JPH08266978A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
塗布装置及び塗布方法Info
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- JPH08266978A JPH08266978A JP7649995A JP7649995A JPH08266978A JP H08266978 A JPH08266978 A JP H08266978A JP 7649995 A JP7649995 A JP 7649995A JP 7649995 A JP7649995 A JP 7649995A JP H08266978 A JPH08266978 A JP H08266978A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 塗布液のしみ込みを巧みに防止したセラミッ
ク製塗布装置を提供し、長時間連続塗布後も短い洗浄時
間で品種切替えを可能にする。 【構成】 Ａｌ2Ｏ3等のセラミック焼成体２，４の接液
表面に１０μｍ〜１００μｍのセラミックコート層２３
を設ける。セラミック焼成体接液表面を平滑にして、中
心線平均粗さＲａを０．０１μｍ〜１．００μｍとすれ
ば塗布液のしみ込みや残留の心配が無くなる。このよう
なセラミックブロックを組み付けた塗布装置を用いて１
時間〜５００時間の長時間連続塗布を行なう。
ク製塗布装置を提供し、長時間連続塗布後も短い洗浄時
間で品種切替えを可能にする。 【構成】 Ａｌ2Ｏ3等のセラミック焼成体２，４の接液
表面に１０μｍ〜１００μｍのセラミックコート層２３
を設ける。セラミック焼成体接液表面を平滑にして、中
心線平均粗さＲａを０．０１μｍ〜１．００μｍとすれ
ば塗布液のしみ込みや残留の心配が無くなる。このよう
なセラミックブロックを組み付けた塗布装置を用いて１
時間〜５００時間の長時間連続塗布を行なう。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は紙やフィルムベース等の
長尺可撓性支持体（以下、「ウエブ」と称する）上に一
定量の液状組成物を均一に塗布する塗布装置及び塗布方
法に関する。特に、本発明は写真用フィルム・印画紙等
の写真感光材料や写真製版材料、磁気記録材料、感圧記
録紙・感熱記録紙等情報記録材料などの製造において、
ウエブに液状組成物（以下、「塗布液」と称する）を塗
布する際の工程安定化改良技術に関し、更に詳しくは、
塗布装置の製作材料並びに表面処理、工程安定化条件を
提案するものである。
長尺可撓性支持体（以下、「ウエブ」と称する）上に一
定量の液状組成物を均一に塗布する塗布装置及び塗布方
法に関する。特に、本発明は写真用フィルム・印画紙等
の写真感光材料や写真製版材料、磁気記録材料、感圧記
録紙・感熱記録紙等情報記録材料などの製造において、
ウエブに液状組成物（以下、「塗布液」と称する）を塗
布する際の工程安定化改良技術に関し、更に詳しくは、
塗布装置の製作材料並びに表面処理、工程安定化条件を
提案するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、写真感光材料塗布液をウエブ上に
塗布する方法及び装置としては、例えばマルチスライド
ホッパー（特公昭３３−８９７７号公報）、多層カーテ
ン塗布方法（特公昭６３−２３９号公報、特開昭５４−
７４７６１号公報）等があるが、塗布液には一般に腐食
性成分が含まれており、腐食対策が各種塗布装置の製作
精度と同様に重要視されている。塗布液による腐食を防
止する目的で、特開平２−７１８６９号公報では耐薬品
性に富むセラミック材料を用いた塗布装置が開示されて
いる。
塗布する方法及び装置としては、例えばマルチスライド
ホッパー（特公昭３３−８９７７号公報）、多層カーテ
ン塗布方法（特公昭６３−２３９号公報、特開昭５４−
７４７６１号公報）等があるが、塗布液には一般に腐食
性成分が含まれており、腐食対策が各種塗布装置の製作
精度と同様に重要視されている。塗布液による腐食を防
止する目的で、特開平２−７１８６９号公報では耐薬品
性に富むセラミック材料を用いた塗布装置が開示されて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記公報の発明の詳細
な説明によれば、セラミック素材を１０００°Ｃ以上の
高温で焼結すると緻密性が増し、塗布液に５ｋｇ／ｃｍ
2程の圧力をかけても素材中にしみ込むことはないとさ
れている。
な説明によれば、セラミック素材を１０００°Ｃ以上の
高温で焼結すると緻密性が増し、塗布液に５ｋｇ／ｃｍ
2程の圧力をかけても素材中にしみ込むことはないとさ
れている。
【０００４】ところが、１１００℃又は１２５０℃で焼
結したセラッミクス製塗布装置を使用したところ、塗布
液が予想外にしみ込むことが判明した。塗布液がセラッ
ミク材料にしみ込むと、塗布液を短時間で洗浄すること
が困難になる。詳しくは、塗布液を入れ替える場合、前
の塗布液を抜き、洗浄液で十分に洗浄する必要がある
が、しみ込んだ量が多い場合には、いつまでも前の塗布
液がしみ出るので、製品切替え後に新しい塗布液に前の
塗布液が混ざり、不具合が生じる。
結したセラッミクス製塗布装置を使用したところ、塗布
液が予想外にしみ込むことが判明した。塗布液がセラッ
ミク材料にしみ込むと、塗布液を短時間で洗浄すること
が困難になる。詳しくは、塗布液を入れ替える場合、前
の塗布液を抜き、洗浄液で十分に洗浄する必要がある
が、しみ込んだ量が多い場合には、いつまでも前の塗布
液がしみ出るので、製品切替え後に新しい塗布液に前の
塗布液が混ざり、不具合が生じる。
【０００５】本発明は上記問題点に鑑み、塗布液のしみ
込みを巧みに防止したセラミック製塗布装置を提供する
ことを目的としたものである。本発明は又、洗浄性に優
れた塗布装置を提供することを目的としている。更に
又、本発明は耐久的な塗布方法を提供することを目的と
し、効率的かつ安定的な塗布方法を提供することを目的
としている。
込みを巧みに防止したセラミック製塗布装置を提供する
ことを目的としたものである。本発明は又、洗浄性に優
れた塗布装置を提供することを目的としている。更に
又、本発明は耐久的な塗布方法を提供することを目的と
し、効率的かつ安定的な塗布方法を提供することを目的
としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、塗
布装置の材料としてＡｌ2Ｏ3等のセラミック焼成体を用
い、このセラミック焼成体の接液表面に１０μｍ〜１０
０μｍのセラミックコート層を設けたことを特徴とする
塗布装置及び塗布方法によって達成される。セラミック
コート層は、Ａｌ2Ｏ3等のセラミック焼成体との熱膨張
係数差が０〜５×１０-6のセラミックとし、プラブマＣ
ＶＤ等の化学蒸着法で積層し、さらに中心平均粗さＲａ
が０．０１μｍ〜１．００μｍとなるように鏡面仕上げ
することが望ましい。
布装置の材料としてＡｌ2Ｏ3等のセラミック焼成体を用
い、このセラミック焼成体の接液表面に１０μｍ〜１０
０μｍのセラミックコート層を設けたことを特徴とする
塗布装置及び塗布方法によって達成される。セラミック
コート層は、Ａｌ2Ｏ3等のセラミック焼成体との熱膨張
係数差が０〜５×１０-6のセラミックとし、プラブマＣ
ＶＤ等の化学蒸着法で積層し、さらに中心平均粗さＲａ
が０．０１μｍ〜１．００μｍとなるように鏡面仕上げ
することが望ましい。
【０００７】このような塗布装置を使用する場合には、
不活性ガス雰囲気下で、１時間〜５００時間の連続塗布
を行なうことにより、安定性及び効率が著しく高まる。
不活性ガスとしては、ヘリウム・アルゴン等の希ガス類
元素の気体、窒素・二酸化炭素等の不活性ガス又はそれ
らの混合気体が使用できる。また、塗布液が写真感光材
料塗布液、情報記録材料塗布液の場合に洗浄性の問題の
解決効果が顕著である。
不活性ガス雰囲気下で、１時間〜５００時間の連続塗布
を行なうことにより、安定性及び効率が著しく高まる。
不活性ガスとしては、ヘリウム・アルゴン等の希ガス類
元素の気体、窒素・二酸化炭素等の不活性ガス又はそれ
らの混合気体が使用できる。また、塗布液が写真感光材
料塗布液、情報記録材料塗布液の場合に洗浄性の問題の
解決効果が顕著である。
【０００８】
【作用】セラミック焼成体の表面に１０μｍ〜１００μ
ｍのセラミックコート層を積層するにより、接液表面が
平滑になる。中心平均粗さＲａが０．０１μｍ〜１．０
０μｍであれば塗布液のしみ込みや残留が防止できる。
これらの効果は、不活性ガス雰囲気下で連続塗布すると
倍増する。
ｍのセラミックコート層を積層するにより、接液表面が
平滑になる。中心平均粗さＲａが０．０１μｍ〜１．０
０μｍであれば塗布液のしみ込みや残留が防止できる。
これらの効果は、不活性ガス雰囲気下で連続塗布すると
倍増する。
【０００９】
【発明の具体的構成】以下、添付図面に基づいて、本発
明の内容を更に詳細に説明する。
明の内容を更に詳細に説明する。
【００１０】図１は本発明に係る塗布装置の断面図であ
り、塗布装置１はセラミックブロック２，３，４，５を
組み付けて構成され、塗布液供給管７，８，９から供給
される塗布液がキャビティ１２，１３，１４を経てスリ
ット１７，１８，１９から流出し、スライド面で多層の
塗布液となる。
り、塗布装置１はセラミックブロック２，３，４，５を
組み付けて構成され、塗布液供給管７，８，９から供給
される塗布液がキャビティ１２，１３，１４を経てスリ
ット１７，１８，１９から流出し、スライド面で多層の
塗布液となる。
【００１１】図２（ａ），（ｂ）は図１で示したセラミ
ックブロックの拡大断面図であり、セラミックブロック
２，４は鋳込みもしくはプレス成形され、後述する製造
工程によって接液表面２ａ，２ｂ，２ｃ，４ａ，４ｂ，
４ｃにセラミックコート層２３が設けられている。セラ
ミックコート層２３は、Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＣ，ＴｉＮ，Ｔ
ｉＣ等の材質で構成する。
ックブロックの拡大断面図であり、セラミックブロック
２，４は鋳込みもしくはプレス成形され、後述する製造
工程によって接液表面２ａ，２ｂ，２ｃ，４ａ，４ｂ，
４ｃにセラミックコート層２３が設けられている。セラ
ミックコート層２３は、Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＣ，ＴｉＮ，Ｔ
ｉＣ等の材質で構成する。
【００１２】次にセラミックブロック２〜５の製造方法
を説明する。図３は本発明に係る鋳込み法のフロー図で
あり、ステップ１番（以下、ＳＴ０１と記す）におい
て、焼成後の平均気孔径を５μｍ以下とするべく、平均
粒径が０．５μｍのＡｌ2Ｏ3と５μｍのＡｌ2Ｏ3を粒度
配合する。ＳＴ０２で２０％相当の水を加えて、スラリ
ー化し、これをＳＴ０３で石膏型へ鋳込む。
を説明する。図３は本発明に係る鋳込み法のフロー図で
あり、ステップ１番（以下、ＳＴ０１と記す）におい
て、焼成後の平均気孔径を５μｍ以下とするべく、平均
粒径が０．５μｍのＡｌ2Ｏ3と５μｍのＡｌ2Ｏ3を粒度
配合する。ＳＴ０２で２０％相当の水を加えて、スラリ
ー化し、これをＳＴ０３で石膏型へ鋳込む。
【００１３】石膏型をはずすことで図２のセラミックブ
ロック本体２ｄ，４ｄに相当する成形体を得る。この成
形体をＳＴ０４で焼成する。
ロック本体２ｄ，４ｄに相当する成形体を得る。この成
形体をＳＴ０４で焼成する。
【００１４】この時の焼成温度は重要なので詳しく述べ
る。８００℃以下では焼結しない。８００℃〜１４００
℃の焼成ではオープンボア（外に開いた気孔）が多数存
在し、このままではオープンボアに塗布液がしみ込み、
洗浄の際にしみ出す等の問題を生じる。また、１４００
℃以下の焼成では焼成体の強度は小さい。１４００℃〜
１６００℃の焼成ではクローズボア（閉じ込められた気
泡）が主体になり、焼成体の強度が大きく好ましい。１
６００℃を超えると気泡による空洞が大きく成長し、も
ろくなるので好ましくない。
る。８００℃以下では焼結しない。８００℃〜１４００
℃の焼成ではオープンボア（外に開いた気孔）が多数存
在し、このままではオープンボアに塗布液がしみ込み、
洗浄の際にしみ出す等の問題を生じる。また、１４００
℃以下の焼成では焼成体の強度は小さい。１４００℃〜
１６００℃の焼成ではクローズボア（閉じ込められた気
泡）が主体になり、焼成体の強度が大きく好ましい。１
６００℃を超えると気泡による空洞が大きく成長し、も
ろくなるので好ましくない。
【００１５】上記工程で得た焼成体は表面が粗いため、
ＳＴ０５で平面研削仕上げを施して平坦度を１ｍあたり
３μｍ以下に仕上げる。しかし、研削面に合致したクロ
ーズボアが露出するので、仕上面には平均径５μｍ又は
それ以下の凹部が残る。
ＳＴ０５で平面研削仕上げを施して平坦度を１ｍあたり
３μｍ以下に仕上げる。しかし、研削面に合致したクロ
ーズボアが露出するので、仕上面には平均径５μｍ又は
それ以下の凹部が残る。
【００１６】次に、ＳＴ０６で５００〜１１００℃での
プラズマＣＶＤ法で１０μｍ〜１００μｍのＴｉＣ膜
（セラミックコート層２３相当）を上記仕上面に積層す
る。なお、セラミックコート層２３の材料はセラミック
ブロック本体の原料であるＡｌ2Ｏ3と同等なセラミック
であって、少なくともセラミックブロック本体２ｄ，４
ｄの原料と熱膨張係数の差が５×１０-6以下のものを採
用する。これを超えると熱膨張差でセラミックコート層
２３がセラミックブロック本体２ｄ，４ｄから剥がれる
恐れがある。上記コーテイングで、焼成体の表面は凹部
が埋められて平滑面になるが、どうしても凹部が底にな
るところの浅い凹みが残り、まだ十分とはいえない。
プラズマＣＶＤ法で１０μｍ〜１００μｍのＴｉＣ膜
（セラミックコート層２３相当）を上記仕上面に積層す
る。なお、セラミックコート層２３の材料はセラミック
ブロック本体の原料であるＡｌ2Ｏ3と同等なセラミック
であって、少なくともセラミックブロック本体２ｄ，４
ｄの原料と熱膨張係数の差が５×１０-6以下のものを採
用する。これを超えると熱膨張差でセラミックコート層
２３がセラミックブロック本体２ｄ，４ｄから剥がれる
恐れがある。上記コーテイングで、焼成体の表面は凹部
が埋められて平滑面になるが、どうしても凹部が底にな
るところの浅い凹みが残り、まだ十分とはいえない。
【００１７】そこで、ＳＴ０７でラップ等による鏡面仕
上法にて、表面を中心線平均粗さ（ＪＩＳＢ０６０１）
０．０１μｍ〜１．００μｍに仕上げる。これで、この
平滑な面に塗布液がしみこんだり残存したりする恐れが
なくなり、塗布装置の洗浄が容易になせる。
上法にて、表面を中心線平均粗さ（ＪＩＳＢ０６０１）
０．０１μｍ〜１．００μｍに仕上げる。これで、この
平滑な面に塗布液がしみこんだり残存したりする恐れが
なくなり、塗布装置の洗浄が容易になせる。
【００１８】図４は本発明に係るプレス法のフロー図で
あり、ＳＴ１１において、焼成後の平均気孔径を５μｍ
以下にするべく、平均粒径が０．４μｍのＡｌ2Ｏ3と２
μｍのＡｌ2Ｏ3を粒度配合する。
あり、ＳＴ１１において、焼成後の平均気孔径を５μｍ
以下にするべく、平均粒径が０．４μｍのＡｌ2Ｏ3と２
μｍのＡｌ2Ｏ3を粒度配合する。
【００１９】これを、ＣＩＰ（等方静水圧プレス）法で
成形する（ＳＴ１２）。次に１５００℃〜１６００℃で
焼成する。ＣＩＰ成形体の場合は１１００℃〜１４００
℃でオープンボア、１４００℃〜１７５０℃でクローズ
ボア主体の焼成体が得られるが、１７５０℃を超えると
気泡による空洞が大きく成長し、もろくなるので好まし
くない。
成形する（ＳＴ１２）。次に１５００℃〜１６００℃で
焼成する。ＣＩＰ成形体の場合は１１００℃〜１４００
℃でオープンボア、１４００℃〜１７５０℃でクローズ
ボア主体の焼成体が得られるが、１７５０℃を超えると
気泡による空洞が大きく成長し、もろくなるので好まし
くない。
【００２０】図５は図３の変更例であり、ＳＴ０５とＳ
Ｔ０６との間にＳＴ０５１およびＳＴ０５２を介在させ
たことを特徴とする。ＳＴ０５１でセラミックブロック
原料粉末の径より小径の微粉末をスラリー状にしたもの
を表面にディッピング処理し、ＳＴ０５２で乾燥焼成す
る。次のＳＴ０６（コーティング）における膜厚を１０
μｍ付近まで薄くすることができる。
Ｔ０６との間にＳＴ０５１およびＳＴ０５２を介在させ
たことを特徴とする。ＳＴ０５１でセラミックブロック
原料粉末の径より小径の微粉末をスラリー状にしたもの
を表面にディッピング処理し、ＳＴ０５２で乾燥焼成す
る。次のＳＴ０６（コーティング）における膜厚を１０
μｍ付近まで薄くすることができる。
【００２１】以上はセラミックブロック２，４を例に述
べたが、本発明はセラミックブロック３やセラミックブ
ロック５に適用できる。即ち、セラミックブロック３や
セラミックブロック４をＡｌ2Ｏ3等のセラミックスで成
形し、図３〜図５の方法でコーティングを施すことによ
り完成する。
べたが、本発明はセラミックブロック３やセラミックブ
ロック５に適用できる。即ち、セラミックブロック３や
セラミックブロック４をＡｌ2Ｏ3等のセラミックスで成
形し、図３〜図５の方法でコーティングを施すことによ
り完成する。
【００２２】また、プラズマＣＶＤは熱ＣＶＤ、光ＣＶ
Ｄなどの化学蒸着法が好適である。スパッタリング等の
物理蒸着法はコーティング材が気孔に巧く入らぬ恐れが
るので好適とは言えない。
Ｄなどの化学蒸着法が好適である。スパッタリング等の
物理蒸着法はコーティング材が気孔に巧く入らぬ恐れが
るので好適とは言えない。
【００２３】
［実施例１］図３に示した鋳込み法により、セラミック
ブロック２，３，４，５を製作した。各材質はハイアル
ミナ質セラミックで焼成温度は１５００℃とした。焼成
後の各ブロック接液表面を平面研削仕上し、プラズマＣ
ＶＤ法で５０μｍのＴｉＣ膜を設けた。更に、このＴｉ
Ｃ膜セラミックコート層を鏡面仕上し、中心平均粗さＲ
ａを０．５０μｍとした。完成した各セラミックブロッ
ク２〜５を六角孔つきボルトで締め付けて、図１に示す
塗布装置１を組み上げた。ブロック幅は１５００ｍｍ，
ブロックの厚さはそれぞれ約５０ｍｍで、スロット１
７，１８，１９の間隙は１ｍｍであった。
ブロック２，３，４，５を製作した。各材質はハイアル
ミナ質セラミックで焼成温度は１５００℃とした。焼成
後の各ブロック接液表面を平面研削仕上し、プラズマＣ
ＶＤ法で５０μｍのＴｉＣ膜を設けた。更に、このＴｉ
Ｃ膜セラミックコート層を鏡面仕上し、中心平均粗さＲ
ａを０．５０μｍとした。完成した各セラミックブロッ
ク２〜５を六角孔つきボルトで締め付けて、図１に示す
塗布装置１を組み上げた。ブロック幅は１５００ｍｍ，
ブロックの厚さはそれぞれ約５０ｍｍで、スロット１
７，１８，１９の間隙は１ｍｍであった。
【００２４】この塗布装置１を用いて、ポリエチレンラ
ミネート紙に感光性ハロゲン化銀写真乳剤を主成分とす
る粘度６０ｃｐｓの塗布液と、ゼラチン主体の粘度３０
ｃｐｓの保護層塗布液とを重層塗布した。塗布液の送液
量はそれぞれ５リットル／ｍｉｎ，３リットル／ｍｉ
ｎ、塗布速度は８０ｍ／ｍｉｎで塗布液の温度はいずれ
も４０℃であった。塗布時間は５０時間、１５０時間、
２５０時間、３５０時間、４５０時間の５水準とし、各
水準毎に塗布作業を停止し、６０℃の温水により１０リ
ットル／ｍｉｎで塗布装置１の通水洗浄を行なった。そ
の結果、いずれの水準においても１５分間の通水洗浄で
洗浄液は透明になり、本実施例における塗布液の塗布液
装置接液表面へのしみ込みが極めて少なかったことが確
認できた。
ミネート紙に感光性ハロゲン化銀写真乳剤を主成分とす
る粘度６０ｃｐｓの塗布液と、ゼラチン主体の粘度３０
ｃｐｓの保護層塗布液とを重層塗布した。塗布液の送液
量はそれぞれ５リットル／ｍｉｎ，３リットル／ｍｉ
ｎ、塗布速度は８０ｍ／ｍｉｎで塗布液の温度はいずれ
も４０℃であった。塗布時間は５０時間、１５０時間、
２５０時間、３５０時間、４５０時間の５水準とし、各
水準毎に塗布作業を停止し、６０℃の温水により１０リ
ットル／ｍｉｎで塗布装置１の通水洗浄を行なった。そ
の結果、いずれの水準においても１５分間の通水洗浄で
洗浄液は透明になり、本実施例における塗布液の塗布液
装置接液表面へのしみ込みが極めて少なかったことが確
認できた。
【００２５】［比較例１］セラミックコート層を設けて
いない、例えば特開平２−７１８６９号公報に記載の塗
布装置を用いて、同様の塗布を実施した場合には、同一
水準、同一洗浄条件で、いずれも１５分間の通水洗浄で
は洗浄液は透明にならず、洗浄液が透明になるまでに要
した時間は、各水準によって以下の通りであった。 水準１：塗布時間 ５０時間・・・所用時間 ３０分 水準２：塗布時間１５０時間・・・所用時間 ６０分 水準３：塗布時間２５０時間・・・所用時間 ９０分 水準４：塗布時間３５０時間・・・所用時間１２０分 水準５：塗布時間４５０時間・・・所用時間１５０分
いない、例えば特開平２−７１８６９号公報に記載の塗
布装置を用いて、同様の塗布を実施した場合には、同一
水準、同一洗浄条件で、いずれも１５分間の通水洗浄で
は洗浄液は透明にならず、洗浄液が透明になるまでに要
した時間は、各水準によって以下の通りであった。 水準１：塗布時間 ５０時間・・・所用時間 ３０分 水準２：塗布時間１５０時間・・・所用時間 ６０分 水準３：塗布時間２５０時間・・・所用時間 ９０分 水準４：塗布時間３５０時間・・・所用時間１２０分 水準５：塗布時間４５０時間・・・所用時間１５０分
【００２６】［実施例２］，［比較例２］ 実施例１で用いた本発明の塗布装置１と、比較例１で用
いた従来の塗布装置とについて、以下の比較を行なっ
た。まず、両塗布装置に粒径１μｍ〜２μｍの顔料を含
む水系の塗布液を流し、その後、メタノールや温水にて
洗浄してブロックの表面を顕微鏡で観察したところ、セ
ラミックコーチングをしていない従来の塗布装置は接液
表面の小穴内に顔料粒子が多数確認されたが、セラミッ
クコート層を設けた本発明の塗布装置１の接液表面には
小穴も無く、従って顔料粒子も完全に流し落とされてい
ることが確認された。
いた従来の塗布装置とについて、以下の比較を行なっ
た。まず、両塗布装置に粒径１μｍ〜２μｍの顔料を含
む水系の塗布液を流し、その後、メタノールや温水にて
洗浄してブロックの表面を顕微鏡で観察したところ、セ
ラミックコーチングをしていない従来の塗布装置は接液
表面の小穴内に顔料粒子が多数確認されたが、セラミッ
クコート層を設けた本発明の塗布装置１の接液表面には
小穴も無く、従って顔料粒子も完全に流し落とされてい
ることが確認された。
【００２７】［実施例３］，［比較例３］ 次に、両塗布装置を用いて第二の塗布液（固形粒子を含
まず、アクリル系のバインダーを含む有機溶剤系の透明
液）を送液し、塗布した。塗布開始時は両塗布装置共に
異常はなかったものの、セラミックコート層を設けてい
ない従来の塗布装置においては次第に塗布層に筋故障が
発生し始め、連続塗布約１０分後の塗布サンプルの筋故
障の部分に、前の塗布液に含まれていた顔料粒子が検出
された。更に、筋故障対策として塗布操作を途中で中断
して何度もメタノールや温水で洗浄を実施したが、塗布
再開後４分〜５分で再び筋故障が発生した。
まず、アクリル系のバインダーを含む有機溶剤系の透明
液）を送液し、塗布した。塗布開始時は両塗布装置共に
異常はなかったものの、セラミックコート層を設けてい
ない従来の塗布装置においては次第に塗布層に筋故障が
発生し始め、連続塗布約１０分後の塗布サンプルの筋故
障の部分に、前の塗布液に含まれていた顔料粒子が検出
された。更に、筋故障対策として塗布操作を途中で中断
して何度もメタノールや温水で洗浄を実施したが、塗布
再開後４分〜５分で再び筋故障が発生した。
【００２８】
【発明の効果】以上に述べた通り本発明は、Ａｌ2Ｏ3等
のセラミック焼成体の表面に、１０μｍ〜１００μｍの
セラミックコート層を設けたので、接液表面上の塗布液
や洗浄液を温水等で簡単に洗い流すことができる。従っ
て、塗布液の交換が迅速にでき、製造における品種切替
えが効率良く行なえる。また、塗布装置の接液表面の小
穴に溜まった塗布液残留物による筋故障等は発生しなく
なり、多品種の製品をロス無く安定製造することができ
る。
のセラミック焼成体の表面に、１０μｍ〜１００μｍの
セラミックコート層を設けたので、接液表面上の塗布液
や洗浄液を温水等で簡単に洗い流すことができる。従っ
て、塗布液の交換が迅速にでき、製造における品種切替
えが効率良く行なえる。また、塗布装置の接液表面の小
穴に溜まった塗布液残留物による筋故障等は発生しなく
なり、多品種の製品をロス無く安定製造することができ
る。
【００２９】また、セラミックコート層を、Ａｌ2Ｏ3等
のセラミック焼成体との熱膨張係数差が５×１０-6以下
のセラミックとすればセラミックコート層の接着性が良
好であり、プラブマＣＶＤ等の化学蒸着法でセラミック
コート層の積層が容易になせ、さらに平均粗さが１μｍ
以下となるように鏡面仕上げすれば塗布液や洗浄液が残
る恐れは更に少なくなる。
のセラミック焼成体との熱膨張係数差が５×１０-6以下
のセラミックとすればセラミックコート層の接着性が良
好であり、プラブマＣＶＤ等の化学蒸着法でセラミック
コート層の積層が容易になせ、さらに平均粗さが１μｍ
以下となるように鏡面仕上げすれば塗布液や洗浄液が残
る恐れは更に少なくなる。
【００３０】実施例、比較例で示した通り、本発明の効
果は連続塗布時間が１時間以上の場合に顕著となり、連
続塗布時間が増す程洗浄所要時間差が大きくなる。連続
塗布時間が５００時間を超えても効果は失われないが、
５００時間を超える連続塗布時間は原版や塗布液の準備
等、他の要因に左右されるため現実的でない。むしろ不
活性ガス雰囲気下での塗布を実施したり、塗布速度を増
加して効率化を行なう方が現実的である。また、本発明
によれば塗布装置リップ部等に発生し易い塗布液固形成
分の析出も防止できるので、長時間連続塗布しても筋故
障が実現しない。上記した本発明の効果は、実施例で用
いたように塗布液が添加薬品の多い写真感光材料塗布液
の場合は勿論のこと、固形分の多い情報記録材料塗布液
や磁気記録材料塗布液の場合にも顕著である。
果は連続塗布時間が１時間以上の場合に顕著となり、連
続塗布時間が増す程洗浄所要時間差が大きくなる。連続
塗布時間が５００時間を超えても効果は失われないが、
５００時間を超える連続塗布時間は原版や塗布液の準備
等、他の要因に左右されるため現実的でない。むしろ不
活性ガス雰囲気下での塗布を実施したり、塗布速度を増
加して効率化を行なう方が現実的である。また、本発明
によれば塗布装置リップ部等に発生し易い塗布液固形成
分の析出も防止できるので、長時間連続塗布しても筋故
障が実現しない。上記した本発明の効果は、実施例で用
いたように塗布液が添加薬品の多い写真感光材料塗布液
の場合は勿論のこと、固形分の多い情報記録材料塗布液
や磁気記録材料塗布液の場合にも顕著である。
【００３１】本発明は実施例に限ること泣く、特許請求
の範囲に記載した技術思想に基づき様々な実施態様への
応用が可能である。実施例では２層塗布の場合を記載し
ているが、３層以上の多層同時塗布の場合の方が本発明
の効果は格段であり、例えば１２層以上の多層同時塗布
を行なう場合にも非常に有用である。また、実施例はマ
ルチスライド型塗布装置を用いたが、本発明はセラミッ
ク素材で製作した各種エクストルージョン型塗布装置、
カーテン型塗布装置にも適用できる。また、本発明は例
えば特公平２−１８１４３号公報で提案された塗布液滞
留対策、特開平４−１７６３６０号公報で提案された幅
方向の均一化対策等と併用して用いることも可能であ
る。
の範囲に記載した技術思想に基づき様々な実施態様への
応用が可能である。実施例では２層塗布の場合を記載し
ているが、３層以上の多層同時塗布の場合の方が本発明
の効果は格段であり、例えば１２層以上の多層同時塗布
を行なう場合にも非常に有用である。また、実施例はマ
ルチスライド型塗布装置を用いたが、本発明はセラミッ
ク素材で製作した各種エクストルージョン型塗布装置、
カーテン型塗布装置にも適用できる。また、本発明は例
えば特公平２−１８１４３号公報で提案された塗布液滞
留対策、特開平４−１７６３６０号公報で提案された幅
方向の均一化対策等と併用して用いることも可能であ
る。
【図１】本発明に係る塗布装置の断面図
【図２】本発明に係るセラミックブロックの拡大断面図
【図３】本発明に係る鋳込み法のフロー図
【図４】本発明に係るプレス法のフロー図
【図５】図３の変更実施例図
１…塗布装置、２，３，４，５…セラミックブロック、
２ａ，２ｂ，２ｃ，４ａ，４ｂ，４ｃ…ブロックの接液
表面、２ｄ，４ｄ…ブロック本体、７，８，９…塗布液
供給管、１２，１３，１４…キャビティ、１７，１８，
１９…スリット、２２…長尺可撓性支持体、２３…セラ
ミックコート層。
２ａ，２ｂ，２ｃ，４ａ，４ｂ，４ｃ…ブロックの接液
表面、２ｄ，４ｄ…ブロック本体、７，８，９…塗布液
供給管、１２，１３，１４…キャビティ、１７，１８，
１９…スリット、２２…長尺可撓性支持体、２３…セラ
ミックコート層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 能條 和彦 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フィルム株式会社内 (72)発明者 高橋 明彦 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 安藤 茂 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 建野 範昭 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内
Claims (7)
- 【請求項１】 連続的に走行する長尺可撓性支持体上に
一定量の塗布液を均一に塗布する塗布装置において、こ
の塗布装置の材料としてＡｌ2Ｏ3等のセラミック焼成体
を用い、このセラミック焼成体の接液表面に１０μｍ〜
１００μｍのセラミックコート層を設けたことを特徴と
する塗布装置。 - 【請求項２】 前記セラミックコート層は、中心線平均
粗さＲａが０．０１μｍ〜１．００μｍとなるように鏡
面仕上げされていることを特徴とした請求項１記載の塗
布装置。 - 【請求項３】 前記セラミックコート層は、プラブマＣ
ＶＤ等の化学蒸着法で積層することを特徴とした請求項
１記載の塗布装置。 - 【請求項４】 前記セラミックコート層は、Ａｌ2Ｏ3等
のセラミック焼成体との熱膨張係数差が０〜５×１０-6
のセラミックであることを特徴とした請求項１記載の塗
布装置の塗布ヘッド。 - 【請求項５】 連続的に走行する長尺可撓性支持体上に
一定量の塗布液を均一に塗布する塗布方法において、材
料としてＡｌ2Ｏ3等のセラミック焼成体を用い、このセ
ラミック焼成体の接液表面に１０μｍ〜１００μｍのセ
ラミックコート層を設けた塗布装置によって、１時間〜
５００時間の連続塗布を行なうことを特徴とする塗布方
法。 - 【請求項６】 前記連続塗布は、不活性ガス雰囲気下で
行なうことを特徴とする請求項５記載の塗布方法。 - 【請求項７】 前記塗布液は、写真感光材料塗布液又は
情報記録材料塗布液であることを特徴とする請求項５記
載の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7649995A JP3595365B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 塗布装置及び塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7649995A JP3595365B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 塗布装置及び塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08266978A true JPH08266978A (ja) | 1996-10-15 |
| JP3595365B2 JP3595365B2 (ja) | 2004-12-02 |
Family
ID=13606927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7649995A Expired - Fee Related JP3595365B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 塗布装置及び塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3595365B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005131635A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-05-26 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 塗布装置及びダイコータの作製方法 |
| EP2564939A1 (en) | 2011-08-26 | 2013-03-06 | Fujifilm Corporation | Coating apparatus and coating method |
| WO2014185386A1 (ja) * | 2013-05-16 | 2014-11-20 | コニカミノルタ株式会社 | 赤外遮蔽フィルムの製造方法 |
| WO2014208183A1 (ja) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | コニカミノルタ株式会社 | 電磁波遮蔽フィルムの製造方法 |
| JP2016034624A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | 富士機械工業株式会社 | 塗工装置 |
| JP2018001071A (ja) * | 2016-06-29 | 2018-01-11 | 京セラ株式会社 | 塗工用ダイヘッドおよび塗工装置 |
-
1995
- 1995-03-31 JP JP7649995A patent/JP3595365B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005131635A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-05-26 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 塗布装置及びダイコータの作製方法 |
| EP2564939A1 (en) | 2011-08-26 | 2013-03-06 | Fujifilm Corporation | Coating apparatus and coating method |
| WO2014185386A1 (ja) * | 2013-05-16 | 2014-11-20 | コニカミノルタ株式会社 | 赤外遮蔽フィルムの製造方法 |
| JPWO2014185386A1 (ja) * | 2013-05-16 | 2017-02-23 | コニカミノルタ株式会社 | 赤外遮蔽フィルムの製造方法 |
| WO2014208183A1 (ja) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | コニカミノルタ株式会社 | 電磁波遮蔽フィルムの製造方法 |
| CN105340375A (zh) * | 2013-06-28 | 2016-02-17 | 柯尼卡美能达株式会社 | 电磁波屏蔽膜的制造方法 |
| JPWO2014208183A1 (ja) * | 2013-06-28 | 2017-02-23 | コニカミノルタ株式会社 | 電磁波遮蔽フィルムの製造方法 |
| JP2016034624A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | 富士機械工業株式会社 | 塗工装置 |
| JP2018001071A (ja) * | 2016-06-29 | 2018-01-11 | 京セラ株式会社 | 塗工用ダイヘッドおよび塗工装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3595365B2 (ja) | 2004-12-02 |
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