CN104865708A - 用于校准光学成像系统的方法和设备 - Google Patents

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Abstract

光学成像系统(12)应以其光学轴线(16)相对于预给定的校准轴线(14)校准。为此从成像系统(12)的一侧沿着校准轴线(14)入射一个辐射束(30)。在辐射传播方向上在成像系统(12)后面存在一对光阑元件(24，26)，光阑元件的光阑开口分别由一个对于辐射可透过的材料块覆盖，材料块支撑多个以矩阵方式布置的传感器元件。传感器元件将关于测得的辐射强度的信息传输给信号处理单元(42)，信号处理单元能够以图像方式在监视器(44)上显示成像系统(12)的实时的校准状态或/和能够实现成像系统(12)的自动校准。

Description

用于校准光学成像系统的方法和设备
技术领域
本发明涉及光学成像系统的校准。
背景技术
光学成像系统存在于大量的眼科学仪器中，不管是在用于诊断的仪器还是用于治疗的仪器中。光学成像系统可以例如具有聚焦任务，例如在激光仪器中，以便将用于治疗眼睛的激光束聚焦在眼睛上或眼睛中的一个点上。扩束望远镜(光束扩散器)例如在一些激光仪器中用于扩散激光束那样也可以是光学成像系统，光学成像系统需要校准。用于物体成像到图像传感器上的物镜同样可以是在本公开意义上的光学成像系统。通常本公开不限于用于眼科学的仪器的物镜，如其典型地在眼科诊所或眼科医院中遇见到的那样。在该领域之外的仪器中使用同样是可能的。
发明内容
本公开的出发点是经常发生如下必要性，即精确地相对于给定的轴线(下面简称为校准轴线)校准光学成像系统，校准轴线可以例如通过其中应当安装或已安装成像系统的仪器的设计情况例如通过安装导轨确定，安装导轨用于安装仪器的至少一部分光学部件。校准指的是，以确定的希望方式、典型地以平行方式相对于校准轴线调节成像系统的光学轴线。为此，成像系统必需非常精密地相对于校准轴线被调节并且——一旦达到希望的最终位置——可以固定在最终位置中。
为了校准光学成像系统，例如可以借助两个相对彼此间隔距离布置的光阑元件。这些光阑元件这样地固定在仪器上，使得校准轴线穿过两个光阑元件的光阑开口延伸，成像系统应当相对于校准轴线校准。就此而言可以说，在任何情况下为了校准过程的目的，光阑元件以其光阑开口限定了校准轴线。光阑元件在完成校准之后要么被完全拆除要么至少从仪器的光学辐射路径翻转出来，这些光阑元件位于成像系统的一侧，具体地在图像侧。光束从成像系统的另一侧(对置侧)沿着校准轴线入射到成像系统中。对于仅仅基于校准人员的眼睛观察的措施而言，光束必需处在可见的波长范围中。校准人员在此相对于校准轴线(以及相应地相对于两个光阑元件)调节成像系统，直到他/她观察到，光束的光不仅通过较近的第一光阑元件的光阑开口，而且通过较远的第二光阑元件的光阑开口。即因此必须首先以光束射到第一光阑开口，接着还要调节出成像系统的正确的角度位置，由此附加地要以光射到第二光阑开口。这可能对于校准人员而言是困难的、相应费力且无聊的过程，因为可能容易发生以下情况，即他/她在寻找第二光阑开口时重新失去相对于第二光阑开口的校准。
与之不同，按照本发明的观点规定一种用于校准光学成像系统的方法，包括：
至少在使用第一光阑元件的情况下限定校准轴线，其中，所述校准轴线连接第一光阑元件的光阑开口与在第一光阑元件后面间隔距离设置的目标地点，
相对于校准轴线校准所述光学成像系统，直到沿着校准轴线入射到成像系统上的辐射束的辐射在经过成像系统之后穿过第一光阑元件的光阑开口射到目标地点，
至少在第一光阑元件的光阑开口或/和目标地点的区域中针对辐射束的辐射执行用传感器检测辐射，
为信号处理单元提供传感器信号，在所述辐射检测时产生所述传感器信号。
按照举例的扩展构型，由信号处理单元基于传感器信号产生用于显示图像的图像数据。借助在显示图像上的合适视觉化，从事校准的人员可以例如轻易地识别所使用的辐射束相对于第一光阑元件的光阑开口或/和相对于目标地点(取决于在哪里执行辐射检测)的实时位置并且因此识别成像系统的实时的校准状态。实时的校准状态在监视器上的视觉化对于从事校准的人员而言能够简化和缩减校准工作。
变换地或附加地，由信号处理单元可基于传感器信号产生用于调节装置的控制信号，以便校准所述光学成像系统的至少一部分。以该方式能够实现校准过程的至少部分的自动化，通过该自动化进一步减轻从事校准的人员的负担。
就第一光阑元件而言所述传感器的辐射检测可以仅在光阑开口的区域中执行。但是同样可以的是，就第一光阑元件而言用传感器检测辐射也在光阑开口外部执行。
在本发明的一种实施方式中，所述目标地点由第二光阑元件的光阑开口构成。就该第二光阑元件而言，所述传感器的辐射检测可以仅在光阑开口的区域中执行或它也可以在光阑开口外部执行。为了形成目标地点，作为光阑元件的变换，例如可以使用没有光阑开口的目标面，其中，在该目标面上设有一个或多个传感器，所述传感器检测目标面上的辐射入射(如果辐射穿过第一光阑元件的话)。
由于校准状态的基于传感器的检测，所使用的辐射束能够以选择方式含有在对于人类可见的波长范围中或在不可见范围中的辐射。尤其可以的是，使用一个在仪器——对于该仪器而言成像系统是确定的——中可能总归存在的辐射源，即便该辐射源不是在可见范围中辐射，例如UV或IR激光器。但是显然也可以使用单独的辐射源，单独的辐射源对于仪器的实际运行不是必需的。
有待校准的成像系统可以是透镜系统，它包括一个唯一的透镜或包括透镜组件。
按照本发明的另一个观点，规定一种用于校准光学成像系统的设备，其包括：一个具有光阑开口的第一光阑元件，
一个在第一光阑元件后面间隔距离设置的目标元件，所述目标元件限定目标地点，
一个用于辐射束的辐射源，其中，所述源这样布置或可这样布置，使得辐射束可沿着一个连接第一光阑元件的光阑开口与目标地点的校准轴线入射到第一光阑元件上，
用于成像系统的校准保持装置，其中，所述校准保持装置允许相对于校准轴线校准成像系统，直到辐射束的辐射在经过成像系统之后穿过第一光阑元件的光阑开口射到目标地点，
传感器装置，用于至少在第一光阑元件的光阑开口或/和目标地点的区域中针对辐射束的辐射进行辐射检测，
用于处理传感器装置的传感器信号的信号处理单元。
按照一种实施方式，第一光阑元件或/和第二光阑元件上的传感器装置仅能够检测光阑开口的区域中的辐射，第二光阑元件的光阑开口构成目标地点。按照另一种实施方式，第一光阑元件或/和这种第二光阑元件上的传感器装置能够不仅在光阑开口的区域中而且在光阑开口外部检测辐射。
一种有利的扩展构型规定，在至少一个光阑元件的情况下，光阑开口由一个对于辐射可透过的材料块覆盖，其中，所述材料块支撑至少一个用于检测辐射束的辐射的传感器元件。所述传感器元件可以例如设置在光阑元件的光阑开口的区域中，以便能够实现在光阑开口的区域中的辐射监测。
在一个实施例中，材料块支撑多个相对彼此间隔距离布置的传感器元件。至少一部分数量(即两个或更多)的传感器元件、在希望的情况下相关的材料块的所有传感器元件在此可以布置在光阑元件的光阑开口的区域中。传感器元件可以具有规则的分布，例如呈矩阵形状，或它们可以不规则地分布，这能够有助于减少或避免不希望的衍射效应。
第一光阑元件可以由一个装有材料块和传感器元件的光阑元件构成。变换地或附加地，所述目标地点可以构成在一个装有材料块和传感器元件的光阑元件上。
一个显示单元可以与信号处理单元连接，其中，所述信号处理单元被设置用于基于传感器信号产生用于显示图像的图像数据并且在显示单元上显示所述显示图像。
变换地或附加地，一个用于成像系统的调节装置可与信号处理单元连接，其中，所述信号处理单元被设置用于基于传感器信号产生用于调节装置的控制信号，以便校准光学成像系统的至少一部分。
对于进一步的检查，例如为了测量成像系统的光学轴线外部的光路，所述第一光阑元件的或/和一个构成目标地点的第二光阑元件的光阑开口的大小是可改变的。例如可以得到手动可调节性或能够在进一步自动化的范围中可通过信号处理单元控制光阑大小。
附图说明
本发明在下面借助示意性附图详细被阐述。其示出：
图1  用于校准光学成像系统的设备的一个实施例；和
图2  图1的设备的一个配有用于辐射检测的传感装置的光阑元件的放大图。
具体实施方式
图1中所示的校准装置总体以10标注。它允许，相对于预给定的校准轴线14校准一个示意地通过箱12示出的光学成像系统，即这样地在空间中调校成像系统12，使得成像系统12的光学轴线16相对于校准轴线14具有确定的、希望的位置和定向。在通常情况下该校准具有如下目的：这样地调校成像系统12，使得成像系统的光学轴线16相对于校准轴线14平行地并且尤其是同轴地延伸。
成像系统12可以包含任意数量的光学透镜，这些光学透镜作为一个单元相对于校准轴线14是可调节的。成像系统12可以相应地实施为单透镜系统或多透镜系统。纯粹出于清楚考虑，在图1中示出单个透镜18；但是这在任何情况下都不应理解为限制。在希望的情况下，成像系统12可以变换地或附加地包括一个或多个其它光学元件，例如衍射元件。
成像系统12通过校准保持装置20保持在一个在图1中仅示意地绘出的安装基底22上。安装基底22用于保持该校准装置10的各种光学部件，其中包括一对光阑元件24、26和一个辐射源28，该辐射源能够发射出具有相对于校准轴线14平行、优选同轴的束轴的辐射束30。以辐射束30的传播方向为参照，辐射源28的安装位置位于有待校准的成像系统12前面，而这对光阑元件24、26的安装位置在成像系统12后面。安装基底22是眼科学的诊断和治疗仪器的一部分。除了成像系统12、辐射源28和光阑对24、26，另外的光学部件也可以固定在安装基底22上或者在其上是可固定的，它们对于成像系统12的校准目的而言不是必需的，但是对于诊断和治疗仪器的功能而言是必需的。例如，一个或多个转向镜、扫描仪的构件、一个或多个摄像机、OCT(光学相干断层扫描)或OLCR(光学低相干反射)测量装置和类似装置的部件还可以附加地安设或是可安设在安装基底22上。这些另外的光学部件在专业领域中是公知的并且在这里不需要更详细说明。
安装基底22例如可以具有导轨形状，但是它也可以具有所有任意的更复杂的几何形状。
校准保持装置20允许相对于安装基底22手动地和/或电控地调节成像系统12。校准轴线14相对于安装基底22具有预给定的位置和定向，因此成像系统12的相对于安装基底22的调校同时意味着相对于校准轴线14的调校。校准保持装置20能够例如实现成像系统12围绕一个或多个摆动轴线相对于安装基底22摆动。变换地或附加地，校准保持装置20能够实现成像系统12在一个或多个平移方向上相对于安装基底22的平移移动。
光阑元件24、26各通过一个光阑保持装置32固定在安装基底22上。因为光阑元件24、26仅仅对于校准目的是必需的，但是对于仪器(成像系统12安装到该仪器中)的真正的诊断或治疗运行不是必需的，所以光阑保持装置32能够使光阑元件24、26离开——已校准的——成像系统12的光学轴线16的区域。为此光阑保持装置32例如能够实现光阑元件24、26在安装基底22上的可拆卸的固定，例如以插接或螺纹连接技术。变换地可设想，光阑保持装置32能够实现光阑元件24、26的摆动或其它位移运动，从而它们在真正的诊断或治疗运行中不会发生干扰。光阑元件24、26的这类摆动或其它移动可以是可手动执行的或光阑保持装置32可以是可电控的并且可以以合适的驱动装置(例如电动机)实施，以便能够自动化地将光阑元件24、26投入使用和停用。
辐射源28发射出在可见或/和不可见的波长范围中的辐射。它可以是对于眼科学仪器的诊断或治疗运行也必需的辐射源。变换地，它可以是对于眼科学仪器的运行不需要的辅助辐射源，该辅助辐射源在眼科学仪器的主运行中保持关断或甚至可从安装基底22拆除。在希望的情况下，辐射源28可以与光阑元件24、26类似在使用位置和停用位置之间可调节地(例如可摆动地)设置在安装基底22上。辐射可以在辐射源28本身中产生；变换地也可设想，辐射源28仅构成一个用于辐射的输出头，该辐射在校准装置10或眼科学仪器(如果该辐射源28也安装在该眼科学仪器中的话)的其它位置产生并且例如通过光学纤维或通过辐射臂输送给输出头。
光阑元件24、26在校准轴线14方向上相对彼此的距离例如为几厘米或几十厘米。类似的距离可以存在于成像系统12和第一光阑元件24(即两个光阑元件24、26中在辐射传播方向上最先到达的光阑元件)之间。
两个光阑元件24、26的每个都具有一个例如圆形的光阑开口34，见图2。在该图中代表性地示出光阑元件24，其中，如果没有明确指出区别，则下面的说明同样也适用于光阑元件26。光阑开口34可以例如具有在0.1至2mm范围中的直径。在光阑元件24、26的使用位置中，即在实施成像系统12的校准时，两个光阑元件24、26的光阑开口34相对于校准轴线14对中。换言之，校准轴线14延伸通过光阑开口34的开口中心点。当辐射束30——其束轴相对于校准轴线14同轴并且从一个入射侧(物体侧)射入到成像系统12中——的至少部分辐射不仅穿过第一光阑元件24的光阑开口34，而且所述辐射部分也到达第二光阑元件26的光阑开口34的区域中，则成像系统12已被正确地校准。辐射束30可以是发散的，其中，它优选具有非常小的发散度。变换地，它可以是没有发散度的准直束。例如，辐射束30可以由激光辐射构成。
为了检测辐射束30的辐射是否射到两个光阑元件24、26的光阑开口34，在所示的实施例中两个光阑元件中的每个都配备有合适的传感装置，以便检测到辐射束30的辐射射入到相关的光阑开口34的区域中。如在图2中举例地借助光阑元件24示出那样，在光阑开口34的区域内部设有多个对辐射源28的辐射敏感的传感器元件36的系统，这些传感器元件在所示的例子中以二维栅格布置系统分布。传感器元件36至少在光阑元件24中不填满光阑开口34的整个开口横截面，而是在传感器元件之间以及以相对于光阑开口34的开口边缘留有中间空间。这些中间空间允许辐射束30的辐射穿过光阑开口34。在一种变换实施方式中可以在光阑开口34的圆周内部存在仅一个唯一的传感器元件36。
在图2的所示例子中，传感器元件36仅位于光阑开口34的圆周内部，而不在圆周外部。但是在本发明的范围中不应排除的是，在光阑开口34的外部也设置一个或多个传感器元件。
一个对于辐射源28的辐射至少部分可透过的材料块38用作传感器元件36的支架，该材料块完全覆盖光阑开口34并且例如通过粘接或其它方式固定在光阑元件24上。材料块38可以由刚性的、即形状稳定的材料构成或它可以由柔性材料构成。就材料块的厚度而言，它可以像薄膜一样薄或者按照板或盘的类型构造。例如材料块38可以由玻璃或PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)或PE(聚乙烯)或PC(聚碳酸酯)组成。显然，每种透明或半透明的材料都适合形成材料块38，如果在材料块上能够以所希望的位置稳定性设置传感器元件36的话。传感器元件36可以例如粘贴到材料块38上或者通过平印(lithografisches)方法安设在其上。多个传感器元件36在材料块38上的分布式布置是有利的，可以获得关于射入的辐射强度的按位置分辨的信息。
显然，光阑开口34可以例如是矩形或正方形开口而不是圆形开口。传感器元件36与光阑开口34的形状无关地优选尽可能均匀地分布在整个开口横截面上。
按照一种变换的实施方式，第二光阑元件26可以被去掉并且通过另一个例如用于传感器元件36的板状支架取代，而该支架不是不许具有用作光阑的开口。足够的是，该支架在校准轴线14穿透支架时所在的区域中装有一个或多个传感器元件36。该支架对于辐射束30的辐射的可透过性是不需要的。即便该支架对于辐射缺少可透过性，借助传感器元件36仍可以获得关于成像光学装置12是否被正确校准的信息。
传感器元件36通过相应的信号线路40将其传感器信号传送给电子信号处理单元42，电子信号处理单元处理传感器信号。该处理可以包括产生图像信号，图像信号可以由信号处理单元42送到显示单元(监视器)44用于显示。所显示的图像能够包含成像系统12关于校准轴线14或/和光阑开口34的实时校准状态的图形显示。在成像系统12的手动校准的情况下，这样的图形显示让使用者更容易进行校准工作。在图1中在信号处理单元42和显示单元44之间的一个图像信号线路46用于传送图像信号。
对于成像系统12的自动化校准而言，信号处理单元42变换地或附加地可以产生控制信号，控制信号可以通过控制信号线路48(在图1中虚线绘出)发送给一个在图中未详细示出的、例如集成在校准保持装置20中的用于成像系统12的伺服驱动装置。通过与预给定的额定状态比较，信号处理单元42能够根据实时传输的传感器信号获取仍存在的调校需求并且相应地控制所述伺服驱动装置。额定状态可以例如通过一个或多个用于传感器元件36的传感器信号的信号强度的阈值限定，其中，这些阈值可以专门针对各个传感器元件36或/和对于一组或多组传感器元件36被确定。变换地或附加地，额定状态可以通过由传感器元件36检测到的辐射强度的预给定的位置分布来限定。显然，所提到的标准仅是示例性的并且在希望情况下可以考虑用于确定额定状态的其它标准。可能的是，对于目标地点(在图1的实施例中通过第二光阑元件26的光阑开口34代表)可以确定不同于第一光阑元件24的其它标准。
不需要特别提及的是，除了通过信号线路46、48有线地传输图像和控制信号外，可以考虑例如借助WLAN、WiFi或蓝牙来无线传输这些信号中的至少一部分。
补充地，第一光阑元件24或/和第二光阑元件26的光阑开口34可以是在大小上可变的，要么手动地要么通过信号处理单元42控制。在光阑开口34的开口横截面增大的情况下，也可以测量位于光学轴线16以外的光路。显然，在光阑开口34的大小可变的实施方式中，材料块38的装有传感器元件36的区域足够大，以至于在光阑开口34的最大开口横截面时也基本上能够在整个开口横截面上执行辐射测量。在光阑开口34的尺寸缩小的情况下至少一些传感器元件36于是位于开口边缘外部。在光阑开口34增大的情况下，例如可以根据辐射束30的强度断面分布或/和发散度执行测量。通过在第一光阑开口34(即第一光阑元件24的光阑开口34)的开口边缘处的衍射可以此外在——由第二光阑元件26的传感器元件36构成的——第二检测器上形成衍射图案，衍射图案可以由信号处理单元42借助该第二检测器的传感器信号分析，以便由其获得关于辐射束30的确定性能的结论。

Claims (21)

1.用于校准光学成像系统的方法，包括：
至少在使用第一光阑元件的情况下限定校准轴线，其中，所述校准轴线连接第一光阑元件的光阑开口与在第一光阑元件后面间隔距离设置的目标地点，
相对于校准轴线校准所述光学成像系统，直到沿着校准轴线入射到成像系统上的辐射束的辐射在经过成像系统之后穿过第一光阑元件的光阑开口射到目标地点，
至少在第一光阑元件的光阑开口或/和目标地点的区域中针对辐射束的辐射执行用传感器检测辐射，
为信号处理单元提供传感器信号，在检测辐射时产生所述传感器信号。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，就第一光阑元件而言，用传感器检测辐射仅在光阑开口的区域中执行。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述目标地点由第二光阑元件的光阑开口构成，并且就第二光阑元件而言，用传感器检测辐射仅在光阑开口的区域中执行。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，就第一光阑元件而言，用传感器检测辐射也在光阑开口外部执行。
5.根据权利要求1或4所述的方法，其中，所述目标地点由第二光阑元件的光阑开口构成，并且就第二光阑元件而言，用传感器检测辐射也在光阑开口外部执行。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，由信号处理单元基于传感器信号产生用于显示图像的图像数据。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，由信号处理单元基于传感器信号产生用于调节装置的控制信号，以便校准所述光学成像系统的至少一部分。
8.用于校准光学成像系统(12)的设备，所述设备包括：
具有光阑开口(34)的第一光阑元件(24)，
在第一光阑元件后面间隔距离设置的目标元件(26)，所述目标元件限定目标地点，
辐射束(30)的辐射源(28)，其中，所述辐射源这样布置或可这样布置，使得辐射束可沿连接第一光阑元件的光阑开口与目标地点的校准轴线(14)入射到第一光阑元件上，
用于成像系统的校准保持装置(20)，其中，所述校准保持装置允许相对于校准轴线校准成像系统，直到辐射束的辐射在经过成像系统之后穿过第一光阑元件的光阑开口射到目标地点，
用于至少在第一光阑元件的光阑开口或/和目标地点的区域中针对辐射束的辐射进行辐射检测的传感器装置，
用于处理传感器装置的传感器信号的信号处理单元(42)。
9.根据权利要求8所述的设备，其中，传感器装置在第一光阑元件(24)上或/和在第二光阑元件(26)上仅在光阑开口的区域中检测辐射，第二光阑元件的光阑开口(34)构成目标地点。
10.根据权利要求8所述的设备，其中，传感器装置在第一光阑元件(24)上或/和在第二光阑元件(26)上不仅在光阑开口的区域中而且在光阑开口外部检测辐射，第二光阑元件的光阑开口(34)构成目标地点。
11.根据权利要求8至10中任一项所述的设备，所述设备包括至少一个具有光阑开口(34)的光阑元件(24，26)，其中，至少所述光阑元件的光阑开口由对于辐射可透过的材料块(38)覆盖并且所述材料块支撑至少一个用于检测辐射束(30)的辐射的传感器元件(36)。
12.根据权利要求11所述的设备，其中，所述传感器元件(36)设置在光阑元件(24，26)的光阑开口(34)的区域中。
13.根据权利要求11或12所述的设备，其中，材料块(38)支撑多个相对彼此间隔距离布置的传感器元件(36)。
14.根据权利要求13所述的设备，其中，至少一部分数量的传感器元件(36)、优选所有传感器元件布置在光阑元件的光阑开口(34)的区域中。
15.根据权利要求13或14所述的设备，其中，所述传感器元件(36)矩阵状地布置。
16.根据权利要求11至15中任一项所述的设备，其中，装有材料块(38)和传感器元件(36)的光阑元件构成第一光阑元件(24)。
17.根据权利要求11至16中任一项所述的设备，其中，所述目标地点构成在装有材料块(38)和传感器元件(36)的光阑元件(26)上。
18.根据权利要求8至17中任一项所述的设备，所述设备包括与信号处理单元(42)连接的显示单元(44)，其中，所述信号处理单元被设置用于基于传感器信号产生用于显示图像的图像数据并且在显示单元上显示所述显示图像。
19.根据权利要求8至18中任一项所述的设备，所述设备包括与信号处理单元(42)连接的用于成像系统(12)的调节装置，其中，所述信号处理单元被设置用于基于传感器信号产生用于调节装置的控制信号，以便校准光学成像系统的至少一部分。
20.根据权利要求8至19中任一项所述的设备，其中，所述第一光阑元件(24)的或/和构成目标地点的第二光阑元件(26)的光阑开口(34)的大小是可改变的。
21.根据权利要求8至20中任一项所述的设备，其中，所述成像系统(12)包括聚焦物镜。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105655857A (zh) * 2016-03-27 2016-06-08 中国科学院光电研究院 一种基于大面抽运板条激光器柱透镜的安装系统
CN108474719A (zh) * 2015-12-17 2018-08-31 倍耐力轮胎股份公司 用于校准轮胎检查系统的光学工具的方法和设备
CN109143906A (zh) * 2018-10-19 2019-01-04 中国航空制造技术研究院 一种智能光阑及激光校准方法
CN110780445A (zh) * 2018-11-12 2020-02-11 芋头科技（杭州）有限公司 用于装配光学成像系统的主动校准的方法及系统
CN111435197A (zh) * 2019-01-15 2020-07-21 精工爱普生株式会社 虚像显示装置
CN113349734A (zh) * 2021-06-29 2021-09-07 北京鹰瞳科技发展股份有限公司 眼底相机及其工作距离校准方法
CN114815281A (zh) * 2022-04-12 2022-07-29 哈尔滨工程大学 一种高精度纹影系统光路调节装置及其使用方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA3080443A1 (en) * 2017-12-19 2019-06-27 Alcon Inc. Imaging multiple parts of the eye
CN114114705B (zh) * 2021-11-25 2023-09-19 无锡奥普特自动化技术有限公司 全自动fac巴粘透镜组准直系统

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0513297A (ja) * 1991-07-09 1993-01-22 Nikon Corp 位置合わせ装置
US20070030450A1 (en) * 2005-08-03 2007-02-08 Eastman Kodak Company Automated fundus imaging system
CN1955634A (zh) * 2005-10-28 2007-05-02 欧姆龙株式会社 位移传感器
CN101107677A (zh) * 2005-01-26 2008-01-16 史密斯海曼有限公司 带有可调节焦距的准直光管
JP2009002673A (ja) * 2007-06-19 2009-01-08 Olympus Corp 干渉計のアライメント装置
JP2009198205A (ja) * 2008-02-19 2009-09-03 Olympus Corp 干渉計
JP2009294353A (ja) * 2008-06-04 2009-12-17 Konica Minolta Opto Inc レンズユニット光軸調整方法及びレンズユニット光軸調整装置
CN102871643A (zh) * 2012-09-27 2013-01-16 北京高景弘毅科技发展有限公司 用于主体眼底拍照的检测设备和检测模块

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD261852A1 (de) * 1987-07-02 1988-11-09 Zeiss Jena Veb Carl Anordnung und verfahren zum positionieren von optischen strahlungskonturen
US5661816A (en) 1991-10-22 1997-08-26 Optikos Corporation Image analysis system
JP3439898B2 (ja) * 1995-12-05 2003-08-25 株式会社リコー 結像レンズの位置調整装置と結像レンズの位置調整方法及び原稿読取装置
JP3340615B2 (ja) * 1996-03-07 2002-11-05 株式会社リコー 受光素子の位置調整装置
US7683926B2 (en) * 1999-02-25 2010-03-23 Visionsense Ltd. Optical device
DE10009571A1 (de) * 2000-02-29 2001-09-06 Vision Components Ges Fuer Bil Verfahren und Vorrichtung zum Justieren einer Kamera
US20020118966A1 (en) * 2001-02-23 2002-08-29 Hofer Gregory V. Zoom and focus control system in an optical system
JP3831318B2 (ja) * 2002-08-22 2006-10-11 オリンパス株式会社 内視鏡用撮像装置
US6807740B2 (en) * 2002-12-20 2004-10-26 The Boeing Company Laser alignment tool
EP1953578A1 (en) * 2007-02-02 2008-08-06 Media Lario S.r.L. Optical alignment tool and method of alignment
DE102009009062B4 (de) * 2009-02-16 2012-05-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Anordnen eines optischen Moduls in einer Messvorrichtung sowie Messvorrichtung
JP2010197089A (ja) * 2009-02-23 2010-09-09 Olympus Corp 干渉計
US9310598B2 (en) * 2009-03-11 2016-04-12 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Autofocus method and autofocus device
JP2011230179A (ja) * 2010-04-30 2011-11-17 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd レーザ加工装置の光軸調整方法
JP5887839B2 (ja) * 2011-10-31 2016-03-16 株式会社ニデック 眼内レンズ度数決定装置及びプログラム
JP6003292B2 (ja) * 2012-06-29 2016-10-05 株式会社ニデック 眼底撮影装置
JP5955193B2 (ja) * 2012-10-18 2016-07-20 キヤノン株式会社 眼科装置および眼科装置の制御方法並びにプログラム

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0513297A (ja) * 1991-07-09 1993-01-22 Nikon Corp 位置合わせ装置
CN101107677A (zh) * 2005-01-26 2008-01-16 史密斯海曼有限公司 带有可调节焦距的准直光管
US20070030450A1 (en) * 2005-08-03 2007-02-08 Eastman Kodak Company Automated fundus imaging system
CN1955634A (zh) * 2005-10-28 2007-05-02 欧姆龙株式会社 位移传感器
JP2009002673A (ja) * 2007-06-19 2009-01-08 Olympus Corp 干渉計のアライメント装置
JP2009198205A (ja) * 2008-02-19 2009-09-03 Olympus Corp 干渉計
JP2009294353A (ja) * 2008-06-04 2009-12-17 Konica Minolta Opto Inc レンズユニット光軸調整方法及びレンズユニット光軸調整装置
CN102871643A (zh) * 2012-09-27 2013-01-16 北京高景弘毅科技发展有限公司 用于主体眼底拍照的检测设备和检测模块

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108474719A (zh) * 2015-12-17 2018-08-31 倍耐力轮胎股份公司 用于校准轮胎检查系统的光学工具的方法和设备
CN108474719B (zh) * 2015-12-17 2020-08-28 倍耐力轮胎股份公司 用于校准轮胎检查系统的光学工具的方法和设备
CN105655857A (zh) * 2016-03-27 2016-06-08 中国科学院光电研究院 一种基于大面抽运板条激光器柱透镜的安装系统
CN109143906A (zh) * 2018-10-19 2019-01-04 中国航空制造技术研究院 一种智能光阑及激光校准方法
CN110780445A (zh) * 2018-11-12 2020-02-11 芋头科技（杭州）有限公司 用于装配光学成像系统的主动校准的方法及系统
CN111435197A (zh) * 2019-01-15 2020-07-21 精工爱普生株式会社 虚像显示装置
CN111435197B (zh) * 2019-01-15 2022-04-19 精工爱普生株式会社 虚像显示装置
CN113349734A (zh) * 2021-06-29 2021-09-07 北京鹰瞳科技发展股份有限公司 眼底相机及其工作距离校准方法
CN113349734B (zh) * 2021-06-29 2023-11-14 北京鹰瞳科技发展股份有限公司 眼底相机及其工作距离校准方法
CN114815281A (zh) * 2022-04-12 2022-07-29 哈尔滨工程大学 一种高精度纹影系统光路调节装置及其使用方法

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