CN105315893A - 高精度抛光液及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种高精度抛光液及其制备方法，抛光液包括如下重量份的组分：氧化铈300-600份、硅酸钾500-800份、硅溶胶50-100份、氢氟酸5-10份、氧化铝10-20份、高锰酸钾5-10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。优点为该抛光液抛光去污力高，抛光后的表面无划痕和腐蚀缺陷，平整度高、易清洗；另外，本发明方法简单易行，投资少、成本低，容易实现。

Description

高精度抛光液及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种化工用品，尤其涉及一种高精度抛光液及其制备方法。

背景技术

现有的高精度抛光液对各类氧化物、玻璃制品等表面去污清洁抛光效果较差，甚至会损坏制品表面。

发明内容

发明目的：本发明的第一目的是提供一种平化抛光效率较高的抛光液；本发明的第二目的是提供该抛光液的制备方法。

技术方案：本发明所述的高精度抛光液，包括如下重量份的组分：氧化铈300-600份、硅酸钾500-800份、硅溶胶50-100份、氢氟酸5-10份、氧化铝10-20份、高锰酸钾5-10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。

其中，所述氧化铈400份、硅酸钾600份、硅溶胶80份、氢氟酸8份、氧化铝15份、高锰酸钾8份、二氧化硅8份和水300份。

本发明所述高精度抛光液的制备方法，包括如下步骤：

（1）将氧化铈、二氧化硅和硅溶胶分散在水中，制得氧化铈悬浊液；

（2）向氧化铈悬浊液中加入氢氟酸，调节溶液pH为6-8；

（3）加入剩余组分，然后加热至50-80℃，保温1-2h，然后冷却、静置即可。

有益效果：本发明与现有技术相比，其显著优点为：该抛光液抛光去污力高，抛光后的表面无划痕和腐蚀缺陷，平整度高、易清洗；另外，本发明方法简单易行，投资少、成本低，容易实现。

具体实施方式

实施例1

配方：氧化铈300份、硅酸钾500份、硅溶胶50份、氢氟酸5份、氧化铝10份、高锰酸钾5份、二氧化硅5份和水200份。

制备方法：首先，将氧化铈、二氧化硅和硅溶胶分散在水中，制得氧化铈悬浊液；其次，向氧化铈悬浊液中加入氢氟酸，调节溶液pH为6-8；最后，加入剩余组分，然后加热至50-80℃，保温1-2h，然后冷却、静置即可。

实施例2

配方：氧化铈600份、硅酸钾800份、硅溶胶100份、氢氟酸10份、氧化铝20份、高锰酸钾10份、二氧化硅10份和水500份。

制备方法与实施例1相同。

实施例3

配方：氧化铈400份、硅酸钾600份、硅溶胶80份、氢氟酸8份、氧化铝15份、高锰酸钾8份、二氧化硅8份和水300份。

制备方法与实施例1相同。

Claims (3)

1.一种高精度抛光液，其特征在于包括如下重量份的组分：氧化铈300-600份、硅酸钾500-800份、硅溶胶50-100份、氢氟酸5-10份、氧化铝10-20份、高锰酸钾5-10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。

2.根据权利要求1所述的高精度抛光液，其特征在于：所述氧化铈400份、硅酸钾600份、硅溶胶80份、氢氟酸8份、氧化铝15份、高锰酸钾8份、二氧化硅8份和水300份。

3.根据权利要求1所述高精度抛光液的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

（1）将氧化铈、二氧化硅和硅溶胶分散在水中，制得氧化铈悬浊液；

（2）向氧化铈悬浊液中加入氢氟酸，调节溶液pH为6-8；

（3）加入剩余组分，然后加热至50-80℃，保温1-2h，然后冷却、静置即可。