CN105094491B - 触控显示面板及其制作方法、驱动方法和触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种触控显示面板及其制作方法、驱动方法和触控显示装置，涉及触控显示技术领域，用于简化触控显示面板的制作工艺、降低触控显示面板的生产成本，该触控显示面板包括：阵列基板、多个子像素，每一个子像素包括阳极层、发光层和阴极层，至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接；触摸显示面板还包括：用于向各子像素组中的阴极层输出信号的驱动芯片；驱动芯片通过导线与子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接；在一帧时间的显示时间段，向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号。本发明用于显示面板的制造。

Description

触控显示面板及其制作方法、驱动方法和触控显示装置

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种触控显示面板及其制作方法、驱动方法和触控显示装置。

背景技术

电容式触控显示屏是继电阻式触控显示屏之后新一代面向市场的触控显示屏，它在性能上比上一代的产品有了质的飞跃，不仅反应灵敏，而且支持多点触控，使触控产品的可玩性和可操作性大大提高。另一方面，有机发光二极管(英文全称:Organic Light-Emitting Diode，简称:OLED)，具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性，因此受到广泛的关注，OLED显示屏作为新一代的显示屏，已开始逐渐取代传统液晶显示屏，被广泛应用于手机屏幕、电脑显示器、全彩电视等。

目前OLED的触控显示技术主要为在OLED显示面板表面叠加触控面板，从而使OLED显示面板具有触控功能，但是这种方案需要在OLED显示面板的封装层(EncapsulateLayer)的外侧再制作触控面板的触控电极，因此不利于简化触控显示面板的工艺、降低触控显示面板的生产成本。

发明内容

本发明的实施例提供一种触控显示面板及其制作方法、驱动方法和触控显示装置，用于简化触控显示面板的制作工艺、降低触控显示面板的生产成本。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种触控显示面板，包括：阵列基板、位于所述阵列基板上呈矩阵排列的多个子像素，每一个所述子像素包括依次位于阵列基板上的阳极层、发光层和阴极层，各子像素的阳极层相互独立，至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接；所述触摸显示面板还包括：用于向各所述子像素组中的阴极层输出信号的驱动芯片；所述驱动芯片通过导线与所述子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接；

在一帧时间的显示时间段，所述驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，所述驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号。

可选的，所述导线与所述阵列基板的数据线同层同材料。

可选的，所述阵列基板还包括：覆盖所述导线的平坦化层以及覆盖所述平坦化层的像素定义层；

所述子像素的阴极层通过贯穿所述平坦化层以及像素定义层的过孔与所述导线连接。

可选的，所述阵列基板还包括：覆盖所述导线的平坦化层、设置于所述平坦化层上的岛状导电体以及覆盖所述岛状导电体的像素定义层；

所述岛状导电体通过所述平坦化层上的第一过孔与所述导线连接，所述子像素的阴极层通过所述像素定义层上的第二过孔与所述岛状导电体连接。

可选的，所述岛状导电体与所述子像素的阳极层同层同材料。

可选的，所述阵列基板还包括：衬底基板、缓冲层、栅绝缘层、层间绝缘层、薄膜晶体管以及栅线；

所述缓冲层、所述栅绝缘层以及所述层间绝缘层依次位于所述衬底基板上；所述薄膜晶体管包括：栅极、有源层、源极和漏极；

所述缓冲层覆盖于所述衬底基板上，所述有源层位于所述缓冲层与所述栅绝缘层之间，所述栅极和所述栅线位于所述栅绝缘层与层间绝缘层之间，所述导线、所述源极、所述漏极以及所述数据线位于所述平坦化层与所述层间绝缘层之间；其中，所述栅极与所述栅线连接，所述源极与所述数据线连接，所述漏极与所述阳极层连接；所述源极和漏极均与有源层连接。

可选的，一个所述子像素组包括：m行n列子像素，第xp+1行、yq+1列的子像素的阴极层分别通过导线与所述驱动芯片电连接；

其中，p、q为常数，p可以被m整除，q可以被n整除，x、y为自然数；xp+1小于等于m，yq+1小于等于n。

可选的，与距离驱动芯片较远的子像素组中的阴极层连接的导线数量大于与距离驱动芯片较近的子像素组中的阴极层连接的导线数量。

第二方面，提供一种触控显示面板的制作方法，包括：

制作形成阵列基板；

在所述阵列基板上制作形成各子像素的阳极层；各子像素的阳极层相互独立；

在所述阳极层上制作形成各子像素的发光层；

在所述发光层上制作形成各子像素的阴极层；至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接；

贴附驱动芯片，所述驱动芯片通过导线与所述子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接；

在一帧时间的显示时间段，所述驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，所述驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号。

可选的，所述制作形成阵列基板，包括：制作形成阵列基板的数据线；

所述导线与所述数据线通过同一次构图工艺制作形成。

可选的，所述制作形成阵列基板还包括：

制作覆盖所述数据线和导线的平坦化层；

制作覆盖所述平坦化层的像素定义层；

制作贯穿所述平坦化层和像素定义层的过孔；所述子像素的阴极层通过所述过孔与所述导线连接。

可选的，所述制作形成阵列基板还包括：

制作覆盖所述数据线和导线的平坦化层；

在所述平坦化层上制作第一过孔；

在形成有第一过孔的平坦化层上制作岛状导电体；所述岛状导电体通过第一过孔与所述导线连接；

制作覆盖所述岛状导电体的像素定义层；

在所述像素定义层上制作第二过孔；所述子像素的阴极层通过所述第二过孔与所述岛状导电体连接。

可选的，所述岛状导电体与所述子像素的阳极层通过同一次构图工艺制作形成。

可选的，所述制作阵列基板还包括：

在所述衬底基板上制作形成缓冲层；

在所述缓冲层上在制作形成有源层；

制作形成覆盖所述有源层的栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上制作形成栅极和栅线；所述栅极和栅线连接；

制作形成覆盖所述栅极和栅线的层间绝缘层；

在所述层间绝缘层上制作源极、漏极和数据线；所述源极与所述数据线连接，所述源极和漏极均与有源层连接。

可选的，一个所述子像素组包括：m行n列子像素，第xp+1行、yq+1列的子像素的阴极层通过分别通过导线与所述驱动芯片电连接；

其中，p、q为常数，p可以被m整除，q可以被n整除，x、y为自然数；xp+1小于等于m，yq+1小于等于n。

可选的，与距离驱动芯片较远的子像素组中的阴极层连接的导线数量大于与距离驱动芯片较近的子像素组中的阴极层连接的导线数量。

第三方面，提供一种触控显示面板的驱动方法，用于驱动权第一方面任一项所述的触控显示面板，所述驱动方法包括：

将每一帧时间划分为显示时间段和触控时间段；

在所述显示时间段内，向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；

在所述触控时间段内，向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号并通过所述各子像素组中的阴极层的电容值变化判断触控位置。

第四方面，提供一种触控显示装置，包括第一方面任一项所述的触控显示面板。

本发明实施例提供的触控显示面板包括：阵列基板、位于阵列基板上呈矩阵排列的多个子像素，每一个子像素包括依次位于阵列基板上的阳极层、发光层和阴极层，各子像素的阳极层相互独立，至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接，并且触摸显示面板还包括：用于向各子像素组中的阴极层输出信号的驱动芯片；驱动芯片通过导线与子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接，在一帧时间的显示时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号，即本发明的实施例中在一帧时间的触控时间段内将各子像素组中的阴极层复用为触控电极，相比于现有技术中在显示面板封装层的外侧制作触控电极的方案，本发明实施例省略了单独制作触控电极的工艺流程，因此本发明的实施例可以简化触控显示面板的制作工艺、降低触控显示面板的生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的实施例提供的触控显示面板的示意性结构图；

图2为本发明的实施例提供的阴极层与驱动芯片通过导线电连接的子像素以及其对应的阵列基板的垂直剖面图；

图3为本发明的实施例提供的另一种阴极层与驱动芯片通过导线电连接的子像素以及其对应的阵列基板的垂直剖面图；

图4为本发明的实施例提供的阴极层没有与驱动芯片电连接的子像素以及其所对应的阵列基板的垂直剖面图；

图5为本发明的实施例提供的另一阴极层与驱动芯片通过导线电连接的子像素以及其对应的阵列基板的垂直剖面图；

图6为本发明的实施例提供的另一阴极层没有与驱动芯片电连接的子像素以及其所对应的阵列基板的垂直剖面图；

图7为本发明的实施例提供的子像素组的示意性结构图；

图8为本发明的实施例提供的另一子像素组的示意性结构图；

图9为本发明的实施例提供的触控显示面板制作方法的步骤流程图；

图10为本发明的实施例提供的另一触控显示面板制作方法的步骤流程图。

附图标记：

阵列基板-11；子像素-12；子像素组-13；阳极层-121；

发光层-122；阴极层-123；衬底基板-110；导线-111；平坦化层-112；

岛状导电体-113；像素定义层-114；缓冲层-115；栅绝缘层-116；

层间绝缘层-117；栅极-1181；有源层-1182；源极-1183；

漏极-1184。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明的实施例提供一种触控显示面板，具体的，参照图1所示，该触控显示面板包括：阵列基板11、位于阵列基板上呈矩阵排列的多个子像素12，每一个子像素12包括依次位于阵列基板上的阳极层121、发光层122和阴极层123，各子像素的阳极层121相互独立，至少两个相邻的子像素12形成一个子像素组13，同一子像素组13中各子像素12的阴极层123相互连接；触摸显示面板还包括：用于向各子像素组13中的阴极层123输出信号的驱动芯片(图1中未示出)；驱动芯片通过导线与子像素组中至少一个子像素的阴极层123电连接；

在一帧时间的显示时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号。

需要说明的是，图1中以一个子像素组包括4个子像素为例进行说明，但是一个子像素组中包括4个子像素仅为本法明实施例的一种实现方式，但并不能作为对本发明的限制。

本发明实施例提供的触控显示面板包括：阵列基板、位于阵列基板上呈矩阵排列的多个子像素，每一个子像素包括依次位于阵列基板上的阳极层、发光层和阴极层，各子像素的阳极层相互独立，至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接，并且触摸显示面板还包括：用于向各子像素组中的阴极层输出信号的驱动芯片；驱动芯片通过导线与子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接，在一帧时间的显示时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号，即本发明的实施例中在一帧时间的触控时间段内将各子像素组中的阴极层复用为触控电极，相比于现有技术中在显示面板封装层的外侧制作触控电极的方案，本发明实施例省略了单独制作触控电极的工艺流程，因此本发明的实施例可以简化触控显示面板的制作工艺、降低触控显示面板的生产成本。

进一步的，导线与阵列基板的数据线同层同材料。导线与阵列基板的数据线同层同材料，则导线可以与阵列基板的数据线通过同一次构图工艺制作形成，因此能进一步简化触控显示面板的工艺流程。

示例性的，参照图2、3、4所示，图2、3为阴极层与驱动芯片通过导线电连接的子像素12以及其对应的阵列基板11的垂直剖面图。图4为阴极层没有与驱动芯片通过导线电连接的子像素12与阵列基板11的垂直剖面图。

具体的，参照图2所示，阴极层与驱动芯片通过导线电连接的子像素12所对应的阵列基板11包括：覆盖所述导线111的平坦化层112以及覆盖所述平坦化层112的像素定义层114；

所述子像素12的阴极层123通过贯穿所述平坦化层112以及像素定义层114的过孔与所述导线111连接。

具体的，参照图3所示，阴极层与驱动芯片通过导线电连接的子像素12所对应的阵列基板11包括：覆盖导线111的平坦化层112、设置于平坦化层112上的岛状导电体113以及覆盖岛状导电体113的像素定义层114；

岛状导电体113通过平坦化层112上的第一过孔与导线111连接，子像素12的阴极层123通过像素定义层114上的第二过孔与岛状导电体113连接。

参照图4所示，阴极层没有与驱动芯片电连接的子像素12所对应的阵列基板11包括：平坦化层112、以及覆盖平坦化层112的像素定义层114。

优选的，岛状导电体113与子像素12的阳极层121同层同材料。岛状导电体与子像素的阳极层同层同材料，则岛状导电体可以与子像素的阳极层通过同一次构图工艺制作形成，因此能进一步简化制作触控显示面板的工艺流程。

示例性的，参照图5、6所示，图5为阴极层与驱动芯片通过导线电连接的子像素12以及其对应的阵列基板11的垂直剖面图。图6为阴极层没有与驱动芯片通过导线电连接的子像素12与阵列基板11的垂直剖面图。

具体的，参照图5所示，阴极层与驱动芯片通过导线电连接的子像素12所对应的阵列基板11还包括：衬底基板110、缓冲层115、栅绝缘层116、层间绝缘层117、薄膜晶体管以及栅线(图5中未示出)；

缓冲层115、栅绝缘层116以及层间绝缘层117依次位于衬底基板110上；薄膜晶体管包括：栅极1181、有源层1182、源极1183和漏极1184；

缓冲层115覆盖于衬底基板110上，有源层1182位于缓冲层115与栅绝缘层117之间，栅极1181和栅线位于栅绝缘层116与层间绝缘层117之间，导线111、源极1183、漏极1184以及数据线(图5中未示出)位于平坦化层112与层间绝缘层117之间；其中，栅极1181与栅线连接，源极1183与数据线连接，漏极1184与子像素12的阳极层121连接；源极1183和漏极1181均与有源层1182连接。

参照图6所示，阴极层没有与驱动芯片电连接的子像素12所对应的阵列基板11还包括：衬底基板110、缓冲层115、栅绝缘层116、层间绝缘层117、薄膜晶体管以及栅线(图6中未示出)；

缓冲层115、栅绝缘层116以及层间绝缘层117依次位于衬底基板110上；薄膜晶体管包括：栅极1181、有源层1182、源极1183和漏极1184；

缓冲层115覆盖于衬底基板110上，有源层1182位于缓冲层115与栅绝缘层117之间，栅极1181和栅线位于栅绝缘层116与层间绝缘层117之间，源极1183、漏极1184以及数据线(图6中未示出)位于平坦化层112与层间绝缘层117之间；其中，栅极1181与栅线连接，源极1183与数据线连接，漏极1184与子像素12的阳极层121连接；源极1183和漏极1181均与有源层1182连接。

进一步的，参照图7所示，图7中阴极层通过导线与驱动芯片电连接的子像素标记为61，阴极层不与驱动芯片电连接的子像素标记为62，一个子像素组13包括：m行n列子像素，以每p行、q列存在一个61为例，第xp+1行、yq+1列的子像素的阴极层分别通过导线与驱动芯片电连接；

其中，p、q为常数，p可以被m整除，q可以被n整除，x、y为自然数；xp+1小于等于m；yq+1小于等于n。

其中，图7中以m等于4，n等于6，p等于2，q等于3为例进行说明。

需要说明的是，导线111会存在一定电阻，触控驱动信号在导线传导的过程中均会有一定的损耗，因此优选的，在一个子像素组13中设置多个子像素的阴极层通过导线与驱动芯片电连接。具体的，参照图8所示，在一个子像素组13中设置多个子像素的阴极层通过导线与驱动芯片电连接，每一个子像素组13中的阴极层通过多条导线111与驱动芯片电连接，而多条并联的导线111可以减小导线中的电阻，进而减小触控驱动信号在导线111传导过程中的损耗，提升触控显示面板的触控性能。

另一方面，子像素组13的阴极层也会存在一定电阻，触控驱动信号在子像素组13中的阴极层上的传导也会有一定的损耗，因此优选的，子像素阴极层通过导线与驱动芯片电连接的子像素62均匀分布于像素组13内，即p可以被m整除，q可以被n整除，这样，可以将触控驱动信号在子像素组中的阴极层传导时的损耗降低，进而提升触控显示面板的触控性能。

优选的，与距离驱动芯片较远的子像素组中的阴极层连接的导线数量大于与距离驱动芯片较近的子像素组中的阴极层连接的导线数量。

距离驱动芯片较远的子像素组，其对应的导线较长，电阻较大，带来的信号损耗也较严重，而距离驱动芯片较近的子像素组，其对应的导线较短，电阻较小，带来的信号损耗较少，因此，可以在距离驱动芯片较远的子像素组中设置较多的导线数量，而在距离驱动芯片较近的子像素组中设置较少的导线数量。

还需要说明的是，由上述实施例可知，在一个子像素组13中最多可以对应n条导线，即q为1，此时导线数量达到上限，触控驱动信号在导线中传导时的损耗最小。但是，导线过多又会影响触控显示面板的开口率，进而影响触控显示面板的亮度。因此，导线的数量应该根据实际应用场景，在触控驱动信号的损耗和触控显示面板的亮度间权衡取舍。

此外，本发明实施例提供的触控显示面板可以为顶部发光模式的触控显示面板，还可以为顶部发光模式的触控显示面板。但是，当应用于底部发光模式的触控显示面板时，导线会遮挡发光层所发出的光线，影响触控显示面板的开口率，因此优选的，本发明实施例应用于顶部发光模式的触控显示面板。

本发明再一实施例提供一种触控显示面板的制作方法，该触控显示面板的制作方法用于制作上述任一实施例提供的触控显示面板。具体的，参照图9所示，该方法包括如下步骤：

S91、制作形成阵列基板。

S92、在阵列基板上制作形成各子像素的阳极层；各子像素的阳极层相互独立。

S93、在阳极层上制作形成各子像素的发光层。

S94、在发光层上制作形成各子像素的阴极层；至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接。

S95、贴附驱动芯片；驱动芯片通过导线与子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接。

其中，在一帧时间的显示时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号。

具体的，上述步骤S91、S92、S93以及S94均可以通过构图工艺完成。其中，一次构图工艺通常包括：清洗、成膜、光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工序；对于金属层通常采用物理气相沉积方式(例如：磁控溅射法)成膜，通过湿法刻蚀形成图形，而对于非金属层通常采用化学气相沉积方式成膜，通过干法刻蚀形成图形。通过构图工艺制作实现上述各步骤均为现有技术，本文至此不再详细说明。

本发明的实施例提供的触控显示面板的制作方法首先制作形成阵列基板，其次在阵列基板上制作形成各子像素的阳极层，然后在阳极层上制作形成各子像素的发光层，再在发光层上制作形成各子像素的阴极层，最后贴附驱动芯片，又因为各子像素的阳极层相互独立，至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接，驱动芯片通过导线与子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接，且在一帧时间的显示时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号，所以本发明的实施例可以在一帧时间的触控时间段内将各子像素组中的阴极层复用为触控电极，相比于现有技术中在显示面板封装层的外侧制作触控电极的方案，本发明实施例省略了单独制作触控电极的工艺流程，因此本发明的实施例可以简化触控显示面板的制作工艺、降低触控显示面板的生产成本。

进一步的，上述步骤S91制作形成阵列基板，包括：制作形成阵列基板的数据线；

导线与数据线通过同一次构图工艺制作形成。

导线与数据线通过同一次构图工艺制作形成可以简化制作触控显示面板的工艺流程。

可选的，上述步骤S91制作形成阵列基板还包括：

制作覆盖所述数据线和导线的平坦化层；

制作覆盖所述平坦化层的像素定义层；

制作贯穿所述平坦化层和像素定义层的过孔；所述子像素的阴极层通过所述过孔与所述导线连接。

可选的，上述步骤S91制作形成阵列基板还包括：

制作覆盖数据线和导线的平坦化层。

在平坦化层上制作第一过孔。

在形成有第一过孔的平坦化层上制作岛状导电体；岛状导电体通过第一过孔与导线连接。

制作覆盖岛状导电体的像素定义层。

在像素定义层上制作第二过孔；子像素的阴极层通过第二过孔与岛状导电体连接。

优选的，岛状导电体与子像素的阳极层通过同一次构图工艺制作形成。

岛状导电体与子像素的阳极层通过同一次构图工艺制作形成可以进一步简化制作触控显示面板的工艺流程。

再进一步的，上述步骤S91制作形成阵列基板还包括：

在衬底基板上制作形成缓冲层。

在缓冲层上在制作形成有源层。

制作形成覆盖有源层的栅绝缘层。

在栅绝缘层上制作形成栅极和栅线；栅极和栅线连接；

制作形成覆盖栅极和栅线的层间绝缘层；

在层间绝缘层上制作源极、漏极和数据线；源极与数据线连接，源极和漏极均与有源层连接。

综上，优选的，参照图10所示，上述触控显示面板的制作方法包括如下步骤：

S101、在衬底基板上制作形成缓冲层。

S102、在缓冲层上制作形成有源层。

S103、制作覆盖有源层的栅绝缘层。

S104、在栅绝缘层上制作栅极和栅线。

S105、制作覆盖栅极和栅线的层间绝缘层。

S106、在层间绝缘层上制作源极、漏极和数据线，同时形成导线。

S107、制作覆盖源极、漏极、数据线和导线的平坦化层。

S108、在平坦化层上制作第一过孔。第一过孔的位置与导线的位置相对应。

S109、在形成有第一过孔的平坦化层上制作阳极层和岛状导电体。

S110、制作覆盖阳极层和岛状导电体的像素定义层。

S111、在像素定义层上制作第二过孔。第二过孔的位置与岛状导电体的位置相对应。

S112、在阳极层上制作形成各子像素的发光层。

S113、在发光层上制作形成各子像素的阴极层。

S114、贴附驱动芯片。

可选的，一个子像素组包括：m行n列子像素，第xp+1行、yq+1列的子像素的阴极层通过分别通过导线与驱动芯片电连接；

其中，p、q为常数，p可以被m整除，q可以被n整除，x、y为自然数；xp+1小于等于m，yq+1小于等于n。

可选的，与距离驱动芯片较远的子像素组中的阴极层连接的导线数量大于与距离驱动芯片较近的子像素组中的阴极层连接的导线数量。

本发明再一实施例提供一种触控显示面板的驱动方法，该驱动方法用于驱动上述任一实施例提供的触控显示面板，或者通过上述任一触控显示面板制作方法所制造的触控显示面板。具体的，该驱动方法包括：

将每一帧时间划分为显示时间段和触控时间段；

在显示时间段内，向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；

在触控时间段内，向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号并通过所述各子像素组中的阴极层的电容值变化判断触控位置。

本发明实施例提供的触控显示面板驱动方法，首先将每一帧时间划分为显示时间段和触控时间段，然后在显示时间段内，向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在触控时间段内，向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号并通过所述各子像素组中的阴极层的电容值变化判断触控位置，所以本发明的实施例可以在一帧时间的触控时间段内将各子像素组中的阴极层复用为触控电极，相比于现有技术中在显示面板封装层的外侧制作触控电极的方案，本发明实施例省略了单独制作触控电极的工艺流程，因此本发明的实施例可以简化触控显示面板的制作工艺、降低触控显示面板的生产成本。

本发明再一实施例提供一种触控显示装置，该触控显示装置包括上述任一实施提供的触控显示面板，或通过上述任一实施例提供的触控显示面板制作方法所制造的触控显示面板。

此外，触控显示装置以为：电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。本文不对显示装置作限定，只要包括上述实施例中的触控显示面板即可。

以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种触控显示面板，其特征在于，包括：阵列基板、位于所述阵列基板上呈矩阵排列的多个子像素，每一个所述子像素包括依次位于阵列基板上的阳极层、发光层和阴极层，各子像素的阳极层相互独立，至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接；所述触控显示面板还包括：用于向各所述子像素组中的阴极层输出信号的驱动芯片；所述驱动芯片通过导线与所述子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接；

在一帧时间的显示时间段，所述驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，所述驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号；

所述导线与所述阵列基板的数据线同层同材料；

所述阵列基板还包括：覆盖所述导线的平坦化层、设置于所述平坦化层上的岛状导电体以及覆盖所述岛状导电体的像素定义层；所述岛状导电体通过所述平坦化层上的第一过孔与所述导线连接，所述子像素的阴极层通过所述像素定义层上的第二过孔与所述岛状导电体连接；

所述岛状导电体与所述子像素的阳极层同层同材料。

2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括：衬底基板、缓冲层、栅绝缘层、层间绝缘层、薄膜晶体管以及栅线；

所述缓冲层、所述栅绝缘层以及所述层间绝缘层依次位于所述衬底基板上；所述薄膜晶体管包括：栅极、有源层、源极和漏极；

所述缓冲层覆盖于所述衬底基板上，所述有源层位于所述缓冲层与所述栅绝缘层之间，所述栅极和所述栅线位于所述栅绝缘层与层间绝缘层之间，所述导线、所述源极、所述漏极以及所述数据线位于所述平坦化层与所述层间绝缘层之间；其中，所述栅极与所述栅线连接，所述源极与所述数据线连接，所述漏极与所述阳极层连接；所述源极和漏极均与有源层连接。

3.根据权利要求1-2任一项所述的触控显示面板，其特征在于，一个所述子像素组包括：m行n列子像素，第xp+1行、yq+1列的子像素的阴极层分别通过导线与所述驱动芯片电连接；

其中，p、q为常数，p可以被m整除，q可以被n整除，x、y为自然数；xp+1小于等于m，yq+1小于等于n。

4.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，与距离驱动芯片较远的子像素组中的阴极层连接的导线数量大于与距离驱动芯片较近的子像素组中的阴极层连接的导线数量。

5.一种触控显示面板的制作方法，包括：

制作形成阵列基板；

在所述阵列基板上制作形成各子像素的阳极层；各子像素的阳极层相互独立；

在所述阳极层上制作形成各子像素的发光层；

在所述发光层上制作形成各子像素的阴极层；至少两个相邻的子像素形成一个子像素组，同一子像素组中各子像素的阴极层相互连接；

贴附驱动芯片，所述驱动芯片通过导线与所述子像素组中至少一个子像素的阴极层电连接；

在一帧时间的显示时间段，所述驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；在一帧时间的触控时间段，所述驱动芯片向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号；

所述制作形成阵列基板，包括：制作形成阵列基板的数据线；所述导线与所述数据线通过同一次构图工艺制作形成；

所述制作形成阵列基板还包括：制作覆盖所述数据线和导线的平坦化层；在所述平坦化层上制作第一过孔；在形成有第一过孔的平坦化层上制作岛状导电体；所述岛状导电体通过第一过孔与所述导线连接；制作覆盖所述岛状导电体的像素定义层；在所述像素定义层上制作第二过孔；所述子像素的阴极层通过所述第二过孔与所述岛状导电体连接；

所述岛状导电体与所述子像素的阳极层通过同一次构图工艺制作形成。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述制作阵列基板还包括：

在衬底基板上制作形成缓冲层；

在所述缓冲层上在制作形成有源层；

制作形成覆盖所述有源层的栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上制作形成栅极和栅线；所述栅极和栅线连接；

制作形成覆盖所述栅极和栅线的层间绝缘层；

在所述层间绝缘层上制作源极、漏极和数据线；所述源极与所述数据线连接，所述源极和漏极均与有源层连接。

7.根据权利要求5-6任一项所述的方法，其特征在于，一个所述子像素组包括：m行n列子像素，第xp+1行、yq+1列的子像素的阴极层通过分别通过导线与所述驱动芯片电连接；

其中，p、q为常数，p可以被m整除，q可以被n整除，x、y为自然数；xp+1小于等于m，yq+1小于等于n。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，与距离驱动芯片较远的子像素组中的阴极层连接的导线数量大于与距离驱动芯片较近的子像素组中的阴极层连接的导线数量。

9.一种触控显示面板的驱动方法，其特征在于，用于驱动权利要求1-4任一项所述的触控显示面板，所述驱动方法包括：

将每一帧时间划分为显示时间段和触控时间段；

在所述显示时间段内，向各子像素组中的阴极层输出公共电压信号；

在所述触控时间段内，向各子像素组中的阴极层输出触控驱动信号并通过所述各子像素组中的阴极层的电容值变化判断触控位置。

10.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的触控显示面板。