CN104853678B - 放射线拍摄装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种放射线拍摄装置，其能够通过简单的作业轻松地去除所附着的污染物质，且能够抑制细菌的繁殖。本发明的放射线拍摄装置在外表面的至少一部分设有亲水加工部，其中，亲水加工部含有亲水性聚合物及抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为30°以下。

Description

放射线拍摄装置
技术领域
本发明涉及一种在外表面的至少一部分设有亲水加工部的放射线拍摄装置。
背景技术
在医疗现场使用的医疗装置大多与多个患者连续接触。其中，放射线拍摄装置连续使用于多个患者。这些医疗装置上附着有患者的体液等，当清扫、清洗不充分时，担心在患者彼此之间或患者与拍摄人员之间发生病原性病毒等的感染。为了防止这种感染，定期或在感染风险较高时每当患者使用时，使用乙醇水溶液或次氯酸钠水溶液等消毒液进行医疗装置表面的消毒。
放射线拍摄装置尤其移动式放射线拍摄装置在手术室或急救室等中使用时，存在附着包含感染性病毒或细菌的血液或呕吐物、体液或皮脂等的情况。并且，乳房X射线照相装置中，患者的口红或皮脂附着于护脸罩部，或者泄漏奶水或进行活组织检查(麦默通(mammotome)活检)时的出血所产生的血液或皮脂附着于乳房托及乳房压迫板。有时源自患者的这种污染物质难以抹擦，尤其是污染物质固着于表面，抹擦需要时间。
针对这些问题，提出了如下技术。
例如，在专利文献1中公开有在医疗设备的外表面安装实施了防水加工的缓冲材的技术。根据该技术，具有污染物质难以附着的优点。
并且，在专利文献2中提出了用表示杀菌作用的光催化剂(例如TiO2)包覆医疗设备的技术。
另一方面，从感染对策的观点考虑，还可以考虑如专利文献3～5中提出的那样对以放射线拍摄装置为代表的各种医疗设备实施抗菌加工。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2012-132703号公报
专利文献2：日本特开2012-123297号公报
专利文献3：日本特开平7-313561号公报
专利文献4：日本特开2005-275293号公报
专利文献5：日本特开2003-207864号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
但是，专利文献1所记载的技术从消毒方面考虑时，医疗装置表面针对消毒液的润湿性减小。即，消毒液会被弹出，因此消毒液容易长时间停留在医疗装置的外表面，无法充分得到针对细菌类的消毒效果的可能性较高。
并且，已知专利文献2所记载的光催化剂显现出杀菌性能以及亲水性，但为了显现出杀菌性能和亲水性能，必须照射光，因此不适合作为在包括暗处在内的各种医疗环境中使用的装置。
专利文献3～5所记载的基于抗菌加工的抗菌作用只能在实施了抗菌加工的外表面与污染物质的界面发挥作用。即，在该界面能够抑制细菌繁殖，但污染物质的厚度较大时，无法轻松地抑制细菌在污染物质的内部繁殖。并且，抗菌加工的作用只能在污染物质被去除的状态下才开始变得有效，要求以污染物质容易被去除为前提。
如上所述，在现有技术中，未提供能够仅通过抹擦就能够轻松地去除污染物质的放射线拍摄装置，需要作进一步改进。
并且，作为放射线拍摄装置，期待不仅能够去除污染物质，而且还能够抑制污染物质引起的细菌的繁殖。
即，虽然要求一种能够通过简单的作业轻松地去除所附着的污染物质，且能够抑制细菌的繁殖的放射线拍摄装置，但还未能公开充分实现这种要求的放射线拍摄装置。
本发明是为了解决上述问题而完成的，其目的在于提供一种能够仅通过进行简单的作业就能够去除污染物质，且能够抑制细菌的繁殖的放射线拍摄装置。
用于解决技术课题的手段
上述目的通过以下[1]的结构来实现。
[1]一种放射线拍摄装置，其在外表面的至少一部分设有亲水加工部，其中，上述亲水加工部含有抗菌剂和表示亲水性的亲水性聚合物，上述亲水加工部的表面的水接触角为30°以下。
另外，本发明中的放射线拍摄装置设为包含装置主体及其外围设备。
即，在本发明中，放射线拍摄装置中设有亲水加工部，所述亲水加工部即使在未照射光的暗处，也会被水或水溶液良好地润湿。因此，即使在将长时间在暗处保管的放射线拍摄装置取出后立即用水或乙醇水溶液或次氯酸钠水溶液等消毒液进行抹擦时，水或消毒液也会沿着亲水加工部扩展润湿，并进入到亲水加工部与污染物质之间。因此，当附着有污染物质时，污染物质容易脱落。其结果，能够在短时间内轻松地去除污染物质。
并且，由于消毒液在放射线拍摄装置外表面上的滞留时间延长，因此即使残留有源自污染物质的细菌，消毒液也会与该细菌长时间接触。因此，能够比以往提高杀菌能力。
另外，当放射线拍摄装置的亲水加工部为能够用水清洁的部分时，不仅可以用水进行抹擦，而且还可以例如通过流水轻松地去除污染物质。这是因为流水与消毒液同样地进入到亲水加工部与污染物质之间。
当然，使用之后的放射线拍摄装置中也同样能够去除污染物质，并且能够比以往提高杀菌能力。
并且，由于在亲水加工部内包含抗菌剂，因此能够在亲水加工部抑制细菌的繁殖。因此，即便残留有细菌，也能够抑制其繁殖。
发明效果
根据本发明，由于在放射线拍摄装置设置被水或水溶液良好地润湿的亲水加工部，因此通过进行抹擦或供给流水等简单的作业，能够轻松地去除有可能成为感染原因的污染物质。
并且，由于亲水加工部包含抗菌剂，因此能够抑制细菌的繁殖。
附图说明
图1是作为本发明的实施方式所涉及的放射线拍摄装置的移动式放射线拍摄装置的部分剖面立体图。
图2是图1所示的移动式放射线拍摄装置的概略纵剖视图。
图3是另一移动式放射线拍摄装置的整体概略立体图。
图4是作为本发明的另一实施方式所涉及的放射线拍摄装置的乳房X射线照相装置的主要部分的概略立体图。
图5是作为本发明的又一实施方式所涉及的放射线拍摄装置的立位拍摄用放射线拍摄装置的主要部分的概略立体图。
具体实施方式
以下，对本发明所涉及的放射线拍摄装置举出优选实施方式，参考附图进行详细说明。
图1是实施方式1所涉及的移动式放射线拍摄装置10(所谓的电子盒)的部分剖面立体图。移动式放射线拍摄装置10为放射线拍摄装置的一种。图2是移动式放射线拍摄装置10的概略纵剖视图。在该移动式放射线拍摄装置10中，在壳体18的内部依次设有检测从被照射放射线Ray的照射面19侧透射未图示的患者的放射线Ray的放射线检测器12及后述的控制基板13。在照射面19中，通过放射线检测器12拍摄放射线图像的区域为拍摄区域19A。
放射线检测器12在TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)有源矩阵基板(以下称为TFT基板)30的表面贴附由硫氧化钆(GOS)或碘化铯(CsI)等制成的闪烁器29而构成。为了防止所产生的光向外部泄漏，TFT基板30可以在与贴附有闪烁器29的面相反一侧的面具有遮挡所产生的光的遮光体31。
在放射线检测器12中，照射的X射线等放射线Ray在闪烁器29中转换成光。所产生的光入射到设置于TFT基板30的传感器部。该传感器部接收从闪烁器29产生的光并积蓄电荷。按每一传感器部设有TFT开关，当该TFT开关被打开时，根据积蓄在传感器部的电荷量，表示放射线图像的电信号(图像信号)流向信号线。
并且，在放射线检测器12的信号配线方向的一端侧排列设有多个接线用连接器32，在扫描配线方向的一端侧排列设有多个连接器37。在连接器32上连接有信号配线，在连接器37上连接有扫描配线。
控制基板13具备扫描信号控制电路40和信号检测电路42。在扫描信号控制电路40中设有连接器48，在该连接器48上电连接有挠性电缆52的一端。另外，该挠性电缆52的另一端电连接于连接器37。通过该结构，扫描信号控制电路40能够向各扫描配线输出用于将TFT开关打开/关闭的控制信号。
在信号检测电路42中设有多个连接器46，在该连接器46上电连接有挠性电缆44的一端。另外，该挠性电缆44的另一端电连接于连接器32。信号检测电路42按每一信号配线内置有放大所输入的电信号的放大电路。通过该结构，信号检测电路42将从各信号配线输入的电信号通过放大电路放大而检测，由此检测积蓄在各传感器部的电荷量作为构成图像的各像素的信息。
壳体18被形成为矩形平板状，并且，如图2所示，以与放射线检测器12重叠的方式内置有进行放射线检测器12的拍摄动作或与外部装置的通信的控制等各种控制的控制基板13。另外，在本实施方式中，以TFT基板30与照射面19侧的壳体18内表面接触的方式配置放射线检测器12。
在壳体18中，配置于被照射放射线Ray的正面侧、换言之与被摄体接触的一侧的前面板60和配置于被摄体相反侧的背面板62(背面部)对置设置。前面板60由顶板64和保持顶板64的保持部66构成。在顶板64的背面板62侧的表面设有放射线检测器12。保持部66在图2中的左右方向两端部向背面板62侧弯曲而形成侧面部的一部分。并且，背面板62在图2中的左右方向两端部向前面板60侧弯曲而形成侧面部的一部分。即，壳体18的背面部和侧面部的一部分形成为一体。另外，未必一定要仅将背面部和侧面部的一部分形成为一体，也可以将整个侧面部和背面部形成为一体。此时，能够减少壳体的接缝，抹擦性得到提高。
在本实施方式中，顶板64由碳形成。由此，抑制放射线Ray的吸收，并且确保强度。并且，保持部66及背面板62由ABS树脂形成。
顶板64的通过放射线检测器12拍摄放射线图像的区域为拍摄区域19A。
在以上结构中，至少在拍摄时与患者即被摄体(未图示)接触的照射面19设有亲水加工部。另外，不仅是照射面19，也可以在背面板62或侧面部等设置亲水加工部。此外，当然还可以在有可能与拍摄人员接触的部分例如整个外表面设置亲水加工部。
本发明中，设置于照射面19等的亲水加工部在移动式放射线拍摄装置(电子盒)10插入到患者等被摄体的下方时成为与被摄体接触的面，因此为了使其容易滑动，可以设为点状或网眼状。
并且，例如，优选在照射面19侧的前面板60表面实施亲水处理并在照射面19设置亲水加工部，在与照射面19相反的一侧(被摄体相反侧)的背面板62的外侧表面尤其在背面板62的两侧，从以参考符号A表示的部分即背面板62与构成壳体18的侧面部的一部分的前面板60的保持部66的接缝，对遍及构成壳体18的背面部的一部分的背面板62的端部区域的外侧表面的部分A实施疏水处理并设置疏水加工部。
如此，通过在背面板62的外侧表面(两侧部分A)设置疏水加工部，容易将移动式放射线拍摄装置(电子盒)10插入到患者等被摄体的下方。
另外，如图2所示的移动式放射线拍摄装置(电子盒)10的壳体18的保持部66那样，电子盒的角部为倾斜(弯曲)的结构时，污染物质有可能垂落而污染电子盒周边。但是，在本发明中，通过在照射面19侧的前面板60的表面设置亲水加工部，并且在背面板62的外侧表面(两侧部分A)设置疏水加工部来使前面板60表面的润湿性变良好，从而能够防止污染物质从前面板60的保持部66垂落，且能够防止污染物质的扩散。
并且，通过在构成壳体18的背面部的背面板62的外侧表面的中央部分B实施压花加工来使中央部分B成为压花结构，从而能够容易将电子盒10插入到患者等被摄体的下方。
亲水加工部至少含有亲水性聚合物及抗菌剂。
以下，对亲水加工部所含的材料进行详述。
亲水性聚合物是指具有亲水性基团的聚合物。
亲水性基团的种类并没有特别限制，例如可以举出聚氧化烯基(例如，聚氧乙烯基、聚氧丙烯基、氧乙烯基和氧丙烯基嵌段或无规键合的聚氧化烯基)、氨基、羧基、羧基的碱金属盐、羟基、烷氧基、酰胺基、氨甲酰基、磺酰胺基、氨磺酰基、磺酸基、磺酸基的碱金属盐等。
亲水性聚合物的主链的结构并没有特别限制，例如可以举出聚氨酯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚脲等。
另外，聚(甲基)丙烯酸酯是包含聚丙烯酸酯及聚甲基丙烯酸酯这两者的概念。
作为亲水性聚合物的优选方式之一，可以举出使具有上述亲水性基团的单体聚合而得到的聚合物。
具有亲水性基团的单体是指具有上述亲水性基团和聚合性基团的化合物。亲水性基团的定义如上所述。
具有亲水性基团的单体中的亲水性基团的数量并没有特别限制，但从亲水加工部更良好地表示亲水性的观点考虑，优选为2个以上，更优选为2～6个，进一步优选为2～3个。
聚合性基团的种类并没有特别限制，例如可以举出自由基聚合性基团、阳离子聚合性基团、阴离子聚合性基团等。作为自由基聚合性基团，可以举出(甲基)丙烯酰基、丙烯酰胺基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。作为阳离子聚合性基团，可以举出乙烯醚基、环氧乙基、氧杂环丁基等。其中，优选为(甲基)丙烯酰基。
另外，(甲基)丙烯酰基是包含丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者的概念。
具有亲水性基团的单体中的聚合性基团的数量并没有特别限制，但从所得到的亲水加工部的机械强度更加优异的观点考虑，优选为2个以上，更优选为2～6个，进一步优选为2～3个。
作为具有亲水性基团的单体的优选方式之一，可以举出以以下式(1)表示的化合物。
[化1]
在式(1)中，R1表示取代基。取代基的种类并没有特别限制，可以举出公知的取代基，例如可以举出可以具有杂原子的烃基(例如烷基、芳基)、上述亲水性基团等。
R2表示聚合性基团。聚合性基团的定义如上所述。
L1表示单键或2价连接基团。2价连接基团的种类并没有特别限制，例如可以举出-O-、-CO-、-NH-、-CO-NH-、-COO-、-O-COO-、亚烷基、亚芳基、杂芳基及它们的组合。
L2表示聚氧化烯基。聚氧化烯基是指以以下式(2)表示的基团。
式(2) ＊-(OR3)m-＊
式(2)中，R3表示亚烷基(例如乙烯基、丙烯基)。m表示2以上的整数，优选为2～10，更优选为2～6。另外，＊表示键合位置。
n表示1～4的整数。
在得到亲水性聚合物时，可以同时使用具有上述亲水性基团的单体和其他单体。即，可以使用使具有亲水性基团的单体和其他单体(具有亲水性基团的单体以外的单体)共聚合而得到的亲水性聚合物。
其他单体的种类并没有特别限制，只要是具有聚合性基团的公知的单体，则可以适当地使用。聚合性基团的定义如上所述。
其中，从亲水加工部的机械强度更加优异的观点考虑，优选为具有2个以上的聚合性基团的多官能单体。多官能单体作为所谓的交联剂发挥作用。
多官能单体中所含的聚合性基团的数量并没有特别限制，从亲水加工部的机械强度更加优异及操作性的观点考虑，优选为2～10个，更优选为2～6个。
作为多官能单体，例如可以举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯。
亲水性单体与其他单体(尤其是多官能单体)的混合比(亲水性单体的质量/其他单体的质量)并没有特别限制，但从容易控制亲水加工部的亲水性的观点考虑，优选为0.01～10，更优选为0.1～10。
另外，优选亲水加工部中包含上述亲水性聚合物作为主成分。在此，主成分是指亲水性聚合物的含量为亲水加工部总质量的50质量％以上，优选为70质量％以上，更优选为90质量％以上。
亲水加工部所含的抗菌剂的种类并没有特别限制，可以使用公知的抗菌剂。例如，可以举出无机系抗菌剂或有机系抗菌剂(优选为水溶性的有机系抗菌剂)。另外，作为抗菌剂，优选使用针对以金黄色葡萄球菌和大肠杆菌为代表的病原性细菌类发挥杀菌效果的杀菌剂。
作为有机系抗菌剂，例如可以举出苯酚醚衍生物、咪唑衍生物、砜衍生物、N-卤代硫烷基化合物、苯胺衍生物、吡咯衍生物、季铵盐、吡啶系化合物、三嗪系化合物、苯并异噻唑啉系化合物、或异噻唑啉系化合物等。
更具体而言，可以举出1,2-苯并异噻唑啉-3-酮、N-氟二氯甲基硫代-邻苯二甲酰亚胺、2,3,5,6-四氯间苯二腈、N-三氯甲基硫-4-环己烯-1,2-二甲酰亚胺、8-喹啉酸铜、双(三丁基锡)氧化物、2-(4-噻唑基)苯并咪唑＜以后表示为TBZ＞、2-苯并咪唑氨基甲酸甲酯＜以后表示为BCM＞、10,10'-氧代双吩砒＜以后表示为OBPA＞、2,3,5,6-四氯-4-(甲基砜)吡啶、双(2-吡啶基硫代-1-氧化物)锌＜以后表示为ZPT＞、N,N-二甲基-N'-(氟二氯甲基硫)-N'-苯磺酰胺＜苯氟磺胺＞、聚-(六亚甲基双胍)盐酸盐、二硫-2-2'-双(苯甲酰胺)、2-甲基-4,5-三亚甲基-4-异噻唑啉-3-酮、2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇、六氢-1,3-三-(2-羟乙基)-S-三嗪、对氯间二甲苯酚、1,2-苯并异噻唑啉-3-酮等，但并不限于这些。
这些有机系抗菌剂可以考虑亲水性、耐水性、升华性、安全性等来适当地选择使用。在这些有机系抗菌剂中，从亲水性、抗菌效果、成本的观点考虑，优选为2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇、TBZ、BCM、OBPA或ZPT。
另外，作为有机系抗菌剂，还包含天然系抗菌剂。作为天然系抗菌剂，有将蟹或虾的甲壳等所含的甲壳质水解而得到的碱性多糖类的壳聚糖。
作为无机系抗菌剂，按杀菌作用较高的顺序可以举出汞、银、铜、锌、铁、铅、铋等。例如可以举出将银、铜、锌、镍等金属或金属离子载持于载体的抗菌剂。另外，作为载体，可以举出硅酸盐系载体、磷酸盐系载体、氧化物(例如玻璃)、钛酸钾或氨基酸。
更具体而言，可以举出沸石系抗菌剂、硅酸钙系抗菌剂、磷酸锆系抗菌剂、磷酸钙抗菌剂、氧化锌系抗菌剂、溶解性玻璃系抗菌剂、硅胶系抗菌剂、活性碳系抗菌剂、氧化钛系抗菌剂、二氧化钛系抗菌剂、有机金属系抗菌剂、离子交换体陶瓷系抗菌剂、层状磷酸盐-季铵盐系抗菌剂或抗菌不锈钢等，但并不限于这些。
在上述抗菌剂中，从抗菌效果较大的观点考虑，优选为金属粒子(尤其是铜粒子、银粒子)或银系无机系抗菌剂或有机系抗菌剂。作为银系无机系抗菌剂，尤其优选为载银的陶瓷粒子(银陶瓷粒子)，更具体而言，可以举出硅酸盐系载体即沸石上载银的银沸石或硅胶上载银的抗菌剂。另外，作为有机系抗菌剂，优选为2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇、TPN、TBZ、BCM、OBPA或ZPT。
作为尤其优选的市售的银沸石系抗菌剂，有SINANEN Co.,Ltd.的“Zeomic”或FUJISILYSIA CHEMICAL Ltd.的“Silwell”或JAPAN ELECTRONIC MATERIALS Corporation的“Bactenon”等。此外，还优选将银载持于无机离子交换体陶瓷上的TOAGOSEI Co.,Ltd.的“Novaron”或Catalysts&Chemicals Industries Co.,Ltd.的“Atomy ball”或三嗪系抗菌剂的“San-ai bac P”。作为银粒子，可以选用Copyright on JAPAN ION Corporation.的“Nano silver”。并且，还可以选用由银化学键合于陶瓷上的银陶瓷粒子构成的FujiChemical Industries,Ltd.的“Bactekiller”、“Bacteright”。
作为抗菌剂的最优选的形态，优选为缓释金属离子的铜粒子、银粒子、铜陶瓷粒子、银陶瓷粒子，尤其优选为银粒子、银陶瓷粒子。
亲水加工部内的抗菌剂的含量并没有特别限制，但从污染物质的去除性及抗菌性的平衡的观点考虑，优选为亲水加工部总质量的0.001～15质量％(以下标记为“wt％”)，更优选为0.001～10wt％，进一步优选为0.001～5wt％。
当使用金属粒子作为抗菌剂时，亲水加工部内的抗菌剂的含量优选为亲水加工部总质量的0.001～10wt％，更优选为0.001～5wt％，进一步优选为0.001～1wt％，尤其优选为0.001～0.1wt％。若含量为0.001wt％以上，则能够进一步提高抗菌效果。并且，若含量为10wt％以下，则也不会使亲水性下降，且经时性也不会变差，并且不会对防污性带来坏影响。
并且，优选金属粒子(尤其是银粒子)的平均粒径为1nm～100nm，更优选为1nm～20nm。金属粒子的粒径越小，表面积/体积比越大，越能够以更微少的量显现出抗菌性。
当使用银陶瓷粒子时，若含量为亲水加工部总质量的0.1wt％以上，则能够进一步提高抗菌效果。并且，若含量为10wt％以下，则也不会使亲水性下降，且经时性也不会变差，并且不会对防污性带来坏影响。
优选银陶瓷粒子的平均粒径为0.1μm～10μm，更优选为0.1μm～2μm。
另外，当使用有机系抗菌剂作为抗菌剂时，从污染物质的去除性及抗菌性的平衡的观点考虑，优选有机系抗菌剂的含量为亲水加工部总质量的1～4wt％。
在本发明中，抗菌剂可以不露出于亲水加工部的表面。
在亲水加工部中可以包含上述亲水性聚合物及抗菌剂以外的其他成分。
例如，在亲水加工部中可以包含润滑剂。通过在亲水加工部含有润滑剂，能够形成最外层的凹凸形状。
润滑剂的平均粒径并没有特别限制，但优选为0.5μm～30μm，更优选为0.5μm～20μm，进一步优选为6μm～10μm。
另外，润滑剂的平均粒径是使用显微镜(例如扫描型电子显微镜)测定任意100个粒径(直径)并将这些进行算数平均而得到的粒径。另外，当润滑剂不是圆状时，将长径作为直径来进行测定。
并且，润滑剂的材料并没有特别限制，可以举出无机化合物(例如金属)或树脂，优选为树脂。若采用树脂，则放射线Ray的吸收量较低，因此不易发生在拍摄图像上作为伪像而重叠的问题、或者使到达移动式放射线拍摄装置10内的放射线检测器12的放射线量衰减的问题，结果能够减少向被摄体即患者的辐射量。
亲水加工部的表面的水接触角显出30°以下，从污染物质的去除性更加优异的观点考虑，优选为21°以下，更优选为15°以下。下限并没有特别限制，但从所使用的材料特性的观点考虑，多数情况下为5°以上。
当水接触角超过30°时，污染物质的去除性较差。
另外，在本说明书中，根据JIS R 3257：1999的固着液滴法测定水接触角。测定中使用NIC Corporation制LSE-ME1(软件2win mini)。更具体而言，使用纯水在室温20℃下，在保持水平的亲水性加工部表面上滴下液滴2μl，测定滴下后20秒时刻的接触角。
优选亲水加工部的表面具有微小的凹凸形状。通过具有微小的凹凸形状，能够减小与被摄体接触的面积，结果，能够减少源自皮脂等的污染物质的附着量。并且，通过减少与污染物质接触的面积，并且在污染物质与亲水加工部表面之间容易形成间隙，水等容易进入到该间隙，结果，能够提高污染物质的去除性。
并且，尤其在亲水加工部中的与被摄体的接触部具有凹凸形状时，与患者即被摄体的皮肤接触的面积减小，由此发粘感得以减少，还减少拍摄时患者的不适感。
亲水加工部的表面的表面粗糙度Ra并没有特别限制，但优选为1μm～20μm，更优选为2μm～15μm，进一步优选为3μm～6μm。
另外，根据JIS-B0601：2001规定测定表面粗糙度Ra。具体而言，使用触针扫描式粗糙度测定器测定亲水加工部表面的任意5处，将其平均值作为表面粗糙度Ra。并且，也可以使用搭载有“粗糙度仪模式”的激光微探测器(例如KEYENCE Corporation VK-X200)，进行与触针扫描式相同的测定。
亲水加工部的平均厚度并没有特别限制，从污染物质的去除性及抗菌性的观点考虑，优选为0.5μm～20μm，更优选为1μm～10μm。
另外，作为亲水加工部的平均厚度的测定方法，将样品片包埋于树脂中，并利用切片机削出剖面，同时使用扫描电子显微镜观察并测定削出的剖面。测定亲水加工部的任意10点位置处的厚度，并将这些进行算数平均。
上述亲水加工部的制作方法并没有特别限制，可以采用公知的方法。例如，可以举出涂布上述的包含亲水性聚合物及抗菌剂的组合物形成亲水加工部的方法、或将另行制作的包含亲水性聚合物及抗菌剂的聚合物薄膜贴附于规定位置的方法等。
其中，从更加轻松地调整亲水加工部的厚度或表面凹凸的观点考虑，优选为通过将上述的包含具有亲水性基团的单体及抗菌剂的亲水加工部形成用组合物(以后还仅称作“组合物”)涂布于规定位置来形成涂膜并对涂膜实施固化处理来形成亲水加工部的方法(涂布法)。
在组合物中包含上述的具有亲水性基团的单体及抗菌剂，但也可以包含其他成分(上述以外的单体、润滑剂、溶剂(水或有机溶剂))。
另外，在组合物中还可以含有聚合引发剂。通过包含聚合引发剂，更有效地进行涂膜中的聚合，形成机械强度优异的亲水加工部。聚合引发剂的种类并没有特别限制，可以通过固化处理方法选择最佳种类，例如可以选择热聚合引发剂、光聚合引发剂。更具体而言，可以举出二苯甲酮、苯基氧化膦等芳香族酮类、α-羟烷基苯酮系化合物(BASFIRGACURE184、127、2959、DAROCUR1173等)、苯基氧化膦系化合物(MAPO：BASF LUCIRIN TPO、BAPO：BASF IRGACURE 819)等。
在组合物中含的聚合引发剂的含量并没有特别限制，但优选相对于具有亲水性基团的单体及其他单体的总计质量100质量份为0.1～15质量份，更优选为1～6质量份。
涂布组合物的方法并没有特别限制，可以采用公知的涂布方法。
并且，固化处理方法并没有特别限制，可以举出加热处理或光照射处理。
本实施方式所涉及的移动式放射线拍摄装置10基本上如上构成，接着，对其作用效果进行说明。
为了获取被摄体的放射线图像，首先，对移动式放射线拍摄装置10的至少照射面19，优选壳体18的整个外表面进行清洁。即，利用含有消毒液的揩抹器擦抹壳体18。作为消毒液，优选使用乙醇水溶液或次氯酸钠水溶液。
如上所述，在移动式放射线拍摄装置10的壳体18的外表面设有亲水加工部。而且，在该亲水加工部中，即使在未照射光的暗处，水接触角也是30°以下。因此，即使在暗处保管移动式放射线拍摄装置10，壳体18的外表面也会显现出充分的亲水性。
通过该亲水性，壳体18的外表面被消毒液充分润湿。换言之，消毒液在壳体18的外表面充分扩展润湿。因此，即使在该时刻倘若在壳体18的外表面残留有细菌，消毒液也会长时间接触该细菌。并且，由于在壳体18的外表面的亲水加工部内包含抗菌剂，因此抗菌剂对细菌起作用。因此，能够比以往提高杀菌能力，能够抑制细菌的繁殖。
即，即使在暗处保管移动式放射线拍摄装置10，也能够在取出后立即进行消毒。
在使如此清洁的移动式放射线拍摄装置10的壳体18的照射面19与被摄体接触的状态下，医生或放射线技师(拍摄人员)从放射线源向被摄体的拍摄部位照射放射线Ray。放射线Ray透射被摄体的拍摄部位并通过移动式放射线拍摄装置10的照射面19，到达放射线检测器12的闪烁器29。
闪烁器29发出与放射线Ray的透射量相对应的量的荧光(可见光)。另一方面，在设置于TFT基板30的传感器部生成并积蓄与该荧光的量(发光量)相对应的量的电荷。通过从控制部读出与该电荷有关的信息来得到被摄体的拍摄部位的放射线图像。
有时还在手术室或急救室等使用移动式放射线拍摄装置10。此时，患者(被摄体)的血液或体液有可能附着于壳体18。可以考虑为了去除这种污染物质而用流水进行清洁，但此时蓄电池安装部或连接器连接部被水润湿，担心发生故障。
因此，在拍摄结束之后，利用包含乙醇水溶液或次氯酸钠水溶液等消毒液的揩抹器擦抹壳体18。此时，也与上述同样，由于在壳体18的外表面设有亲水加工部，因此消毒液在壳体18的外表面扩展润湿，被消毒液充分润湿。
因此，当壳体18附着有污染物质时，水或消毒液进入到亲水加工部与污染物质之间。其结果，污染物质容易从壳体18脱落。即，能够轻松地去除污染物质。
而且，由于消毒液停留在壳体18外表面上的时间延长，因此即使来自污染物质的细菌残留于外表面，消毒液也会与该细菌长时间接触。并且，由于在壳体18的外表面的亲水加工部内包含抗菌剂，因此抗菌剂对细菌起作用。因此，能够比以往提高杀菌能力，能够抑制细菌的繁殖。
如此，通过在壳体18的外表面设置亲水加工部，能够从以往难以用流水进行清洁的移动式放射线拍摄装置去除污染物质，且当用消毒液进行消毒时能够轻松地进行杀菌能力得到提高的消毒。另外，由于在壳体18的外表面的亲水加工部含有抗菌剂，因此在用消毒液进行消毒之后，能够抑制细菌繁殖。因此，即使残留有污染物质，也能够通过抗菌剂的作用抑制细菌的繁殖。
根据本实施方式，能够轻松地清洁拍摄后的移动式放射线拍摄装置10的壳体18。并且，由于在壳体18的外表面的亲水加工部含有抗菌剂，因此可以得到细菌的繁殖得到抑制且长时间持续清洁状态的优点。
图3是实施方式2所涉及的移动式放射线拍摄装置70的整体概略立体图。该移动式放射线拍摄装置70在壳体72的内部容纳放射线检测器74而构成。
该放射线检测器74具备未图示的闪烁器、传感器部等。并且，放射线检测器74中设有电荷放大器IC、通信部(均未图示)等。
壳体72由长度方向两端开口的开口端部即主体部件76、堵住开口端部的第1盖部件78及第2盖部件80构成。主体部件76在内部具有空洞，是所谓的筒型形状。这些主体部件76、第1盖部件78及第2盖部件80可以均由能够使放射线透射的树脂材料构成。
在第1盖部件78上设有蓄电池安装部82和连接器连接部84。通过安装于蓄电池安装部82的蓄电池(未图示)供给驱动电流，并且经由安装于连接器连接部84的连接器(未图示)，在移动式放射线拍摄装置70与外部设备之间进行有线通信。另外，当然也可以代替有线通信而进行无线通信。
另外，如图3所示，可以在第1盖部件78上设置显示部88等。显示部88由LED灯等构成，用于显示电子盒10的驱动状态等。
构成壳体72的主体部件76、第1盖部件78及第2盖部件80的一端面为被照射放射线的照射面86，与患者即被摄体(未图示)接触。在这些主体部件76、第1盖部件78及第2盖部件80的至少与被摄体接触的部分(即，被照射放射线的面)上与上述移动式放射线拍摄装置10同样设有由亲水性层构成的亲水加工部。另外，不仅是主体部件76、第1盖部件78及第2盖部件80的与被摄体接触的部分，也可以在有可能与拍摄人员接触的整个外表面设置亲水加工部。
此时，内部容纳有放射线检测器74的主体部件76的开口端部被第1盖部件78及第2盖部件80堵住，因此会形成所谓的单壳型的壳体72，并且构成移动式放射线拍摄装置70。另外，主体部件76只要在内部容纳放射线检测器74，则两端部未必一定是开口端部。例如，可以是只有一端部为开口端部，通过盖部件堵住该开口端部。
在该移动式放射线拍摄装置70中，可以得到与实施方式1所涉及的移动式放射线拍摄装置10相同的效果。另外，例如，接触于被摄体的部分与连接器连接部84等外部设备连接部大幅隔开时等、即使用流水清洁与被摄体接触的部分也无需担心外部设备连接部被水润湿的放射线拍摄装置时，可以用流水清洁与被摄体接触的部分。此时，水由于亲水加工部的存在而进入到污染物质与外表面之间，因此能够轻松地去除污染物质，能够抑制细菌的繁殖。
另外，在图3所示的移动式放射线拍摄装置70中，第2盖部件80能够嵌合或粘接/熔敷于主体部件76。当粘接或熔敷而作成可再剥离地安装第1盖部件78的结构时，能够将第1盖部件78以外的部分浸渍于清洁液中。此时，虽未图示，但蓄电池安装部82及连接器连接部84可以盖上由弹性体制成的盖，以防止不小心被水润湿。并且，虽未图示，但第1盖部件78可以用O型圈等实现防水。
此时，由于在壳体72上设有亲水加工部，因此也能够轻松地去除污染物质，能够抑制细菌的繁殖。
该实施方式中，虽未图示，但在第1盖部件78上可以设有装卸式把手或容纳式把手。另外，如这种图3所示的移动式放射线拍摄装置70，单壳结构的壳体72上容易进行粘贴，因此也可以粘贴自粘接性薄片。
(乳房X射线照相装置)
本发明的放射线拍摄装置可以是如图4所示的乳房X射线照相装置90。此时，含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部可以优选设置于与被摄体接触的部分即护脸罩92、乳房托94或乳房压迫板96。
有时患者的口红或皮脂附着于护脸罩92，泄漏奶水或活组织检查(真空辅助乳腺微创旋切活检)时的出血所产生的血液、皮脂附着于乳房托94及乳房压迫板96。通过在护脸罩92、乳房托94、或乳房压迫板96设置亲水加工部，能够通过揩拭来简便去除口红、奶水、血液、皮脂，并且，由于消毒时消毒液的润湿性较高，因此能够比以往提高杀菌能力。
另外，通过设置经抗菌加工的亲水加工部，能够抑制揩拭后残留的菌类的繁殖，或杀菌。并且，也优选利用在该亲水加工部的基材表面设置微小的凹凸形状、以及使该亲水加工部含有润滑剂的技术。
(立位拍摄用放射线拍摄装置)
本发明的放射线拍摄装置可以是如图5所示的立位拍摄用放射线图像诊断装置100。此时，优选在拍摄时与被摄体接触的拍摄台102或拍摄时由被摄体把持的握柄104、106上设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。另外，可以在包括与拍摄人员接触的操纵板部在内的其他部分也适当设置经抗菌加工的亲水加工部。
(CR盒)
并且，可以在进行拍摄时容纳计算机射线照片(CR，computed radiography)中所使用的成像板的CR盒的外表面也适当设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。此时，与移动式放射线拍摄装置同样地优选在与被摄体接触的拍摄面的表面或有可能与拍摄人员接触的整个外表面设置这种亲水加工部。
(栅格)
另外，在通过移动式放射线拍摄装置或CR盒进行拍摄时，优选在用于去除散射线且改善对比度的栅格的表面也设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。
并不限于上述例，可以在与被摄体接触且有可能附着感染性污染物质的放射线拍摄装置的外表面设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。
实施例
[实施例1]
在移动式放射线拍摄装置10中，在壳体18中与被摄体即患者接触的前面板60的表面涂布并固化(紫外线照射处理)后述的含有抗菌剂的亲水加工部形成用组合物来设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。亲水加工部的平均厚度为约2μm。顶板64使用在碳板表面贴附有聚碳酸酯薄片(ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR110C)的顶板。CARBOGLASS CFR110C为平坦的光泽表面。
另外，前面板60的表面(涂布亲水加工部形成用组合物的面)平滑。
(亲水加工部形成用组合物)
在组合物中包含以下成分。另外，以下的银陶瓷粒子分散液使用待形成的亲水加工部中的银陶瓷粒子的含量(相对于亲水加工部总质量的含量(wt％(质量％)))为0.5wt％的量。
具有亲水性基团的单体：Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.,Ltd.制)74质量份
抗菌剂：银陶瓷粒子分散液(Fuji Chemical Industries,Ltd.制，平均粒径0.8μm)
交联剂：A-DPH(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)20质量份
聚合引发剂：IRGACURE(BASF Corporation制)3质量份
[实施例2]
作为亲水加工部形成用组合物中的抗菌剂，代替银陶瓷粒子而使用银微粒分散液(JAPAN ION Corporation.制，平均粒径10nm)，并使用待形成的亲水加工部中的银微粒的含量(相对于亲水加工部总质量的含量(wt％)为0.002wt％的量，除此以外，按照与实施例1相同的顺序设置亲水加工部。
[比较例1]
代替具有亲水性基团的单体而使用的Miramer M420，除此以外，按照与实施例1相同的顺序设置亲水加工部。另外，上述单体中不包含亲水性基团。
[比较例2]
不使用抗菌剂，除此以外，按照与实施例1相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例3]
代替ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR110C而使用无光泽标准的聚碳酸酯薄片(ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR230C)来制作前面板60，在亲水加工部形成用组合物中进一步添加3质量份的平均粒径8μm的滑动材料，且作为抗菌剂，代替银陶瓷粒子而使用相对于抗菌剂(ZPT)亲水加工部的含量为0.5wt％的双(2-吡啶基硫代-1-氧化物)锌(ZPT)分散液(DAIWA CHEMICAL INDUSTRIES CO.,LTD.制)，除此以外，按照与实施例1相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例4]
将双(2-吡啶基硫代-1-氧化物)锌(ZPT)分散液的使用量改变为抗菌剂的含量从0.5wt％成为2.5wt％，除此以外，按照与实施例3相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例5]
将双(2-吡啶基硫代-1-氧化物)锌(ZPT)分散液的使用量改变为抗菌剂的含量从0.5wt％成为5wt％，除此以外，按照与实施例3相同的顺序设置亲水加工部。
[比较例3]
将双(2-吡啶基硫代-1-氧化物)锌(ZPT)分散液的使用量改变为抗菌剂的含量从0.5wt％成为9wt％，除此以外，按照与实施例3相同的顺序设置亲水加工部。
使用上述实施例1～5及比较例1～3中得到的移动式放射线拍摄装置实施以下各种评价。
另外，通过上述方法测定实施例1～5及比较例1～3中得到的移动式放射线拍摄装置中的亲水加工部的水接触角。将结果总结示于表1。
＜各种评价＞
(去除性(其1))
将对包含皮脂的主要成分即油酸的不饱和脂肪酸混合物进行了着色的物质(以下称为着色不饱和脂肪酸混合物)用作污染物质，评价基于流水的去除难度。
在前面板表面(亲水加工部上)，在直径2cm左右的区域涂抹着色不饱和脂肪酸混合物，测定直接接触自来水的喷淋(温度25℃)来去除为止的时间。表1中，记载被去除着色不饱和脂肪酸混合物为止的时间。另外，当用流水进行清洁时，注意不要让水进入到连接器部、螺钉孔、蓄电池安装部等来实施评价。将结果总结示于表1。
(去除性(其2))
关于基于湿布揩拭的污染物质的去除难度也同样地将着色不饱和脂肪酸混合物用作污染物质来进行评价。
与上述同样地在前面板表面(亲水加工部上)，在直径2cm左右的区域涂抹市售的着色不饱和脂肪酸混合物，将Asahi Kasei Corporation制的BEMCOT浸渍于常温水中来观察3次往复揩拭之后的着色不饱和脂肪酸混合物的残留。当着色不饱和脂肪酸混合物被去除而未残留时设为A、去除为止需要进一步追加进行3次往复以内的揩拭时设为B、去除为止需要进一步追加进行超过3次往复且10次往复以内的揩拭时设为C、通过10次往复未被去除时设为D。将结果总结示于表1。
(抗菌性)
按照JIS Z 2801所记载的评价方法测定抗菌活性值，并按照以下基准评价抗菌性。抗菌活性值越高，抗菌性越高，将抗菌活性值小于2.0视作“无抗菌性”而设为C、抗菌活性值为2.0以上且小于5.73视作“有抗菌性”而设为B、抗菌活性值为5.73以上视作“抗菌性优异”而设为A。
关于菌液接触3小时后的抗菌性也同样地进行评价。将结果总结示于表1。另外，上述“菌液接触3小时后的抗菌性”是使菌液接触亲水加工部3小时之后按照上述评价方法评价的抗菌性。
另外，菌种使用大肠杆菌。
以下，表1中，“抗菌剂含量”表示抗菌剂相对于亲水加工部总质量的含量(wt％)。
[表1]
由表1可知，比较例1及3中无论是流水还是基于湿布的揩拭也不被去除的不饱和脂肪酸混合物所产生的污染物质，在实施例1～5中被轻松地去除。如不饱和脂肪酸的污染物质通常仅通过使用水的清洁是难以去除的。但是，可知通过将水接触角降低至30°以下来提高亲水性，仅通过使用水的清洁，能够轻松地去除污染物质。并且，当在暗处保管一周之后进行相同的试验时，也可以得到相同的结果。
其原因是，当向亲水加工部表面供给水时，与包含疏水成分的污染物质相比，与水的亲和性通常较高，因此水分子从污染物质的端部进入到与亲水加工部表面之间，污染物质与亲水加工部表面的固着力下降。另外，通过流水水压或湿布等进行机械抹擦，可以去除污垢。此时，与同样地去除附着于亲水性较低的表面的污染物质时相比，固着力因浸入到污染物质与基材表面之间的水而下降，由此能够以更少的力或抹擦次数更加简便、可靠地去除污染物质。
并且，确认到通过亲水加工部包含抗菌剂，抗菌性优异。如此，通过亲水加工部显示出优异的抗菌性，抗菌剂对微量残留于表面的病原性细菌起作用，能够抑制细菌的繁殖、或杀菌，从而能够降低以放射线拍摄装置的表面为媒体传播的感染的可能性。
并且，如实施例1～5所示，确认到若抗菌剂的含量在规定范围(0.001～5wt％)，则去除性及抗菌性的平衡更加优异。
[实施例6]
代替ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR110C而使用无光泽标准的聚碳酸酯薄片(ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR230C)来制作前面板60，在亲水加工部形成用组合物中进一步添加含量为亲水加工部总质量的3wt％的平均粒径8μm的润滑剂，除此以外，按照与实施例1相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例7]
将润滑剂的含量改变为润滑剂的含量从3wt％成为5wt％，除此以外，按照与实施例6相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例8]
代替ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR110C而使用无光泽标准的聚碳酸酯薄片(ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR230C)来制作前面板60，在亲水加工部形成用组合物中进一步添加含量为亲水加工部总质量的3wt％的平均粒径12μm的润滑剂，除此以外，按照与实施例1相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例9]
将润滑剂的含量改变为润滑剂的含量从3wt％成为5wt％，除此以外，按照与实施例8相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例10]
将润滑剂的含量改变为润滑剂的含量从3wt％成为7wt％，除此以外，按照与实施例8相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例11]
代替ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR110C而使用无光泽标准的聚碳酸酯薄片(ASAHI GLASS CO.,LTD.制CARBOGLASS CFR230C)来制作前面板60，在亲水加工部形成用组合物中进一步加入含量为亲水加工部总质量的5wt％的平均粒径16μm的润滑剂，除此以外，按照与实施例1相同的顺序设置亲水加工部。
[实施例12]
将润滑剂的含量改变为润滑剂的含量从5wt％成为7wt％，除此以外，按照与实施例11相同的顺序设置亲水加工部。
使用上述实施例6～12中得到的移动式放射线拍摄装置实施上述各种评价。并且，还一同实施以下的(发粘感评价)。
另外，通过上述方法测定实施例6～12中得到的移动式放射线拍摄装置中的亲水加工部的水接触角。
另外，利用KEYENCE Corporation制的VK-X200，使用物镜10倍并通过上述方法测定实施例6～12中得到的移动式放射线拍摄装置中的亲水加工部的表面的表面粗糙度Ra。
将结果总结示于表2。
(发粘感评价)
关于与亲水加工部接触时的发粘感，进行官能评价。按理想的顺序以A、B、C记分。明显有发粘或手掌揉搓时感到不顺滑设为C。
表2中，“润滑剂的含量”表示润滑剂相对于亲水加工部总质量的含量(wt％)。
[表2]
如表2所示，确认到当表面粗糙度为2～15μm时，污染物质的去除性、抗菌性、发粘感的平衡更加优异。
[实施例13]
代替前面板60而在背面板62上涂布亲水加工部形成用组合物来设置亲水加工部，除此以外，与实施例1同样地制作移动式放射线拍摄装置。
其结果，确认到设置于背面板62上的亲水加工部也显示出与实施例1相同的污染物质的去除性及抗菌性。
由此，当附着拍摄人员的接触所产生的污垢或在手术室或急救室中附着血液或体液等时，也能够简单地容易除去这些污垢。
[实施例14～15]
(乳房X射线照相装置)
在乳房X射线照相装置90中，在与被摄体即患者的脸部接触的护脸罩92的表面涂布并固化与实施例1中使用的组合物相同的亲水加工部形成用组合物来制作实施例14的乳房X射线照相装置。同样地涂布并固化与实施例2中使用的组合物相同的亲水加工部形成用组合物来制作实施例15的乳房X射线照相装置。
有时进行拍摄时患者的皮脂或口红或咳嗽所产生的飞沫附着于护脸罩92，但与实施例1～2同样地显出优异的去除性及抗菌性。
[实施例16]
在乳房X射线照相装置90中，在乳房托94及乳房压迫板96的与被摄体的乳房接触的表面涂布并固化与实施例1中使用的组合物相同的亲水加工部形成用组合物来设置亲水加工部，制作实施例16的乳房X射线照相装置。
有时乳房托94及乳房压迫板96的表面在进行拍摄时与被摄体的乳房的皮肤接触，并且附着因拍摄时乳房的压迫而泄漏的奶水或活组织检查(麦默通(mammotome)活检)中插入针体时的出血所产生的血液。上述制作的乳房X射线照相装置的亲水加工部与实施例1同样地显出优异的去除性及抗菌性。
另外，关于乳房X射线照相装置90的其他部分，例如对于除上述以外的患者有可能接触的部分或操作板等与拍摄人员接触的部分、有可能附着其他污垢的部分，同样可以适当设置亲水加工部。
[实施例17]
(立位拍摄用放射线拍摄装置)
针对立位拍摄用放射线图像诊断装置100，在拍摄台102的表面涂布并固化与实施例1中使用的组合物相同的亲水加工部形成用组合物来设置亲水加工部，制作实施例17的放射线图像诊断装置。
[实施例18]
针对立位拍摄用放射线图像诊断装置100，对于患者所把持的握柄104及握柄106，也涂布并固化与实施例1中使用的组合物相同的亲水加工部形成用组合物来设置亲水加工部，制作实施例18的放射线图像诊断装置。
实施例17及18中制作的亲水加工部与实施例1同样地显出优异的去除性及抗菌性。
另外，当拍摄台102与患者的皮肤接触或者患者咳嗽时，有可能附着包含感染性细菌的飞沫，能够更加简便且可靠地清洁消毒该部分是非常重要的。
另外，如实施例6～12所示，当将具有规定的表面粗糙度Ra的亲水加工部设置于拍摄台102的表面时，实现污垢的去除难度及抗菌性，并且可以降低发粘感，还能够实现患者接触时的舒适性。
另一方面，关于握柄104及握柄106，患者需要紧紧把持，因此优选不在亲水加工部的表面设置微小的凹凸形状。
对于立位拍摄用放射线图像诊断装置100的其他部分，也同样可以对操作板等与拍摄人员接触的部分、附着污垢的部分适当设置亲水加工部。
[实施例19]
(CR盒)
关于使用成像板的计算机射线照片(CR)中使用的盒壳体，也按照与实施例1相同的顺序制作具有亲水加工部的盒壳体。盒壳体和移动式放射线拍摄装置的外形相似，因此省略详细内容，但可以得到相同的结果。
符号说明
10、70-移动式放射线拍摄装置，18、72-壳体，12、74-放射线检测器，19、86-照射面，19A-拍摄区域，29-闪烁器，30-TFT基板，60-前面板，62-背面板，64-顶板，76-主体部件，78、80-盖部件，82-蓄电池安装部，84-连接器连接部，90-乳房X射线照相装置，92-护脸罩，94-乳房托，96-乳房压迫板，100-放射线图像诊断装置，102-拍摄台，104、106-握柄。

Claims (12)

1.一种放射线拍摄装置，其在外表面的至少一部分设有亲水加工部，其中，
所述亲水加工部含有亲水性聚合物及抗菌剂，所述亲水加工部的表面的水接触角为30°以下，
所述亲水加工部含有平均粒径为6μm～10μm的润滑剂粒子，由此所述亲水加工部的表面具有凹凸形状。
2.根据权利要求1所述的放射线拍摄装置，其中，
所述亲水加工部的表面的表面粗糙度Ra为2μm～15μm。
3.根据权利要求1或2所述的放射线拍摄装置，其中，
所述亲水加工部的平均厚度为1μm～10μm。
4.根据权利要求1或2所述的放射线拍摄装置，其中，
所述抗菌剂的含量为所述亲水加工部的总质量的0.001质量％～5质量％。
5.根据权利要求1或2所述的放射线拍摄装置，其中，
所述抗菌剂包含选自由载银的陶瓷粒子及银粒子组成的群中的至少一种。
6.根据权利要求1或2所述的放射线拍摄装置，其中，
所述亲水加工部设置于拍摄时与被摄体接触的部分。
7.根据权利要求1或2所述的放射线拍摄装置，其特征在于，
该放射线拍摄装置为移动式放射线拍摄装置，所述亲水加工部至少设置于该移动式放射线拍摄装置的壳体中的照射放射线一侧的表面。
8.根据权利要求7所述的放射线拍摄装置，其中，
所述亲水加工部还设置于所述壳体的背面部和/或侧面部。
9.根据权利要求7所述的放射线拍摄装置，其中，
所述移动式放射线拍摄装置具有壳体主体，所述壳体主体具有筒型形状且至少一端部为开口端部，所述壳体主体的所述开口端部被盖部件堵住而构成了壳体。
10.根据权利要求7所述的放射线拍摄装置，其中，
所述移动式放射线拍摄装置的所述壳体的背面部和侧面部的至少一部分形成为一体。
11.根据权利要求1或2所述的放射线拍摄装置，其特征在于，
该放射线拍摄装置为乳房X射线照相装置，所述亲水加工部设置于护脸罩部的表面的与被摄体接触的部分。
12.根据权利要求11所述的放射线拍摄装置，其中，
所述亲水加工部设置于乳房托的表面的与被摄体接触的部分或乳房压迫板的表面的与被摄体接触的部分。
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