CN105070748A - 一种igbt栅极的制作方法 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
本申请公开了一种IGBT栅极的制作方法，包括：在衬底上制作栅极；在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层；在所述栅极外周部的所述二氧化硅层的表面覆盖一层保护层，其中，所述栅极外周部包括所述栅极的上表面和侧面；去除不被所述保护层覆盖的所述二氧化硅层；去除所述保护层。利用上述方法，能够对栅极的上表面和侧面的二氧化硅层形成有效保护而不会产生损耗，可见，该方法能够使栅极侧墙的厚度不会有损耗，以防止栅极漏电。
Description
技术领域
本发明涉及半导体器件制造技术领域，特别是涉及一种IGBT栅极的制作方法。
背景技术
现有技术中的IGBT的平面栅的制作过程如图1、图2和图3所示，如图1所示，图1为现有技术中的制作方法中第一步形成的IGBT平面栅的示意图，首先制作栅氧层1，然后在栅氧层1上制作多晶硅栅2，再在多晶硅栅2上制作第一氧化层3；如图2所示，图2为现有技术中的制作方法中第二步形成的IGBT平面栅的示意图，对图1得到的结构利用高温炉管进行氧化推进，在栅极表面形成第二氧化层4；再进行整面的刻蚀，刻蚀掉发射极上的第二氧化层4之后，如图3所示，图3为现有技术中的制作方法中第三步形成的IGBT平面栅的示意图，在多晶硅栅2的侧面形成具有保护作用的侧墙5，防止漏电。
但是，上述方法存在一个明显的缺点：在整面刻蚀过程中，由于等离子刻蚀是非等向性刻蚀，在垂直刻蚀的同时也存在横向刻蚀，从而会减小多晶硅栅极的侧墙厚度，影响栅极漏电流的大小。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供了一种IGBT栅极的制作方法，能够使侧墙厚度不会有损耗，以防止栅极漏电。
本发明提供的一种IGBT栅极的制作方法，包括：
在衬底上制作栅极；
在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层；
在所述栅极外周部的所述二氧化硅层的表面覆盖一层保护层，其中，所述栅极外周部包括所述栅极的上表面和侧面；
去除不被所述保护层覆盖的所述二氧化硅层；
去除所述保护层。
优选的，在上述IGBT栅极的制作方法中，所述在所述栅极外周部的所述二氧化硅层的表面覆盖一层保护层包括：
在所述栅极的外周部和所述衬底表面的所述二氧化硅层的表面涂光刻胶，并进行显影，显影后剩余的光刻胶覆盖所述栅极外周部的所述二氧化硅层。
优选的，在上述IGBT栅极的制作方法中，所述在所述栅极的外周部和所述衬底表面的所述二氧化硅层的表面涂光刻胶为：在栅极的外周部和所述衬底表面的所述二氧化硅层的表面涂宽度范围为0.2微米至0.6微米的光刻胶。
优选的，在上述IGBT栅极的制作方法中，所述去除不被所述保护层覆盖的部分的所述二氧化硅层为：刻蚀掉不被所述光刻胶覆盖的部分的所述二氧化硅层。
优选的，在上述IGBT栅极的制作方法中，所述去除所述保护层为：去除所述剩余的光刻胶。
优选的，在上述IGBT栅极的制作方法中，所述在衬底上制作栅极为：在衬底上制作多晶硅栅极。
优选的，在上述IGBT栅极的制作方法中，所述在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层为：利用热氧氧化工艺、湿氧氧化工艺或沉积工艺在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层。
通过上述描述可知，本发明提供的一种IGBT栅极的制作方法，由于在所述栅极外周部的所述二氧化硅层的表面覆盖一层保护层，其中，所述栅极外周部包括所述栅极的上表面和侧面，然后去除不被所述保护层覆盖的所述二氧化硅层，再去除所述保护层，这样就能够对栅极的上表面和侧面的二氧化硅层形成有效保护而不会产生损耗，可见，该方法能够使侧墙的厚度不会有损耗，以防止栅极漏电。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为现有技术中的制作方法中第一步形成的IGBT平面栅的示意图；
图2为现有技术中的制作方法中第二步形成的IGBT平面栅的示意图；
图3为现有技术中的制作方法中第三步形成的IGBT平面栅的示意图；
图4为本申请实施例提供的一种IGBT栅极的制作方法的示意图；
图5为本申请实施例提供的一种IGBT栅极的制作方法的设置保护层之后的栅极的示意图；
图6为本申请实施例提供的一种IGBT栅极的制作方法最终形成的栅极的示意图；
图7为本申请实施例提供的另一种IGBT栅极的制作方法的示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本申请实施例提供的一种IGBT栅极的制作方法如图4所示，图4为本申请实施例提供的一种IGBT栅极的制作方法的示意图。该方法包括如下步骤：
S1：在衬底上制作栅极；
S2：在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层；
S3：在所述栅极外周部的所述二氧化硅层的表面覆盖一层保护层，其中，所述栅极外周部包括所述栅极的上表面和侧面；
需要说明的是，该步骤之后所形成的栅极如图5所示，图5为本申请实施例提供的一种IGBT栅极的制作方法的设置保护层之后的栅极的示意图，由于该保护层503覆盖了栅极502的上表面和侧面的二氧化硅层，因此在后续的步骤中，能够对栅极502的上表面和侧面的二氧化硅层501形成有效的保护，防止其被去除掉。
S4：去除不被所述保护层覆盖的所述二氧化硅层；
S5：去除所述保护层。
需要说明的是，该步骤之后所形成的栅极如图6所示，图6为本申请实施例提供的一种IGBT栅极的制作方法最终形成的栅极的示意图。该栅极中，只剩下栅极502和位于栅极502的上表面和侧面的二氧化硅层501，由于利用上述保护层进行了保护，因此栅极502侧面的二氧化硅层501没有损耗，栅极502的侧墙得以完整的保留下来，从而对栅极502形成有效的保护，防止栅极漏电。
通过上述描述可知，本申请实施例提供的一种IGBT栅极的制作方法，由于在所述栅极外周部的所述二氧化硅层的表面覆盖一层保护层，其中，所述栅极外周部包括所述栅极的上表面和侧面，然后去除不被所述保护层覆盖的所述二氧化硅层，再去除所述保护层，这样就能够在去除不被所述保护层覆盖的二氧化硅层的时候，对栅极的上表面和侧面形成有效保护而不会产生损耗，可见，该方法能够使侧墙的厚度不会有损耗，以防止栅极漏电。
本申请实施例还提供了另一种IGBT栅极的制作方法如图7所示，图7为本申请实施例提供的另一种IGBT栅极的制作方法的示意图。该方法包括：
A1：在衬底上制作多晶硅栅极；
A2：利用热氧氧化工艺、湿氧氧化工艺或沉积工艺在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层；
需要说明的是，所述二氧化硅层所起的作用就是绝缘，也可以替换为氮化硅等其他绝缘物质。
A3：在所述栅极的外周部和所述衬底表面的所述二氧化硅层的表面涂光刻胶，并进行显影，显影后剩余的光刻胶覆盖所述栅极外周部的所述二氧化硅层；
这种制作方法采用了光刻胶对二氧化硅层的上表面和侧面形成保护，优点是光刻胶可以曝光，易于精确控制需要保留的二氧化硅层的位置。另外，在栅极的外周部和所述衬底表面的所述二氧化硅层的表面优选的涂宽度范围为0.2微米至0.6微米的光刻胶，这种宽度范围能够确保二氧化硅层的侧面不被刻蚀掉，而且也能保证发射极和衬底之间接触面积不至于太小。
A4：刻蚀掉不被所述光刻胶覆盖的部分的所述二氧化硅层；
A5：去除所述剩余的光刻胶。
通过上述描述可知，本申请实施例提供的另一种IGBT栅极的制作方法，由于优选的采用光刻胶对二氧化硅层的侧面形成保护，且光刻胶更容易对保护位置进行精确控制，这样就能够使更为精确的对侧墙进行保护，使侧墙的厚度不会有损耗，以防止栅极漏电。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (7)
1.一种IGBT栅极的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底上制作栅极；
在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层；
在所述栅极外周部的所述二氧化硅层的表面覆盖一层保护层，其中，所述栅极外周部包括所述栅极的上表面和侧面；
去除不被所述保护层覆盖的所述二氧化硅层；
去除所述保护层。
2.根据权利要求1所述的IGBT栅极的制作方法，其特征在于，所述在所述栅极外周部的所述二氧化硅层的表面覆盖一层保护层包括：
在所述栅极的外周部和所述衬底表面的所述二氧化硅层的表面涂光刻胶，并进行显影，显影后剩余的光刻胶覆盖所述栅极外周部的所述二氧化硅层。
3.根据权利要求2所述的IGBT栅极的制作方法，其特征在于，所述在所述栅极的外周部和所述衬底表面的所述二氧化硅层的表面涂光刻胶为：在栅极的外周部和所述衬底表面的所述二氧化硅层的表面涂宽度范围为0.2微米至0.6微米的光刻胶。
4.根据权利要求3所述的IGBT栅极的制作方法，其特征在于，所述去除不被所述保护层覆盖的部分的所述二氧化硅层为：刻蚀掉不被所述光刻胶覆盖的部分的所述二氧化硅层。
5.根据权利要求4所述的IGBT栅极的制作方法，其特征在于，所述去除所述保护层为：去除所述剩余的光刻胶。
6.根据权利要求1-5任一项所述的IGBT栅极的制作方法，其特征在于，所述在衬底上制作栅极为：在衬底上制作多晶硅栅极。
7.根据权利要求1-5任一项所述的IGBT栅极的制作方法，其特征在于，所述在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层为：利用热氧氧化工艺、湿氧氧化工艺或沉积工艺在所述栅极的外周部和所述衬底表面制作二氧化硅层。
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