CN105807507B - 显示面板及其制作方法、以及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的实施例提供了显示面板及其制作方法、以及显示装置。显示面板包括相对的第一基板和第二基板。显示面板还包括：隔垫物，其位于第一基板。以及至少两个挡墙，其位于第二基板，其中，至少两个挡墙构成凹陷区域，隔垫物对应凹陷区域，至少两个挡墙被配置为限制隔垫物的移动。根据本发明的实施例，有效防止在显示面板受到外力时，隔垫物滑到显示区域。

Description

显示面板及其制作方法、以及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及显示面板及其制作方法、以及显示装置。
背景技术
液晶显示器设计制作过程中，在显示面板内部会放置一种或多种隔垫物(PostSpacer，PS)以支撑上下两块相对的玻璃基板。当显示面板受到外力按压时，上下玻璃基板发生相对位移。位于上基板上的黑矩阵发生偏移，产生漏光现象。同时，位于上基板上的隔垫物PS可能会偏移到像素发光区域，进而有可能划伤下基板上的配向膜(PI膜)，使该处的液晶取向紊乱。
发明内容
本发明的实施例提供了显示面板及其制作方法、以及显示装置。
根据本发明的第一个方面，提供了一种显示面板，包括相对的第一基板和第二基板。其中，显示面板还包括：隔垫物，其位于第一基板。以及至少两个挡墙，其位于第二基板，其中，至少两个挡墙构成凹陷区域，隔垫物对应凹陷区域，至少两个挡墙被配置为限制隔垫物的移动。
在本发明的实施例中，挡墙包括：挡墙主体层，其位于第二基板且从第二基板向第一基板突起。挡墙缓冲层，其位于挡墙主体层的面向第一基板的表面。
在本发明的实施例中，挡墙缓冲层的表面粗糙度小于挡墙主体层。
在本发明的实施例中，挡墙缓冲层远离隔垫物一侧的坡度角小于45度。
在本发明的实施例中，挡墙缓冲层的硬度小于挡墙主体层的硬度。
在本发明的实施例中，挡墙主体层由源漏极材料形成。
在本发明的实施例中，挡墙主体层由源漏极材料和有源层材料形成。
在本发明的实施例中，挡墙缓冲层由光刻胶材料形成。
在本发明的实施例中，第一基板是彩膜基板，第二基板是阵列基板。
在本发明的实施例中，第一基板上设置有不透光区域，隔垫物位于第一基板的不透光区域。
在本发明的实施例中，显示面板还包括：凸起，其位于第二基板的凹陷区域，并且与隔垫物接触。
在本发明的实施例中，凸起由源漏极材料形成。
根据本发明的第二个方面，提供了一种显示面板的制作方法，显示面板包含第一基板和第二基板，制作方法包括：在第一基板上形成隔垫物。在第二基板上形成至少两个挡墙。其中，至少两个挡墙构成凹陷区域，隔垫物对应凹陷区域，至少两个挡墙被配置为限制隔垫物的移动。
在本发明的实施例中，挡墙包括：挡墙主体层，其位于第二基板且从第二基板向第一基板突起。挡墙缓冲层，其位于挡墙主体层的面向第一基板的表面。形成挡墙包括：形成挡墙主体层。形成挡墙缓冲层。
在本发明的实施例中，制作方法包括：形成凸起，凸起位于第二基板的凹陷区域，并且与隔垫物接触。
在本发明的实施例中，使用灰阶掩模版或者半色调掩模版通过同一次光刻工艺形成挡墙主体层、挡墙缓冲层和凸起。
在本发明的实施例中，在光刻工艺的去除光刻胶的过程中，保留挡墙主体层上的光刻胶以形成挡墙缓冲层。
根据本发明的第三个方面，提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
根据本发明的实施例的显示面板及其制作方法、以及显示装置，有效防止在显示面板受到外力时，隔垫物PS滑到显示区域。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的实施例的技术方案，下面将对实施例的附图进行简要说明，应当知道，以下描述的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制，其中：
图1是本发明的第一实施例提供的显示面板在受力前后结构变化的示意图；
图2是本发明的第二实施例提供的显示面板的挡墙与第一实施例提供的显示面板的挡墙的结构对比的示意图；
图3是本发明的第二实施例提供的显示面板在受力前后结构变化的第一个示意图；
图4是本发明的第二实施例提供的显示面板在受力前后结构变化的第二个示意图；
图5是本发明的实施例提供的显示面板的制作方法中在第二基板形成挡墙和凸起的步骤的流程图；
图6是图5所示的曝光时的第二基板结构的示意图；
图7是图5所示的显影后的第二基板结构的示意图；
图8是图5所示的刻蚀后的第二基板结构的示意图；
图9是图5所示的灰化后的第二基板结构的示意图。
具体实施方式
为了使本发明的实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图，对本发明的实施例的技术方案进行清楚、完整的描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，也都属于本发明保护的范围。
本发明的实施例提供了显示面板，包括相对的第一基板和第二基板。其中，显示面板还包括：隔垫物，其位于第一基板。以及至少两个挡墙，其位于第二基板，其中，至少两个挡墙构成凹陷区域，隔垫物对应凹陷区域，至少两个挡墙被配置为限制隔垫物的移动。
在本发明的实施例中，显示面板还可以包括：凸起，其位于第二基板的凹陷区域，并且与隔垫物接触。第一基板可以是彩膜基板，第二基板可以是阵列基板。第一基板上可以设置有不透光区域，隔垫物位于第一基板的不透光区域。
图1是本发明的第一实施例提供的显示面板在受力前后结构变化的示意图。如图1所示，显示面板在受到外力挤压时，隔垫物PS限制了第一基板S1与第二基板S2在图中竖直方向上的相对位移。但是，第一基板S1与第二基板S2在图中水平方向上产生了相对位移。挡墙BR限制隔垫物PS的移动，使得第一基板S1与第二基板S2的相对位移被限制。
根据本发明的实施例的显示面板，挡墙BR有效防止在受到外力时隔垫物PS滑到显示区域。凸起PW与隔垫物PS接触，提供支撑，能够更好的间隔第一基板S1和第二基板S2。隔垫物PS位于第一基板S1不透光区域(例如隔垫物PS位于第一基板S1的黑矩阵BM和第二基板S2的栅线GL之间)，不影响显示效果。隔垫物PS可以位于彩膜基板，挡墙BR可以位于阵列基板，能够与现有显示面板的结构兼容，降低成本。
图2是本发明的第二实施例提供的显示面板的挡墙与第一实施例提供的显示面板的挡墙的结构对比的示意图。如图2所示，挡墙BR可以包括：挡墙主体层BR1，其位于第二基板S2且从第二基板S2向第一基板S1突起。挡墙缓冲层BR2，其位于挡墙主体层BR1的面向第一基板S1的表面。
在本发明的实施例中，挡墙缓冲层BR2的表面粗糙度可以小于挡墙主体层BR1。挡墙缓冲层BR2远离隔垫物PS一侧的坡度角可以小于45度。挡墙缓冲层的硬度可以小于挡墙主体层的硬度。
根据本发明的实施例，表面粗糙度较小的挡墙缓冲层BR2有利于隔垫物PS滑出后快速恢复至初始状态。较小的坡度角进一步有利于隔垫物PS滑出后快速恢复至初始状态。较小的硬度进一步有利于隔垫物PS滑出后快速恢复至初始状态。
图3是本发明的第二实施例提供的显示面板在受力前后结构变化的第一个示意图。如图3所示，显示面板在受到外力挤压时，隔垫物PS限制了第一基板S1与第二基板S2在图中竖直方向上的相对位移。第一基板S1与第二基板S2在图中水平方向上产生了相对位移。挡墙BR限制隔垫物PS的移动，使得第一基板S1与第二基板S2的相对位移被限制。
图4是本发明的第二实施例提供的显示面板在受力前后结构变化的第二个示意图。如图4所示，显示面板在受到外力挤压时，第一基板S1与第二基板S2在图中水平方向上产生的相对位移较大，隔垫物PS滑动到挡墙BR之外。当外力撤去后，由于与隔垫物PS接触的挡墙缓冲层BR2表面粗糙度较小，隔垫物PS滑出后快速恢复至初始状态。并且，挡墙缓冲层BR2远离隔垫物PS一侧的较小的坡度进一步有利于隔垫物PS滑出后快速恢复至初始状态。隔垫物PS快速恢复至初始位置和状态，此时，在显示面板不会出现漏光现象，显示面板的画质不会下降。
在本发明的实施例中，挡墙主体层可以由源漏极材料成。挡墙缓冲层可以由光刻胶材料形成。凸起可以由源漏极材料形成。挡墙主体层和凸起也可以由源漏极材料和有源层材料形成。
根据本发明的实施例，直接使用源漏极材料形成挡墙主体层，不增加额外的材料，降低成本。直接使用光刻胶材料形成挡墙缓冲层，也可以不增加额外的材料，降低成本。直接使用源漏极材料形成凸起，也可以不增加额外的材料，降低成本。
本发明的实施例还提供了显示面板的制作方法，用于制作上述的显示面板，显示面板包含第一基板和第二基板，制作方法包括：在第一基板上形成隔垫物。在第二基板上形成至少两个挡墙。其中，至少两个挡墙构成凹陷区域，隔垫物对应凹陷区域，至少两个挡墙被配置为限制隔垫物的移动。
在本发明的实施例中，挡墙可以包括：挡墙主体层，其位于第二基板且从第二基板向第一基板突起。挡墙缓冲层，其位于挡墙主体层的面向第一基板的表面。形成挡墙包括：形成挡墙主体层。形成挡墙缓冲层。
在本发明的实施例中，制作方法包括：形成凸起，凸起位于第二基板的凹陷区域，并且与隔垫物接触。
在本发明的实施例中，使用灰阶掩模版或者半色调掩模版通过同一次光刻工艺形成挡墙主体层、挡墙缓冲层和凸起。
在本发明的实施例中，在光刻工艺的去除光刻胶的过程中，保留挡墙主体层上的光刻胶以形成挡墙缓冲层。
图5是本发明的实施例提供的显示面板的制作方法中在第二基板形成挡墙和凸起的步骤的流程图。如图5所示，形成挡墙和凸起的步骤包括：沉积源漏层，并涂布光刻胶层。对光刻胶层曝光。对光刻胶层显影。对源漏层刻蚀。对光刻胶层灰化。
图6是图5所示的曝光时的第二基板结构的示意图。沉积源漏层，并涂布光刻胶层后得到图6中的第二基板S2。沉积源漏层，并涂布光刻胶层包括：首先通过溅射或热蒸发的方法沉积厚度约的源漏层SD，然后涂布光刻胶层。
如图6所示，曝光包括在第二基板S2上方，覆盖掩模MS，并进行照射，以对光刻胶层PR进行曝光。掩模MS可以是灰阶掩模版、半色调掩模版等，以便于通过控制掩模的光通量来控制光刻胶层PR的感光厚度。掩模上可以包括多个透光程度不同的遮挡区域，例如，透光程度较低的遮挡区域101和透光程度较高的遮挡区域102，并且，透光程度较低可以是不透光。
在本发明的实施例中，掩模在挡墙BR处可以是完全不透光的遮挡区域，在凸起PW处可以是部分透光的遮挡区域，掩模在第二基板S2不需保留源漏层SD的位置处的区域为完全透光区域。
图7是图5所示的显影后的第二基板结构的示意图。如图7所示，显影以去除光刻胶层的部分光刻胶。
在本发明的实施例中，显影后挡墙BR上方仍有较厚的光刻胶覆盖，凸起PW上方也有光刻胶覆盖，但厚度低于挡墙BR上方的光刻胶，其余对应于掩模的完全透光区域的第二基板S2的位置无PR胶覆盖。
图8是图5所示的刻蚀后的第二基板结构的示意图。刻蚀包括将无光刻胶覆盖的源漏层SD去除。挡墙BR和凸起PW处的源漏层SD被保留。
图9是图5所示的灰化后的第二基板结构的示意图。灰化包括去除光刻胶层PR的光刻胶。在凸起PW处的光刻胶被去除后，挡墙BR处仍然存在光刻胶。并且，通过控制灰化时间可以调节挡墙BR处的光刻胶的厚度以及形状。挡墙BR处保留的光刻胶形成挡墙缓冲层BR2。不需要进行额外的加工，挡墙缓冲层BR2就会具有较平滑的表面轮廓，较小的表面粗糙度，小于45度(并且也小于挡墙主体层BR1的相应坡度角)的远离隔垫物PS一侧的坡度角，使得隔垫物PS滑出后也能快速恢复至初始位置。
在本发明的实施例中，可以进行加热处理固化保留挡墙BR处的光刻胶。
根据本发明的实施例，制作了显示面板，有效防止在显示面板受到外力时，隔垫物PS滑到显示区域，并且，即使隔垫物PS滑出后也能快速恢复至初始位置。与常规显示面板的制作方法相比，仅需调整掩模的图案，并且在制作源漏层SD时控制灰化时间，未增加曝光次数，制作步骤完全没有变化。
本发明的实施例还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。所述显示装置可以为：液晶面板、电子纸、OLED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (15)

1.一种显示面板，包括相对的第一基板和第二基板；其中，所述显示面板还包括：
隔垫物，其位于第一基板；以及
至少两个挡墙，其位于第二基板，其中，所述至少两个挡墙构成凹陷区域，所述隔垫物对应所述凹陷区域，所述至少两个挡墙被配置为限制所述隔垫物的移动；
其中，所述挡墙包括：
挡墙主体层，其位于所述第二基板且从所述第二基板向所述第一基板突起；
挡墙缓冲层，其位于所述挡墙主体层的面向所述第一基板的表面；
其中，所述挡墙缓冲层远离所述隔垫物一侧的坡度角小于45度。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述挡墙缓冲层的表面粗糙度小于所述挡墙主体层。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述挡墙缓冲层的硬度小于所述挡墙主体层的硬度。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板，其中，所述挡墙主体层由源漏极材料形成。
5.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板，其中，所述挡墙主体层由源漏极材料和有源层材料形成。
6.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板，其中，所述挡墙缓冲层由光刻胶材料形成。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第一基板是彩膜基板，所述第二基板是阵列基板。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第一基板上设置有不透光区域，所述隔垫物位于所述第一基板的不透光区域。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述显示面板还包括：
凸起，其位于所述第二基板的所述凹陷区域，并且与所述隔垫物接触。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其中，
所述凸起由源漏极材料形成。
11.一种显示面板的制作方法，所述显示面板包含第一基板和第二基板，所述制作方法包括：
在所述第一基板上形成隔垫物；
在所述第二基板上形成至少两个挡墙；
其中，所述至少两个挡墙构成凹陷区域，所述隔垫物对应所述凹陷区域，所述至少两个挡墙被配置为限制所述隔垫物的移动；
其中，所述挡墙包括：
挡墙主体层，其位于所述第二基板且从所述第二基板向所述第一基板突起；挡墙缓冲层，其位于所述挡墙主体层的面向所述第一基板的表面；
所述形成挡墙包括：形成所述挡墙主体层；形成所述挡墙缓冲层；
其中，所述挡墙缓冲层远离所述隔垫物一侧的坡度角小于45度。
12.根据权利要求11所述的制作方法，其中，所述制作方法包括：形成凸起，所述凸起位于所述第二基板的所述凹陷区域，并且与所述隔垫物接触。
13.根据权利要求12所述的制作方法，其中，
使用灰阶掩模版或者半色调掩模版通过同一次光刻工艺形成所述挡墙主体层、所述挡墙缓冲层和所述凸起。
14.根据权利要求13所述的制作方法，其中，
在所述光刻工艺的去除光刻胶的过程中，保留所述挡墙主体层上的光刻胶以形成所述挡墙缓冲层。
15.一种显示装置，包括根据权利要求1-10中任一项所述的显示面板。
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