CN105204233A - 显示基板摩擦取向方法及装置、显示基板制备方法及系统 - Google Patents
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Abstract
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板摩擦取向方法及装置、显示基板制备方法及系统。该显示基板摩擦取向方法，包括采用摩擦布对显示基板表面进行取向的步骤，还包括在摩擦过程后对摩擦过程中产生的杂质颗粒进行处理，转换或消除所述杂质颗粒的电荷的步骤，以消除所述杂质颗粒与所述显示基板的静电吸附作用，去除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒。相应的，还提供一种显示基板摩擦取向装置。该显示基板摩擦取向方法及装置能将显示基板与杂质颗粒之间强烈的“静电吸附作用”去除，进而配合外界的超声波震动或水洗击打作用，将异物完全去除。
Description
技术领域
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板摩擦取向方法及装置、显示基板制备方法及系统。
背景技术
对于取向膜(Polyimide，简称PI)的取向是液晶显示屏(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)行业中的一项重要工艺，目前LCD行业多采用摩擦(Rubbing)工艺对取向膜进行取向。在摩擦工艺中采用摩擦布对彩膜基板和阵列基板分别进行摩擦(rubbing)取向，然后进行对盒工艺。在摩擦过程中，摩擦布直接与彩膜基板或阵列基板直接接触摩擦，并使得取向膜表面的微小颗粒被磨损掉，期间会产生大量的杂质颗粒，因此在将彩膜基板和阵列基板对盒之前需要对彩膜基板和阵列基板分别进行清洗。
目前，主流的摩擦布包括棉质材料(Cotton)和尼龙材料(Rayon)，棉质材料为天然纤维，分子量较高，脱落的杂质颗粒(Particle)较少，生产出来的显示屏品质较差；而尼龙材料多在纤维表面形成一层合成树脂，分子量相对较低，非常容易脱落而产生杂质颗粒，生产出来的显示屏质量较好。尤其是，在对阵列基板进行摩擦取向的过程中，一方面容易对阵列基板非涂覆取向膜的区域造成严重的磨损，产生摩擦残屑(debrissticking)，其中包括摩擦布本身合成树脂的脱落或者阵列基板表面、彩膜基板表面本身被摩擦布磨损掉的部分；另一方面，随着摩擦吸引力(triboattraction)引起电荷积累(chargeaccumulation)，加剧摩擦残屑或异物杂质颗粒的堆积。
目前在彩膜基板、阵列基板摩擦取向的清洗和去除异物的过程中，都是通过物理性质的震动或者水洗击打进行去除异物。然而，这些异物杂质颗粒难以通过清洗工艺去除，并且会发生“移位”转嫁到显示区域，造成亮点不良，影响显示效果。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种显示基板摩擦取向方法及装置、显示基板制备方法及系统，该显示基板摩擦取向方法及装置能将显示基板与杂质颗粒之间强烈的“静电吸附作用”去除，进而配合外界的超声波震动或水洗击打作用，将异物完全去除。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是该显示基板摩擦取向方法，包括采用摩擦布对显示基板表面进行取向的步骤，还包括在摩擦过程后对摩擦过程中产生的杂质颗粒进行处理，转换或消除所述杂质颗粒的电荷的步骤，以消除所述杂质颗粒与所述显示基板的静电吸附作用，去除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒。
优选的是，转换或消除所述杂质颗粒的电荷的步骤为：采用单一电性电荷的离子转换或消除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒的电性，所述离子的电荷的电性与所述杂质颗粒的电荷电性相同、且与所述显示基板因摩擦产生的电压的电性相反。
优选的是，进一步的，还包括采用与单一电性电荷的所述离子的电荷电性相反的辅助离子加强去除所述杂质颗粒的步骤。
优选的是，在去除所述杂质颗粒的步骤中，还包括同时采用超声波震荡方法去除所述杂质颗粒。
优选的是，在超声波震荡方法后，还包括采用溶剂清洗方法去除所述杂质颗粒的步骤。
优选的是，在摩擦过程中，还进一步包括采用X-Ray静电消除方法降低所述杂质颗粒与所述显示基板因摩擦产生的电压的步骤。
优选的是，在摩擦过程前，还进一步包括采用超声波震荡方法预去除所述显示基板的环境异物的步骤。
一种显示基板制备方法，包括上述的显示基板的摩擦取向方法。
一种显示基板摩擦取向装置，包括采用摩擦布对显示基板表面进行取向的摩擦单元，还包括杂质颗粒处理单元，所述杂质颗粒处理单元用于产生离子并使得所述离子与摩擦过程中产生的所述杂质颗粒作用，转换或消除所述杂质颗粒的电荷，以消除所述杂质颗粒与所述显示基板的静电吸附作用，去除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒。
优选的是，所述杂质颗粒处理单元包括离子产生部和离子输出部，其中：
所述离子产生部用于产生电荷电性与所述杂质颗粒的电荷的电性相同、且与所述显示基板因摩擦产生的电压的电性相反的离子；
所述离子输出部用于将所述离子与所述杂质颗粒作用，以转换或消除所述杂质颗粒的电荷，以去除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒。
优选的是，所述杂质颗粒处理单元还包括超声波震荡部，所述超声波震荡部包括超声波震荡腔，所述离子输出部包括离子输出器，所述离子输出器向所述超声波震荡腔输出单一电性电荷的离子，所述离子的电荷的电性与所述杂质颗粒的电荷电性相同、且与所述显示基板的电性相反。
优选的是，所述离子输出部还包括辅助离子输出器，所述超声波震荡部还包括辅助超声波震荡腔，所述辅助离子输出器向所述辅助超声波震荡器输出辅助离子，所述辅助离子的电荷的电性与单一电性电荷的所述离子的电荷电性相反。
优选的是，所述杂质颗粒处理单元还包括溶剂清洗部，所述溶剂清洗部设置于所述超声波震荡部之后。
优选的是，所述摩擦单元还包括X-Ray静电消除器，所述X-Ray静电消除器用于降低摩擦过程中所述杂质颗粒与所述显示基板因摩擦产生的电压。
优选的是，还包括预清洗单元，所述预清洗单元为超声波预清洗部，所述超声波预清洗部设置于所述摩擦单元之前，用于去除所述显示基板的环境异物。
一种显示基板制备系统，包括上述的显示基板的摩擦取向装置。
本发明的有益效果是：本发明中的显示基板摩擦取向方法及装置，通过引入单一电性电荷进行静电中和或排斥，高效地降低异物杂质颗粒与显示基板的静电粘附作用，能显著改善因摩擦取向产生的碎屑无法有效去除的现象；同时，配合超声波震荡等清设备同时使用，可以更加有效地降低异物性不良，提高液晶显示产品的良率。
附图说明
图1为摩擦过程中电荷分布示意图；
图2为本发明实施例1中显示基板摩擦取向方法示意图；
图3为本发明实施例1中显示基板摩擦取向装置结构示意图；
图4为本发明实施例2中显示基板摩擦取向方法示意图；
图5为本发明实施例2中显示基板摩擦取向装置结构示意图；
图中：
11－摩擦布；12－显示基板；13－摩擦残屑；
21－预清洗单元；22－摩擦单元；23－超声波震荡部；24－离子产生部；25－离子输出部；26－溶剂清洗部。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明显示基板摩擦取向方法及装置、显示基板制备方法及系统作进一步详细描述。
本发明的技术构思在于：现有摩擦取向工艺后难以彻底去除杂质颗粒的问题，究其原因在于摩擦取向工艺中杂质颗粒与显示基板因静电作用粘附得很顽固，因摩擦造成的摩擦异物杂质颗粒(zaraParticle)稳定在2％发生率，新产品留品的时候存在100％爆发的可能，给新产品送样造成较大的问题，然而目前在清洗工艺中尚无有效的去除静电作用的机制。
发明人经过对一系列实验数据的研究发现：异物杂质颗粒难以清洗去除而大量留存的原因在于纤维在摩擦过程中的静电吸附作用。如图1所示，在摩擦过程中，摩擦布11上的电荷(为正性电荷，+电荷)和显示基板12未被取向膜覆盖区域的电荷(为负性电荷，﹣电荷)不相同，导致摩擦过程中产生的摩擦残屑13也即异物杂质颗粒(为正性电荷，+电荷)瞬间与显示基板(为负性电荷，﹣电荷)粘附在一起。摩擦后的显示基板极性较强，即使在无新的外界电荷源的条件下，在现有的通过物理性质的震动或者水洗击打进行去除异物的清洗过程中，也会吸收大量的水分，造成异物因静电吸附和水性包容牢固的吸附，因此难以实现在阵列基板和彩膜基板对盒前的完全洁净的清洗。
可喜的是，发明人在目前杂质颗粒与显示基板异物的不良分析中发现，大量的数据表明，摩擦取向过程中产生的异物并非顽固性不良，而是可以去除的。由此，本发明引入静电排斥的机理，将异物的电荷和显示基板的电荷变成相同电荷，或者消除异物的电荷，将二者间强烈的“静电吸附作用”去除，进而配合外界的超声波震动或水洗击打作用，将异物完全去除。
实施例1：
本实施例提供一种显示基板摩擦取向方法及其相应的显示基板摩擦取向装置，该显示基板摩擦取向方法能去除杂质颗粒与显示基板之间强烈的“静电吸附作用”，进而将异物完全去除。这里的显示基板包括需进行取向工艺的彩膜基板和阵列基板。
该显示基板摩擦取向方法包括采用摩擦布对显示基板表面进行取向的步骤，还包括在摩擦过程后对摩擦过程中产生的杂质颗粒进行处理，转换或消除杂质颗粒的电荷的步骤，以消除杂质颗粒与显示基板的静电吸附作用，去除摩擦过程中产生的杂质颗粒。
如图2所示，该显示基板摩擦取向方法具体包括：
在摩擦过程前，包括采用超声波震荡方法(Ultrasoundcleaningbaths，简称USC)去除显示基板的环境异物的步骤，通过该步骤进行初步去除异物。其原理是通过超声波震荡将显示基板上的异物杂质颗粒震动下来，然后真空抽走以进行异物排除。这里的超声波震荡方法中，可设置超声波频率为60Hz,基台速度为40-150mm/s，上吸附压强为-0.5kPa，下吸附压强为12kPa。
而事实上，异物杂质颗粒与显示基板的静电吸附作用远大于外界的震动或者击打，杂质颗粒难以彻底去除。
在摩擦过程中，还进一步包括采用X-Ray静电消除方法降低杂质颗粒与显示基板因摩擦产生的电压的步骤。在该步骤中，显示基板正式经过摩擦布(RubbingCloth)进行摩擦，由前述内容可知，杂质颗粒和显示基板之间有很强的静电作用(最高的静电可达100V)，这里采用X-Ray来中和静电，也即采用X-Ray进行静电排除，防止显示基板因摩擦产生的瞬间高压击穿线路。通常情况下，采用软X-Ray去除部分静电(1～10埃范围内的X-Ray称软X-Ray)，但软X-Ray只能去除部分静电。在摩擦过程中，摩擦布的尖端和显示基板为瞬间摩擦，X-Ray覆盖区域和排除电荷能力有限，取向膜产生的异物杂质颗粒还是很强的吸附在显示基板上，导致软X-Ray难以达到彻底消除电荷的目的。经过长期的异物杂质颗粒状况分析，发现采用X-Ray静电消除方法仅能将瞬间电压降低至不击穿显示基板的程度，仍有大量的异物杂质颗粒(+电荷)与显示基板(–电荷)粘附在一起，而在后续的工艺中静电吸附作用还会继续使得脱落的摩擦布异物和取向膜碎屑进行吸附。
在摩擦过程后，转换或消除杂质颗粒的电荷的步骤为：采用单一电性电荷的离子转换或消除摩擦过程中产生的杂质颗粒的电性，离子的电荷的电性与杂质颗粒的电荷电性相同，且与显示基板因摩擦产生的电压的电性相反。接着，还进一步包括采用超声波震荡方法去除采用单一电性电荷的离子未去除的杂质颗粒的步骤。
在该过程中，显示基板再次通过超声波震荡方法进行清洗以去除异物，同时采用离子转换或消除杂质颗粒的电荷，即使空气电离产生大量的正离子、负离子，根据异物杂质颗粒的电荷电性情况(例如，显示基板带“–电荷”，则吸附“+电荷”的异物杂质颗粒)，此时输出单独的“+电荷”，采用静电中和或者排斥的原理，将异物杂质颗粒的电荷和显示基板的电荷变成相同电荷，或者消除异物杂质颗粒的电荷，将二者之间强烈的“静电吸附作用”去除，将异物杂质颗粒与显示基板之间的粘附力降低，同时配合超声波震荡进行去除杂质颗粒；进而在超声波震荡和后续溶剂清洗方法中，配合外界的超声波震动或水洗击打作用，去除异物杂质颗粒。经过两次超声波震荡方法并配合去除静电吸附的作用，可清洗90％左右的5μm左右的zara杂质颗粒。
在超声波震荡过程后，还包括采用溶剂清洗方法(通过溶剂性清洗方法进行清洗)去除杂质颗粒的步骤。这里的溶剂可以包括：DIW(去离子水)或者IPA(异丙醇)或者含有DIW(去离子水)的混合溶剂，以及其他类似的表面活性剂溶液。在该步骤中，摩擦过程中杂质颗粒与显示基板之间的静电吸附作用已经基本消除，显示基板长时间在空气中裸露并不会加剧显示基板与杂质颗粒的粘附作用，在经过超声波震荡后，进一步通过溶剂进行清洗，杂质颗粒的去除率几乎能达到100％，从而保证显示基板的洁净性，保证显示基板的良率和画面品质。
相应的，本实施例提供一种显示基板摩擦取向装置，包括采用摩擦布对显示基板表面进行取向的摩擦单元，还包括杂质颗粒处理单元。如图3所示，显示基板摩擦取向装置包括预清洗单元21、杂质颗粒处理单元和溶剂清洗部26。其中：杂质颗粒处理单元用于产生离子并使得离子与摩擦过程中产生的杂质颗粒作用，转换或消除杂质颗粒的电荷，以消除杂质颗粒与显示基板的静电吸附作用，去除摩擦过程中产生的杂质颗粒。
具体的，预清洗单元21为超声波预清洗部，超声波预清洗部设置于摩擦单元22之前，用于去除显示基板的环境异物。
摩擦单元22还包括X-Ray静电消除器，X-Ray静电消除器用于降低摩擦过程中杂质颗粒与显示基板因摩擦产生的电压。
杂质颗粒处理单元包括超声波震荡部23、离子产生部24和离子输出部25，其中：
离子产生部24用于产生电荷电性与杂质颗粒的电荷的电性相同、且与显示基板因摩擦产生的电压的电性相反的离子；
离子输出部25用于将离子与杂质颗粒作用，以转换或消除杂质颗粒的电荷，以去除摩擦过程中产生的杂质颗粒。
超声波震荡部23包括超声波震荡腔，离子输出部25包括离子输出器，离子输出器向超声波震荡腔输出单一电性电荷的离子，离子的电荷的电性与杂质颗粒的电荷电性相同、且与显示基板的电性相反。
在本实施例的显示基板摩擦取向装置的工作过程(显示基板摩擦取向过程)中，在超声波震荡部23中加装离子输出器，使空气电离产生大量的正离子、负离子，根据异物杂质颗粒的电荷电性情况(例如，显示基板带“–电荷”，则吸附“+电荷”的异物杂质颗粒)，此时输出单独的“+电荷”，采用静电中和或者排斥的原理，将异物杂质颗粒的电荷和显示基板的电荷变成相同电荷，或者消除异物杂质颗粒的电荷，将二者之间强烈的“静电吸附作用”去除，将异物杂质颗粒与显示基板之间的粘附力降低，同时配合超声波震荡去除杂质颗粒；进而配合超声波震荡和后续溶剂清洗方法中，利用外界的超声波震动或水洗击打作用，去除异物杂质颗粒。
进一步的，杂质颗粒处理单元还包括溶剂清洗部26，溶剂清洗部26设置于超声波震荡部23之后。
容易理解的是，本实施例中的显示基板摩擦取向方法还可以进一步采用现有的显示基板的清洗装置做进一步的清洗(例如针对有机物杂质颗粒或其他各种不同尺寸的粒子的特定方法)，并采用相应的清洗系统进行清洗，以更彻底地去除杂质颗粒，获得洁净的显示基板，这里不做限定。
本实施例中的显示基板摩擦取向方法及装置，额外采用与杂质颗粒的电荷电性相同、且与显示基板的电压电性相反的离子电荷进行杂质颗粒电荷去除，相比只使用软X-Ray静电消除进行杂质颗粒电荷去除，能更有效地将杂质颗粒与显示基板之间的粘附力降低，从而彻底去除杂质颗粒。
实施例2：
本实施例提供一种显示基板摩擦取向方法及其相应的显示基板摩擦取向装置，该显示基板摩擦取向方法能去除杂质颗粒与显示基板之间强烈的“静电吸附作用”，进而将异物完全去除。
如图4所示，与实施例1中的显示基板摩擦取向方法及其相应的装置相比，本实施例中的显示基板摩擦取向方法在超声波震荡过程后，还包括采用与单一电性电荷的离子的电荷电性相反的辅助离子加强去除杂质颗粒的步骤。通过二次离子作用，能进一步去除在前一工艺阶段中未能去除的异性电荷的异物杂质颗粒，获得更洁净的显示基板。
相应的，如图5所示，与实施例1中的显示基板摩擦取向方法及其相应的装置相比，本实施例中的显示基板摩擦取向装置中，离子输出部25还包括辅助离子输出器，超声波震荡部23还包括辅助超声波震荡腔，辅助离子输出器向辅助超声波震荡器输出辅助离子，辅助离子的电荷的电性与单一电性电荷的离子的电荷电性相反。通过辅助离子输出器进行二次离子作用，能进一步去除在前一工艺阶段中未能去除的异性电的异物杂质颗粒的电荷，获得更洁净的显示基板。
在本实施例的显示基板摩擦取向装置的工作过程(显示基板摩擦取向过程)中，在超声波震荡部23中加装离子输出器和辅助离子输出器，使空气电离产生大量的正离子、负离子，根据异物杂质颗粒的电荷电性情况(例如，显示基板带“–电荷”，则吸附“+电荷”的异物杂质颗粒)，此时输出单独的“+电荷”，采用静电中和或者排斥的原理，将异物杂质颗粒的电荷和显示基板的电荷变成相同电荷，或者消除异物杂质颗粒的电荷，将二者之间强烈的“静电吸附作用”去除，将异物杂质颗粒与显示基板之间的粘附力降低，同时配合超声波震荡去除杂质颗粒；然后，再输出单独的“–电荷”，配合以超声波震动去除异性电荷的杂质颗粒，中和其他的异性电的异物杂质颗粒的电荷；进而配合超声波震荡和后续溶剂清洗方法中，利用外界的超声波震动或水洗击打作用，去除异物杂质颗粒。
相比实施例1中的显示基板摩擦取向方法及其相应的显示基板摩擦取向装置，本实施例的显示基板摩擦取向方法去除杂质颗粒的效果更好，能获得更洁净的显示基板。
实施例3：
本实施例提供一种显示基板制备方法及其相应的显示基板制备系统，能获得高质量的显示基板，并进一步获得高质量的显示装置。
该显示基板制备方法，包括实施例1或实施例2中的显示基板的摩擦取向方法，获得更洁净、高质量的显示基板。
该显示基板制备系统，包括实施例1或实施例2中的显示基板的摩擦取向装置，获得更洁净、高质量的显示基板。
通过该显示基板可得到的显示装置包括：液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
本发明中的显示基板摩擦取向方法及装置，通过引入单一电性电荷进行静电中和或排斥，高效地降低异物杂质颗粒与显示基板的静电粘附作用，能显著改善因摩擦取向产生的碎屑无法有效去除的现象；同时，配合超声波震荡等清设备同时使用，可以更加有效地降低异物性不良，提高液晶显示产品的良率。
该显示基板摩擦取向方法及装置适用于棉质材料摩擦布和尼龙材料摩擦布的摩擦取向工艺改善，尤其适用于尼龙材料摩擦布的摩擦取向工艺改善。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (16)
1.一种显示基板摩擦取向方法，包括采用摩擦布对显示基板表面进行取向的步骤，其特征在于，还包括在摩擦过程后对摩擦过程中产生的杂质颗粒进行处理，转换或消除所述杂质颗粒的电荷的步骤，以消除所述杂质颗粒与所述显示基板的静电吸附作用，去除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒。
2.根据权利要求1所述的显示基板摩擦取向方法，其特征在于，转换或消除所述杂质颗粒的电荷的步骤为：采用单一电性电荷的离子转换或消除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒的电性，所述离子的电荷的电性与所述杂质颗粒的电荷电性相同、且与所述显示基板因摩擦产生的电压的电性相反。
3.根据权利要求2所述的显示基板摩擦取向方法，其特征在于，进一步的，还包括采用与单一电性电荷的所述离子的电荷电性相反的辅助离子加强去除所述杂质颗粒的步骤。
4.根据权利要求2或3所述的显示基板摩擦取向方法，其特征在于，在去除所述杂质颗粒的步骤中，还包括同时采用超声波震荡方法去除所述杂质颗粒。
5.根据权利要求4所述的显示基板摩擦取向方法，其特征在于，在超声波震荡方法后，还包括采用溶剂清洗方法去除所述杂质颗粒的步骤。
6.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板摩擦取向方法，其特征在于，在摩擦过程中，还进一步包括采用X-Ray静电消除方法降低所述杂质颗粒与所述显示基板因摩擦产生的电压的步骤。
7.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板摩擦取向方法，其特征在于，在摩擦过程前，还进一步包括采用超声波震荡方法预去除所述显示基板的环境异物的步骤。
8.一种显示基板制备方法，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的显示基板的摩擦取向方法。
9.一种显示基板摩擦取向装置，包括采用摩擦布对显示基板表面进行取向的摩擦单元，其特征在于，还包括杂质颗粒处理单元，所述杂质颗粒处理单元用于产生离子并使得所述离子与摩擦过程中产生的所述杂质颗粒作用，转换或消除所述杂质颗粒的电荷，以消除所述杂质颗粒与所述显示基板的静电吸附作用，去除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒。
10.根据权利要求9所述的显示基板摩擦取向装置，其特征在于，所述杂质颗粒处理单元包括离子产生部和离子输出部，其中：
所述离子产生部用于产生电荷电性与所述杂质颗粒的电荷的电性相同、且与所述显示基板因摩擦产生的电压的电性相反的离子；
所述离子输出部用于将所述离子与所述杂质颗粒作用，以转换或消除所述杂质颗粒的电荷，以去除摩擦过程中产生的所述杂质颗粒。
11.根据权利要求10所述的显示基板摩擦取向装置，其特征在于，所述杂质颗粒处理单元还包括超声波震荡部，所述超声波震荡部包括超声波震荡腔，所述离子输出部包括离子输出器，所述离子输出器向所述超声波震荡腔输出单一电性电荷的离子，所述离子的电荷的电性与所述杂质颗粒的电荷电性相同、且与所述显示基板的电性相反。
12.根据权利要求11所述的显示基板摩擦取向装置，其特征在于，所述离子输出部还包括辅助离子输出器，所述超声波震荡部还包括辅助超声波震荡腔，所述辅助离子输出器向所述辅助超声波震荡器输出辅助离子，所述辅助离子的电荷的电性与单一电性电荷的所述离子的电荷电性相反。
13.根据权利要求11或12所述的显示基板摩擦取向装置，其特征在于，所述杂质颗粒处理单元还包括溶剂清洗部，所述溶剂清洗部设置于所述超声波震荡部之后。
14.根据权利要求9-12任一项所述的显示基板摩擦取向装置，其特征在于，所述摩擦单元还包括X-Ray静电消除器，所述X-Ray静电消除器用于降低摩擦过程中所述杂质颗粒与所述显示基板因摩擦产生的电压。
15.根据权利要求9-12任一项所述的显示基板摩擦取向装置，其特征在于，还包括预清洗单元，所述预清洗单元为超声波预清洗部，所述超声波预清洗部设置于所述摩擦单元之前，用于去除所述显示基板的环境异物。
16.一种显示基板制备系统，其特征在于，包括权利要求9-15任一项所述的显示基板的摩擦取向装置。
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