CN105537194B - 一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备 - Google Patents

一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备 Download PDF

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Abstract

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备。该掩膜版的清洗装置包括振荡装置，所述振荡装置设置于掩膜版上，所述振荡装置在所述掩膜版完成蒸镀后对其施加振动力，使所述掩膜版上的残留材料脱落。而且，该掩膜版的清洗装置还包括静电吸附装置，所述静电吸附装置通过产生的静电吸附所述掩膜版上的残留材料。本发明利用超声振荡原理实现的有机发光材料清洗方法，可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的掩膜版损坏、资源浪费和环境污染等问题。另外，超声振荡清洗还可避免外部污染的引入，使回收的材料可以重复利用，极大地节约了时间和资源成本，适用于绿色生产和大规模量产的发展方向。

Description

一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备。
背景技术
如图1所示，现有蒸镀设备通常由带有背板电路的基板1、精细金属掩膜版(FMM)2、坩埚3及蒸镀腔4四部分组成。蒸镀过程中，可如附图2所示，对坩埚3加高温可使有机发光材料5汽化并沉积到基板1和精细金属掩膜版2上，从而形成固态的有机发光材料5。由于在量产的条件下，一片精细金属掩膜版需要重复使用多次，为了避免污染和混色，在每次使用完FMM后需要进行清洗。
常规的FMM清洗方法一般有两种：一种方式是通过对FMM进行整体加热，热量将FMM上残留的有机材料蒸发掉；另一种方式是利用有机溶剂清洗，对不同的有机材料选用不同的有机溶剂，以保证获得最大的溶解度，然后通过浸泡去除残留在FMM上的有机材料。但是在上述两种方法中，整体加热会造成温度高，导致FMM膨胀，可能损坏FMM；使用有机溶剂清洗FMM工艺复杂，每次都需要大量的溶剂，极易造成资源浪费和环保污染。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是现有技术中有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的FMM损坏、资源浪费和环境污染等问题。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种掩膜版的清洗装置，其包括振荡装置，所述振荡装置设置于掩膜版上，所述振荡装置在所述掩膜版完成蒸镀后对其施加振动力，使所述掩膜版上的残留材料脱落。
其中，所述掩膜版的清洗装置还包括静电吸附装置，所述静电吸附装置通过产生的静电吸附所述掩膜版上的残留材料。
其中，所述掩膜版的清洗装置还包括回收装置，所述回收装置回收所述掩膜版上脱落的残留材料。
其中，所述静电吸附装置包括电源和电极夹具，所述电极夹具固定于所述掩膜版上，且与所述电源电性连接，所述回收装置与所述电源电性连接，所述电源在所述回收装置与所述掩膜版之间施加电压，以形成静电吸附力。
其中，所述电极夹具固定于所述掩膜版的拐角位置。
其中，所述振荡装置为超声振荡器，所述超声振荡器设置在所述的掩膜版的侧边位置。
其中，所述掩膜版为金属掩模板。
本发明还提供一种蒸镀设备，其包括所述的掩膜版的清洗装置。
本发明又提供一种掩膜版的清洗方法，其包括如下步骤：在使用掩膜版完成蒸镀之后，通过调节振荡装置的振动强度和频率向所述掩膜版施加振动力，使所述掩膜版上的残留材料脱落。
其中，在使用在掩膜版完成蒸镀之后还包括如下步骤：通过静电吸附装置在掩膜版与回收装置之间施加电压以形成静电吸附力，使所述掩膜版上的残留材料在重力及静电吸附力的作用下落入回收装置中。
(三)有益效果
本发明的上述技术方案具有以下有益效果：本发明提供了一种掩膜版的清洗装置，利用超声振荡原理实现对掩膜版上残留的机发光材料进行清洗，可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的掩膜版损坏、资源浪费和环境污染等问题。另外，超声振荡清洗还可避免外部污染的引入，使回收的材料可以重复利用，极大地节约了时间和资源成本，适用于绿色生产和大规模量产的发展方向。
附图说明
图1为现有蒸镀设备的结构示意图；
图2为现有蒸镀设备在基板和掩膜版上形成固态的有机发光材料的结构示意图；
图3为本发明实施例一掩膜版的清洗装置的结构示意图；
图4为本发明实施例一掩膜版的清洗装置的俯视图；
图5为本发明实施例一掩膜版的清洗之前的效果图；
图6为本发明实施例一掩膜版的清洗之后的效果图。
其中，1：基板；2：掩膜版；3：坩埚；4：蒸镀腔；5：有机发光材料；6：回收装置；7：振荡装置；8：电源；9：电极夹具。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不能用来限制本发明的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例一
如图3所示，本实施例提供了一种掩膜版的清洗装置，其包括振荡装置7，其中振荡装置7设置于掩膜版2上，该振荡装置7在掩膜版2完成蒸镀后(在有机发光材料汽化并沉积于基板1和掩膜版2之后)对掩膜版2施加振动力，使掩膜版2上的残留材料脱落。该掩膜版2可为精细金属掩模板(FMM)。可见，本实施例清洗装置可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的掩膜版2损坏、资源浪费和环境污染等问题。另外，采用振荡清洗还可避免外部污染的引入，回收材料可以重复利用，极大地节约了时间和资源成本，适用于绿色生产和大规模量产的发展方向。
为了达到更好的清洗效果，如图3-4所示，本实施例清洗装置还包括静电吸附装置，静电吸附装置通过产生的静电吸附掩膜版2上的残留材料。静电吸附装置可与振荡装置7一起配合使用，使残留的有机材料在静电力与重力的共同作用下进一步脱离，更好地改善清洗效果。
此外，该掩膜版的清洗装置还包括回收装置6，回收装置6设置在掩膜版2的下方，用于回收掩膜版2上脱落的残留材料，其回收的有机材料还可重复利用，提高材料利用率。
本实施例中静电吸附装置可以与回收装置6相互配合，实现在回收装置6与掩膜版2之间施加电压，从而形成静电吸附力。具体的，静电吸附装置包括电源8和电极夹具9，电极夹具9固定于掩膜版2上，且与电源8电性连接，回收装置6与电源8电性连接，电源8在回收装置6与掩膜版2之间施加电压，以形成静电吸附力，在静电吸附力和重力的共同作用下，加速残留有机材料的脱落，极大地改善有机材料的清洗效果。
该掩膜版的清洗装置的具体结构可通过如下优选实施例阐述，该掩膜版的清洗装置可实现针对精细金属掩模板进行清洗，清洗前后的效果比对可参照图5、图6所示。而且，清洗后回收的材料还可以重复利用，极大地节约了时间和资源成本。
优选的，振荡装置7选为超声振荡器，超声振荡器设置在掩膜版2的侧边位置，也就是说，在掩膜版2的四边分别设置一台超声振荡器，通过调节不同超声振荡器的振动强度，可以有侧重地对掩膜版2上的残留材料进行脱离。可见，超声振荡器可向掩膜版2提供振动能量，通过改变超声振荡器的振动强度和频率可以调节有机材料的脱离速度，需要注意的是，在调节频率时需要避开掩膜版2的固有频率，防止发生共振造成掩膜版2损坏。
同时，通过多通道电源8给材料回收装置6和掩模板施加正负电压，使得两者之间形成静电吸附力。电极夹具9固定于掩膜版2的拐角处，即在掩膜版2的四个角分别设置一处电极夹具9，可以避免掩模板电阻负载造成的电压降，实现电压补偿。通过调节电极电压的大小，可以有侧重地改变不同区域的静电吸附强度。
实施例二
本实施例提供了一种蒸镀设备，其包括实施例一所述掩膜版的清洗装置，该掩膜版的清洗装置包括振荡装置7，振荡装置7设置于掩膜版2上，在掩膜版2完成蒸镀后对掩膜版2施加振动力，使掩膜版2上的残留材料脱落。为了达到更好的清洗效果，该掩膜版的清洗装置还包括静电吸附装置，静电吸附装置通过产生的静电吸附掩膜版2上的残留材料。静电吸附装置可与振荡装置7一起使用，使残留的有机材料在静电力和重力的共同作用下进一步脱离，更好地改善清洗效果。
具体而言，该蒸镀设备包括蒸镀腔4以及在蒸镀腔4自上而下设置的带有背板电路的基板1、精细金属掩膜版2、坩埚3；振荡装置7优选为超声振荡器，超声振荡器设置在的掩膜版2的侧边处；电极夹具9固定于掩膜版2的四个角上，且与电源8电性连接，回收装置6与电源8电性连接，且位于掩膜版2的正下方，电源8在回收装置6与掩膜版2之间施加电压，以形成静电吸附力。可见，通过调节不同超声振荡器的振动强度，可以有侧重地对掩膜版2上的残留材料进行脱离。同时，在静电吸附力和重力的共同作用下，加速残留有机材料的脱落，极大地改善有机材料的清洗效果。其他具体特征已在上面详细描述，此处不再赘述。
实施例三
本实施例提供了一种掩膜版2的清洗方法，其包括如下步骤：在使用掩膜版2完成蒸镀之后，通过调节振荡装置7的振动强度和频率向掩膜版2施加振动力，使掩膜版2上的残留材料脱落。该掩膜版的清洗装置可针对精细金属掩模板进行清洗操作。振荡装置7优选为超声振荡器，超声振荡器设置在的掩膜版2的侧边处，也就是说，在掩膜版2的四边分别设置一台超声振荡器，通过调节不同超声振荡器的振动强度，可以有侧重地对掩膜版2上的残留材料进行脱离。可见，超声振荡器可向掩膜版2提供振动能量，通过改变超声振荡器的振动强度和频率可以调节有机材料的脱离速度，需要注意的是，在调节频率时需要避开掩膜版2的固有频率，防止发生共振造成掩膜版2损坏。
此外，在使用掩膜版2完成蒸镀之后还包括如下步骤：通过静电吸附装置向掩膜版2与回收装置6之间施加电压，以形成吸附掩膜版2上的残留材料的静电吸附力，从而在静电力和重力的共同作用下，加速残留有机材料的脱落，并由回收装置6回收利用，极大地改善有机材料的清洗效果。具体而言，可通过多通道电源8给材料回收装置6和掩模板施加正负电压，使得两者之间形成静电吸附力。电极夹具9固定于掩膜版2的拐角位置，即在掩膜版2的四个角分别设置一处电极夹具9。可以避免掩模板电阻负载造成的电压降，实现电压补偿。通过调节电极电压的大小，可以有侧重地改变不同区域的静电吸附强度。
综上，相比现有技术中的两种清洗方法，本发明利用超声振荡原理实现的有机发光材料清洗方法，可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的FMM损坏、资源浪费和环境污染等问题。另外，超声振荡清洗还可避免外部污染的引入，使回收的材料可以重复利用，极大地节约了时间和资源成本，适用于绿色生产和大规模量产的发展方向。
本发明的实施例是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本发明限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本发明的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本发明从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。

Claims (7)

1.一种精细金属掩膜版的清洗装置，其特征在于，包括振荡装置，所述振荡装置在所述精细金属掩膜版完成蒸镀后对其施加振动力，使所述精细金属掩膜版上的残留材料脱落，所述振荡装置包括多个超声振荡器，所述多个超声振荡器分别设置在所述精细金属掩膜版的四个侧边位置，且多个所述超声振荡器在进行清洗时的振动强度和频率不完全相同；以及
静电吸附装置，所述静电吸附装置包括电源和多个电极夹具，所述多个电极夹具分别固定于所述精细金属掩膜版的四个拐角位置。
2.根据权利要求1所述的精细金属掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述静电吸附装置通过产生的静电吸附所述精细金属掩膜版上的残留材料。
3.根据权利要求1所述的精细金属掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述精细金属掩膜版的清洗装置还包括回收装置，所述回收装置回收所述精细金属掩膜版上脱落的残留材料。
4.根据权利要求3所述的精细金属掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述电极夹具与所述电源电性连接，所述回收装置与所述电源电性连接，所述电源在所述回收装置与所述精细金属掩膜版之间施加电压，以形成静电吸附力。
5.一种蒸镀设备，其特征在于，包括权利要求1-4中任一项所述的精细金属掩膜版的清洗装置。
6.一种精细金属掩膜版的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：在使用所述精细金属掩膜版完成蒸镀之后，通过调节清洗装置的振动强度和频率向所述精细金属掩膜版施加振动力，使所述精细金属掩膜版上的残留材料脱落，
所述清洗装置包括振荡装置，所述振荡装置包括多个超声振荡器，所述多个超声振荡器分别设置在所述精细金属掩膜版的四个侧边位置；以及
静电吸附装置，所述静电吸附装置包括电源和多个电极夹具，所述多个电极夹具分别固定于所述精细金属掩膜版的四个拐角位置。
7.根据权利要求6所述的精细金属掩膜版的清洗方法，其特征在于，在使用精细金属掩膜版完成蒸镀之后还包括如下步骤：通过静电吸附装置在所述精细金属掩膜版与回收装置之间施加电压以形成静电吸附力，使所述精细金属掩膜版上的残留材料在重力及静电吸附力的作用下落入回收装置中。
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