CN105220186A - 一种高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺，具体工艺流程为(1)向备用槽中加入纯水，分析配槽所用纯水的氯离子含量(2)向槽中加入硫酸，并缓慢添加加入硫酸铜，强力搅拌直至完全溶解；(3)加入2g/L活性碳粉，搅拌1小时以上；(4)用过滤泵把步骤(3)中的溶液滤入已清洁的电镀槽内并添加纯水，将镀液冷却到25℃；(5)分析镀液中氯离子含量；(6)加入开缸剂MU、PN聚乙烯亚胺烷基盐和AESS聚乙烯亚胺烷基盐并搅拌均匀后，电解10分钟；(7)加入待镀件，在温度16-35℃，阴极电流密度1-6A/dm2，阳极电流密度0.5-3A/dm2条件下进行电镀。

Description

一种高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺
技术领域
本发明涉及一种电镀工艺，尤其是一种高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺。
背景技术
电镀是指在含有预镀金属的盐类溶液中，以被镀基体金属为阴极，通过电解作用，使镀液中预镀金属的阳离子在基体金属表面沉积出来，形成镀层的一种表面加工工艺。镀层性能不同于基体金属，具有新的特征。根据镀层的功能分为防护性镀层，装饰性镀层及其它功能性镀层，为了使电镀层光滑牢固，工业生产上电镀工艺往往很复杂，但是都是为了得到更平整更光亮的镀件产品。
发明内容
本发明是为了提供一种操作简单的高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺，具有快速出光、填平能力强的特点，走位效果好，低电位都具有良好的填平度，不易产生针孔和麻点，镀液稳定容易操作控制，镀层柔韧性好，电阻率低，故非常适合于对镀层物理性能高的电机工业，可用于各种不同类型的金属、铁件、黄铜件、锌合金件等，塑料件同样适用，杂质容忍度高。
2、本发明的技术解决方案是：高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺。(1)向备用槽中加入二分之一的纯水，分析配槽所用纯水的氯离子含量(2)向槽中加入硫酸。强力搅拌并缓慢添加，保持槽中溶液温度不超过60℃，加入硫酸铜，搅拌直至完全溶解；(3)加入2g/L活性碳粉，搅拌1小时以上；(4)用过滤泵把步骤(3)中的溶液滤入已清洁的电镀槽内并添加纯水，将镀液冷却到25℃；(5)分析镀液中氯离子含量，使氯离子含量达到电镀需求；(6)加入开缸剂MU、PN聚乙烯亚胺烷基盐和AESS聚乙烯亚胺烷基盐并搅拌均匀后，电解10分钟，加入待镀件，在温度16-35℃，阴极电流密度1-6A/dm2，阳极电流密度0.5-3A/dm2条件下进行电镀。
本发明的优点：
1、走位效果好，低电位都具有良好的填平度，不易产生针孔和麻点；
2、镀液稳定容易操作控制，镀层柔韧性好，电阻率低，故非常适合于对镀层物理性能高的电机工业，可用于各种不同类型的金属、铁件、黄铜件、锌合金件等。塑料件同样适用。
3、杂质容忍度高。
具体实施方式
下面根据具体实施例对本发明做进一步说明。
实施例1
(1)向备用槽中加入二分之一的纯水，分析配槽所用纯水的氯离子含量(2)向槽中加入硫酸60g/L。强力搅拌并缓慢添加，保持槽中溶液温度不超过60℃，加入硫酸铜200g/L，搅拌直至完全溶解；(3)加入2g/L活性碳粉，搅拌1小时以上；(4)用过滤泵把步骤(3)中的溶液滤入已清洁的电镀槽内并添加纯水，将镀液冷却到25℃；(5)分析镀液中氯离子含量，含量在80mg/L；(6)加入开缸剂MU5ml/L、PN聚乙烯亚胺烷基盐5ml/L和AESS聚乙烯亚胺烷基盐5ml/L并搅拌均匀后，电解10分钟；(7)加入待镀件，温度在16-35℃，阴极电流密度1-6A/dm2，阳极电流密度0.5-3A/dm2条件下进行电镀。
实施例2
(1)向备用槽中加入二分之一的纯水，分析配槽所用纯水的氯离子含量(2)向槽中加入硫酸60g/L。强力搅拌并缓慢添加，保持槽中溶液温度不超过60℃，加入硫酸铜200g/L，搅拌直至完全溶解；(3)加入2g/L活性碳粉，搅拌1小时以上；(4)用过滤泵把步骤(3)中的溶液滤入已清洁的电镀槽内并添加纯水，将镀液冷却到25℃；(5)分析镀液中氯离子含量，含量在80mg/L；(6)加入开缸剂MU5ml/L、PN聚乙烯亚胺烷基盐3ml/L和AESS聚乙烯亚胺烷基盐5ml/L并搅拌均匀后，电解10分钟；(7)加入待镀件，温度在16-35℃，阴极电流密度1-6A/dm2，阳极电流密度0.5-3A/dm2条件下进行电镀。
实施例3
(1)向备用槽中加入二分之一的纯水，分析配槽所用纯水的氯离子含量(2)向槽中加入硫酸60g/L。强力搅拌并缓慢添加，保持槽中溶液温度不超过60℃，加入硫酸铜200g/L，搅拌直至完全溶解；(3)加入2g/L活性碳粉，搅拌1小时以上；(4)用过滤泵把步骤(3)中的溶液滤入已清洁的电镀槽内并添加纯水，将镀液冷却到25℃；(5)分析镀液中氯离子含量，含量在80mg/L；(6)加入开缸剂MU5ml/L、PN聚乙烯亚胺烷基盐5ml/L和AESS聚乙烯亚胺烷基盐3.5ml/L并搅拌均匀后，电解10分钟；(7)加入待镀件，温度在16-35℃，阴极电流密度1-6A/dm2，阳极电流密度0.5-3A/dm2条件下进行电镀。
实施例4
(1)向备用槽中加入二分之一的纯水，分析配槽所用纯水的氯离子含量(2)向槽中加入硫酸60g/L。强力搅拌并缓慢添加，保持槽中溶液温度不超过60℃，加入硫酸铜200g/L，搅拌直至完全溶解；(3)加入2g/L活性碳粉，搅拌1小时以上；(4)用过滤泵把步骤(3)中的溶液滤入已清洁的电镀槽内并添加纯水，将镀液冷却到25℃；(5)分析镀液中氯离子含量，含量在55mg/L；(6)加入开缸剂MU5ml/L、PN聚乙烯亚胺烷基盐5ml/L和AESS聚乙烯亚胺烷基盐3.5ml/L并搅拌均匀后，电解10分钟；(7)加入待镀件，温度在16-35℃，阴极电流密度1-6A/dm2，阳极电流密度0.5-3A/dm2条件下进行电镀。
表1实施例镀层效果对比表
从表1我们可以看到，镀液的配制过程中，经过多年的实验测试得出，PN聚乙烯亚胺烷基盐和AESS聚乙烯亚胺烷基盐的添加比例需要十分精确，PN聚乙烯亚胺烷基盐量稍低就会出现整个电流密度区的的填平度会下降；镀层出现针孔，低电流密度区没有填平度，与其他位置的镀层有明显分界，AESS聚乙烯亚胺烷基盐稍低会出现镀层高电流密度区容易烧焦，镀层出现起雾现象，还会导致低电流密度区光亮度变差，并且镀液中氯离子的含量也需要十分精确，当氯离子含量过低时镀层高、中电流密度区容易容易出现凹凸起伏的条纹，以及在低电流密度区有雾状沉积。而完全按照本电镀工艺进行电镀时，具有快速出光、填平能力强的特点，走位效果好，低电位都具有良好的填平度，不易产生针孔和麻点，镀液稳定容易操作控制。
尽管上述实施例已本发明的技术方案进行了详细地描述，但是本发明的技术方案并不限于以上实施例，在不脱离本发明的思想和宗旨的情况下，对本发明的技术方案所做的任何改动都将落入本发明的权利要求书所限定的范围。

Claims (4)

1.一种高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺，其特征在于：(1)向备用槽中加入二分之一的纯水，分析配槽所用纯水的氯离子含量(2)向槽中加入硫酸50-80g/L。强力搅拌并缓慢添加，保持槽中溶液温度不超过60℃，加入硫酸铜180-240g/L，搅拌直至完全溶解；(3)加入2g/L活性碳粉，搅拌1小时以上；(4)用过滤泵把步骤(3)中的溶液滤入已清洁的电镀槽内并添加纯水，将镀液冷却到25℃；(5)分析镀液中氯离子含量，含量在60-120mg/L；(6)加入开缸剂MU4-6ml/L、PN聚乙烯亚胺烷基盐4-6ml/L和AESS聚乙烯亚胺烷基盐4-6ml/L并搅拌均匀后，电解10分钟；(7)加入待镀件，温度在16-35℃，阴极电流密度1-6A/dm2，阳极电流密度0.5-3A/dm2条件下进行电镀。
2.根据权利要求1所述的一种高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺，其特征在于：步骤(5)中经过分析的镀液氯离子含量不足时可直接加入盐酸或者氯化钠。
3.根据权利要求1所述的一种高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺，其特征在于：步骤(6)中的PN聚乙烯亚胺烷基盐和AESS聚乙烯亚胺烷基盐的1000安培时的消耗量为PN聚乙烯亚胺烷基盐70-150ml，AESS聚乙烯亚胺烷基盐50-70ml。
4.根据权利要求1所述的一种高整平光亮染料型酸镀液电镀工艺，其特征在于：步骤(5)中分析镀液中氯离子含量的工艺为：(1)用移液管取样本25毫升；(2)加100毫升纯水；(3)加热至50℃；(4)加3毫升1:1硝酸溶液；(5)加2滴0.1N硝酸银，使溶液产生浑浊；(6)用0.01N硝酸汞标准液滴定由浑浊至清澈为终点；氯离子(ppm)＝所用0.01N硝酸汞的毫升数×14.2。
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