CN104936886B - 用于容器的密闭件的使用消毒物质的处理设备 - Google Patents

Abstract

一种使用消毒物质的处理设备(1)，用于容器的封闭件(2、22)，包括：旋转单元(6)；消毒物质的分配装置(16)；纵向且平行的至少两种类型的导轨(7a、7b)，第一类型的导轨(7a)靠重力容纳第一形式的封闭件(2)，第二类型的导轨(7b)靠重力容纳第二形式的封闭件(22)，导轨(7a、7b)牢固地受旋转单元(6)约束并且布置成遵循其周向延伸部。

Description

用于容器的密闭件的使用消毒物质的处理设备

技术领域

本发明涉及一种用于容器的密闭件的使用消毒物质的处理设备。具体地说，本发明的装置可用于使用无菌技术的灌装领域。

技术现状

如已知的，在具有无菌技术的灌装生产线中，各个工位(成型、填充、加盖等)的污染控制是最重要的；为此，必须确保要放置在可控环境内的流体的充分过滤、各个区域的压力的正确管理以控制任何不想要的颗粒的路径、环境的正确监控、CIP(“清洁到位”)和S.I.P.消毒(“消毒到位”)循环的正确管理和适当质量。

本申请人最近已经开发了能限定容纳灌装生产线的各个工位的污染受控环境的隔离装置，灌装生产线的各个工位诸如涉及预成型件的消毒、容器成型、形成的容器的填充以及封闭充满的容器。装置和方法因此在以本申请人的名义的欧洲专利EP2246176以及欧洲专利EP2279850中详细描述。

在无菌灌装生产线中，在形成的容器的填充及其加盖之前，也有对容器自身的密闭件(盖或封壳)消毒的需求，例如使用化学药剂或使用能量源。本文所公开的发明涉及使用化学药剂的消毒。在本文中，各种解决方案是已知的，诸如例如：

-文献WO201003146所述的用于在旋转输送系统内消毒盖子的装置；

-文献EP2039439所述的沿螺旋路径的瓶盖浸没消毒系统；

-文献US7360345所述的包括支承瓶盖的多个旋转盘的消毒滚筒；

-文献WO2012000573所述的采用三个步骤(消毒物质的预热、添加以及激活)执行处理的由两个重叠转子形成的系统。

这些现有技术解决方案使得每当装置、系统必须处理具有不同形式的盖子或瓶盖，能使用复杂的改变形式的操作来处理具有预定形式的封闭件。改变形式的操作通常要求更换各种部件(例如，圆盘、支承盖的容器、斜槽等)并且因此需要停掉机器较长时间。

发明目的

在本文中，支撑本发明的技术目的是提供一种借助消毒物质的用于容器的封闭件的处理设备，这避免了上述现有技术的缺点。

具体地说，本发明的目标是公开一种借助消毒物质的用于容器的封闭件的处理设备，该处理设备可对不同形式的封闭件操作，因此避免复杂的改变形式的操作并减少和/或消除形式改变所需的时间。

本发明的进一步目标是提供一种使用消毒物质的容器的封闭件的处理设备，该装置是紧凑的、结构简单的并且同时比已知解决方案更有效。

设定的技术目的以及指定的目标基本上通过一种借助消毒物质的容器的封闭件的处理设备实现，该处理设备包括所附权利要求中的一项或多项所述的技术特征。

附图说明

本发明的进一步特征和优点从通过借助消毒物质的容器的封闭件的处理设备的优选的但非排它性的实施例的非限制性实例给出的描述中将更充分显露出来，如附图所示，附图中：

-图1示出了借助消毒物质的容器的封闭件的处理设备的俯视立体图；

-图2示出了图1的处理设备(其中，保护罩已经被部分去除)的正视立体图；

-图3示出了图1的处理设备的一部分(旋转单元，导轨、分配装置)的立体图；

-图4a和4b是分别示出了图1的处理设备的一部分(导轨、异型支承件)的立体图和平面图；

-图5a和5b示意性示出了一排封闭件在旋转单元的两个不同旋转时刻相对于异型支承件的相对位置；

-图6a、6b和6c示出了图1的处理设备的异型支承件(support profile)的三个实施例的立体图；

-图7a和7b分别示出了平盖和运动盖(sports cap)两种不同封闭件的立体图；

-图8示出了包括图1的处理设备的灌装生产线的示意图。

具体实施方式

参照附图，附图标记1表示用于容器的封闭件2、22的、使用消毒物质的处理设备。例如，消毒物质是过氧化氢。具体地说，消毒物质是气态的。或者，消毒物质是液体的。

在本文中，术语封闭件2、22涉及诸如盖或封壳的凹形封闭件。封闭件2、22优选地由聚合物材料制成。

图7a示出了第一封闭件2形式；这已知为平盖。

图7b示出了第二封闭件22形式；这已知为运动盖。

在两种情况下，封闭件2、22具有基部3和从基部3延伸并与其限定空腔5的侧壁4。空腔5是敞开的；实际上，在基部3的相对侧，封闭件2、22具有开口，该开口可容纳容器的口部以使得侧壁4可与其配合并且基部3可封闭它。

在本文中，术语封闭件2、22的“内表面”是指侧壁4的内表面和基部3的内表面。术语封闭件22的“外表面”是指侧壁4的外表面和基部3的外表面。

在图7a中，由平盖2限定的空腔5呈现基本圆柱形，使得侧壁4基本上对应于圆筒的侧壁并且基部3是圆盘。或者，由封闭件2限定的空腔5具有轻微圆锥形。

图7b的运动盖22呈现更复杂的形状，但其中也有基部3、侧壁4和空腔5。

处理设备1包括旋转单元6和能容纳封闭件2、22的多个纵向导轨7a、7b，该封闭件2、22靠重力布置在相同数量的排8中。导轨7a、7b基本上彼此平行并且以这样的方式牢固地连接到旋转单元6，即，遵循其周向延伸部。

导轨7a、7b独创地具有至少两种类型。第一类型的导轨7a适于容纳第一形式的封闭件2。第二类型的导轨7b设置成符合容纳第二形式的封闭件22。在本文所示和所述实施例中，每个第一类型的导轨7a与第二类型的导轨7b沿旋转单元6的周向延伸部交替布置。

替代实施例(未示出)包括成组第一类型的导轨7a与成组第二类型的导轨7b，它们沿旋转单元6的周向延伸部的交替。

第一类型的导轨7a优选地设置成符合容纳平盖2。第二类型的导轨7b优选地设置成符合容纳运动盖22。

在本文所示和所述的实施例中，导轨7a、7b具有两种类型，但沿旋转单元6的周向延伸部彼此交替或按组交替的三种或以上类型的导轨也是可能的。

在本文所示和所述实施例中，导轨7a、7b平行于旋转单元6的旋转轴线。

在所有附图中，处理设备1以这样的方式位于支承平面(地面或地板)上，即，使得旋转单元6的旋转轴线垂直于该支承平面。因此，导轨7a、7b也垂直于支承平面(因为它们平行于旋转轴线)。

也有处理设备1布置成具有相对于支承平面倾斜的旋转轴线的可能性(未示出)。在这种情况下，导轨7a、7b也相对于支承平面倾斜(因为它们平行于旋转轴线)。

在替代实施例中(未示出)，导轨7a、7b以预定角度相对于旋转单元6的旋转轴线倾斜。

处理设备1包括能限定并隔离污染可控的内环境10的保护罩9。例如，保护罩9限定基本上呈八角棱柱体形状或具有圆筒形的内环境10。

具体地说，保护罩9包括用于罩9自身的壁的加热装置，该壁与污染可控的内环境10接触。加热装置包括控制壁的温度以避免凝结的装置。加热装置用已知的方式制成。

保护罩9设有能对污染可控的内环境10进行调节和/或维护的至少一个进入窗11。在本文所示和所述的实施例中，有三个可通过对应气密舱门12关闭的进入窗11。

容纳在导轨7a、7b中的每个封闭件2、22使空腔5(以及因此开口)面向外(参见例如图4)。换言之，空腔5(以及因此开口)面向保护罩9。

处理设备1优选地设有将封闭件2、22向污染可控的内环境10传送的传送装置13。传送装置13至少包括使封闭件2靠重力在其上前进的第一通道13a，以及使封闭件22靠重力在其上前进的第二通道13b。第一通道13a和第二通道13b优选地是基本垂直的。或者，第一通道13a和第二通道13b是倾斜的。

保护罩9优选地具有上基部9a，提供孔14来进入上基部9a，第一通道13a和第二通道13通向孔14。

处理设备1还包括形式选择装置(未示出)，该形式选择装置可操作地作用在传送装置13上以便提供第一通道13a或第二通道13b。

处理设备1包括异型支承件15，其位于导轨7a、7b下方并也具有用于支承封闭件2、22的排8的周向延伸部。

在本文所示和所述的实施例中，异型支承件15相对于旋转单元6固定。在替代实施例(未示出)中，异型支承件15相对于旋转单元6可移动。

异型支承件15以这样的方式具有可变高度，即，随着旋转单元6的旋转，封闭件2、22的排8遵循一个周向路径，其具有可确定封闭件2、22之间的相对位移的高度差。

具有高度差的周向路径包括至少一个上升段18和至少一个下降段19。在本文所示和所述实施例中，具有高度差的周向路径包括多个上升段18和多个下降段19。例如，上升段18和下降段19是具有预定倾斜度的斜坡或是台阶。

处理设备1包括消毒物质的分配装置16。在本文所示和所述的实施例中，分配装置16相对于旋转单元6固定。或者，分配装置16是可移动的。

具体地说，分配装置16包括布置成将消毒物质向封闭件2、22的空腔5输送的多个喷嘴。具体地说，喷嘴位于导轨7a、7b和保护罩9之间并且因此它们也遵循周向延伸部。换言之，分配装置16限定具有比封闭件2、22的容纳导轨7a、7b的周向延伸部大的直径的同心周向延伸部(参见图3)。在本文所示和所述实施例中，分配装置16包括基本上垂直地、即平行于导轨7a、7b布置的管状主体17。这些管状主体17中的每个具有多个喷嘴。

根据本发明的借助消毒物质的容器的封闭件的处理设备的功能将在以下描述。

认为旋转单元6最初处于静止状态。形式选择装置例如使第一通道13a能被供应。

第一形式的封闭件2(平盖)靠重力在第一传送通道13a中前进并且当通过进入孔14时，布置在位于进入孔14正下方的第一类型的导轨7a中，从而形成第一排8。如上所述，每个封闭件2布置有面向保护罩9的空腔5。

位于排8中的较低水平的封闭件2a(为了清楚起见，我们将称其为头封闭件2)搁置在异型支承件15上，如图5a所示。

在旋转单元6的旋转过程中，导轨7a、7b牢固地随着旋转单元6旋转并且从第一传送通道13a到达的封闭件2依次被卸到位于进入孔14下方的第一类型的导轨7a中。形式选择装置进一步保证第一形式的封闭件2只被卸到第一类型的导轨7a中。

导轨7a、7b的旋转致使每排8的头封闭件2a遵循沿上升段18和下降段19具有高度差的周向路径。例如，图5a和5b示出从异型支承件15的台阶下降的头封闭件2a。这个台阶确定了排8的封闭件2在下降过程中分开，因此消除封闭件2和另一封闭件之间的接触区域。此外，当其从台阶下降时，头封闭件2a自身部分地旋转，又致使位于正上方的封闭件2旋转。

在旋转过程中，分配装置16将消毒物质喷向封闭件2的空腔5，以便封闭件2的内表面被消毒。在正常运行过程中，所有内环境10充满消毒物质，使得封闭件2的外表面被消毒。

此外，在从台阶落下的过程中，在封闭件2之间产生的分开以及封闭件2本身的部分旋转改变了封闭件2之间的瞬时接触区。

在旋转单元6的部分或整个旋转结束时，封闭件2通过形成在保护罩9中的出口孔20送到外面。

当第二类型的封闭件22(运动盖)要被处理时，形式选择装置使第二通道13b能被供应。第二形式的封闭件22(运动盖)靠重力在第二传送通道13b中前进并且当通过进入孔14时，布置在位于进入孔14正下方的第二类型的导轨7b中，从而形成第一排8。如上所述，每个封闭件22布置有面向保护罩9的空腔5。除上述以外，功能与为平盖所描述的相同，但包括第二类型的导轨7b而不是第一类型的导轨7a。

根据本发明的借助消毒物质的容器的封闭件的处理设备的特征从上述描述中变得清楚，这是产生的优点。

具体地说，借助至少两种不同类型的导轨的预设置，所公开的处理设备能对至少两种形式的封闭件(例如螺纹盖和运动盖)操作。

如果必须改变封闭件的形式，则在上游用形式选择装置进行选择就足够了，该选择装置对处理设备赋予选择功能，即，能供应第一形式的封闭件或第二形式的封闭件并因此与第一类型或第二类型的导轨配合。

不同于已知解决方案，不再需要部件的更换(例如圆盘、盖子的支承容器、斜槽等等)，这涉及停掉机器较长时间。

此外，本文所公开的处理设备是结构简单的且紧凑的，因为两种不同类型的导轨沿相同圆周交替布置。

此外，由于可变高度的异型支承件的存在，封闭件在旋转单元的旋转过程中经受相对位移。这些相对位移确保基本上所有区域都逐渐暴露于消毒物质的处理。换言之，不再有消毒物质达不到的“灰色区域”，并且因此每个封闭件以比现有技术更均匀的方式被消毒。

装置的尺寸因此与现有技术的解决方案的尺寸相同，但消毒的效率提高了。

Claims (14)

1.使用消毒物质的处理设备(1)，用于容器的封闭件(2、22)，包括：

旋转单元(6)；

多个纵向导轨(7a、7b)，它们能容纳靠重力布置在相同数量的排(8)中的所述封闭件(2、22)，所述导轨(7a、7b)基本上彼此平行并且牢固地连接到所述旋转单元(6)以便遵循所述旋转单元(6)的周向延伸部，所述导轨(7a、7b)具有至少两种类型，第一类型(7a)容纳第一形式的封闭件(2)而第二类型(7b)容纳第二形式的封闭件(22)；

所述消毒物质的分配装置(16)；

其特征在于，每个所述第一类型的导轨(7a)与所述第二类型的导轨(7b)沿所述旋转单元(6)的所述周向延伸部交替布置。

2.如权利要求1所述的处理设备(1)，其特征在于，所述第一类型的导轨(7a)设置成符合容纳平盖(2)。

3.如前述权利要求中的任一项所述的处理设备(1)，其特征在于，所述第二类型的导轨(7b)设置成符合容纳运动盖(22)。

4.如权利要求1所述的处理设备(1)，其特征在于，还包括保护罩(9)，所述保护罩(9)能限定并隔离污染可控的内环境(10)。

5.如权利要求4所述的处理设备(1)，其特征在于，所述保护罩(9)包括用于加热所述保护罩(9)的壁的装置，所述壁与所述污染可控的内环境(10)接触。

6.如权利要求4或5所述的处理设备(1)，其特征在于，还包括使所述封闭件(2、22)向所述污染可控的内环境(10)传送的传送装置(13)。

7.如权利要求6所述的处理设备(1)，其特征在于，所述传送装置(13)包括使所述第一形式的封闭件(2)靠重力在其上前进的至少一个第一通道(13a)以及使所述第二形式的封闭件(22)靠重力在其上前进的至少一个第二通道(13b)，所述保护罩(9)具有通向所述第一通道(13a)和所述第二通道(13b)的进入孔(14)。

8.如权利要求7所述的处理设备(1)，其特征在于，还包括形式选择装置，所述形式选择装置可作用在所述传送装置(13)上以便使所述第一通道(13a)或所述第二通道(13b)能被供应。

9.如权利要求1所述的处理设备(1)，其特征在于，还包括异型支承件(15)，所述异型支承件(15)位于所述导轨(7a、7b)下面并且也具有周向延伸部以便支承所述封闭件(2、22)的排(8)。

10.如权利要求9所述的处理设备(1)，其特征在于，所述异型支承件(15)呈现可变高度，使得随着所述旋转单元(6)的旋转，所述封闭件(2、22)的排(8)遵循具有高度差的周向路径，从而确定所述封闭件(2、22)之间的相对位移。

11.如权利要求1所述的处理设备(1)，其特征在于，所述导轨(7a、7b)平行于所述旋转单元(6)的旋转轴线。

12.如权利要求11所述的处理设备(1)，其特征在于，所述旋转单元(6)的所述旋转轴线是垂直的或相对于所述处理设备(1)的支承平面倾斜。

13.如权利要求1所述的处理设备(1)，其特征在于，所述导轨(7a、7b)以预定角度相对于所述旋转单元(6)的旋转轴线倾斜。

14.容器的灌装生产线(100)，包括：

如前述权利要求中的任一项所述的处理设备(1)；

所述容器的填充设备(30)；

所述处理设备(1)与所述填充设备(30)之间的接口装置(40)，所述接口装置(40)具有与所述处理设备(1)的连通段以及与所述填充设备(30)的连通段，这两个连通段的尺寸设置成能防止来自所述填充设备(30)的颗粒和流体到达所述处理设备(1)。