CN108776406A - 一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法，包括：有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；非有效区域，设置在所述有效区域的周围；对位精度检测图案，设置在所述非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案，所述制备基板能够利用同一所述光罩图案而在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块。通过上述方式，本发明能够确定不同颜色层间图形的相对位置精度，提高产品质量。

Description

一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法

技术领域

本发明涉及彩色滤光片技术领域，特别是涉及一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法。

背景技术

彩色滤光片是液晶显示装置的重要组成部分，而随着人们对显示装置的清晰度要求越来越高，相应的，彩色滤光片的RGB像素线宽越来越窄。为保证不同颜色层间图形的相对位置精度，通常采用彩色滤光片的制备基板上的对应精度检测图案与每个颜色层对应的光罩上设置额光罩对位图案的匹配来检测相应颜色的颜色层的相对位置精度。

现有技术中，为降低生产成本和缩短工艺流程，通过移动一个共用光罩的方式在该制备基板上形成不同颜色的颜色层，此时，该光罩上的光罩对位图案在该制备基板上的对应精度检测图案中的投影无法对每个颜色的颜色层的相对位置精确度进行指示。因此，在使用一个光罩图案对不同的颜色层进行曝光时，无法确定不同颜色层间图形的相对位置精度，产品质量不可靠。

本申请的发明人在长期的研发过程中，发现现有的彩色滤光片的制备基板无法确定不同颜色层间图形的相对位置精度，产品质量不可靠。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法，能够确定不同颜色层间图形的相对位置精度，提高产品质量。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种彩色滤光片的制备基板。

其中，该制备基板包括：

有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；

非有效区域，设置在该有效区域的周围；

对位精度检测图案，设置在该非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；

其中，当利用一共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第一颜色色阻块时，根据该光罩图案投影在该第一对位精度检测图案中的位置而调整修正该光罩图案的位置；

当利用该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第二颜色色阻块时，根据该光罩图案投影在该第二对位精度检测图案中的位置而调整修正该光罩图案的位置；

当利用该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第三颜色色阻块时，根据该光罩图案投影在该第三对位精度检测图案中的位置而调整修正该光罩图案的位置，从而利用同一该光罩图案而在该制备基板上形成该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制造方法。

其中，该方法包括：

提供一彩色滤光片的制备基板，其中，该制备基板包括有效区域、非有效区域和设置在该非有效区域中的第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；

提供一共用光罩图案，其中，该共用光罩图案包括第一光罩对位图案、第二光罩对位图案和第三光罩对位图案；

根据该第一光罩对位图案在该第一对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第一光罩对位图案的中心与该第一对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第一颜色色阻块；

将该共用光罩图案偏移一个子像素的距离，并根据该第二光罩对位图案在该第二对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第二光罩对位图案的中心与该第二对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第二颜色色阻块；

将该共用光罩图案继续偏移一个子像素的距离，并根据该第三光罩对位图案在该第三对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第三光罩对位图案的中心与该第三对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第三颜色色阻块。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明在该彩色滤光片的制备基板上设置的该第一对位精度检测图案、该第二对位精度检测图案和该第三对位精度检测图案与用于曝光形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块的共用光罩图案配合，根据该光罩图案投影在该第一对位精度检测图案中的位置、该第二对位精度检测图案中的投影位置和该第三对位精度检测图案的投影位置而来分别指示形成在该制备基板上的该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块的相对位置精度，进而通过调整修正该光罩图案的位置提高产品质量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1是本发明一种彩色滤光片的制备基板一实施方式的结构示意图；

图2是本发明该共用光罩图案一实施方式的结构示意图；

图3是本发明形成该第一颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；

图4是本发明形成该第一颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；

图5是本发明形成该第二颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；

图6是本发明形成该第二颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；

图7是本发明形成该第三颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；

图8是本发明形成该第三颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；

图9是本发明一种彩色滤光片基板的制造方法一实施方式的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

参阅图1，图1是一种彩色滤光片的制备基板一实施方式的结构示意图，该基板包括：

有效区域100，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块110、第二颜色色阻块120和第三颜色色阻块130；非有效区域200，设置在该有效区域100的周围；对位精度检测图案，设置在该非有效区域200内，且包括第一对位精度检测图案210、第二对位精度检测图案220和第三对位精度检测图案230；其中，当利用一共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第一颜色色阻块110时，根据该光罩图案投影在该第一对位精度检测图案210中的位置而调整修正该光罩图案的位置；当利用该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第二颜色色阻块120时，根据该光罩图案投影在该第二对位精度检测图案220中的位置而调整修正该光罩图案的位置；当利用该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第三颜色色阻块130时，根据该光罩图案投影在该第三对位精度检测图案230中的位置而调整修正该光罩图案的位置，从而利用同一该光罩图案而在该制备基板上形成该第一颜色色阻块110、该第二颜色色阻块120和该第三颜色色阻块130。

在本实施方式中，该彩色滤光片的制备基板上设置的该第一对位精度检测图案、该第二对位精度检测图案和该第三对位精度检测图案与用于曝光形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块的共用光罩图案配合，根据该光罩图案投影在该第一对位精度检测图案中的位置、该第二对位精度检测图案中的投影位置和该第三对位精度检测图案的投影位置而来分别指示形成在该制备基板上的该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块的相对位置精度，进而通过调整修正该光罩图案的位置提高产品质量。

在本实施方式中，该对位精度检测图案包括多个对位精度检测单元，每个该对位精度检测单元至少包括该第一对位精度检测图案210、该第二对位精度检测图案220和该第三对位精度检测图案230。该有效区域内矩阵排列的色阻块的颜色种类不限于3种，如，R、G、B三种，还可以是4中，如R、G、B、W四种，当然，根据用户需要，可以设计更多个颜色种类。相应的，该对位精度检测图案的个数与该色阻块的颜色种类相对应。而该色阻块的矩阵排列方式可以为马赛克式、三角形式、直条式或四画素式中的一种或多种的组合。为简化生产工艺，提高生产效率，在一个实施方式中，该色阻块的排列方式为直条式。

进一步的，请参考图2，图2是本发明该共用光罩图案一实施方式的结构示意图，该共用光罩图案10至少包括光罩色阻块图案11和光罩对位图案12。该光罩色阻块图案11用于通过曝光在该制备基板的有效区域100形成色阻块。该光罩对位图案12至少包括第一光罩对位图案1201、第二光罩对位图案1202和第三光罩对位图案1203；其中，该第一光罩对位图案1201与该第一对位精度检测图案210配合以调整修正该光罩图案的位置，从而利用该光罩图案在该制备基板上形成该第一颜色色阻块110；该第二光罩对位图案1202与该第二对位精度检测图案220配合以调整修正该光罩图案的位置，从而利用该光罩图案在该制备基板上形成该第二颜色色阻块120；该第三光罩对位图案1203与该第三对位精度检测图案230配合以调整修正该光罩图案的位置，从而利用该光罩图案在该制备基板上形成该第三颜色色阻块130。

通常，通过该光罩对位图案与该对位精度检测图案配合以调整修正该光罩图案的位置的方法至少包括：检测该对位精度检测图案的中心位置，以及该光罩对位图案在该对位精度检测图案中的投影的中心位置，比较两个中心位置的差距，即为该光罩图案需要调整修正的距离。现有技术中，每个光罩图案仅在一次曝光中使用，相应的该光罩图案中的多个该光罩对位图案在该制备基板上的所示对位精度检测图案中的投影都是用来检测本次曝光中形成的色阻块的对位精度。而当采用同一个光罩图案对不同颜色的色阻块进行曝光时，在开始下一个颜色的色组块的曝光前，需要移动该制备基板或该光罩图案，以使该光罩图案在该制备基板上的投影落在预设位置，该预设位置包括该光罩色阻块图案在该制备基板上的投影与该有效区域中相应颜色色阻块的位置对应，以及该光罩对位图案的在该制备基板上的投影落在对应的该对位精度检测图案的中心处。由于该光罩图案与该制备基板发生了相对移动，为保证该光罩对位图案的投影能够落在该对位精度检测图案的中心处，以对本次曝光产生的色阻块的对位精度进行检测，这就需要对该制备基板上的该对位精度检测图案的中心和相应该光罩对位图案中心进行相对移动，二者相对移动的距离与该光罩图案移动的距离相同，该移动可以是该对位精度检测图案的移动，也可以是该光罩对位图案的移动，还可以是该对位精度检测图案和该光罩对位图案都进行移动，只要在该光罩图案移动后，某一该光罩对位图案的投影中心落在对应的该对位精度检测图案的中心处即可。

在一个实施方式中，请参考图3和图4，图3是本发明形成该第一颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；图4是本发明形成该第一颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；在利用该共用光罩图案10中的该光罩色阻块图案11在该制备基板上形成该第一颜色色阻块110时，该非有效区域200内对位精度检测图案中，该第一光罩对位图案1201、第二光罩对位图案1202和第三光罩对位图案1203的投影分别为1211、1212和1213，且1211的中心位于该第一对位精度检测图案210的中心处，其他投影1212和1213的中心位置则发生了偏移，通过检测该投影1211的中心位置与该第一对位精度检测图案210的中心的差值，调整修正该共用光罩图案10的位置以使该第一光罩对位图案1201的中心与该第一对位精度检测图案210的中心重合。

请参考图5和图6，图5是本发明形成该第二颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；图6是本发明形成该第二颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；在利用该共用光罩图案10在该制备基板上形成该第二颜色色阻块120时，将该共用光罩图案10偏移一个子像素的距离，此时，该非有效区域200内对位精度检测图案中，该第一光罩对位图案1201、第二光罩对位图案1202和第三光罩对位图案1203的投影分别为1211、1212和1213，且1212的中心位于该第二对位精度检测图案220的中心处，其他投影1211和1213的中心位置则发生了偏移，通过检测该投影1212的中心位置与该第二对位精度检测图案220的中心的差值，并根据该光罩图案投影在该第二对位精度检测图案220中的位置而调整修正，以使该第二光罩对位图案1202的中心与该第二对位精度检测图案220的中心重合。

请参考图7和图8，图7是本发明形成该第三颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；图8是本发明形成该第三颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；在利用该共用光罩图案在该制备基板上形成该第三颜色色阻块时，将该共用光罩图案在第一方向上继续偏移一个子像素的距离，此时，该非有效区域200内对位精度检测图案中，该第一光罩对位图案1201、第二光罩对位图案1202和第三光罩对位图案1203的投影分别为1211、1212和1213，且1213的中心位于该第三对位精度检测图案230的中心处，其他投影1211和1212的中心位置则发生了偏移，通过检测该投影1213的中心位置与该第三对位精度检测图案230的中心的差值，并根据该光罩图案投影在该第三对位精度检测图案230中的位置而调整修正，以使该第三光罩对位图案1203的中心与该第三对位精度检测图案230的中心重合。

在一个实施方式中，该光罩对位图案为圆形。菱形或矩形中的一种或多种，该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案和该第三光罩对位图案的形状相同或不同，在一个实施方式中，该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案和该第三光罩对位图案分别为正方形；而该第一对位精度检测图案、该第二对位精度检测图案和该第三对位精度检测图案分别为中空的正方形边框。

进一步的，根据曝光方式的不同，在该制备基板上形成的不同颜色的该光罩对位图案投影的尺寸要求不同。当采用接近式曝光方法在该制备基板上形成该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块时，该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案和该第三光罩对位图案的边长不小于30微米，如，30微米、35微米或40微米等。而当采用扫描式曝光方法在该制备基板上形成该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块时，由于扫描式曝光发的精度比较高，该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案和该第三光罩对位图案的边长不小于10微米，如，10微米、15微米或20微米等。

由于通过该光罩对位图案与该对位精度检测图案配合以调整修正该光罩图案的位置的方过程需要检测该对位精度检测图案的中心位置，以及该光罩对位图案在该对位精度检测图案中的投影的中心位置，且当该对位精度检测图案和该光罩对位图案为矩形时，通过检测矩形四个边的位置，来确定其中心位置，为了更加准确的确定该对位精度检测图案和该光罩对位图案的中心，需要保证该光罩对位图案在该对位精度检测图案中的投影与该对位精度检测图案中任意边的距离大于检测装置的检测阈值。

在一个实施方式中，当该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案或该第三光罩对位图案分别对准该第一对位精度检测图案、该第二对位精度检测图案或该第三对位精度检测图案时，光罩对位图案中的任意一边与对位精度检测图案对应一侧的边框之间的距离不小于20微米。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制造方法。请参考图9，图9是本发明一种彩色滤光片基板的制造方法一实施方式的流程示意图，其中，该方法包括步骤：

S100、提供一彩色滤光片的制备基板，其中，该制备基板包括有效区域、非有效区域和设置在该非有效区域中的第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案。

S200、提供一共用光罩图案，其中，该共用光罩图案包括第一光罩对位图案、第二光罩对位图案和第三光罩对位图案。

S300、根据该第一光罩对位图案在该第一对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第一光罩对位图案的中心与该第一对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第一颜色色阻块。

S400、将该共用光罩图案偏移一个子像素的距离，并根据该第二光罩对位图案在该第二对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第二光罩对位图案的中心与该第二对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第二颜色色阻块。

S500、将该共用光罩图案继续偏移一个子像素的距离，并根据该第三光罩对位图案在该第三对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第三光罩对位图案的中心与该第三对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第三颜色色阻块。

进一步的，该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案和该第三光罩对位图案分别为正方形；而该第一对位精度检测图案、该第二对位精度检测图案和该第三对位精度检测图案分别为中空的正方形边框。

进一步的，当采用接近式曝光方法在该制备基板上形成该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块时，该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案和该第三光罩对位图案的边长不小于30微米；

而当采用扫描式曝光方法在该制备基板上形成该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块时，该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案和该第三光罩对位图案的边长不小于10微米。

更进一步的，当该第一光罩对位图案、该第二光罩对位图案或该第三光罩对位图案分别对准该第一对位精度检测图案、该第二对位精度检测图案或该第三对位精度检测图案时，光罩对位图案中的任意一边与对位精度检测图案对应一侧的边框之间的距离不小于20微米。

需要说明的是，上述方法中的技术细节和技术好处已经在前述基板部分进行了详细介绍，故此处不再赘述。

综上所述，本发明公开了一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法，包括：有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；非有效区域，设置在该有效区域的周围；对位精度检测图案，设置在该非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案，该制备基板能够利用同一该光罩图案而在该制备基板上形成该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块。通过上述方式，本发明能够确定不同颜色层间图形的相对位置精度，提高产品质量。

以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种彩色滤光片的制备基板，其特征在于，包括：

有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；

非有效区域，设置在所述有效区域的周围；

对位精度检测图案，设置在所述非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；

其中，当利用一共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第一颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第一对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置；

当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第二颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第二对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置；

当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第三颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第三对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置，从而利用同一所述光罩图案而在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块。

2.根据权利要求1所述的制备基板，其特征在于，所述共用光罩图案包括第一光罩对位图案、第二光罩对位图案和第三光罩对位图案；

其中，所述第一光罩对位图案与所述第一对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块；

所述第二光罩对位图案与所述第二对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块；

所述第三光罩对位图案与所述第三对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第三颜色色阻块。

3.根据权利要求2所述的制备基板，其特征在于，

在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块时，调整修正所述共用光罩图案的位置以使所述第一光罩对位图案的中心与所述第一对位精度检测图案的中心重合；

在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块时，将所述共用光罩图案偏移一个子像素的距离，并根据所述光罩图案投影在所述第二对位精度检测图案中的位置而调整修正，以使所述第二光罩对位图案的中心与所述第二对位精度检测图案的中心重合；

在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块时，将所述共用光罩图案在第一方向上继续偏移一个子像素的距离，并根据所述光罩图案投影在所述第三对位精度检测图案中的位置而调整修正，以使所述第三光罩对位图案的中心与所述第三对位精度检测图案的中心重合。

4.根据权利要求3所述的制备基板，其特征在于，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案分别为正方形；而所述第一对位精度检测图案、所述第二对位精度检测图案和所述第三对位精度检测图案分别为中空的正方形边框。

5.根据权利要求4所述的制备基板，其特征在于，当采用接近式曝光方法在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块时，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案的边长不小于30微米；

而当采用扫描式曝光方法在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块时，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案的边长不小于10微米。

6.根据权利要求4所述的制备基板，其特征在于，当所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案或所述第三光罩对位图案分别对准所述第一对位精度检测图案、所述第二对位精度检测图案或所述第三对位精度检测图案时，光罩对位图案中的任意一边与对位精度检测图案对应一侧的边框之间的距离不小于20微米。

7.一种彩色滤光片基板的制造方法，其特征在于，包括：

提供一彩色滤光片的制备基板，其中，所述制备基板包括有效区域、非有效区域和设置在所述非有效区域中的第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；

提供一共用光罩图案，其中，所述共用光罩图案包括第一光罩对位图案、第二光罩对位图案和第三光罩对位图案；

根据所述第一光罩对位图案在所述第一对位精度检测图案中的投影而调整修正所述共用光罩图案的位置，以使得所述第一光罩对位图案的中心与所述第一对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的第一颜色色阻块；

将所述共用光罩图案偏移一个子像素的距离，并根据所述第二光罩对位图案在所述第二对位精度检测图案中的投影而调整修正所述共用光罩图案的位置，以使得所述第二光罩对位图案的中心与所述第二对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的第二颜色色阻块；

将所述共用光罩图案继续偏移一个子像素的距离，并根据所述第三光罩对位图案在所述第三对位精度检测图案中的投影而调整修正所述共用光罩图案的位置，以使得所述第三光罩对位图案的中心与所述第三对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的第三颜色色阻块。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案分别为正方形；而所述第一对位精度检测图案、所述第二对位精度检测图案和所述第三对位精度检测图案分别为中空的正方形边框。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，当采用接近式曝光方法在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块时，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案的边长不小于30微米；

而当采用扫描式曝光方法在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块时，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案的边长不小于10微米。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，当所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案或所述第三光罩对位图案分别对准所述第一对位精度检测图案、所述第二对位精度检测图案或所述第三对位精度检测图案时，光罩对位图案中的任意一边与对位精度检测图案对应一侧的边框之间的距离不小于20微米。