CN105182697A - 一种On Cell结构触摸显示屏及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种On？Cell结构触摸显示屏及其制作方法、显示装置，涉及液晶显示技术领域，以解决在对多层触摸层对位曝光过程中，曝光机报错率高的问题。该On？Cell结构触摸显示屏的制作方法包括在彩膜基板和偏光片之间沿光线传播方向依次制作透明半导体层、第一保护层、金属层和第二保护层；透明半导体层和第一保护层的对位标记均制作在彩膜基板的黑矩阵上，且其所采用的材料均为遮光材料；金属层的对位标记采用光刻胶制成；第二保护层的对位标记采用反光材料制成。所述On？Cell结构触摸显示屏采用上述制作方法制作；本发明提供的On？Cell结构触摸显示屏的制作方法用于制作触摸屏。

Description

一种On Cell结构触摸显示屏及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种OnCell结构的触摸显示屏及其制作方法、显示装置。

背景技术

目前，随着液晶显示技术的发展，人们对液晶显示器的人机交互功能提出了越来越高的要求。而现有的技术中，人们一般采用OnCell技术将传统的液晶显示屏与触摸传感器结合，形成OnCell结构触摸屏，以提高液晶显示器的人机交互功能。

具体来说，Oncell技术是指将触摸层嵌入到液晶显示屏的彩膜基板和偏光片之间的方法，且根据所嵌入的触摸层的厚度可以分为单层触摸层和多层触摸层；其中，多层触摸层一般包括氧化铟锡层、第一保护层，金属层以及第二保护层。而由于多层触摸层是在已经对盒后的液晶屏的彩膜基板上进行制作的，因此，需要使多层触摸层与液晶显示屏具有良好的对位精度才能保证触摸屏的触摸功能正常。但是由于氧化铟锡层、第一保护层、金属层以及第二保护层在制作过程中需要进行对位曝光，且对位曝光时所采用的对位标记均采用透明的氧化铟锡材料制成。因此，在对位曝光时，由透明的氧化铟锡材料制成的对位标记为透明的，其与周边的玻璃基板对比度比较低，曝光机不能清楚的识别；而且，在制作金属层时，金属层的对位标记被金属层所遮盖，且由于金属层的对位标记采用透明的氧化铟锡制成，其厚度很薄；因此，在对金属层进行对位曝光时，金属层的对位标记在曝光机所发出的强光下的凹凸感不强，导致曝光机根本无法识别金属层的对位标记。

可见，现有技术中，采用OnCell技术制作具有多层触摸层的触摸显示屏时，曝光机对相应的对位标记识别度不高，使得多层触摸层与液晶显示屏的对位精度低，导致曝光机报错率高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种OnCell结构触摸显示屏及其制作方法、显示装置，以解决在对多层触摸层对位曝光过程中，曝光机报错率高的问题。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种OnCell结构触摸显示屏的制作方法，在彩膜基板用于与偏光片相对的一侧沿光线传播方向依次制作透明半导体层、第一保护层、金属层和第二保护层，然后通过成盒工艺，得到OnCell结构触摸显示屏；其中，

所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记均制作在所述彩膜基板的黑矩阵上，且所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记所采用的材料均为遮光材料；所述金属层的对位标记采用光刻胶制成；所述第二保护层的对位标记采用反光材料制成。

优选的，所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记所采用的材料均与黑矩阵的材料相同，所述金属层的对位标记制作在所述第一保护层上，所述第二保护层的对位标记制作在所述金属层上。

优选的，所述透明半导体层采用氧化铟锡制成。

优选的，所述金属层的对位标记的厚度为0.5μm-2μm。

较佳的，所述金属层的对位标记的厚度为1.5μm。

优选的，所述第一保护层和所述第二保护层均由光刻胶制成。

优选的，所述金属层的材料为Al、Cu或Fe。

较佳的，所述金属层的材料和所述反光材料的材料相同。

本发明还提供了一种OnCell结构触摸显示屏，由上述技术方案所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法制作而成

本发明还提供一种显示装置，包括上述技术方案所述的OnCell结构触摸显示屏。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：

本发明提供的OnCell结构触摸显示屏的制作方法中，透明半导体层的对位标记和第一保护层的对位标记均制作在彩膜基板的黑矩阵上，而且透明半导体层的对位标记和第一保护层的对位标记均采用遮光材料制成，因此，当对透明半导体层进行对位时，透明半导体层的对位标记与彩膜基板的玻璃基板具有显著的对比度，且对第一保护层进行对位时，第一保护层的对位标记与透明半导体层的对比度比较大；因此，曝光机在对位曝光是能够清楚的识别透明半导体层的对位标记和第一保护层的对位标记；而金属层的对位标记位是由光刻胶制成的，且因为采用光刻胶制成的金属层的对位标记较厚，因此，在对金属层进行对位曝光时，虽然金属层已经将金属层的对位标记覆盖，但是金属层的对位标记在曝光机所发出的强光下具有显著的凹凸感，使得曝光机够清楚的识别。

另外，本发明提供的OnCell结构触摸显示屏的制作方法中，第二保护层的对位标记是由反光材料制成，曝光机在对位曝光时通过由反光材料制成的对位标记的反光，即可成功识别第二保护层的对位标记。

因此，本发明通过对对位标记所在的位置以及其所采用的材料的限定，就可以使曝光机在多层触摸层对位曝光时，成功的识别各层的对位标记，提高了多层触摸层与液晶显示屏的对位精度低，避免在对多层触摸层对位曝光过程中，出现曝光机报错率高的问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为本发明实施例提供的多层触摸层与彩膜基板以及偏光片的连接关系示意图；

图2为图1中透明半导体层的对位标记和第一保护层的对位标记示意图；

图3为图1中金属层的对位标记示意图；

图4为图1中第二保护层的对位标记示意图；

附图标记：

1-彩膜基板，21-透明半导体层；

210-透明半导体层的对位标记，22-第一保护层；

220-第一保护层的对位标记，22B-第一保护层的上表面；

23-金属层，230-金属层的对位标记；

23B-金属层的上表面，24-第二保护层；

240-第二保护层的对位标记；3-偏光片。

具体实施方式

为了进一步说明本发明实施例提供的OnCell结构触摸显示屏及其制作方法、显示装置，下面结合附图对本发明做进一步详细说明。

请参阅图1，本发明实施例提供的OnCell结构触摸显示屏的制作方法，具体包括：在彩膜基板1和偏光片3之间沿光线传播方向依次制作透明半导体层21、第一保护层22、金属层23和第二保护层24；其中，

请参阅图2-4，透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220均制作在彩膜基板1的黑矩阵上；透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220所采用的材料均为遮光材料；金属层的对位标记230采用光刻胶制成；第二保护层的对位标记240采用反光材料制成。

本实施例提供的OnCell结构触摸显示屏的制作方法中，透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220均制作在彩膜基板1的黑矩阵上，而且透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220均采用遮光材料制成，因此，当对透明半导体层21进行对位时，透明半导体层的对位标记210与彩膜基板1的玻璃基板具有显著的对比度，且对第一保护层22进行对位时，第一保护层的对位标记220与透明半导体层21的对比度比较大；因此，曝光机在对位曝光是能够清楚的识别透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220；而金属层的对位标记位230是由光刻胶制成的，且因为采用光刻胶制成的金属层的对位标记230较厚，因此，在对金属层23进行对位曝光时，虽然金属层23已经将金属层的对位标记230覆盖，但是金属层的对位标230在曝光机所发出的强光下具有显著的凹凸感，使得曝光机够清楚的识别。

另外，本实施例提供的OnCell结构触摸显示屏的制作方法中，第二保护层的对位标记240是由反光材料制成，曝光机在对位曝光时通过由反光材料制成的对位标记的反光，即可成功识别第二保护层的对位标记240。

因此，本实施例通过对对位标记所在的位置以及其所采用的材料的限定，就可以使曝光机在多层触摸层对位曝光时，成功的识别各层的对位标记，提高了多层触摸层与液晶显示屏的对位精度低，避免在对多层触摸层对位曝光过程中，出现曝光机报错率高的问题。

而上述实施例并未指出金属层的对位标记230和第二层保护层的对位标记240制作的位置，其可以按照本领域常规做法理解，即金属层的对位标记230制作在第一保护层22上，第二保护层的对位标记240制作在金属层23上；而且，透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220可以提前制作在彩膜基板1的黑矩阵上，待成盒后，在彩膜基板1用于与偏光片3相对的一面的玻璃基板制作透明半导体层21和第一保护层22时，就可以利用曝光机直接对位。

需要说明的是，上述实施例中金属层的对位标记230制作在第一保护层22上，具体是指金属层的对位标记230制作在第一保护层的上表面22B，换句话说，金属层的对位标记230制作在第一保护层22与金属层23相对的一面；第二保护层的对位标记240制作在金属层23上，具体是指第二保护层的对位标记240制作在金属层的上表面23B，换句话说，第二保护层的对位标记240制作在金属层23与第二保护层24相对的一面。

值得注意的是，上述实施例中的透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220所选用的材料可以为遮光材料中的任何一种，但是为了提高曝光机在对位曝光时对透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220的识别性，透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220可优选采用与黑矩阵材料相同的材料：如含有黑色染料的高遮光性树脂。由于高遮光性树脂中含有黑色染料，能够进一步提高透明半导体层的对位标记210与彩膜基板1的玻璃基板的对比度，以及第一保护层的对位标记220与透明半导体层21的对比度，使曝光机在对位曝光时，对透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220的识别性更好。而且，透明半导体层的对位标记210选用的材料和第一保护层的对位标记220选用的材料均与黑矩阵的材料相同，避免了在黑矩阵上制作透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220时引入其他材料所导致的对黑矩阵的二次污染。

另外，当金属层的对位标记230的厚度为0.5μm-2μm，优选为1.5μm时，金属层23对位曝光时，曝光机对金属层的对位标记230识别性比较好。这是因为虽然金属层的对位标记230选用光刻胶制成，使金属层的对位标记230在被金属层23所覆盖后仍然能够在曝光机的强光下看到凹凸感，以便于曝光机对位；但是不能为了方便曝光机对位，而一味的增加制作在第一保护层22上的金属层的对位标记230厚度。因此，本实施例对金属层的对位标记230的厚度进行限定，以在不影响金属层制作的同时，提高对位精度。

而上述实施例中反光材料和金属层23的材料相同；换句话说，第二保护层的对位标记240所具体采用反光材料为金属材料。金属材料具有良好的反光性，当制作第二保护层24时，曝光机在对位识别时，通过金属材料的反光即可实现精确对位，从而提高对位精度。

此外，上述实施例中的透明半导体层21、第一保护层22、金属层23、第二保护层24所选用的材料可以根据常规情况选择，例如透明半导体层21所选用的材料为氧化铟锡，第一保护层22和第二保护层24所选用的材料为光刻胶，且光刻胶可以为正光刻胶或负光刻胶，金属层23所选用的材料为Al、Cu或Fe。

需要说明的是，虽然已经给出了透明半导体层21、第一保护层22、金属层23、第二保护层24所选用的具体材料，但不仅限于此。

本发明实施例提供的一种OnCell结构触摸显示屏，由上述技术方案的OnCell结构触摸显示屏的制作方法制作而成。

与现有技术相比，本实施例提供的OnCell结构触摸显示屏的有益效果与上述OnCell结构触摸显示屏的制作方法的相同，此处不做赘述。

本发明实施例提供的一种显示装置，包括上述技术方案所述的OnCell结构触摸显示屏。

与现有技术相比，本实施例提供的显示装置的有益效果与上述OnCell结构触摸显示屏的相同，此处不做赘述。

上述实施例提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种OnCell结构触摸显示屏的制作方法，其特征在于，在彩膜基板和偏光片之间沿光线传播方向依次制作透明半导体层、第一保护层、金属层和第二保护层；其中，

所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记均制作在所述彩膜基板的黑矩阵上，且所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记所采用的材料均为遮光材料；所述金属层的对位标记采用光刻胶制成；所述第二保护层的对位标记采用反光材料制成。

2.根据权利要求1所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法，其特征在于，所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记所采用的材料均与黑矩阵的材料相同，所述金属层的对位标记制作在所述第一保护层上，所述第二保护层的对位标记制作在所述金属层上。

3.根据权利要求1或2所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法，其特征在于，所述透明半导体层采用氧化铟锡制成。

4.根据权利要求1或2所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法，其特征在于，所述金属层的对位标记的厚度为0.5μm-2μm。

5.根据权利要求4所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法，其特征在于，所述金属层的对位标记的厚度为1.5μm。

6.根据权利要求1或2所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法，其特征在于，所述第一保护层和所述第二保护层均由光刻胶制成。

7.根据权利要求1或2所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法，其特征在于，所述金属层的材料为Al、Cu或Fe。

8.根据权利要求7所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法，其特征在于，所述反光材料与所述金属层的材料相同。

9.一种OnCell结构触摸显示屏，其特征在于，由权利要求1～8中任一项所述的OnCell结构触摸显示屏的制作方法制作而成

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的OnCell结构触摸显示屏。