CN105340375A - 电磁波屏蔽膜的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。在具有高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构的电磁波屏蔽膜的制造方法中，具有涂布工序：使用具有多个层叠的挡杆40的滑动式模涂机，使构成高折射率层的第1涂布液L₁的涂布层与构成低折射率层的第2涂布液L₂的涂布层交替地层叠，对膜基材进行同时复层涂布。挡杆40具有：前端部56，其与邻接的另一挡杆40之间形成间隙58；基端部50，与另一挡杆4抵接；以及袋部53，其位于前端部56与基端部50之间且具有作为涂布液积存部的凹部54。袋部53的厚度D₄为15mm以下，涂布工序中，供给第2涂布液L₂的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P₂与供给第1涂布液L₁的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P₁的压力差ΔP被设定为0.1MPa以下。

Description

电磁波屏蔽膜的制造方法

技术领域

本发明涉及电磁波屏蔽膜的制造方法。

背景技术

近年来，对节能措施的关注不断提高，为了贴附于建筑物、车辆的玻璃窗从而阻断阳光中含有的热辐射的透射而减少施加于冷却设备的负荷，正在积极地开发具有反射近红外光的功能的电磁波屏蔽膜。

电磁波屏蔽膜是将高折射率层与低折射率层交替地层叠而构成的。一般而言，已知高折射率层和低折射率层的层数越多，电磁波的反射率越高，屏蔽效果越高，但现有技术通过涂布逐次形成各层，生产率存在问题(例如，参照专利文献1和2)。因此，为了提高生产率，提出了能够一次性进行复层涂布(同时复层涂布)的滑动式模涂机的应用。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平8-110401号公报

专利文献1：日本特开2004-123766号公报

发明内容

然而，构成滑动式模涂机的挡杆(バー)的设置数(涂布层数)与制造的电磁波屏蔽膜的层数(高折射率层和低折射率层的层数)对应。因此，为了使制造的电磁波屏蔽膜的层数增加，在增加涂布层数时，挡杆的设置数增加，涂布液流下的由挡杆的端面构成的滑动面变长。由此，涂布液的流动容易产生紊乱，均匀的涂布变得困难，此外，有可能产生涂布液的混合而对电磁波屏蔽膜产生不良影响，例如，导致膜厚的不均匀(变动)、性能的下降。

另一方面，为了防止涂布液的流动的紊乱，有效的是缩短滑动面，因此，需要减薄挡杆。然而，若减薄挡杆，则产生以下问题：受到由低折射率层涂布液粘度与高折射率层涂布液粘度的差所致的影响，即，基于低折射率层涂布液通过间隙时产生的压力损失的内部压力与基于高折射率层涂布液通过间隙时产生的压力损失的内部压力的压力差的影响。

例如，从压力高的一侧(粘度大的低折射率层涂布液所通过的一侧)向低的一侧(粘度小的高折射率层涂布液所通过的一侧)，挡杆被加压而变形，涂布宽度方向的间隙的均匀性变差，从而产生以下问题：涂布膜厚变得不均匀，制造的电磁波屏蔽膜的光学特性的均匀性下降，例如，产生颜色不均。

本发明是为了解决与上述现有技术相伴的课题而完成的，其目的是提供一种即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。

本发明的上述目的通过下述手段达成。

(1)一种电磁波屏蔽膜的制造方法，该电磁波屏蔽膜具有高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构，

该制造方法具有涂布工序：使用具有多个层叠的挡杆的滑动式模涂机，使构成上述高折射率层的第1涂布液的涂布层与构成上述低折射率层的第2涂布液的涂布层交替地层叠从而对膜基材进行同时复层涂布，

上述挡杆具有：前端部，其在与邻接的另一挡杆之间形成间隙；基端部，其与上述另一挡杆抵接；以及袋部，其位于上述前端部与上述基端部之间且具有作为涂布液积存部的凹部，

上述袋部的厚度为15mm以下，

上述涂布工序中，供给上述第2涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压与供给上述第1涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压的压力差被设定为0.1MPa以下。

(2)如上述(1)所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，上述第1涂布液的粘度μ₁[mPa·s]和上述第2涂布液的粘度μ₂[mPa·s]满足关系式(μ₂≤4×μ₁+100)。

(3)如上述(1)所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，供给上述第1涂布液的挡杆的前端部的间隙的厚度即狭缝间隙D₃₁[mm]和供给上述第2涂布液的挡杆的前端部的间隙的厚度即狭缝间隙D₃₂[mm]为0.05～0.4，并且，

上述狭缝间隙D₃₂大于上述狭缝间隙D₃₁。

(4)如上述(2)所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，上述第1涂布液的粘度μ₁[mPa·s]为3～30，

上述第2涂布液的粘度μ₂[mPa·s]为50～500。

(5)如上述(1)～(4)中任一项所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，电磁波屏蔽膜具有反射近红外光的功能。

根据本发明，挡杆的袋部的厚度为15mm以下，能够减薄挡杆，即使增加挡杆的设置数(涂布层数)，也可抑制涂布液流下的由挡杆的端面构成的滑动面变长。此外，在涂布工序中，供给第2涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压与供给第1涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压的压力差被设定为0.1MPa以下。即，挡杆的最小壁厚部、受到压力的影响而容易变形的袋部处的压力差小，因此可抑制挡杆的变形，维持涂布宽度方向的间隙的均匀性，防止涂布宽度方向的涂布膜厚变得不均匀，因此制造的电磁波屏蔽膜的光学特性的均匀性良好。因此，能够提供即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。

通过参照下述说明和附图中例示的优选实施方式，进一步明确本发明的其它目的、特征和特质。

附图说明

图1是用于说明本发明的实施方式所涉及的电磁波屏蔽膜的制造方法的流程图。

图2是用于说明图1所示的制备工序和涂布工序中应用的涂布装置的示意图。

图3是用于说明图2所示的模涂机的侧方壁部的俯视图。

图4是用于说明图2所示的模涂机的挡杆的俯视图。

图5是与图4的线V-V相关的截面图。

图6是用于说明本发明的实施方式所涉及的涂布工序的截面图。

图7是用于说明涂布工序中的涂布条件的截面图。

图8是用于说明比较例的截面图。

图9是表示用于说明挡杆的袋部的厚度和压力差对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的影响的试验结果的表格。

图10是表示用于说明涂布液粘度对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率和压力差的影响的试验结果的表格。

图11是表示用于说明狭缝间隔对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的影响的试验结果的表格。

具体实施方式

以下，一边参照附图一边说明本发明的实施方式。应予说明，附图的尺寸比率有时为了方便说明而夸大，与实际的比率不同。

图1是用于说明本发明的实施方式所涉及的电磁波屏蔽膜的制造方法的流程图。

本发明的实施方式所涉及的电磁波屏蔽膜是将高折射率层与低折射率层交替地进行多层层叠而构成的，具有在可见光区域(波长380～780nm)透射率高、在近红外光区域(780～2500nm)反射率高的光学特性。电磁波屏蔽膜的用途是近红外光反射膜，配置于建筑物的室外的窗、汽车窗、农业用塑料大棚等，为了赋予热辐射反射效果而使用。

“高折射率层”和“低折射率层”是指在比较邻接的2层的折射率差时，将折射率较高的层设为高折射率层，将较低的层设为低折射率层。特定波长区域的反射率由邻接的2层的折射率差和层数决定，折射率的差越大，越可以用少的层数得到高的反射率。

如图1所示，本发明的实施方式所涉及的电磁波屏蔽膜的制造方法具有制备工序、涂布工序和干燥工序。

制备工序中，例如，通过混合金属氧化物粒子、树脂粘结剂、固化剂、添加剂、溶剂等，可制备高折射率层涂布液和低折射率层涂布液。

涂布工序中，将对应于电磁波屏蔽膜的各层的高折射率层涂布液和低折射率层涂布液对膜基材一次性进行复层涂布(同时复层涂布)。

膜基材能够应用聚烯烃膜、聚酯膜、聚氯乙烯膜、三乙酸纤维素膜等各种树脂膜。聚烯烃例如是聚乙烯、聚丙烯。聚酯例如是聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯。

干燥工序中，通过对复层涂布有高折射率层涂布液和低折射率层涂布液的膜基材进行干燥(热固化)，可制造电磁波屏蔽膜。干燥条件可考虑高折射率层涂布液和低折射率层涂布液中含有的挥发性成分的蒸发温度、固化剂的固化温度、膜基材的耐热温度等而适当设定。其后，将干燥的电磁波屏蔽膜根据需要裁断成适当的大小。

如下所述，对于涂布工序，即使增加高折射率层涂布液和低折射率层涂布液的涂布层数(电磁波屏蔽膜的层数)也能够良好地实施同时复层涂布，通过减小每层的涂布厚度，可以减少干燥工序中的干燥负荷。

应予说明，高折射率层涂布液的金属氧化物粒子例如为二氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铝、胶体氧化铝、钛酸铅、四氧化三铅、铬黄、锌黄、氧化铬、氧化铁、铁黑、氧化铜、氧化镁、氢氧化镁、钛酸锶、氧化钇、氧化铌、氧化铕、氧化镧、锆石、氧化锡。为了得到透明且高折射率，高折射率层涂布液的金属氧化物粒子优选含有氧化钛微粒、氧化锆微粒。金属氧化物粒子的浓度例如为1～50质量％。

低折射率层涂布液的金属氧化物粒子例如是二氧化硅、胶体二氧化硅。金属氧化物粒子的浓度例如是1～50质量％。

树脂粘结剂例如是聚乙烯醇、明胶、水溶性纤维素衍生物、增粘多糖类、具有反应性官能团的聚合物类。高折射率层涂布液的树脂粘结剂的浓度例如为0.5～10质量％。低折射率层涂布液中的树脂粘结剂的浓度为1～10质量％。

固化剂只要与树脂粘结剂发生固化反应则没有特别限定。选择聚乙烯醇作为树脂粘结剂时，固化剂例如为硼酸及其盐。

添加剂例如为紫外线吸收剂、防退色剂、表面活性剂、荧光增白剂、pH调节剂、消泡剂、润滑剂、防腐剂、防静电剂。

溶剂例如是水、有机溶剂、或它们的混合溶液。有机溶剂是甲醇、乙醇、乙酸乙酯等。

接着，对应用于制备工序和涂布工序中的涂布装置进行说明。

图2是用于说明图1所示的制备工序和涂布工序中应用的涂布装置的示意图，图3是用于说明图2所示的模涂机的侧方壁部的俯视图，图4是用于说明图2所示的模涂机的挡杆的俯视图，图5是与图4的线V-V相关的截面图。

如图2所示，涂布装置10具有输送系统20、模涂机30、涂布液供给系统70和压力传感器81、82。

输送系统20具有膜基材22和支承辊24。膜基材22是涂布涂布液L的带状的支撑体。支承辊24配置于膜基材22的内侧，以通过旋转驱动从涂布方向(输送方向)F的上游侧向下游侧输送膜基材22的方式构成。应予说明，在将涂布液L进行涂布时，膜基材22通过加热机构(未图示)升温至规定温度(例如，30℃以上)。

模涂机30是滑动式，是以能够将对应于电磁波屏蔽膜的各层的涂布层一次性进行涂布(同时复层涂布)的方式构成，具有层叠体32和侧方壁部60。层叠体32是将长方形状的多个挡杆40依次重叠而构成。

挡杆40例如由不锈钢构成，包含前挡杆42、多个中间挡杆44和后挡杆46，它们大体上为相同形状。前挡杆42是占据层叠体32的最下层的挡杆，定位于膜基材22的附近。后挡杆46是占据层叠体32的最上层的挡杆。中间挡杆44是位于前挡杆42与后挡杆46之间的占据中间层的挡杆。如图3所示，侧方壁部60配置于层叠体32的涂布宽度方向W的端面。挡杆40的构成材料不限定于不锈钢。应予说明，涂布宽度方向W与涂布方向(输送方向)F垂直。

如图4和图5所示，挡杆40从基端侧开始依次具有基端部50、袋部53和前端部56。

基端部50具有与涂布液供给系统70连通的贯通孔52。贯通孔52位于基端部50的涂布宽度方向W中央，从基端部50端面向袋部53延伸。

基端部50的厚度D₁被设定为大于前端部56的厚度D₂。因此，若将挡杆40层叠，则基端部50与邻接的另一挡杆的基端部50抵接，另一方面，在前端部56与邻接的另一挡杆的前端部56之间，形成厚度D₃(＝D₁-D₂)的狭缝(间隙)58。以下，厚度D₃以狭缝间隔D₃进行参照。应予说明，符号51表示基端部50的端面。

狭缝58作为涂布液通过的通路发挥功能。从狭缝58的前端喷出的涂布液沿前端部56的端面57流下，因此端面57作为涂布液流下的滑动面发挥功能。

袋部53具有在挡杆40的涂布宽度方向W延伸而形成的凹部54。凹部54是与狭缝58和贯通孔52连通的涂布液积存部。凹部54用于将来自贯通孔52(涂布液供给系统70)的涂布液在涂布宽度方向W均等地扩展，稳定地供给至狭缝58。

袋部53的厚度D₄设定为15mm以下。因此，能够减薄挡杆40(薄壁化和轻量化)，即使增加挡杆40的设置数(涂布层数)，也可以抑制滑动面变长。此外，模涂机30的小型化、省空间化、节能、装置成本降低变得可能，且处理也变得容易，也可以期待操作性的提高和涂布故障的减少。

根据挡杆40的层叠位置，将作为构成高折射率层的第1涂布液的高折射率层涂布液L₁和作为构成低折射率层的第2涂布液的低折射率层涂布液L₂交替地导入至挡杆40的贯通孔52。例如，在前挡杆42的贯通孔52中将低折射率层涂布液L₂导入，在与前挡杆42邻接的中间挡杆44的贯通孔中将高折射率层涂布液L₁导入，在与该中间挡杆44邻接的另一中间挡杆44的贯通孔52中将低折射率层涂布液L₂导入。因此，狭缝58的设置数与制造的电磁波屏蔽膜的层数一致，根据制造的电磁波屏蔽膜的层数调整中间挡杆44的数量。应予说明，滑动面是层叠2层以上而流下的中间挡杆44和前挡杆42的前端部56的端面57长度的合计，与除去最上层的中间挡杆44的厚度和前挡杆42的厚度的合计大体一致。

如图2所示，涂布液供给系统70用于将低折射率层涂布液L₂和高折射率层涂布液L₁供给至模涂机30，具有制备釜72、76，配管系统73、77和泵74、78。

制备釜72是用于制备低折射率层涂布液L₂并保持在规定温度(例如，30℃以上)的容器。配管系统73将制备釜72与低折射率层涂布液用的挡杆40的基端部50的贯通孔52连结。泵74用于经由配管系统73，将制备的低折射率层涂布液L₂进行压送。

制备釜76是用于制备高折射率层涂布液L₁并保持在规定温度(例如，30℃以上)的容器。配管系统77将制备釜76与高折射率层涂布液用的挡杆40的基端部50的贯通孔52连结。泵78用于经由配管系统77将制备的高折射率层涂布液L₁进行压送。泵74、78例如为齿轮泵、管式泵。

压力传感器81、82配置于模涂机30的附近的配管系统73、77，用于检测压力差。检测的压力差是供给低折射率层涂布液L₂的挡杆40的袋部53的凹部54的内压与供给高折射率层涂布液L₁的挡杆40的袋部53的凹部54的内压的压力差，在涂布工序中设定为0.1MPa以下。

压力传感器81、82例如也可配置于袋部53的凹部54的内表面，或配置于与袋部53的凹部54抵接的侧方壁部60的内表面。压力差也能够通过差压计直接检测。

接着，详述制备工序和涂布工序。

图6是用于说明本发明的实施方式所涉及的涂布工序的截面图，图7是用于说明涂布工序中的涂布条件的截面图，图8是用于说明比较例的截面图。

制备工序中，将低折射率层用的金属氧化物粒子、树脂粘结剂、固化剂、添加剂、溶剂等投入至制备釜72后，进行混合，从而制备低折射率层涂布液L₂，另一方面，将高折射率层用的金属氧化物粒子、树脂粘结剂、固化剂、添加剂、溶剂等投入至制备釜76后，进行混合，从而制备高折射率层涂布液L₁。然后，制备的低折射率层涂布液L₂和高折射率层涂布液L₁保持在规定温度(例如，30℃以上)。

涂布工序中，制备的低折射率层涂布液L₂和高折射率层涂布液L₁通过泵74、78进行压送，经由配管系统73、77供给至低折射率层涂布液用的挡杆40的基端部50的贯通孔52和高折射率层涂布液用的挡杆40的基端部50的贯通孔52。

由此，如图6所示，根据挡杆40的层叠位置，将高折射率层涂布液L₁和低折射率层涂布液L₂交替地导入至挡杆40的贯通孔52。例如，在前挡杆42的贯通孔52中将低折射率层涂布液L₂导入，在与前挡杆42邻接的中间挡杆44的贯通孔中将高折射率层涂布液L₁导入，在与该中间挡杆44邻接的另一中间挡杆44的贯通孔52中将低折射率层涂布液L₂导入。

涂布液在袋部53的凹部54中在涂布宽度方向W均等地扩展而导入至狭缝58。如图6所示，通过狭缝58的涂布液沿挡杆40的前端部56的端面57流下，与沿位于下方的另一挡杆40的前端部56的端面57流下的涂布液依次重叠。然后，流下的涂布液在与通过前挡杆42的狭缝58的涂布液重叠的时刻，由与制造的电磁波屏蔽膜的层数一致的层构成。

然后，涂布液L离开最下层的挡杆40即前挡杆42，流下(涂布)于升温至规定温度(例如，30℃以上)的膜基材22。

此时，挡杆40的袋部53的厚度D₄设定为15mm以下，挡杆40变薄，即使增加挡杆40的设置数(涂布层数)，也可抑制滑动面变长。

此外，涂布液L通过挡杆40的狭缝58时，产生压力损失(狭缝阻力)，由此，在模涂机30的内部产生压力(内压)。内压受到涂布液L的粘度的影响。

高折射率层涂布液L₁的粘度μ₁为3～30mPa·s。低折射率层涂布液L₂的粘度μ₂为50～500mPa·s，与高折射率层涂布液L₁的粘度μ₁相比大1位数以上。因此，供给高折射率层涂布液L₁的凹部54的内压P₁小于供给低折射率层涂布液L₂的凹部54的内压P₂，在邻接(相邻)的挡杆40间产生内压的压力差。

由此，如图8的比较例所示，从高压的一方(供给低折射率层涂布液L₂的凹部54)向低压的一方(供给高折射率层涂布液L₁的凹部54)，位于其间的挡杆40被挤压而变形。其结果，低折射率层涂布液L₂所通过的狭缝58的狭缝间隙D₃扩大，高折射率层涂布液L₁所通过的狭缝58的狭缝间隙D₃₁缩小。即，涂布宽度方向的狭缝间隙的分布变差，从而从狭缝58流出的涂布液L的涂布宽度方向的均匀性也下降，最终无法得到均匀的涂布膜厚。

另一方面，在本实施方式所涉及的涂布工序中，如图7所示，供给低折射率层涂布液L₂的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P₂与供给高折射率层涂布液L₁的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P₁的压力差ΔP被设定为0.1MPa以下。

因此，作为挡杆40的最小壁厚部且受到压力的影响而容易变形的袋部53的压力差ΔP小，因此可抑制挡杆40的变形，维持涂布宽度方向的间隙的均匀性，防止涂布宽度方向的涂布膜厚变得不均匀，因此制造的电磁波屏蔽膜的光学特性的均匀性良好。即，即使增加层数也能够良好地实施同时复层涂布。

应予说明，高折射率层涂布液L₁、低折射率层涂布液L₂和膜基材22在涂布时进行升温。因此，涂布于膜基材22的高折射率层涂布液L₁和低折射率层涂布液L₂暂时冷却至1～15℃后，投入至干燥工序，在10℃以上、例如湿球温度5～50℃且涂布面温度10～50℃进行干燥。

接着，对即使增加层数也能够良好地实施同时复层涂布的条件进行详述。

图9是表示用于说明挡杆的袋部的厚度和压力差对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的影响的试验结果的表格，图10是表示用于说明涂布液粘度对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率和压力差的影响的试验结果的表格，图11是表示用于说明狭缝间隔对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的影响的试验结果的表格。

首先，对试验所涉及的共同的条件(低折射率层涂布液的制备条件、高折射率层涂布液的制备条件和涂布条件)进行说明。

低折射率层涂布液通过以下方式制备：在胶体二氧化硅(SNOWTEXOXS，日产化学工业公司制，固体成分10质量％)12质量份中分别添加聚乙烯醇(PVA-103，聚合度300，皂化度98.5mol％，Kuraray公司制)的5质量％水溶液2质量份和3质量％硼酸水溶液10质量份后，加热至45℃，一边进行搅拌一边添加聚乙烯醇(PVA-117，聚合度1700，皂化度98.5mol％，Kuraray公司制)的5质量％水溶液20质量份和表面活性剂(RAPISOLA30，日油公司制)的1质量％水溶液1质量份，进一步加入纯水55质量份，进行搅拌混合。

高折射率层涂布液通过以下方式制备：在附着有二氧化硅的二氧化钛溶胶(固体成分20.0质量％)30质量份中分别添加聚乙烯醇(PVA-103，聚合度300，皂化度98.5mol％，Kuraray公司制)的5质量％水溶液2质量份、3质量％硼酸水溶液10质量份、以及2质量％柠檬酸水溶液10质量份后，加热至45℃，一边进行搅拌，一边添加聚乙烯醇(PVA-617，聚合度1700，皂化度95.0mol％，Kuraray公司制)的5质量％水溶液20质量份和表面活性剂(RAPISOLA30，日油公司制)的1质量％水溶液1质量份，进一步加入纯水27质量份，进行搅拌混合。

应予说明，附着有二氧化硅的二氧化钛溶胶可通过以下方式得到：在15.0质量％氧化钛溶胶(SRD-W，体积平均粒径5nm，金红石型二氧化钛粒子，堺化学公司制)0.5质量份中加入纯水2质量份，加热至90℃，缓缓添加硅酸水溶液(将硅酸钠4号(日本化学公司制)按SiO₂浓度为2.0质量％的方式以纯水稀释而成的溶液)1.3质量份，然后，在高压釜中，以175℃进行18小时加热处理，冷却后，以超滤膜进行浓缩。

低折射率层涂布液和高折射率层涂布液在45℃进行保温而供给至模涂机，实施15层的同时复层涂布。此外，最下层和最上层为低折射率层，低折射率层比高折射率层多含有1层。

膜基材由厚度50μm且宽度2000mm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东洋纺公司制A4300：两面易粘接层)构成，在涂布涂布液时升温至45℃。模涂机的前挡杆和后挡杆使用厚度40mm的挡杆。涂布速度和涂布宽度设定为50m/min和1950mm。低折射率层和高折射率层的涂布厚度以作为干燥时的平均膜厚为150nm的方式设定。

接着，对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的计算方法进行说明。

电磁波屏蔽膜的膜厚变动率V[％]是膜厚变动幅度除以膜厚平均值再乘以100而得的值。膜厚变动幅度是膜厚的最小值与最大值的差。膜厚平均值是在涂布宽度方向以50mm间隔进行测定的膜厚的总宽度的平均值。

膜厚是对各层进行测定。测定是通过将在上述条件下制造的电磁波屏蔽膜的截面使用电子显微镜(FE-SEM，S-5000H型，日立制作所制)在加速电压2.0kV的条件下，以可观察到1cm长度的方式选择视野值而进行观察，将所得的图像数字化，实施调整对比度的图像处理后，进行实施。应予说明，膜厚是1000处的测定结果的平均值。

接着，参照图9的试验结果，对挡杆的袋部的厚度和压力差对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的影响进行说明。

使挡杆的袋部的厚度D₄在5～20mm的范围内变化，且，改变低折射率层涂布液L₂的供给量而使压力差ΔP在0.02～0.15MPa的范围内变化。压力差ΔP是供给低折射率层涂布液L₂的挡杆的袋部的凹部的内压P₂与供给高折射率层涂布液L₁的挡杆的袋部的凹部的内压P₁的压力差。狭缝间隙为0.2mm，高折射率层涂布液和低折射率层涂布液粘度设定为10mPa·s和100mPa·s。

如图9所示，挡杆的袋部的厚度D₄为20mm时，无论压力差ΔP如何，可看到涂膜紊乱。另一方面，挡杆的袋部的厚度D₄为15mm以下，且压力差ΔP为0.1MPa以下时，未看到涂膜紊乱，可得到膜厚变动率(V)为3.0％以下的均匀的涂膜。

即，即使挡杆的袋部的厚度D₄为15mm以下，在压力差ΔP为0.1MPa以下的情况下，也能够抑制挡杆的变形，维持涂布宽度方向的间隙的均匀性。

应予说明，挡杆的壁厚的下限没有限制，越薄越能够增加层数。然而，若挡杆的袋部的厚度D₄变得过度小，则容易受到压力差ΔP的影响，因此优选为5mm以上。

接着，参照图10，说明涂布液粘度对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率和压力差的影响。应予说明，表格中的数值表示压力差ΔP[MPa]。

低折射率层涂布液粘度μ₂在50～2000mPa·s的范围内变化，且高折射率层涂布液粘度μ₁在1～30mPa·s的范围内变化。挡杆的袋部的厚度D₄为12.5mm，狭缝间隙D₃设定为0.2mm。应予说明，粘度的调整方法没有特别限定，例如，能够通过变更溶剂与粘结剂的比率来进行调整。

如图10所示，膜厚变动率(V)大于3.0％的涂膜与膜厚变动率(V)为3.0％以下的涂膜可明确地区分，若其边界是以使用低折射率层涂布液粘度μ₂和高折射率层涂布液粘度μ₁的1次式进行近似，则μ₂＝4×μ₁+100。即，满足关系式(μ₂≤4×μ₁+100)时，可以得到膜厚变动率(V)为3.0％以下的均匀的涂膜。应予说明，压力差ΔP为0.1MPa以下。

接着，参照图11，说明狭缝间隔对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的影响。

高折射率层涂布液L₁所通过的狭缝58的狭缝间隙D₃₁在0.04～0.3mm的范围内变化，且低折射率层涂布液L₂所通过的狭缝58的狭缝间隙D₃₂在0.15～0.5mm的范围内变化。挡杆的袋部的厚度D₄为12.5mm，高折射率层涂布液粘度μ₁和低折射率层涂布液粘度μ₂设定为10mPa·s和100mPa·s。

如图11所示，狭缝间隙D₃₁、D₃₂为0.05～0.4mm且狭缝间隙D₃₂大于狭缝间隙D₃₁时，可得到膜厚变动率(V)为3.0％以下的均匀的涂膜。应予说明，狭缝间隙D₃₂大于狭缝间隙D₃₁的5倍时，有可能压力损失变得过小，低折射率层涂布液L₂无法在涂布宽度方向均匀地流出。因此，狭缝间隙D₃₂优选为狭缝间隙D₃₁的5倍以下。

高折射率层涂布液L₁所通过的狭缝58的狭缝间隙D₃₁为0.05mm时，低折射率层涂布液L₂所通过的狭缝58的狭缝间隙D₃₂在0.15～0.4mm的范围内，膜厚变动率(V)为3.0％以下，但大于1.0％。这是因为，狭缝间隙D₃₁为0.05mm时，难以制作涂布宽度方向均匀的狭缝。

低折射率层涂布液L₂所通过的狭缝58的狭缝间隙D₃₂为0.4mm时，高折射率层涂布液L₁所通过的狭缝58的狭缝间隙D₃₁在0.05～0.3mm的范围内，膜厚变动率(V)为3.0％以下，但大于1.0％。这是因为，狭缝间隙D₃₂过窄，因此低折射率层涂布液L₂通过时产生的压力损失变得过小，涂布液无法在涂布宽度方向均匀地流出。

如上，本实施方式中，挡杆的袋部的厚度为15mm以下，能够减薄挡杆，即使增加挡杆的设置数(涂布层数)，也可抑制由涂布液流下的挡杆的端面构成的滑动面变长。此外，在涂布工序中，供给第2涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压与供给第1涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压的压力差被设定为0.1MPa以下。即，作为挡杆的最小壁厚部且受到压力的影响而容易变形的袋部处的压力差小，因此可抑制挡杆的变形，维持涂布宽度方向的间隙的均匀性，防止涂布宽度方向的涂布膜厚变得不均匀，因此制造的电磁波屏蔽膜的光学特性的均匀性良好。因此，能够提供即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。

本发明不限定于上述实施方式，可以在专利申请的范围内进行各种改变。例如，电磁波屏蔽膜能够应用于远红外线反射膜、紫外线反射膜。在这种情况下，以通过调整交替地层叠的高折射率层和低折射率层的光学膜厚来反射可见光或紫外光以代替近红外光的方式进行设计。

高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构例如也可以在膜基材的一面实施同时复层涂布而干燥后，在膜基材的另一面实施同时复层涂布而干燥，从而配置于电磁波屏蔽膜的两面。也可以在高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构的最下层和最上层配置高折射率层，使高折射率层的设置数大于低折射率层。此外，也可以使低折射率层与高折射率层的设置数相同。

也可以将吸引膜基材、矫正其形状的变形的减压机构配置于涂布装置的支承辊的附近来提高模涂机与膜基材之间的空隙精度。

可以将具有其它功能的层配置于膜基材与涂布层之间、或涂布层的表面。例如，也可以在膜基材与涂布层之间配置气体阻隔层、易粘接层，或在涂布层的表面配置硬涂层、耐磨损性层。

本申请基于2013年6月28日申请的日本专利申请编号2013-137068号，通过参照将这些公开内容整体引入。

符号说明

10涂布装置、

20输送系统、

22膜基材、

24支承辊、

30模涂机、

32层叠体、

40挡杆、

42前挡杆、

44中间挡杆、

46后挡杆、

50基端部、

51端面、

52贯通孔、

53袋部、

54凹部、

56前端部、

57端面、

58狭缝、

60侧方壁部、

70涂布液供给系统、

72制备釜、

73配管系统、

74泵、

76制备釜、

77配管系统、

78泵、

81、82压力传感器、

D₁、D₂、D₃、D₃₁、D₃₂、D₄厚度、

F涂布方向、

L、L₁、L₂涂布液、

W涂布宽度方向、

μ₁、μ₂粘度。

Claims (5)

1.一种电磁波屏蔽膜的制造方法，该电磁波屏蔽膜具有高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构，

该制造方法具有涂布工序：使用具有多个层叠的挡杆的滑动式模涂机使构成所述高折射率层的第1涂布液的涂布层与构成所述低折射率层的第2涂布液的涂布层交替地层叠而对膜基材进行同时复层涂布，

所述挡杆具有：前端部，其在与邻接的另一挡杆之间形成间隙；基端部，其与所述另一挡杆抵接；以及袋部，其位于所述前端部与所述基端部之间且具有作为涂布液积存部的凹部，

所述袋部的厚度为15mm以下，

所述涂布工序中，供给所述第2涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压与供给所述第1涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压的压力差被设定为0.1MPa以下。

2.如权利要求1所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，所述第1涂布液的粘度μ₁和所述第2涂布液的粘度μ₂满足关系式μ₂≤4×μ₁+100，其中，粘度μ₁和粘度μ₂的单位是mPa·s。

3.如权利要求1所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，供给所述第1涂布液的挡杆的前端部的间隙的厚度即狭缝间隙D₃₁和供给所述第2涂布液的挡杆的前端部的间隙的厚度即狭缝间隙D₃₂为0.05～0.4mm，并且，

所述狭缝间隙D₃₂大于所述狭缝间隙D₃₁。

4.如权利要求2所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，所述第1涂布液的粘度μ₁为3～30mPa·s，

所述第2涂布液的粘度μ₂为50～500mPa·s。

5.如权利要求1～4中任一项所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，电磁波屏蔽膜具有反射近红外光的功能。