产生对可见光的陷光作用，即以黑洞的形式聚焦短波长的光，而对红外辐射具有很好的反射作用，即以平面形式辐射光。这样可以保持其高吸收率的同时具备较低的发射率。
多孔太阳能选择性吸收薄膜常用的制备工艺有磁控溅射法、电化学转换法、电镀法、涂料法、气相沉积法、溶胶-凝胶法等。
溶胶-凝胶法(Sol-gel method)通常将金属有机醇盐水解、缩聚形成稳定的溶胶，之后通过浸渍涂层、旋转涂层或者喷涂法施于经清洁处理后的基板表面，最后在一定温度下热处理制得金属氧化物薄膜。该法成分容易控制、制膜均匀、对基体形状要求很低且能制备大面积的膜、生产周期短成本低下等优点，成为制备薄膜材料的重要方法。
如，公开号为CN102888598A的中国专利文献公开了一种二氧化钛基选择吸收薄膜的制备方法，该方法通过用溶胶—凝胶法在基板上镀膜，然后对薄膜进行高真空下的热处理导致薄膜前驱体中的有机物部分或完全碳化，在TiO2基体中形成导电网络以及分立碳颗粒，获得的二氧化钛基薄膜。但该方案制备的薄膜主要是利用材料的本证吸收及碳颗粒提供的吸收，这样导致薄膜的吸收有限，而TiO2的折射率较高，相应的其辐射率也会较高，不利于光学性能的提高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种成本低廉、操作简单、易于工业化大面积生产的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法。
一种表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：
步骤(1)：醋酸镍、乙二醇胺、非离子性水溶性高分子和溶剂混合、搅匀制得镍前驱体溶液：
步骤(2)：向镍前驱体溶液中投加硝酸水溶液，搅拌均匀后投加光聚合单体和光致引发剂，搅匀后制得镍溶胶；所述的光聚合单体的投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.1～1倍；
步骤(3)：将步骤(2)制得的镍溶胶涂覆在基板上，干燥脱溶得到干膜；
步骤(4)：所述干膜再在真空条件下热处理，制得碳—氧化镍复合薄膜；所述热处理的温度为400-600℃。
本发明中，通过溶胶—凝胶法使镍溶胶负载在基板上，然后在真空条件下进行热处理使基板上镍溶胶中的有机物部分或完全碳化，形成导电碳网络以及碳颗粒，其中碳网络具有较好的导电性，赋予所述薄膜良好的低辐射性能；分立碳颗粒是堆积的无定形结构，赋予所述薄膜优良的光谱选择吸收性。所制得的薄膜表面为阵列有序排列的多孔结构，其对可见光产生陷光作用，而对红外辐射具有良好的反射作用，从而使所述薄膜具有优良的光谱选择吸收性能，在中远红外具有较高的反射率。本发明制备方法简单，容易在各种不同形状的基板上成膜、用料少、成本低、适合于工业化生产。
步骤(1)中，将醋酸镍、乙二醇胺加入到溶剂中，搅拌溶解均匀得到溶液A；再缓慢滴加预配的非离子性水溶性高分子溶液(溶液B)，搅拌混合均匀，得到镍前驱体溶液。
所述镍前驱体溶液中，醋酸镍、乙二醇胺、非离子型水溶性高分子和溶剂的摩尔比为1：0.2-0.6:0.02-0.08:10-30。
作为优选，步骤(1)中，溶液A和溶液B选取的溶剂一样。所述的溶剂为C1-4的单元醇或多元醇。进一步优选，所述的溶剂为乙醇。
所述镍前驱体溶液中，所述投料量的非离子型水溶性高分子可通过键合作用与氧化镍网络结构交联。作为优选，所述的非离子型水溶性高分子为聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚乙二醇(PEG)，进一步优选为聚乙烯吡咯烷酮。
PVP能够与醇类等有机溶剂产生键合，减缓体系内溶剂的挥发速度，从而较大限度地延长溶胶的流动性；另一方面，吡咯烷酮基中的氧原子可以与醋酸镍水解产物中的羟基之间形成氢键。
作为优选，所述镍前驱体溶液中，醋酸镍、乙二醇胺、聚乙烯吡咯烷酮和乙醇的摩尔比为1：0.2-0.6:0.02-0.08:30。
镍前驱体溶液配置完成后，向溶液中投加硝酸水溶液中，硝酸的存在能够有效抑制镍醇盐的水解缩聚反应，从而影响步骤(2)的光聚合分相制孔过程，进而影响多孔C-氧化镍复合薄膜的表面结构及其光选择吸收性能。
作为优选，硝酸水溶液中，水和硝酸的摩尔比为1～10：0.1～1；其中，硝酸的投加摩尔量为醋酸镍摩尔量的0.1～1倍。
步骤(2)中，光聚合反应单体和光致引发剂的聚合作用是制孔关键，聚合反应形成的高聚物在体积收缩产生的拉应力作用下会从原本均一相的溶胶中分离出来，形成高聚物富相和剩余单体-氧化镍低聚物富相的两相系统，在空气中(惰性气氛中)退火处理时，光聚合产生的高聚物、剩余单体和有机物PVP的燃烧(或热解)会在薄膜中留下孔状结构。
作为优选，所述的光聚合单体为季戊四醇三丙烯酸酯、双酚S环氧甲基丙烯酸酯等，光聚合单体的投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.1～1倍；光致引发剂为偶氮二异丁腈、三芳基硫鎓盐等，光致引发剂投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.01～0.06倍。
进一步优选，所述的光聚合单体为季戊四醇三丙烯酸酯，季戊四醇三丙烯酸酯的投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.1～0.5倍；光致引发剂为偶氮二异丁腈，偶氮二异丁腈的投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.01～0.02倍。
步骤(2)处理完成后进行步骤(3)处理，将制得的镍溶胶涂覆在基板上，作为优选，所述的基板是玻璃载玻片、石英玻璃、铜箔、铝箔或硅片。
基板在涂覆镍溶胶前进行清洗工作，有助于提高镍溶胶在基板上的涂覆效果，改善C-氧化镍复合薄膜的性能。
以石英玻璃为例，用洗涤精清洗干净放入去离子水中超声后放入稀盐酸中浸泡，再循环进行超声与乙醇浸泡操作，以充分洗净石英玻璃表面附着的油脂、灰尘等。
将镍溶胶涂覆至基板上的方法很多，本发明中，采用旋涂法将镍溶胶涂覆在基板上，旋涂转速为1000-2000r/min，匀胶时间为10-30s。旋涂过慢，涂覆会不均匀；旋涂过快，涂覆过薄；在该旋涂条件下制得的碳-氧化镍复合薄膜的厚度适中。
镍溶胶涂覆完成后，经干燥脱溶处理制得干膜；作为优选，干燥脱溶的温度为90-120℃，干燥时间为5-25min。
步骤(3)制得的干膜经热处理，将干膜上的有机物碳化，制得所述的C-氧化镍复合薄膜。
作为优选，步骤(4)的真空度为10-4-10-5Pa；热处理的温度为400-500℃。
温度低于400℃，有机物不能完全碳化，会有大量有机物残留，影响性能；温度过高，C会与NiO反应，产生大量单体Ni，不利于光学性能。
本发明还提供一种采用上述制备方法制得的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜，膜孔经为0.1～10μm，膜厚度为100～1000nm。
通过本发明方法制得的多孔C-氧化镍复合薄膜具有很强的光谱选择吸收性；且制备方法简单，容易在各种不同形状的基板上成膜、用料少、成本低、适合于工业化生产。本发明制备的多孔C-NiO复合薄膜综合了陷光结构、碳颗粒、本证吸收等特点，其与现有的C-SiO2复合薄膜相比具有更好的光学性能，也具有更好的行业发展前景。
附图说明
图1为实施例1制得的碳-氧化镍复合薄膜的SEM表面图；
图2为实施例1制得的碳-氧化镍复合薄膜的SEM断面图；
图3为实施例1制得的碳-氧化镍复合薄膜镀在石英基板上透过光谱图；
图4为实施例1制得的碳-氧化镍复合薄膜镀在石英基板上反射光谱图；
图5为实施例2制得的碳-氧化镍复合薄膜的SEM表面图；
图6为实施例2制得的碳-氧化镍复合薄膜的SEM断面图；
图7为实施例2制得的碳-氧化镍复合薄膜镀在石英基板上透过光谱图；
图8为实施例2制得的碳-氧化镍复合薄膜镀在石英基板上反射光谱图。
具体实施方式
以下实施例按上述操作方法实施：
实施例1
本实施例采用石英玻璃(30mm×30mm)作为基板，在涂覆前进行以下清洗步骤：将石英基板放到丙酮内超声清洗30min→浓度为15％的稀盐酸内超声清洗30min→乙醇内超声清洗30min→烘干、备用。
步骤(1)：将4.27g的四水合醋酸镍、1g的乙二醇胺加入到20ml乙醇中，搅拌溶解均匀，获得溶液A；
将1.5g的聚乙烯吡咯烷酮加入到10ml乙醇中，搅拌均匀，得到溶液B；
将溶液B逐滴加入到溶液A中，搅拌混合均匀，得到镍前驱体溶液(溶液C)；
步骤(2)：向步骤(1)得到的溶液C中加入1ml水和0.348ml浓硝酸，搅拌均匀，得到溶液D；
将2.98g的季戊四醇三丙烯酸酯和0.035g的偶氮二异丁腈加入到溶液D中，搅拌30min，制得镍溶胶；
步骤(3)：利用旋涂仪将镍溶胶旋涂在清洗后的石英基板上，旋涂仪转速为2000r/min，匀胶20s，100℃下干燥10min得到干膜；
步骤(4)：将步骤(3)制得的干膜放在高真空下进行热处理，热处理温度为450℃，真空度为10-4Pa，保温时间为10min，制得C-氧化镍复合薄膜。
如图1所示，制备的C-氧化镍复合薄膜的SEM表面照片显示，其表面的孔结构呈阵列有序均匀排布，孔尺寸直径的范围为1～8μm；阵列多孔的碳-氧化镍复合薄膜断面照片如图2所示，薄膜厚度为450nm；该薄膜在石英基板上的透过光谱如图3所示，薄膜在300～2500nm内的透过率为13.2％；其反射光谱如图4所示，该薄膜在300～2500nm内的反射率为15.8％，上述测试结果显示，制得的C-氧化镍复合薄膜具有较好的光谱特性。
实施例2
和实施例1相比，区别在于，步骤(1)中，季戊四醇三丙烯酸酯的投加摩尔量为四水合醋酸镍的0.3；其他参数不变，制得的C-氧化镍复合薄膜的SEM表面图如图5所示孔径的范围为0.5～5μm；其断面照片如图6所示，薄膜厚度为350nm；该薄膜在石英基板上的透过光谱如图7所示，薄膜在300～2500nm内的透过率为14.6％；其反射光谱如图8所示，在300～2500nm内的反射率为17.0％。
Claims (10)
1.一种表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤(1)：醋酸镍、乙二醇胺、非离子性水溶性高分子和溶剂混合、搅匀制得镍前驱体溶液：
步骤(2)：向镍前驱体溶液中投加硝酸水溶液，搅拌均匀后投加光聚合单体和光致引发剂，搅匀后制得镍溶胶；所述的光聚合单体的投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.1～1倍；
步骤(3)：将步骤(2)制得的镍溶胶涂覆在基板上，干燥脱溶得到干膜；
步骤(4)：所述干膜再在真空条件下热处理，制得碳—氧化镍复合薄膜；所述热处理的温度为400-600℃。
2.如权利要求1所述的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述镍前驱体溶液中，醋酸镍、乙二醇胺、非离子型水溶性高分子和溶剂的摩尔比为1：0.2-0.6:0.02-0.08:10-30。
3.如权利要求2所述的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述的非离子性水溶性高分子为聚乙烯吡咯烷酮。
4.如权利要求3所述的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的溶剂为C1-4的单元醇或多元醇。
5.如权利要求4所述的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，硝酸水溶液中，水和硝酸的摩尔比为1～10：0.1～1；其中，硝酸的投加摩尔量为醋酸镍摩尔量的0.1～1倍。
6.如权利要求5所述的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述的光聚合单体为季戊四醇三丙烯酸酯，季戊四醇三丙烯酸酯的投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.1～0.5倍；光致引发剂为偶氮二异丁腈，偶氮二异丁腈的投加摩尔量为醋酸镍的摩尔量的0.01～0.02倍。
7.如权利要求1所述的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述的基板是玻璃载玻片、石英玻璃、铜箔、铝箔或硅片。
8.如权利要求1所述的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，采用旋涂法将镍溶胶涂覆在基板上，旋涂转速为1000-2000r/min，匀胶时间为10-30s。
9.如权利要求1所述的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(4)的真空度为10-4-10-5Pa；热处理的温度为400-500℃。
10.采用权利要求1-9任一项所述的制备方法制得的表面具有阵列多孔结构的碳—氧化镍复合薄膜，其特征在于，膜孔径为0.1～10μm，膜厚度为100～1000nm。
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| CN102888598A (zh) * | 2012-10-12 | 2013-01-23 | 浙江大学 | 一种二氧化钛基选择吸收薄膜的制备方法 |
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| JP4963223B2 (ja) * | 2006-12-04 | 2012-06-27 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 表面微構造を制御した金属酸化物薄膜の製造方法及びその金属酸化物薄膜 |
| CN102677031A (zh) * | 2012-05-18 | 2012-09-19 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 制备金属/碳纳米复合的多孔膜的方法及由其制得的多孔膜 |
| CN102888598A (zh) * | 2012-10-12 | 2013-01-23 | 浙江大学 | 一种二氧化钛基选择吸收薄膜的制备方法 |
| CN103165287A (zh) * | 2013-03-08 | 2013-06-19 | 北京化工大学 | 光固化制备多孔纳米二氧化钛薄膜的方法 |
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