CN105331259A - 含氟化合物表面处理剂以及用其处理的制品 - Google Patents
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- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 59
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 48
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 28
- -1 methoxyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 17
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 15
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 13
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 11
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 11
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical class [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 claims description 4
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 4
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)C(F)C(F)(F)C(F)(F)F RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229940104873 methyl perfluorobutyl ether Drugs 0.000 claims description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000002940 repellent Effects 0.000 abstract 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 6
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- GBOMEIMCQWMHGB-UHFFFAOYSA-N 2-butyltetrahydrofuran Chemical compound CCCCC1CCCO1 GBOMEIMCQWMHGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKIMETXDACNTIE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-dodecafluorocyclohexane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F RKIMETXDACNTIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005466 alkylenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004646 arylidenes Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 150000007516 brønsted-lowry acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007528 brønsted-lowry bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 1
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000806 fluorine-19 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000013008 moisture curing Methods 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002939 oilproofing Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
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- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
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Abstract
包含用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物的含氟化合物表面处理剂形成具有耐化学品性和耐擦伤性的防水/油层。
Description
相关申请的交叉引用
本非临时申请根据美国法典第35卷第119节(a)款要求2014年8月7日于日本提交的第2014-161004号的专利申请的优先权,所述专利申请的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本发明涉及含氟化合物表面处理剂,更特别地涉及包含用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物的含氟化合物表面处理剂,以及用其处理的制品,所述含氟化合物表面处理剂能够形成具有防水/油性和耐擦伤性、特别是耐化学品性的涂层。
背景技术
为了更好的外观和可视性,目前存在对将光学制品的表面定制为防指纹的或易于去污渍的技术的日益增长的需求。尤其是,因为眼镜镜片、可佩戴终端和触摸面板显示器容易被污渍如皮脂弄脏,期望在它们的表面上形成防水/油层。在现有技术中存在具有防污、污渍擦除、耐磨性和耐擦伤性的可获得的表面处理剂。然而,它们的耐化学品性不足,留下它们的性能随时间流逝因指纹和去污剂而劣化的问题。
通常,含氟代氧亚烷基的化合物借助于它们的极低的表面自由能而显示防水/油性、耐化学品性、润滑性、脱模性、防污性和其它性质。利用这些性质,它们在多个工业领域中用作用于纸和织物的防水/油的防污剂、用于磁记录介质的润滑剂、用于精密仪器的防油剂、脱模剂、化妆品成分、保护膜等。相反地,相同的性质表明对其它基材的非粘着性或非粘合性。即使可以将它们涂覆至基材表面,涂层也难于紧密地粘合至其上。
另一方面,硅烷偶联剂由于它们将玻璃或织物基材的表面结合至有机化合物的能力而是公知的。它们被广泛地用作用于各种基材的表面涂覆剂。硅烷偶联剂在分子中包含有机官能团和反应性甲硅烷基(典型地,水解性甲硅烷基)。在空气所带的湿气等的存在下,水解性甲硅烷基经历自缩合反应以形成涂层。由于水解性甲硅烷基与玻璃或织物的表面形成化学和物理结合,所以所述涂层变成具有耐久性的韧性涂层。
专利文献1公开了由下式表示的含氟代氧亚烷基的硅烷。
其中,Rf为二价直链全氟代氧亚烷基,R为C1-C4烷基或苯基,X为水解性基团,n为0至2的整数,m为1至5的整数,和a为2或3。当用该含氟代氧亚烷基的硅烷处理时,玻璃和减反射膜在污渍擦除方面得以改进。然而,因为两个端基均结合至基材,所以表面润滑性不足,且涂层在滑动和耐擦伤性上不令人满意。
引用列表
专利文献1:JP-A2003-238577
专利文献2:JP-A2012-072272(USP8900712,EP2436716)
专利文献3:JP-A2014-084405(US20140113145,EP2725078)
发明简述
在专利文献2中,本发明人提出了下式所示的含氟代氧亚烷基的硅烷。当将玻璃用所述含氟代氧亚烷基的硅烷处理时,可获得润滑性和耐擦伤性上的改进。然而,这仍然没有满足在目前变得更苛刻的耐擦伤性和耐化学品性的要求。
其中,Rf为-(CF2)d-(OC2F4)e(OCF2)f-O(CF2)d-,A为用-CF3基团封端的一价氟化基团,Q为二价有机基团,Z为具有硅氧烷键的二价至八价有机聚硅氧烷残基,R为C1-C4烷基或苯基,X为水解性基团,a为2或3,b为1至6的整数,c为1至5的整数,α为0或1,d独立地为0至5的整数,e为0至80的整数,f为0至80的整数,e+f之和为5至100的整数,并且重复单元可以无规地排列。
本发明人还在专利文献2中提出了聚合物组合物,且在专利文献3中提出了下式所示的含氟代氧亚烷基的硅烷,二者都形成耐化学品性的膜。它们还不足以满足耐擦伤性和耐化学品性二者,因为最近耐擦伤性的要求变得极其苛刻。
其中,Rf为含全氟代氧亚烷基的二价基团,X为-(CH2)nSiX'或氢,一个或更少的X为氢,n为2至10的整数,和X'为水解性基团。
虽然触摸面板显示器和可佩戴终端通常用防水/油层进行表面涂覆,但是从耐擦伤性和指纹擦除性的方面优选的是所述防水/油层具有低动态摩擦系数。在该方面,期望的是开发具有改进的耐擦伤性和低动态摩擦系数的防水/油层。因为这些终端还旨在户外使用,还要求所述层耐盐水、酸和碱。
本发明的目的在于提供能够形成具有明显改进的耐擦伤性以及耐化学品性的防水/油层的含氟化合物表面处理剂,其包含用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物,以及用其处理的制品。
发明人已发现,当形成膜时,基于氟代氧亚烷基结构骨架并在其分子链的一端具有水解性基团的聚合物与基于氟代氧亚烷基结构骨架并在其分子链两端都具有水解性基团的聚合物相比,赋予所述膜以更好的耐擦伤性。已发现,包含基于氟代氧亚烷基结构骨架、具有不含硅氧烷键的连接基且具有多个水解性基团的聚合物的含氟化合物表面处理剂形成具有改进的耐擦伤性和耐化学品性的防水/油层。
在一个方面,本发明提供了含氟化合物表面处理剂,其包含(A)由平均组成式(1)表示的用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物。
其中,A为用-CF3封端的一价氟化基团;Rf为-(CF2)d-(OCF2)p(OCF2CF2)q(OCF2CF2CF2)r-(OCF2CF2CF2CF2)s(OCF(CF3)CF2)t-O(CF2)d-,d独立地为0至5的整数,p、q、r、s和t各自独立地为0至200的整数,p+q+r+s+t为10至200,括号中的单元可以无规地排列;Q为单键或二价有机基团;B为二价基团-J2C-、二价基团-L2Si-、三价基团-JC=、三价基团-LSi=、四价基团-C≡或四价基团-Si≡,其中J独立地为烷基、羟基或甲硅烷基醚基团K3SiO-,K独立地为氢、烷基、芳基或烷氧基,L独立地为烷基、烷氧基或氯;R为一价有机基团;X为水解性基团,a为1至3的整数,b为1至3的整数,b的平均为1.5至3.0,c为1至10的整数。
所述表面处理剂可以进一步包含(B)由平均组成式(2)表示的用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物,其中,组分(B)以0.1摩尔%至20摩尔%的量存在,基于组分(A)和(B)的合计摩尔计,
其中,Rf、Q、B、R、X、a、b和c如在式(1)中所定义。
所述表面处理剂可以进一步包含(C)具有通式(3)的含氟代氧亚烷基的聚合物,其中组分(C)以0.1摩尔%至40摩尔%的量存在,基于组分(A)、(B)和(C)的合计摩尔计,条件是组分(B)是任选的。
D-Rf-D(3)
其中,Rf如式(1)中所定义,和D独立地为氟、氢、或用-CF3、-CF2H或-CFH2封端的一价氟化基团。
在优选的实施方式中,Q为单键或者取代或未取代的2至12个碳原子的二价烃基,其可以包含至少一个选自酰胺键、醚键、酯键、二有机亚甲硅烷基和-Si[OH][(CH2)gSi(CH3)3]-的结构,其中g为2至4的整数。
在优选的实施方式中,X为水解性基团,选自由C1-C10烷氧基、C2-C10烷氧基烷氧基、C1-C10酰氧基、C2-C10烯氧基、卤原子和硅氮烷基团组成的组。
典型地,将所述表面处理剂用溶剂稀释。所述溶剂优选选自甲基全氟丁基醚、乙基全氟丁基醚、甲氧基全氟庚烯、十氟戊烷、五氟丁烷和全氟己烷。
本文中还考虑一种制品,特别是光学制品,其用上文所定义的所述表面处理剂处理。典型的制品为,用上文所定义的表面处理剂处理的玻璃、化学钢化玻璃、物理钢化玻璃、沉积SiO2的玻璃、蓝宝石玻璃、沉积SiO2的蓝宝石玻璃、石英基材和金属。最优选的是用上文所定义的表面处理剂处理的触摸面板、减反射膜、可佩戴终端、眼镜透镜和太阳能电池板。
本发明的有利效果
包含用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物的含氟化合物表面处理剂形成具有改进的耐擦伤性和耐化学品性的膜。当用所述表面处理剂处理制品时,赋予所述制品以防水/油性、指纹擦除性、耐擦伤性和耐化学品性。由于耐擦伤性和耐化学品性,防水/油性持续时间长。
优选实施方式的描述
标记(Cn-Cm)表示每个基团含有n至m个碳原子的基团。Me表示甲基。
本发明提供了含氟化合物表面处理剂,其包含(A)由平均组成式(1)表示的用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷(下文称为“单端水解性聚合物”)和/或其部分水解缩合物,且优选进一步包含(B)由平均组成式(2)表示的用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷(下文称为“双端水解性聚合物”)和/或其部分水解缩合物,或(C)由通式(3)表示的含氟代氧亚烷基的聚合物(下文称为“非官能聚合物”)。
D-Rf-D(3)
其中,A为用-CF3封端的一价氟化基团;Rf为-(CF2)d-(OCF2)p(OCF2CF2)q(OCF2CF2CF2)r-(OCF2CF2CF2CF2)s(OCF(CF3)CF2)t-O(CF2)d-,d独立地为0至5的整数,p、q、r、s和t各自独立地为0至200的整数,p+q+r+s+t为10至200,括号中的单元可以无规地排列;Q为单键或二价有机基团;B为二价基团-J2C-、二价基团-L2Si-、三价基团-JC=、三价基团-LSi=、四价基团-C≡或四价基团-Si≡,其中J独立地为烷基、羟基或甲硅烷基醚基团K3SiO-,K独立地为氢、烷基、芳基或烷氧基,L独立地为烷基、烷氧基或氯;R为一价有机基团;X为水解性基团,a为1至3的整数,b为1至3的整数,b的平均为1.5至3.0,c为1至10的整数;D独立地为氟、氢或用-CF3、-CF2H或-CFH2封端的一价氟化基团。
在式(1)至(3)中,代表含氟代氧亚烷基的聚合物骨架结构的Rf由-(CF2)d-(OCF2)p(OCF2CF2)q(OCF2CF2CF2)r-(OCF2CF2CF2CF2)s(OCF(CF3)CF2)t-O(CF2)d-表示。其中,d独立地为0至5的整数、优选0至2的整数、且更优选1或2;p、q、r、s和t各自独立地为0至200的整数,优选p为10至150的整数,q为10至150的整数,r为0至20的整数,s为0至20的整数,t为0至20的整数,p+q+r+s+t为10至200的整数,优选20至150的整数,且更优选30至100的整数。括号中的单元可以无规地排列。如果p、q、r、s和t之一超过200,则所述氟代氧亚烷基具有过高的分子量,且水解性甲硅烷基的官能度当量相应地降低,导致对基材的差的粘合性和合成时的低反应性。如果p+q+r+s+t超过上限,则不利地影响耐化学品性。如果p+q+r+s+t低于下限,则不完全地发挥作为氟代氧亚烷基特征的指纹擦除性和耐磨性,即不利地影响指纹擦除性和耐磨性。
以下给出Rf的说明性实例。
其中,d'、p'和q'分别如对于d、p和q所限定,r'、s'和t'各自为至少1的整数,其中它们的上限与r、s和t相同。
在式(1)中,A为用-CF3封端的一价氟化基团,优选C1-C6全氟代基团,且更优选-CF3或-CF2CF3。
在式(1)和(2)中,Q为单键或二价有机基团。该单键为Rf基团和B基团之间的连接。所述二价有机基团优选为任选取代的、2至12个碳原子的二价有机基团,优选任选取代的、2至12个碳原子的二价烃基,其可以包含一个或多个选自酰胺键、醚键、酯键、二有机亚甲硅烷基(例如二甲基亚甲硅烷基、二乙基亚甲硅烷基和二苯基亚甲硅烷基)和-Si[OH][(CH2)gSi(CH3)3]-的结构,其中g为2至4的整数。
所述任选取代的、2至12个碳原子的二价烃基的实例包括亚烷基如亚乙基、亚丙基(三亚甲基、甲基亚乙基)、亚丁基(四亚甲基、甲基亚丙基)、六亚甲基和八亚甲基,亚芳基如亚苯基,及其两种或更多种的组合(例如亚烷基-亚芳基),以及前述基团的一些或全部氢原子被卤素原子如氟、氯、溴和碘取代而成的取代形式。尤其优选的是任选取代的C2-C4烷基和苯基。
以下给出Q的说明性实例。
其中,h为2至4的整数。
在式(1)和(2)中,B为二价基团-J2C-、二价基团-L2Si-、三价基团-JC=、三价基团-LSi=、四价基团-C≡或四价基团-Si≡。其中J独立地为烷基,优选C1-C3烷基,羟基或甲硅烷基醚基团K3SiO-;K独立地为氢,烷基,优选C1-C3烷基,芳基如苯基或烷氧基,优选C1-C3烷氧基;和L独立地为烷基,优选C1-C3烷基,烷氧基,优选C1-C3烷氧基或氯。
以下给出B的说明性实例。
在式(1)和(2)中,X各自独立地为水解性基团。合适的水解性基团包括C1-C10烷氧基如甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁氧基,C2-C10烷氧基烷氧基如甲氧基甲氧基和甲氧基乙氧基,C1-C10酰氧基如乙酰氧基,C2-C10烯氧基如异丙烯氧基,卤素基团如氯、溴和碘,和硅氮烷基团。尤其优选的是甲氧基、乙氧基、异丙烯氧基和氯。
在式(1)和(2)中,R为一价有机基团,优选C1-C4烷基如甲基、乙基、丙基或丁基,或苯基。最优选的是甲基。
下标a为1至3的整数,且为了反应性和基材粘合性优选2或3。下标b为1至3的整数,b的平均为1.5至3.0,优选1.8至3.0。如果b的平均低于1.5,则不利地影响耐化学品性。如果b的平均超过3.0(这意味着更多的水解性基团),则可能由于低含量的非氟化基团而产生问题,包括粘度增加、复杂的制备、低的储存稳定性和低的防水/油性。下标c为1至10的整数,优选3至8的整数。
式(1)的单端水解性聚合物具有1至9个,优选4至9个水解性基团X。式(2)的双端水解性聚合物具有2至18个,优选8至18个水解性基团X。
在式(3)中,D独立地为氟、氢或用-CF3、-CF2H或-CFH2封端的一价氟化基团。以下给出用-CF3、-CF2H或-CFH2封端的氟化基团的实例。
-CF3
-CF2CF3
-CF2CF2CF3
-CF2H
-CFH2。
以下给出式(1)的单端水解性聚合物的实例,其中连接基团Q为-CH2-O-C3H6-,B为-Si≡,和X为-OCH3。Q、B和X的组合并不限于此,且通过仅改变Q、B和X可获得一系列单端水解性聚合物。从包含任意这样的单端水解性聚合物的表面处理剂可获得本发明的优点。
括号中的单元可以无规地排列。
以下示出式(1)的单端水解性聚合物的实例,其中Q、B和X不同于上文提及的那些。
括号中的单元可以无规地排列。
式(1)化合物可以通过任意已知的方法制备。例如,下式的单端水解性聚合物可以由如下制备:
通过从在单端用羟基改性的含氟代氧亚烷基的聚合物开始,将所述聚合物与烯丙基溴反应以在所述端引入不饱和键基团,加成氯硅烷,并且进行Grignard反应以引入多个不饱和键。这之后是将氯硅烷加成至不饱和键端且随后是烷氧基转化或者通过直接加成三烷氧基硅烷。
在另一实例中,下式的单端水解性聚合物可以如下制备:
通过从在单端具有羧基的含氟代氧亚烷基的聚合物,进行Grignard反应以引入多个不饱和键,并且将氯硅烷加成至不饱和键端并且转化为烷氧基形式,或者直接加成三烷氧基硅烷。
式(2)的双端水解性聚合物的实例包括其中Q、B和X如上文对于所述单端水解性聚合物所示那样结合的那些。以下示出说明性实例。
式(3)的非官能聚合物的优选实例包括通式(4)和(5)的那些,但并不限于此。
其中,p1和q1为使得所述含氟代氧亚烷基的聚合物可以含有10至100个重复单元的数。
可以将任意商业产品用作所述非官能聚合物或组分(C)。所述聚合物例如可以商标名商购得到。合适的聚合物包括以下结构。
以下结构的FomblinY,典型地FomblinY25(Mw:3,200)和FomblinY45(Mw:4,100)可得自SolvaySolexis。
其中,p1和q1为满足所述指定的Mw的数。
以下结构的FomblinZ,典型地FomblinZ03(Mw:4,000)、FomblinZ15(Mw:8,000)和FomblinZ25(Mw:9,500)可得自SolvaySolexis。
其中,p1和q1为满足所述指定的Mw的数。
如本文所使用,重均分子量(Mw)通过凝胶渗透色谱法(GPC)相对于聚苯乙烯标样使用氟碳化合物AsahiklinAK-225(AsahiGlassCo.,Ltd.)作为展开溶剂测定。
所述含氟化合物表面处理剂可以包含通过预先以公知的方式使所述单端水解性聚合物和/或双端水解性聚合物的末端水解性基团经历部分水解和缩合而获得的部分(共)水解缩合物。优选的是一种部分(共)水解缩合物包含三个或更少的聚合物单元,即为三聚体或更低级聚体,因为比三聚体更高级的缩合物可能与基材更不具反应性。所述缩合物以典型地30重量%以下,优选20重量%以下,且更优选10重量%以下的量存在,基于试剂中的总固形物的重量计。在该范围内,所述缩合物不会不利地影响在溶剂中的溶解度和与基材的反应性。
在一个实施方式中,含氟化合物表面处理剂包含(A)式(1)的单端水解性聚合物和/或其部分水解缩合物。在另一实施方式中,所述表面处理剂可以进一步包含(B)式(2)的双端水解性聚合物和/或其部分水解缩合物。在该实施方式中,组分(B)的含量为20摩尔%以下,优选15摩尔%以下,且更优选10摩尔%以下,基于组分(A)和(B)的合计摩尔计。当使用时,组分(B)的含量优选为至少0.01摩尔%,更优选至少5摩尔%。只要组分(B)的含量在所述范围内,则形成具有改进的耐化学品性和耐擦伤性的膜。
在另一实施方式中,所述表面处理剂可以进一步包含(C)式(3)的非官能聚合物。在该实施方式中,组分(C)的含量为40摩尔%以下,优选30摩尔%以下,且更优选20摩尔%以下,基于组分(A)、(B)和(C)的合计摩尔计。当使用时,组分(C)的含量优选为至少0.01摩尔%,更优选至少5摩尔%。高于上限的组分(C)的含量不利地影响耐化学品性。
如果需要的话,可以向所述表面处理剂添加其它添加剂,只要不损害本发明的目的。合适的水解缩合催化剂包括有机锡化合物如二丁基锡二甲氧基化物和二月桂酸二丁基锡,有机钛化合物如钛酸四正丁酯,有机酸如氟化的羧酸、乙酸和甲磺酸,和无机酸如盐酸和硫酸。其中优选的是氟化的羧酸、乙酸、钛酸四正丁酯和二月桂酸二丁基锡。所述催化剂可以以催化量添加,典型地以每100重量份的组分(A)至(C)的合计添加0.01至5重量份,更优选0.1至1重量份。
在涂覆之前可以将所述表面处理剂溶于合适的溶剂中。优选的是组分(A)至(C)均匀地溶于其中的溶剂。合适的溶剂包括氟改性的脂族烃溶剂如五氟丁烷、全氟己烷、全氟庚烷、全氟辛烷、全氟环己烷和全氟-1,3-二甲基环己烷;氟改性的芳族烃溶剂如六氟化间二甲苯、三氟甲苯和1,3-三氟甲苯;氟改性的醚溶剂如甲基全氟丙基醚、甲基全氟丁基醚、乙基全氟丁基醚、全氟(2-丁基四氢呋喃)和甲氧基全氟庚烯;氟改性的烷基胺溶剂如全氟三丁胺和全氟三戊胺;烃溶剂如石油醚、溶剂油、甲苯和二甲苯;酮溶剂如丙酮、甲基乙基酮、和甲基异丁基酮;醚溶剂如四氢呋喃和乙醚;酯溶剂如乙酸乙酯;和醇溶剂如异丙醇。其中,氟改性的溶剂对于溶解度和润湿性而言是优选的,更优选的是乙基全氟丁基醚、十氟戊烷、五氟丁烷和全氟己烷。所述溶剂可以单独或混合使用。
组分(A)至(C)在所述溶剂中的最佳浓度为0.01重量%至50重量%,特别是0.03重量%至20重量%,尽管其随着特定的处理技术而变化。
可以将所述表面处理剂通过任意公知的技术如湿法涂覆(例如刷涂、浸涂、喷涂、喷墨涂覆)、蒸镀和溅射施涂至基材。当通过喷涂、蒸镀和溅射施涂该处理剂时,获得更佳的结果。然后将涂层固化至所述基材。固化温度随特定的固化技术变化。例如,固化温度优选地在室温(20℃)至200℃,更优选地50至150℃的范围内。关于湿度,优选的是湿固化条件以加速反应。固化涂层具有典型地为0.1至100nm,优选地为3至30nm,且更优选地为5至15nm的厚度,尽管所述厚度取决于基材的类型。
待用所述表面处理剂处理的基材没有特别限定,且可以由任意期望的材料,包括纸、织物、金属、金属氧化物、玻璃、塑料、陶瓷、石英和蓝宝石玻璃制成。所述表面处理剂对于赋予所述基材以防水/油性、耐化学品性、脱模性质和防污性质有效。所述基材可以在其表面上进行预处理,例如通过硬涂层处理或减反射处理。如果所述基材粘合性较差,则粘合性可通过形成SiO2层或具有水解性基团或SiH基团的硅烷偶联剂的层作为底涂层,或者通过任意公知的预处理如真空等离子体处理、大气压等离子体处理、碱处理或酸处理来改进。
因为所述表面处理剂包含水解性基团,在将所述表面处理剂涂覆在所述基材上之前,优选地在所述基材上形成氧化硅(SiO2)层作为底涂层。当所述表面处理剂经由水解性基团可直接结合至基材(典型地玻璃基材)时,可以发挥期望的效果而不需要SiO2层。
当将玻璃、化学钢化的玻璃、物理钢化的玻璃、沉积SiO2的玻璃、蓝宝石玻璃、沉积SiO2的蓝宝石玻璃、石英基材和金属用作所述基材时,获得更佳的结果。
可以将各种制品用所述含氟化合物表面处理剂处理。优选的制品是光学制品,包括汽车导航系统、汽车音响系统中的控制面板或显示器、便携式PC、智能电话、可佩戴终端、移动电话、数码相机、数码摄像机、PDA、便携式音频播放器、游戏机、操作板或数码指示牌中的LC显示器、有机EL显示器、等离子体显示器、触摸面板显示器、眼镜镜片、相机镜头、镜头滤镜、太阳镜、医学仪器(例如胃镜)、复印机、太阳能电池板、保护膜和减反射膜。其中合适的是触摸面板、减反射膜、可佩戴终端、眼镜透镜和太阳能电池板。当将制品用所述表面处理剂处理时,所述处理剂形成对于防止指纹或皮脂粘附至所述制品和赋予耐磨性有效的膜。所述膜作为在触摸面板显示器上的防水/油层是最有用的。
当将基材如玻璃、蓝宝石玻璃或沉积SiO2的基材(即具有通过蒸镀或溅射沉积的SiO2的基材)用所述表面处理剂通过喷涂、喷墨涂覆、旋涂、浸涂、真空蒸镀或溅射处理时,获得经防污处理的基材,其具有足够的耐化学品性和耐钢丝绒刮擦性,从而长期保持防水/油性。
实施例
以下通过阐释的方式且非通过限制的方式给出本发明的实施例。
实施例1
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#1。
p1+q1=45,p1/q1=1.0,
E=-C3H5:-C3H6-Si(OCH3)3=0.2:1.8,
A:B:C=92:3:5(摩尔比)。
通过让硅胶吸附含水解性基团的聚合物,由此将组分(C)分级并通过19F-NMR谱分析而测定各组分(A、B、C)的含量(摩尔分数)。
实施例2
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#2。
p1+q1=45,p1/q1=1.0,
E=-C3H5:-C3H6-Si(OCH3)3=0.5:1.5,
A:B:C=90:5:5(摩尔比)。
实施例3
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#3。
p1+q1=30,p1/q1=0.9,
E=-C3H5:-C3H6-Si(OCH3)3=0.2:1.8,
A:B:C=85:5:10(摩尔比)。
实施例4
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#4。
p1+q1=80,p1/q1=1.1,
E=-C3H5:-C3H6-Si(OCH3)3=0.2:1.8,
A:B:C=72:14:14(摩尔比)。
实施例5
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#5。
p1+q1=45,p1/q1=1.0,
A:B:C=65:12:23(摩尔比)。
实施例6
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#6。
p1+q1=45,p1/q1=1.1,r1+s1=4,r1/s1=0.7,
E=-C3H5:-C3H6-Si(OCH3)3=0.2:1.8,
A:B:C=70:8:22(摩尔比)。
实施例7
通过混合1摩尔的组合物#1与0.5摩尔的非官能全氟聚醚FOMBLINZ15(SolvaySolexis,重复单元:Mw:8,000)制备组合物#7。
比较例1
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#8。
p1+q1=45,p1/q1=1.0,
E=-C3H5:-C3H6-Si(OCH3)3=1:1,
A:B:C=88:5:7(摩尔比)。
比较例2
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#9。
p1+q1=45,p1/q1=0.9,
E=-H:-C3H6-Si(OCH3)3=0.5:2.5,
A:B:C=90:8:2(摩尔比)。
比较例3
通过混合1摩尔的组合物#1与0.95摩尔的FOMBLINZ15制备组合物#10。
比较例4
制备包含如下所示的组分(A)至(C)的组合物#11。
p1+q1=45,p1/q1=1.1,r1+s1=4,r1/s1=0.7,
E=-C3H5:-C3H6-Si(OCH3)3=0.2:1.8,
A:B:C=65:30:5(摩尔比)。
制备表面处理剂和形成固化膜
通过将组合物以20重量%固体的浓度溶于溶剂Novec`7200(3M制造的乙基全氟丁基醚)制备表面处理剂。所述处理剂中组分的比例示于表1中。
表1
*官能化率(b)对应于式(1)和(2)中的b的平均。
在其最外表面上蒸镀有10nm的SiO2的玻璃(Corning的Gorilla`2,50mm×100mm)上,通过在以下条件下真空蒸镀来沉积各表面处理剂。所述沉积物在80℃于湿度80%的气氛中保持1小时,获得固化膜。
真空蒸镀的装置和条件
装置:小型真空蒸镀装置VPC-250F(ULVACKIKOInc.)
压力:2.0×10-3Pa至3.0×10-2Pa
温度(舟皿的最终温度):500℃
距离:20mm
试剂装载量:10mg
蒸镀的量:10mg
通过以下测试评价固化膜的拒水性、动态摩擦系数、耐化学品性和耐磨性。在25℃的温度和50%的湿度下进行所述测试。结果示于表2中。
拒水性
使用接触角计DropMaster(KyowaInterfaceScienceCo.,Ltd.)测量玻璃上的固化膜与水(2μl液滴)的接触角作为拒水性的指标。
动态摩擦系数
使用表面测试仪14FW(ShintoScientificCo.,Ltd.),通过在以下条件下用织物摩擦测量固化膜的动态摩擦系数。
织物:Bemcot(AsahiKaseiFibersCorp.)
接触面积:10mm×35mm
负载:100g
耐化学品性
进行耐化学品性测试以测定粘合性的指标。在如上所述测量与水的接触角之前,将固化膜在1重量%NaOH水溶液中浸没72小时。
耐磨性
使用磨耗试验机TriboGear30S型(ShintoScientificCo.,Ltd.),将固化膜用钢丝绒摩擦。在10,000次往复行程摩擦之后,如上所述测量与水的接触角。
钢丝绒:#0000
接触面积:1cm2
负载:1kg
表2
由测试结果证实,比较例1由于低的官能化率而显示差的对基材的粘合性和较差的耐化学品性。比较例2粘合至基材,但是由于大体积的连接基团而显示差的对钢丝绒磨耗的耐受性。比较例3由于过量含量的非官能聚合物或组分(C)而显示差的对基材的粘合性和较差的耐化学品性。比较例4由于较高含量的双端水解性聚合物或组分(B)而显示差的对钢丝绒磨耗的耐受性。
相比之下,实施例满足了耐化学品性和耐磨性二者,其中组分(B)的含量为0.1摩尔%至20摩尔%,基于组分(A)和(B)的合计摩尔计,和组分(C)的含量为0.1摩尔%至40摩尔%,基于组分(A)、(B)和(C)的合计摩尔计。
所述含氟化合物表面处理剂固化成具有改进的防水/油性的膜。所述处理剂在虽然有油和脂肪粘着的可能性但重要的是保持可视性的应用诸如触摸面板显示器和减反射膜方面非常有效。因为满足了耐化学品性和耐磨性二者,所以即使当污渍长时间保持粘着时或者在日常用品如织物和键频繁接触所述膜的情况下所述膜在长时间内保持令人满意的防污表面。
通过引用将日本专利申请第2014-161004号引入本文。
尽管描述了一些优选的实施方案,但是根据上述教导对其可以做出许多改变和变型。因此应理解的是本发明可以不同于具体描述那样实施而不脱离所附的权利要求的范围。
Claims (11)
1.含氟化合物表面处理剂,其包含(A)由平均组成式(1)表示的用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物,
其中,A为用-CF3封端的一价氟化基团,
Rf为-(CF2)d-(OCF2)p(OCF2CF2)q(OCF2CF2CF2)r-(OCF2CF2CF2CF2)s(OCF(CF3)CF2)t-O(CF2)d-,d独立地为0至5的整数,p、q、r、s和t各自独立地为0至200的整数,p+q+r+s+t为10至200,括号内的单元可以无规地排列,
Q为单键或二价有机基团,
B为二价基团-J2C-、二价基团-L2Si-、三价基团-JC=、三价基团-LSi=、四价基团-C≡或四价基团-Si≡,其中J独立地为烷基、羟基或甲硅烷基醚基团K3SiO-,K独立地为氢、烷基、芳基或烷氧基,L独立地为烷基、烷氧基或氯,
R为一价有机基团,
X为水解性基团,a为1至3的整数,b为1至3的整数,b的平均为1.5至3.0,c为1至10的整数。
2.权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂,其进一步包含(B)由平均组成式(2)表示的用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物,组分(B)以0.1至20摩尔%的量存在,基于组分(A)和(B)的合计摩尔计,
其中,Rf、Q、B、R、X、a、b和c如在式(1)中所定义。
3.权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂,其进一步包含(C)具有通式(3)的含氟代氧亚烷基的聚合物,组分(C)以0.1至40摩尔%的量存在,基于组分(A)、(B)和(C)的合计摩尔计,条件是组分(B)是任选的,
D-Rf-D(3)
其中,Rf如式(1)中所定义,和D独立地为氟、氢、或用-CF3、-CF2H或-CFH2封端的一价氟化基团。
4.权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂,其中,Q为单键或者取代或未取代的2至12个碳原子的二价烃基,其可以包含至少一个选自酰胺键、醚键、酯键、二有机亚甲硅烷基和-Si[OH][(CH2)gSi(CH3)3]-的结构,其中g为2至4的整数。
5.权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂,其中,X为水解性基团,其选自由C1-C10烷氧基、C2-C10烷氧基烷氧基、C1-C10酰氧基、C2-C10烯氧基、卤基和硅氮烷基团组成的组。
6.权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂,其被溶剂稀释。
7.权利要求6所述的含氟化合物表面处理剂,其中,所述溶剂选自由甲基全氟丁基醚、乙基全氟丁基醚、甲氧基全氟庚烯、十氟戊烷、五氟丁烷和全氟己烷组成的组。
8.用权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂处理的制品。
9.用权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂处理的光学制品。
10.用权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂处理的玻璃、化学钢化玻璃、物理钢化玻璃、沉积SiO2的玻璃、蓝宝石玻璃、沉积SiO2的蓝宝石玻璃、石英基材或金属。
11.用权利要求1所述的含氟化合物表面处理剂处理的触摸面板、减反射膜、可佩戴终端、眼镜镜片或太阳能电池板。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014-161004 | 2014-08-07 | ||
JP2014161004A JP6248858B2 (ja) | 2014-08-07 | 2014-08-07 | フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で表面処理された物品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105331259A true CN105331259A (zh) | 2016-02-17 |
CN105331259B CN105331259B (zh) | 2019-07-16 |
Family
ID=54105600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510479053.0A Active CN105331259B (zh) | 2014-08-07 | 2015-08-07 | 含氟化合物表面处理剂以及用其处理的制品 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9771384B2 (zh) |
EP (1) | EP3006447B1 (zh) |
JP (1) | JP6248858B2 (zh) |
KR (1) | KR102592011B1 (zh) |
CN (1) | CN105331259B (zh) |
TW (1) | TWI667306B (zh) |
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- 2014-08-07 JP JP2014161004A patent/JP6248858B2/ja active Active
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---|---|
KR20160018426A (ko) | 2016-02-17 |
KR102592011B1 (ko) | 2023-10-23 |
US20160040039A1 (en) | 2016-02-11 |
CN105331259B (zh) | 2019-07-16 |
EP3006447B1 (en) | 2016-12-07 |
TW201619312A (zh) | 2016-06-01 |
JP6248858B2 (ja) | 2017-12-20 |
US9771384B2 (en) | 2017-09-26 |
JP2016037541A (ja) | 2016-03-22 |
EP3006447A1 (en) | 2016-04-13 |
TWI667306B (zh) | 2019-08-01 |
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |