CN104838471B - 曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质 - Google Patents

曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质 Download PDF

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Abstract

曝光装置具有：包括配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件周围的一部分中的第2部件，并能够形成液体的液浸空间的液浸部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置。控制装置以使得第2部件的第1动作与第2部件的第2动作不同的方式控制驱动装置，所述第2部件的第1动作是从包含在同一列中的第1曝光区域的曝光结束起到第2曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第1移动期间中的第2部件的第1动作，所述第2部件的第2动作是从某列的第3曝光区域的曝光结束起到另一列的第4曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第2移动期间中的第2部件的第2动作。

Description

曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质
技术领域
本发明涉及曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质。
本申请基于2012年10月12日申请的日本国专利申请2012-227051号主张优先权，并在此引用其内容。
背景技术
在光刻工序中所使用的曝光装置中，已知例如下述专利文献1所公开的那样的、经由液体以曝光用光对衬底进行曝光的液浸曝光装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利第7864292号
发明内容
在液浸曝光装置中，一旦例如液体从规定的空间流出或是残留在衬底等物体上，就有可能产生曝光不良。其结果是，有可能产生不良器件。
本发明方式的目的在于提供能够抑制产生曝光不良的曝光装置及曝光方法。此外，本发明方式的目的还在于提供能够抑制产生不良器件的器件制造方法、程序及记录介质。
根据本发明的第1方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个被依次曝光前或曝光后，进行对与一个列不同的列的曝光区域的曝光，控制装置控制驱动装置，以使得从同一列所包含的第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从某列的第3曝光区域的曝光结束到另一列的第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第2方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个被依次曝光前或曝光后，进行对与一个列不同的列的曝光区域的曝光，控制装置控制驱动装置，以使得从同一列所包含的第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从某列的第3曝光区域的曝光结束到另一列的第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第3方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，在对关于扫描方向为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光前或曝光后，对关于扫描方向为与第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光，控制装置控制驱动装置，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第4方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，在对关于扫描方向为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光前或曝光后，对关于扫描方向为与第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光，控制装置控制驱动装置，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第5方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，在对关于扫描方向分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光前或曝光后，对关于扫描方向为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光，控制装置控制驱动装置，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第6方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，在对关于扫描方向分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光前或曝光后，对关于扫描方向为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光，控制装置控制驱动装置，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第7方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，控制装置控制驱动装置，以使得在从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的一侧以第1移动条件移动，在从第2曝光区域的曝光开始到曝光结束的衬底的第2曝光期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的另一侧以与第1移动条件不同的第2移动条件移动。
根据本发明的第8方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，控制装置控制驱动装置，以使得在从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的一侧以第1移动条件移动，在从第2曝光区域的曝光开始到曝光结束的衬底的第2曝光期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的另一侧以与第1移动条件不同的第2移动条件移动。
根据本发明的第9方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个被依次曝光前或曝光后，进行对与一个列不同的列的曝光区域的曝光，控制装置控制驱动装置，使第2部件在从某列的曝光区域的曝光结束到接下来被曝光的另一列的曝光区域的曝光开始的衬底的移动期间相对于第1部件移动。
根据本发明的第10方式，提供一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光装置包括：能够形成液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置，在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个被依次曝光前或曝光后，进行对与一个列不同的列的曝光区域的曝光，控制装置控制驱动装置，使第2部件在从某列的曝光区域的曝光结束到接下来被曝光的另一列的曝光区域的曝光开始的衬底的移动期间相对于第1部件移动。
根据本发明的第11方式，提供一种器件制造方法，该方法包括采用第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9及第10中任一方式的曝光装置对衬底进行曝光的步骤、和使曝光了的衬底显影的步骤。
根据本发明的第12方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个依次曝光；在对一个列所包含的曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体对与一个列不同的列的曝光区域进行曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从同一列所包含的第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从某列的第3曝光区域的曝光结束到另一列的第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第13方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个依次曝光；在对一个列所包含的曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体对与一个列不同的列的曝光区域进行曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从同一列所包含的第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从某列的第3曝光区域的曝光结束到另一列的第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第14方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在对第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为与第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第15方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在对第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为与第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第16方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在对第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第17方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在对第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第18方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对衬底的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得在从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的一侧以第1移动条件移动，在从第2曝光区域的曝光开始到曝光结束的衬底的第2曝光期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的另一侧以与第1移动条件不同的第2移动条件移动。
根据本发明的第19方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光对衬底的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得在从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的一侧以第1移动条件移动，在从第2曝光区域的曝光开始到曝光结束的衬底的第2曝光期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的另一侧以与第1移动条件不同的第2移动条件移动。
根据本发明的第20方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件的周围的一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个依次曝光；在对一个列所包含的曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体对与一个列不同的列的曝光区域进行曝光；使第2部件在从某列的曝光区域的曝光结束到接下来被曝光的另一列的曝光区域的曝光开始的衬底的移动期间相对于第1部件移动。
根据本发明的第21方式，提供一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，曝光方法包括：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个依次曝光；在对一个列所包含的曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体对与一个列不同的列的曝光区域进行曝光；使第2部件在从某列的曝光区域的曝光结束到接下来被曝光的另一列的曝光区域的曝光开始的衬底的移动期间相对于第1部件移动。
根据本发明的第22方式，提供一种器件制造方法，该方法包括采用第12、第13、第14、第15、第16、第17、第18、第19、第20及第21中任一方式的曝光方法对衬底进行曝光的步骤；和使曝光了的衬底显影的步骤。
根据本发明的第23方式，提供一种程序，其使计算机执行曝光装置的控制，曝光装置一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，程序执行如下步骤：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个依次曝光；在对一个列所包含的曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体对与一个列不同的列的曝光区域进行曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从同一列所包含的第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从某列的第3曝光区域的曝光结束到另一列的第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第24方式，提供一种程序，其使计算机执行曝光装置的控制，曝光装置一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，程序执行如下步骤：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在对第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为与第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第25方式，提供一种程序，其使计算机执行曝光装置的控制，曝光装置一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，程序执行如下步骤：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在对第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
根据本发明的第26方式，提供一种程序，其使计算机执行曝光装置的控制，曝光装置一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，程序执行如下步骤：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对衬底的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，使第2部件相对于第1部件移动，以使得在从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的一侧以第1移动条件移动，在从第2曝光区域的曝光开始到曝光结束的衬底的第2曝光期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的另一侧以与第1移动条件不同的第2移动条件移动。
根据本发明的第27方式，提供一种程序，其使计算机执行曝光装置的控制，曝光装置一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由射出面与衬底之间的液体并利用曝光用光对衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，程序执行如下步骤：利用液浸部件形成液体的液浸空间，该液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面以及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个依次曝光；在对一个列所包含的曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体对与一个列不同的列的曝光区域进行曝光；使第2部件在从某列的曝光区域的曝光结束到接下来被曝光的另一列的曝光区域的曝光开始的衬底的移动期间相对于第1部件移动。
根据本发明的第28方式，提供一种计算机能够读取的记录介质，其中记录了第23、第24、第25、第26、及第27中任一方式的程序。
发明效果
根据本发明的方式，能够抑制曝光不良的产生。而且，根据本发明的方式还能够抑制不良器件的产生。
附图说明
图1是示出第1实施方式的曝光装置的一例的图。
图2是示出第1实施方式的液浸部件的一例的侧剖视图。
图3是示出第1实施方式的液浸部件的一部分的侧剖视图。
图4是示出第1实施方式的液浸部件的动作的一例的图。
图5是从下方观察到的、第1实施方式的液浸部件的图。
图6是示出第1实施方式的液浸部件的一例的分解立体图。
图7是示出第1实施方式的液浸部件的一例的分解立体图。
图8是示出第1实施方式的第1部件的一例的图。
图9是用于说明第1实施方式的液浸部件的动作的一例的图。
图10是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图11是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一例的示意图。
图12是用于说明第1实施方式的液浸部件的动作的一例的示意图。
图13是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图14是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图15是用于说明第1实施方式的第2部件的动作的一例的图。
图16是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图17是用于说明第1实施方式的第2部件的动作的一例的图。
图18是用于说明第2实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图19是用于说明第2实施方式的第2部件的动作的一例的图。
图20是用于第3实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图21是用于说明第3实施方式的第2部件的动作的一例的图。
图22是用于说明第4实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图23是用于说明第4实施方式的第2部件的动作的一例的图。
图24是用于说明第4实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图25是用于说明第4实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图26是用于说明第4实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图27是用于说明第4实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图28是用于说明第4实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图29是用于说明第4实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图30是用于说明第5实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图31A是用于说明第5实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图31B是用于说明第5实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图31C是用于说明第5实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图32A是用于说明第5实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图32B是用于说明第5实施方式的曝光装置的动作的一例的图。
图33是示出液浸部件的一例的图。
图34是示出液浸部件的一例的图。
图35是示出液浸部件的一例的图。
图36是示出液浸部件的一例的图。
图37是示出衬底载台的一例的图。
图38是用于说明器件的制造方法的一例的流程图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明，但是本发明并不限定于此。在以下的说明中，设定XYZ正交坐标系，并参照该XYZ正交坐标系对各部分的位置关系进行说明。以水平面内的规定方向为X轴方向，以在水平面内与X轴方向正交的方向为Y轴方向，以分别与X轴方向及Y轴方向正交的方向(即铅垂方向)为Z轴方向。此外，分别以围绕X轴、Y轴及Z轴的旋转(倾斜)方向为θX、θY及θZ方向。
＜第1实施方式＞
关于第1实施方式进行说明。图1是示出第1实施方式的曝光装置EX的一例的概略构成图。本实施方式的曝光装置EX是经由液体LQ、通过曝光用光EL对衬底P进行曝光的液浸曝光装置。在本实施方式中，以使得向衬底P照射的曝光用光EL的光路K中充满液体LQ的方式形成液浸空间LS。所谓液浸空间LS，是指充满液体的部分(空间、区域)。衬底P经由液浸空间LS的液体LQ而被曝光用光EL曝光。在本实施方式中，作为液体LQ，采用水(纯水)。
本实施方式的曝光装置EX是例如美国专利第6897963号及欧州专利申请公开第1713113号等所公开的那样的、包括衬底载台和计测载台的曝光装置。
在图1中，曝光装置EX包括：保持光罩M且能够移动的光罩载台1；保持衬底P且能够移动的衬底载台2；不保持衬底P而搭载有对曝光用光EL进行计测的计测部件(计测器)C且能够移动的计测载台3；对衬底载台2及计测载台3的位置进行计测的计测系统4；用曝光用光EL对光罩M进行照明的照明系统IL；将经曝光用光EL照明了的光罩M的图案的像投影到衬底P上的投影光学系统PL；形成液体LQ的液浸空间LS的液浸部件5；对曝光装置EX整体的动作进行控制的控制装置6；和与控制装置6连接并存储与曝光有关的各种信息的存储装置7。
此外，曝光装置EX包括：支承投影光学系统PL及包括计测系统4在内的各种计测系统的基准框架8A；支承基准框架8A的装置框架8B；配置在基准框架8A与装置框架8B之间，并抑制振动从装置框架8B向基准框架8A的传递的防振装置10。防振装置10包括弹簧装置等。在本实施方式中，防振装置10包括气体弹簧(例如空气弹簧(air mount))。另外，可以将对衬底P的对准标记进行检测的检测系统及对衬底P等物体的表面的位置进行检测的检测系统的一方或双方支承在基准框架8A上。
此外，曝光装置EX包括对曝光用光EL所行进的空间CS的环境(温度、湿度、压力及洁净度的至少一个)进行调整的处理腔装置9。在空间CS中至少配置有投影光学系统PL、液浸部件5、衬底载台2及计测载台3。在本实施方式中，光罩载台1及照明系统IL的至少一部分也配置在空间CS中。
光罩M包括标线片，该标线片上形成有被投影到衬底P上的器件图案。光罩M包括透过型光罩，该透过型光罩具有例如玻璃板等透明板、和在该透明板上用铬等遮光材料形成的图案。另，作为光罩M，也可以采用反射型光罩。
衬底P是用于制造器件的衬底。衬底P包括例如半导体晶片等基材、和在该基材上形成的感光膜。感光膜是感光材料(光致抗蚀剂)的膜。此外，衬底P除了感光膜也可以包括其他的膜。例如，衬底P既可以包括防止反射膜，也可以包括保护感光膜的保护膜(表面涂覆(topcoat)膜)。
照明系统IL对照明区域IR照射曝光用光EL。照明区域IR包括从照明系统IL射出的曝光用光EL所能够照射的位置。照明系统IL以均匀照度分布的曝光用光EL对配置在照明区域IR中的光罩M的至少一部分进行照明。作为从照明系统IL射出的曝光用光EL，例如采用了从水银灯射出的辉线(g线、h线、i线)及KrF准分子激光光(波长248nm)等远紫外光(DUV光)、ArF准分子激光光(波长193nm)及F2激光光(波长157nm)等真空紫外光(VUV光)等。在本实施方式中，作为曝光用光EL，采用了作为紫外光(真空紫外光)的ArF准分子激光光。
光罩载台1能够以保持着光罩M的状态移动。光罩载台1通过包括例如美国专利第6452292号公开的那样的平面马达在内的驱动系统11的动作而移动。在本实施方式中，光罩载台1通过驱动系统11的动作而能够在X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ方向这6个方向上移动。另外，驱动系统11也可以不包括平面马达。驱动系统11也可以包括线性马达。
投影光学系统PL向投影区域PR照射曝光用光EL。投影区域PR包括从投影光学系统PL射出的曝光用光EL所能够照射的位置。投影光学系统PL将光罩M的图案的像以规定的投影倍率投影到配置在投影区域PR中的衬底P的至少一部分上。在本实施方式中，投影光学系统PL是缩小系统。投影光学系统PL的投影倍率是1/4。另外，投影光学系统PL的投影倍率也可以是1/5或1/8等。另外，投影光学系统PL也可以是等倍系统及扩大系统的任一个。在本实施方式中，投影光学系统PL的光轴与Z轴平行。投影光学系统PL可以是不包含反射光学元件的折射系统、不包含折射光学元件的反射系统、包括反射光学元件和折射光学元件的反射折射系统的任一个。投影光学系统PL可以形成倒立像及正立像的任一个。
投影光学系统PL包括终端光学元件13，该终端光学元件13具有射出曝光用光EL的射出面12。终端光学元件13是构成投影光学系统PL的一部分的光学部件。射出面12朝向投影光学系统PL的像面射出曝光用光EL。终端光学元件13是投影光学系统PL的多个光学元件中最接近投影光学系统PL的像面的光学元件。投影区域PR包括从射出面12射出的曝光用光EL所能够照射的位置。在本实施方式中，射出面12朝着-Z轴方向。从射出面12射出的曝光用光EL向-Z轴方向行进。射出面12与XY平面平行。另外，朝着-Z轴方向的射出面12既可以是凸面，也可以是凹面。另外，射出面12既可以相对于XY平面倾斜，也可以包含曲面。在本实施方式中，终端光学元件13的光轴与Z轴平行。
关于与终端光学元件13的光轴平行的方向，射出面12侧是-Z侧，入射面侧是+Z侧。关于与投影光学系统PL的光轴平行的方向，投影光学系统PL的像面侧是-Z侧，投影光学系统PL的物体面侧是+Z侧。
衬底载台2在保持着衬底P的状态下、在包含来自射出面12的曝光用光EL所能够照射的位置(投影区域PR)的XY平面内能够移动。计测载台3在搭载了计测部件(计测器)C的状态下、在包含来自射出面12的曝光用光EL所能够照射的位置(投影区域PR)的XY平面内能够移动。衬底载台2及计测载台3分别能够在基座部件14的引导面14G上移动。引导面14G与XY平面实质上是平行的。
衬底载台2具有例如美国专利申请公开第2007/0177125号、美国专利申请公开第2008/0049209号等所公开的那样的、以能够释放衬底的方式保持衬底P的第1保持部、和配置在第1保持部的周围且以能够释放罩盖部件T的方式保持罩盖部件T的第2保持部。第1保持部以使得衬底P的表面(上表面)与XY平面实质上平行的方式保持衬底P。保持在第1保持部上的衬底P的上表面与保持在第2保持部上的罩盖部件T的上表面实质上配置在同一平面内。
关于Z轴方向，射出面12与保持在第1保持部上的衬底P的上表面之间的距离同射出面12与保持在第2保持部上的罩盖部件T的上表面之间的距离实质上相等。另外，关于Z轴方向，射出面12与衬底P的上表面之间的距离同射出面12与罩盖部件T的上表面之间的距离实质上相等包括如下情况下：射出面12与衬底P的上表面之间的距离同射出面12与罩盖部件T的上表面之间的距离之差为衬底P曝光时的射出面12与衬底P的上表面之间的距离(所谓的工作距离)的例如10％以内的情况。另外，保持在第1保持部上的衬底P的上表面与保持在第2保持部上的罩盖部件T的上表面也可以不配置在同一平面内。例如，关于Z轴方向，衬底P的上表面的位置与罩盖部件T的上表面的位置可以不同。例如，衬底P的上表面与罩盖部件T的上表面之间可以具有层差。另外，既可以罩盖部件T的上表面相对于衬底P的上表面倾斜，也可以罩盖部件T的上表面包含曲面。
衬底载台2及计测载台3通过包括例如美国专利第6452292号所公开那样的平面马达的驱动系统15的动作而移动。驱动系统15具有配置在衬底载台2上的可动件2C、配置在计测载台3上的可动件3C、以及配置在基座部件14上的固定件14M。衬底载台2及计测载台3分别通过驱动系统15的动作而能够在引导面14G上沿X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ方向这6个方向移动。另外，驱动系统15也可以不包括平面马达。驱动系统15也可以包括线性马达。
计测系统4包括干涉仪系统。干涉仪系统包括对衬底载台2的计测镜及计测载台3的计测镜照射计测光从而对该衬底载台2及计测载台3的位置进行计测的单元。另外，计测系统也可以包括例如美国专利申请公开第2007/0288121号所公开那样的编码器系统。另外，计测系统4也可以只包含干涉仪系统及编码器系统中的任意一方。
在执行衬底P的曝光处理时、或是执行规定的计测处理时，控制装置6基于计测系统4的计测结果来执行衬底载台2(衬底P)及计测载台3(计测部件C)的位置控制。
接下来说明本实施方式的液浸部件5。另外，也可以将液浸部件称为喷嘴部件。图2是与XZ平面平行的、液浸部件5的剖视图。图3是图2的局部放大图。图4是示出液浸部件5的动作的一例的图。图5是从下侧(-Z侧)观察到的液浸部件5的图。图6及图7是液浸部件5的分解立体图。
液浸部件5在能够在终端光学元件13的下方移动的物体上形成液体LQ的液浸空间LS。
能够在终端光学元件13的下方移动的物体能够在包括与射出面12相对的位置的XY平面内移动。该物体能够与射出面12相对，且能够配置在投影区域PR中。该物体能够在液浸部件5的下方移动，能够与液浸部件5相对。在本实施方式中，该物体包括衬底载台2的至少一部分(例如衬底载台2的罩盖部件T)、保持在衬底载台2(第1保持部)上的衬底P及计测载台3中的至少一个。以在衬底P的曝光中终端光学元件13的射出面12与衬底P之间的曝光用光EL的光路K中充满液体LQ的方式形成液浸空间LS。当在衬底P上照射有曝光用光EL时，以只有包括投影区域PR的衬底P的表面的一部分区域被液体LQ覆盖的方式形成液浸空间LS。
在以下的说明中，物体为衬底P。另外，如上所述，物体既可以是衬底载台2及计测载台3的至少一方，也可以是与衬底P、衬底载台2及计测载台3不同的物体。
液浸空间LS有时以跨着2个物体的方式形成。例如，液浸空间LS有时以跨着衬底载台2的罩盖部件T和衬底P的方式形成。液浸空间LS有时以跨着衬底载台2和计测载台3的方式形成。
液浸空间LS以从终端光学元件13的射出面12射出的曝光用光EL的光路K中充满液体LQ的方式形成。液浸空间LS的至少一部分形成在终端光学元件13与衬底P(物体)之间的空间中。液浸空间LS的至少一部分形成在液浸部件5与衬底P(物体)之间的空间中。
液浸部件5包括：配置在终端光学元件13周围的至少一部分中的第1部件21、和在第1部件21的下方配置在光路K周围的至少一部分中的第2部件22。第2部件22相对于第1部件21可动。
第1部件21配置在与第2部件22相比离衬底P(物体)更远的位置。第2部件22的至少一部分配置在第1部件21与衬底P(物体)之间。第2部件22的至少一部分配置在终端光学元件13与衬底P(物体)之间。另外，第2部件22不配置在终端光学元件13与衬底P(物体)之间也可以。
第1部件21具有：朝着-Z轴方向的下表面23；和配置在下表面23周围的至少一部分中，且能够回收液体LQ的液体回收部24。另外，也可以将液体回收部24称为能够回收流体(液体LQ及气体的一方或双方)的流体回收部。第2部件22具有：朝着+Z轴方向的上表面25；朝着-Z轴方向的下表面26；和配置在下表面26周围的至少一部分中的流体回收部27。液体回收部24对液浸空间LS的液体LQ的至少一部分进行回收。流体回收部27对液浸空间LS的液体LQ的至少一部分进行回收。另外，也可以将下表面23称为第1下表面。此外，也可以将上表面25称为第2上表面。此外，也可以将下表面26称为第2下表面。
第1部件21具有：与终端光学元件13的侧面13F相对的内侧面28；和相对于光路K(终端光学元件13的光轴)朝向外侧的外侧面29。第2部件22具有隔着间隙而与外侧面29相对的内侧面30。另外，也可以将第1部件21的内侧面28称为相对面。
第1部件21的内侧面28隔着间隙而与终端光学元件13的侧面13F相对。
第2部件22能够与下表面23相对。第2部件22能够与液体回收部24相对。第2部件22的上表面25的至少一部分隔着间隙而与下表面23相对。上表面25的至少一部分隔着间隙而与射出面12相对。另外，上表面25也可以不与射出面12相对。
衬底P(物体)能够与下表面26相对。衬底P(物体)能够与流体回收部27的至少一部分相对。衬底P的上表面的至少一部分隔着间隙而与下表面26相对。衬底P的上表面的至少一部分隔着间隙而与射出面12相对。
在Z轴方向上，衬底P(物体)的上表面与射出面12之间的间隙的尺寸比衬底P的上表面与下表面26之间的间隙的尺寸大。另外，衬底P(物体)的上表面与射出面12之间的间隙的尺寸同衬底P的上表面与下表面26之间的间隙的尺寸实质上相等也可以。另外，衬底P(物体)的上表面与射出面12之间的间隙的尺寸比衬底P的上表面与下表面26之间的间隙的尺寸小也可以。
在下表面23与上表面25之间形成第1空间SP1。在下表面26与衬底P(物体)的上表面之间形成第2空间SP2。在侧面13F与内侧面28之间形成第3空间SP3。
上表面25相对于液体LQ具有疏液性。在本实施方式中，上表面25包括含氟树脂膜的表面。上表面25包括PFA(Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ethercopolymer)膜的表面。另外，上表面25也可以包括PTFE(Poly tetra fluoro ethylene)膜的表面。上表面25相对于液体LQ的接触角大于90度。另外，上表面25相对于液体LQ的接触角也可以大于100度，也可以大于110度，还可以大于120度。
由于上表面25相对于液体LQ具有疏液性，所以能够抑制第1空间SP1的液体LQ中产生气体部分、或是在液体LQ中混入有气泡的情况。
另外，上表面25相对于液体LQ的接触角也可以比衬底P的上表面相对于液体LQ的接触角大。另外，上表面25相对于液体LQ的接触角也可以比衬底P的上表面相对于液体LQ的接触角小。另外，上表面25相对于液体LQ的接触角也可以与衬底P的上表面相对于液体LQ的接触角实质上相等。
另外，上表面25相对于液体LQ也可以具有亲液性。上表面25相对于液体LQ的接触角可以比90度小，也可以比80度小，也可以比70度小。由此，在第1空间SP1中，液体LQ能够顺畅地流动。
另外，下表面23也可以相对于液体LQ具有疏液性。例如，也可以下表面23和上表面25双方相对于液体LQ都具有疏液性。下表面23相对于液体LQ的接触角可以比90度大，也可以比100度大，也可以比110度大，还可以比120度大。
另外，也可以下表面23相对于液体LQ具有疏液性，而上表面25相对于液体LQ具有亲液性。下表面23相对于液体LQ的接触角可以比上表面25相对于液体LQ的接触角大。
另外，下表面23也可以相对于液体LQ具有亲液性。例如，也可以下表面23和上表面25双方相对于液体LQ具有亲液性。下表面23相对于液体LQ的接触角可以比90度小，也可以比80度小，还可以比70度小。
另外，也可以下表面23相对于液体LQ具有亲液性，而上表面25相对于液体LQ具有疏液性。下表面23相对于液体LQ的接触角也可以比上表面25相对于液体LQ的接触角小。
在本实施方式中，下表面26相对于液体LQ具有亲液性。下表面26相对于液体LQ的接触角可以比90度小，也可以比80度小，还可以比70度小。在本实施方式中，下表面26相对于液体LQ的接触角比衬底P的上表面相对于液体LQ的接触角小。另外，下表面26相对于液体LQ的接触角也可以比衬底P的上表面相对于液体LQ的接触角大，还可以实质上相等。
终端光学元件13的侧面13F配置在射出面12的周围。侧面13F是并不射出曝光用光EL的非射出面。曝光用光EL通过射出面12，并不通过侧面13F。
第1部件21的下表面23不回收液体LQ。下表面23是非回收部，不能回收液体LQ。在第1部件21的下表面23与第2部件22之间能够保持液体LQ。
第2部件22的上表面25不回收液体LQ。上表面25是非回收部，不能回收液体LQ。在第2部件22的上表面25与第1部件21之间能够保持液体LQ。
第2部件22的下表面26不回收液体LQ。下表面26是非回收部，不能回收液体LQ。在第2部件22的下表面26与衬底P(物体)之间能够保持液体LQ。
内侧面28、外侧面29及内侧面30不回收液体LQ。内侧面28、外侧面29及内侧面30是非回收部，不能回收液体LQ。
在本实施方式中，下表面23与XY平面实质上平行。上表面25也与XY平面实质上平行。下表面26也与XY平面实质上平行。即，下表面23与上表面25实质上平行。上表面25与下表面26实质上平行。
另外，下表面23相对于XY平面也可以非平行。下表面23相对于XY平面也可以倾斜，还可以包含曲面。
另外，上表面25相对于XY平面也可以非平行。上表面25相对于XY平面也可以倾斜，还可以包含曲面。
另外，下表面26相对于XY平面也可以非平行。下表面26相对于XY平面也可以倾斜，还可以包含曲面。
另外，下表面23与上表面25既可以平行也可以非平行。上表面25与下表面26既可以平行也可以非平行。下表面23与下表面26既可以平行也可以非平行。
第1部件21具有从射出面12射出的曝光用光EL能够通过的开口34。第2部件22具有从射出面12射出的曝光用光EL能够通过的开口35。另外，开口34也可以称为第1开口，开口35也可以称为第2开口。在开口34的内侧配置有终端光学元件13的至少一部分。在开口34的下端周围配置下表面23。在开口35的上端周围配置上表面25。在开口35的下端周围配置下表面26。
在本实施方式中，第2部件22的内表面35U的至少一部分关于针对光路K的放射方向朝向外侧并向上方倾斜。第2部件22的内表面35U的至少一部分规定了面向光路K的开口35。由此，在第2部件22的内表面35U配置于液浸空间LS中的状态下，第2部件22能够顺畅地移动。此外，在第2部件22的内表面35U配置于液浸空间LS中的状态下，即使第2部件22移动，也能够抑制液浸空间LS的液体LQ的压力变动。
XY平面内中的开口34的尺寸比开口35的尺寸大。关于X轴方向，开口34的尺寸比开口35的尺寸大。关于Y轴方向，开口34的尺寸比开口35的尺寸大。在本实施方式中，在射出面12的正下方不配置第1部件21。第1部件21的开口34配置在射出面12的周围。开口34比射出面12大。形成于终端光学元件13的侧面13F与第1部件21之间的间隙的下端面向着第2部件22的上表面25。第2部件22的开口35以与射出面12相对的方式配置。在本实施方式中，XY平面内中的开口35的形状为长方形。开口35在X轴方向上长。另外，开口35的形状既可以是在X轴方向上长的椭圆形，也可以是在X轴方向上长的多边形。
另外，开口34的尺寸也可以比开口35的尺寸小。另外，开口34的尺寸也可以与开口35的尺寸实质上相等。
第1部件21配置在终端光学元件13的周围。第1部件21是环状的部件。第1部件21以不与终端光学元件13接触的方式配置。在第1部件21与终端光学元件13之间形成有间隙。第1部件21与射出面12不相对。另外，也可以第1部件21的一部分与射出面12相对。即，第1部件21的一部分也可以配置在射出面12与衬底P(物体)的上表面之间。另外，第1部件21也可以不是环状。例如，第1部件21也可以配置在终端光学元件13(光路K)的周围的一部分中。例如，第1部件21可以在终端光学元件13(光路K)的周围配置有多个。
第2部件22配置在光路K的周围。第2部件22为环状的部件。第2部件22以不与第1部件21接触的方式配置。在第2部件22与第1部件21之间形成有间隙。
第1部件21经由支承部件21S而被支承于装置框架8B。另外，第1部件21也可以经由支承部件而被支承于基准框架8A。
第2部件22经由支承部件22S而被支承于装置框架8B。支承部件22S相对于光路K在第1部件21的外侧与第2部件22连接。另外，第1部件21也可以经由支承部件而被支承于基准框架8A。
第2部件22相对于第1部件21能够移动。第2部件22相对于终端光学元件13能够移动。第2部件22与第1部件21的相对位置会变化。第2部件22与终端光学元件13的相对位置会变化。
第2部件22能够在与终端光学元件13的光轴垂直的XY平面内移动。第2部件22能够与XY平面实质上平行地移动。如图4所示，在本实施方式中，第2部件22至少能够沿X轴方向移动。另外，第2部件22也可以除了能够沿X轴方向移动，还能够沿Y轴、Z轴、θX、θY及θZ中的至少一个方向移动。
在本实施方式中，终端光学元件13实质上不移动。第1部件21也实质上不移动。
第2部件22能够在第1部件21的至少一部分的下方移动。第2部件22能够在第1部件21与衬底P(物体)之间移动。
由于第2部件22在XY平面内移动，所以第1部件21的外侧面29与第2部件22的内侧面30之间的间隙的尺寸会变化。换言之，通过第2部件22在XY平面内移动，外侧面29与内侧面30之间的空间的大小能够变化。例如在图4所示的例子中，由于第2部件22沿-X轴方向移动，所以相对于终端光学元件13而言+X侧的外侧面29与内侧面30之间的间隙的尺寸变小(外侧面29与内侧面30之间的空间变小)。由于第2部件22沿+X轴方向移动，所以相对于终端光学元件13而言+X侧的外侧面29与内侧面30之间的间隙的尺寸变大(外侧面29与内侧面30之间的空间变大)。
在本实施方式中，以使得第1部件21(外侧面29)与第2部件22(内侧面30)不接触的方式来确定第2部件22的能够移动的范围(可动范围)。
在本实施方式中，第2部件22通过驱动装置32而移动。驱动装置32使第2部件22能够相对于第1部件21移动。驱动装置32被控制装置6控制。
在本实施方式中，驱动装置32使支承部件22S移动。支承部件22S通过驱动装置32而移动，由此第2部件22移动。驱动装置32包括例如马达，使用洛伦兹力使第2部件22移动。
驱动装置32经由支承部件32S而被支承于装置框架8B。第2部件22经由支承部件22S、驱动装置32及支承部件32S而被支承于装置框架8B。即使由于第2部件22的移动而产生振动，也能够通过防振装置10来抑制该振动传递到基准框架8A。
第2部件22可以与从射出面12射出曝光用光EL的期间的至少一部分并行地移动。第2部件22也可以与在形成了液浸空间LS的状态下从射出面12射出曝光用光EL的期间的至少一部分并行地移动。
第2部件22也可以与衬底P(物体)移动期间的至少一部分并行地移动。第2部件22也可以与在形成了液浸空间LS的状态下衬底P(物体)移动的期间的至少一部分并行地移动。
第2部件22可以沿衬底P(物体)的移动方向移动。例如，可以在衬底P移动期间的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向移动。例如，也可以当衬底P沿XY平面内的一方向(例如+X轴方向)移动时，第2部件22与该衬底P的移动同步地沿XY平面内的一方向(+X轴方向)移动。
液浸部件5具有供给用于形成液浸空间LS的液体LQ的液体供给部31。液体供给部31配置于第1部件21。
另外，液体供给部31也可以配置于第1部件21及第2部件22双方。
另外，液体供给部31也可以配置于第1部件21，而不配置于第2部件22。另外，液体供给部31还可以配置于第2部件22，而不配置于第1部件21。另外，液体供给部31也可以配置于与第1部件21及第2部件22不同的部件上。
液体供给部31关于针对光路K(终端光学元件13的光轴)的放射方向配置在液体回收部24及流体回收部27的内侧。在本实施方式中，液体供给部31包括配置在第1部件21的内侧面28上的开口(液体供给口)。液体供给部31以与侧面13F相对的方式配置。液体供给部31向侧面13F与内侧面28之间的第3空间SP3供给液体LQ。在本实施方式中，液体供给部31相对于光路K(终端光学元件13)分别配置在+X侧及-X侧。
另外，液体供给部31也可以相对于光路K(终端光学元件13)配置在Y轴方向上，还可以在包括X轴方向及Y轴方向的光路K(终端光学元件13)的周围配置多个。液体供给部31也可以是一个。另外，也可以取代液体供给部31，或是除了液体供给部31以外，在下表面23上设置能够供给液体LQ的液体供给部。
在本实施方式中，液体供给部(液体供给口)31经由形成在第1部件21内部的供给流路31R而与液体供给装置31S连接。液体供给装置31S能够将洁净且经温度调整的液体LQ供给至液体供给部31。液体供给部31为了形成液浸空间LS而供给来自液体供给装置31S的液体LQ。
在下表面23的内侧边缘与上表面25之间形成有开口40。包括射出面12与衬底P(物体)之间的光路K的光路空间SPK、和下表面23与上表面25之间的第1空间SP1经由开口40而相连。光路空间SPK包括射出面12与衬底P(物体)之间的空间、及射出面12与上表面25之间的空间。开口40以面向光路K的方式配置。侧面13F与内侧面28之间的第3空间SP3、和第1空间SP1经由开口40而相连。
来自液体供给部31的液体LQ的至少一部分经由开口40而被供给至下表面23与上表面25之间的第1空间SP1。为了形成液浸空间LS而从液体供给部31供给的液体LQ的至少一部分经由开口34及开口35而被供给至与射出面12相对的衬底P(物体)上。由此，光路K中充满液体LQ。来自液体供给部31的液体LQ的至少一部分被供给至下表面26与衬底P(物体)的上表面之间的第2空间SP2。
关于Z轴方向，第1空间SP1的尺寸比第2空间SP2的尺寸小。另外，关于Z轴方向，第1空间SP1的尺寸也可以与第2空间SP2的尺寸实质上相等，还可以比第2空间SP2的尺寸大。
液体回收部24相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在下表面23的外侧。液体回收部24配置在下表面23的周围。液体回收部24配置在曝光用光EL的光路K的周围。另外，液体回收部24也可以配置在下表面23周围的一部分中。例如，液体回收部24可以在下表面23的周围配置多个。液体回收部24以面向第1空间SP1的方式配置。液体回收部24对第1空间SP1的液体LQ的至少一部分进行回收。
流体回收部27相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在下表面26的外侧。流体回收部27配置在下表面26的周围。流体回收部27配置在曝光用光EL的光路K的周围。另外，流体回收部27可以配置在下表面26周围的一部分中。例如，流体回收部27在下表面26的周围可以配置多个。流体回收部27以面向第2空间SP2的方式配置。流体回收部27对第2空间SP2的液体LQ的至少一部分进行回收。
流体回收部27相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在第1部件21的外侧。流体回收部27相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在第1空间SP1的外侧。
在本实施方式中，能够抑制液体LQ从上表面25侧的第1空间SP1及下表面26侧的第2空间SP2的一方向另一方移动。第1空间SP1和第2空间SP2被第2部件22分隔。第1空间SP1的液体LQ能够经由开口35向第2空间SP2移动。第1空间SP1的液体LQ不经由开口35无法移动到第2空间SP2。相对于光路K在开口35外侧的第1空间SP1中所存在的液体LQ无法移动到第2空间SP2。第2空间SP2的液体LQ能够经由开口35向第1空间SP1移动。第2空间SP2的液体LQ不经由开口35无法移动到第1空间SP1。相对于光路K在开口35外侧的第2空间SP2中所存在的液体LQ无法移动到第1空间SP1。即，在本实施方式中，液浸部件5除了开口35以外，不具有将第1空间SP1与第2空间SP2流体性连接的流路。
在本实施方式中，流体回收部27对第2空间SP2的液体LQ的至少一部分进行回收，不回收第1空间SP1的液体LQ。液体回收部24对第1空间SP1的液体LQ的至少一部分进行回收，不回收第2空间SP2的液体LQ。另外，在液体回收部24之下不存在第2部件22的上表面25的情况下，物体(衬底P)上的液体LQ也可以通过液体回收部24来回收。
此外，相对于光路K移动到第1空间SP1的外侧(外侧面29的外侧)的液体LQ通过内侧面30而被抑制移动到衬底P上(第2空间SP2)。
液体回收部24包括配置在第1部件21的下表面23周围的至少一部分中的开口(流体回收口)。液体回收部24以与上表面25相对的方式配置。液体回收部24经由形成在第1部件21内部的回收流路(空间)24R而与液体回收装置24C连接。液体回收装置24C能够将液体回收部24与真空系统(未图示)连接起来。液体回收部24能够对第1空间SP1的液体LQ的至少一部分进行回收。第1空间SP1的液体LQ的至少一部分能够经由液体回收部24而流入回收流路24R。另外，也可以通过液体回收部24回收从终端光学元件13的侧面13F与第1部件21的内侧面之间的第3空间SP3经第1部件21的上表面、并经由第1部件21的外侧面29与第2部件22的内侧面30之间的空间而流动到第2部件22的上表面25上的液体LQ。即，液体回收部24也可以作为对不经由开口40而从空间SP3流动到第2部件22的上表面25上的液体LQ进行回收的回收部来使用。当然，对来自空间SP3的液体LQ进行回收的回收部可以设置在第1部件21的上表面上，也可以设置在第2部件22的上表面25与内侧面30的至少一方上。
在本实施方式中，液体回收部24包括多孔部件36，流体回收口包括多孔部件36的孔。在本实施方式中，多孔部件36包括网眼孔板。多孔部件36具有能够与上表面25相对的下表面、面向回收流路24R的上表面、以及连结下表面与上表面的多个孔。液体回收部24经由多孔部件36的孔来回收液体LQ。从液体回收部24(多孔部件36的孔)回收来的第1空间SP1的液体LQ流入回收流路24R，并在该回收流路24R中流过而被液体回收装置24C回收。
在本实施方式中，实质上只有液体LQ经由液体回收部24被回收，气体的回收受到限制。控制装置6对多孔部件36的下表面侧的压力(第1空间SP1的压力)与上表面侧的压力(回收流路24R的压力)之差进行调整，以使得第1空间SP1的液体LQ通过多孔部件36的孔流入回收流路24R而气体不通过。另外，经由多孔部件只回收液体的技术的一例例如在美国专利第7292313号等中有公开。
另外，也可以经由多孔部件36回收(吸引)液体LQ及气体双方。即，液体回收部24可以将液体LQ连同气体一起回收。此外，在液体回收部24之下没有液体LQ存在时，从液体回收部24可以只回收气体。另外，也可以不在第1部件21上设置多孔部件36。即，也可以不经由多孔部件而回收第1空间SP1的流体(液体LQ及气体的一方或双方)。
在本实施方式中，液体回收部24的下表面包括多孔部件36的下表面。液体回收部24的下表面配置在下表面23的周围。在本实施方式中，液体回收部24的下表面与XY平面实质上平行。在本实施方式中，液体回收部24的下表面与下表面23配置在同一平面内(为同一平面)。
另外，液体回收部24的下表面与下表面23相比既可以配置在+Z侧，也可以配置在-Z侧。另外，液体回收部24的下表面相对于下表面23既可以倾斜，也可以包含曲面。
另外，用于对第1空间SP1的流体(液体LQ及气体的一方或双方)进行回收的液体回收部24可以以面向第1空间SP1的方式配置在第2部件22上。液体回收部24也可以配置在第1部件21及第2部件22双方上。液体回收部24可以配置在第1部件21上，而不配置在第2部件22上。液体回收部24还可以配置在第2部件22上，而不配置在第1部件21上。
流体回收部27包括配置在第2部件22的下表面26周围的至少一部分上的开口(流体回收口)。流体回收部27以面向衬底P(物体)的上表面的方式配置。流体回收部27经由形成在第2部件22内部的回收流路(空间)27R而与液体回收装置27C连接。液体回收装置27C能够将流体回收部27与真空系统(未图示)连接。流体回收部27能够回收第2空间SP2的液体LQ的至少一部分。第2空间SP2的液体LQ的至少一部分能够经由流体回收部27流入回收流路27R。
在本实施方式中，流体回收部27包括多孔部件37，流体回收口包括多孔部件37的孔。在本实施方式中，多孔部件37包括网眼孔板。多孔部件37具有能够与衬底P(物体)的上表面相对的下表面、面向回收流路27R的上表面、以及连结下表面与上表面的多个孔。液体回收部27经由多孔部件37的孔回收流体(液体LQ及气体的一方或双方)。从流体回收部27(多孔部件37的孔)回收来的第2空间SP2的液体LQ流入回收流路27R，并在该回收流路27R中流动而被液体回收装置27C回收。
回收流路27R相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在内侧面30的外侧。回收流路27R配置在液体回收部27的上方。由于第2部件22移动，所以第2部件22的流体回收部27及回收流路27R在第1部件21的外侧面29的外侧移动。
经由流体回收部27将液体LQ连同气体一起回收。另外，也可以经由多孔部件37只回收液体LQ，限制经由多孔部件37对气体的回收。另外，在第2部件22上也可以不设置多孔部件37。即，也可以不经由多孔部件而对第2空间SP2的流体(液体LQ及气体的一方或双方)进行回收。
在本实施方式中，流体回收部27的下表面包括多孔部件37的下表面。流体回收部27的下表面配置在下表面26的周围。在本实施方式中，流体回收部27的下表面与XY平面实质上平行。在本实施方式中，流体回收部27的下表面与下表面26相比配置在+Z侧。
另外，流体回收部27的下表面与下表面26也可以配置同一平面内(也可以为同一平面)。流体回收部27的下表面与下表面26相比也可以配置在-Z侧。另外，流体回收部27的下表面既可以相对于下表面26倾斜，也可以包含曲面。例如，流体回收部27(多孔部件37)的下表面也可以关于相对于光路K而言的放射方向朝向外侧且向上方倾斜。此外，流体回收部27(多孔部件37)的下表面也可以在开口35周围的全周范围内高度(Z轴方向的位置)不同。例如，位于开口35的Y轴方向两侧的流体回收部27(多孔部件37)的下表面的一部分可以比位于开口35的X轴方向两侧的流体回收部27(多孔部件37)的下表面的一部分低。例如，也可以确定流体回收部27(多孔部件37)的下表面的形状，以使得当第2部件22的流体回收部27(多孔部件37)的下表面与衬底P的表面相对时，相对于曝光用光的光路K形成于Y轴方向的一侧的、流体回收部27(多孔部件37)的下表面与衬底P的表面之间的间隙的尺寸(Z轴方向的距离)比相对于曝光用光的光路K形成于X轴方向的一侧的、流体回收部27(多孔部件37)的下表面与衬底P的表面之间的间隙的尺寸(Z轴方向的距离)小。
在本实施方式中，与从液体供给部31的液体LQ的供给动作并行地执行从流体回收部27的液体LQ的回收动作，由此在一方侧的终端光学元件13及液浸部件5与另一方侧的衬底P(物体)之间用液体LQ形成液浸空间LS。
此外，在本实施方式中，与从液体供给部31的液体LQ的供给动作、及从流体回收部27的流体回收动作并行地执行从液体回收部24的流体回收动作。
在本实施方式中，液浸空间LS的液体LQ的界面LG的一部分形成在第2部件22与衬底P(物体)之间。
在本实施方式中，液浸空间LS的液体LQ的界面LG的一部分形成在第1部件21与第2部件22之间。
在本实施方式中，液浸空间LS的液体LQ的界面LG的一部分形成终端光学元件13与第1部件21之间。
在以下的说明中，将形成在第1部件21与第2部件22之间的液体LQ的界面LG适宜地称为第1界面LG1。将形成在第2部件22与衬底P(物体)之间的界面LG适宜地称为第2界面LG2。将形成在终端光学元件13与第1部件21之间的界面LG适宜地称为第3界面LG3。
在本实施方式中，第1界面LG1形成在液体回收部24的下表面与上表面25之间。第2界面LG2形成在液体回收部27的下表面与衬底P(物体)的上表面之间。
在本实施方式中，第1界面LG1形成在液体回收部24的下表面与上表面25之间，能够抑制第1空间SP1的液体LQ向液体回收部24的外侧的空间(例如外侧面29与内侧面30之间的空间)移动。在外侧面29与内侧面30之间的空间中没有液体LQ存在。外侧面29与内侧面30之间的空间是气体空间。
外侧面29与内侧面30之间的空间与空间CS相连接。换言之，外侧面29与内侧面30之间的空间向气体环境开放。在空间CS的压力为大气压的情况下，外侧面29与内侧面30之间的空间向大气开放。因此，第2部件22能够顺畅地移动。另外，空间CS的压力可以比大气压高，也可以比大气压低。
图8是从下表面23侧观察到的第1部件21的图。在本实施方式中，在第1部件21的下表面23配置对来自液体供给部31的液体LQ的至少一部分进行诱导的诱导部38。诱导部38是设于下表面23的凸部。诱导部38将来自液体供给部31的液体LQ的至少一部分诱导至液体回收部24。
诱导部38的形状根据第2部件22的移动方向而确定。诱导部38以促进液体LQ在与第2部件22的移动方向平行的方向上的流动的方式设置。
例如，在第2部件22沿X轴方向移动的情况下，以使得在第1空间SP1中液体LQ沿与X轴方向平行的方向流动而到达液体回收部24的方式来确定诱导部38的形状。例如，在第2部件22沿+X轴方向移动的情况下，通过诱导部38，第1空间SP1的液体LQ的至少一部分沿着+X轴方向流动。在第2部件22沿-X轴方向移动的情况下，通过诱导部38，第1空间SP1的液体LQ的至少一部分沿着-X轴方向流动。
在本实施方式中，诱导部38具有配置在开口34周围的至少一部分中的壁部38R、形成在该壁部38R的一部上的狭缝(开口)38K。
壁部38以包围开口34的方式配置。狭缝38K以促进液体LQ在与X轴方向平行的方向上的流动的方式，相对于光路K分别形成在+X侧及-X侧。
通过诱导部38，关于与第2部件22的移动方向平行的方向，第1空间SP1中的液体LQ的流速得以提高。在本实施方式中，通过诱导部38，第1空间SP1中的关于X轴方向的液体LQ的流速得以提高。即，朝着液体回收部24的下表面与上表面25之间的空间流动的液体LQ的速度得以提高。由此，能够抑制第1界面LG1相对于第1部件21的位置变动、第1界面LG1的形状变化的情况。因此，能够抑制第1空间SP1的液体LQ向第1空间SP1的外侧流出的情况。
另外，形成有狭缝38K的位置相对于光路K并不限于+X侧及-X侧。例如，在第2部件22也与Y轴平行地移动的情况下，也可以相对于光路K在+Y侧及-Y侧增设狭缝38K。在第2部件22不与Y轴平行地移动的情况下，也可以相对于光路K在+Y侧及-Y侧增设狭缝38K。
此外，可以根据第2部件22的移动方向来确定诱导部38的形状(狭缝38K的位置等)。例如，也可以以使得在光路K的整个周围，液体LQ相对于光路K以放射状流动的方式来确定诱导部38的形状。
在本实施方式中，第2部件22能够与整个下表面23相对。例如图2所示，当在终端光学元件13的光轴与开口35的中心实质上一致的原点配置有第2部件22时，整个下表面23与第2部件22的上表面25相对。此外，在第2部件22配置于原点时，射出面12的一部分与第2部件22的上表面25相对。此外，在第2部件22配置于原点时，液体回收部24的下表面与第2部件22的上表面25相对。
此外，在本实施方式中，在第2部件22配置于原点时，开口34的中心与开口35的中心实质上一致。
接下来对第2部件22的动作的一例进行说明。第2部件22能够与衬底P(物体)的移动协调移动。第2部件22能够与衬底P(物体)独立移动。第2部件22能够与衬底P(物体)的移动的至少一部分并行地移动。第2部件22能够在形成了液浸空间LS的状态下移动。第2部件22能够在第1空间SP1及第2空间SP2中有液体LQ存在的状态下移动。
第2部件22也可以在第2部件22与衬底P(物体)不相对时移动。例如，第2部件22也可以在没有物体存在于该第2部件22的下方时移动。另外，第2部件22也可以在没有液体LQ存在于第2部件22与衬底P(物体)之间的空间中时移动。例如，第2部件22也可以在没有形成液浸空间LS时移动。
第2部件22根据例如衬底P(物体)的移动条件移动。控制装置6根据例如衬底P(物体)的移动条件，与衬底P(物体)的移动的至少一部分并行地使第2部件22移动。控制装置6一边进行从液体供给部31的液体LQ的供给和从流体回收部27及液体回收部24的液体LQ的回收，一边使第2部件22移动，以便持续形成液浸空间LS。
在本实施方式中，第2部件22能够以使得相对于衬底P(物体)的相对移动变小的方式移动。此外，第2部件22能够以使得相对于衬底P(物体)的相对移动比第1部件21与衬底P(物体)的相对移动小的方式移动。例如，第2部件22也可以与衬底P(物体)同步移动。
相对移动包括相对速度及相对加速度的至少一方。例如，在形成了液浸空间LS的状态下、即在第2空间SP2中有液体LQ存在的状态下，第2部件22可以以使得与衬底P(物体)的相对速度变小的方式移动。此外，在形成了液浸空间LS的状态下、即在第2空间SP2中有液体LQ存在的状态下，第2部件22也可以以使得与衬底P(物体)的相对加速度变小的方式移动。此外，在形成了液浸空间LS的状态下、即在第2空间SP2中有液体LQ存在的状态下，第2部件22也可以以使得与衬底P(物体)的相对速度比第1部件21与衬底P(物体)的相对速度小的方式移动。此外，在形成了液浸空间LS的状态下、即在第2空间SP2中有液体LQ存在的状态下，第2部件22也可以以使得与衬底P(物体)的相对加速度比第1部件21与衬底P(物体)的相对加速度小的方式移动。
第2部件22能够沿例如衬底P(物体)的移动方向移动。例如，当衬底P(物体)沿+X轴方向(或-X轴方向)移动时，第2部件22能够沿+X轴方向(或-X轴方向)移动。此外，当衬底P(物体)一边沿+X轴方向移动一边沿+Y轴方向(或-Y轴方向)移动时，第2部件22能够沿+X轴方向移动。此外，当衬底P(物体)一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向(或-Y轴方向)移动时，第2部件22能够沿-X轴方向移动。即，在本实施方式中，在衬底P(物体)沿包含X轴方向的成分在内的方向移动的情况下，第2部件22沿X轴方向移动。
例如，第2部件22可以与衬底P(物体)向包含X轴方向的成分在内的某方向的移动的至少一部分并行地沿X轴方向移动。
另外，第2部件22也可以沿Y轴方向移动。在衬底P(物体)沿包括Y轴方向的成分在内的某方向移动的情况下，第2部件22也可以沿Y轴方向移动。例如，第2部件22也可以与衬底P(物体)向包括Y轴方向的成分在内的某方向的移动的至少一部分并行地，以使得与衬底P(物体)的相对速度差变小的方式沿Y轴方向。
图9是示出第2部件22移动的状态的一例的图。图9是从下侧(-Z侧)观察到的液浸部件5的图。
在以下的说明中，第2部件22沿X轴方向移动。另外，如上所述，第2部件22也可以沿Y轴方向移动，还可以沿包含X轴方向(或Y轴方向)的成分在内的XY平面内的任意方向移动。
在衬底P(物体)沿X轴方向(或包含X轴方向的成分在内的XY平面内的规定方向)移动的情况下，第2部件22如图9的(A)～图9的(C)所示沿X轴方向移动。
在本实施方式中，第2部件22能够在关于X轴方向规定的可移动范围(可动范围)中移动。图9的(A)示出第2部件22配置在可移动范围的最-X侧的端部的状态。图9的(B)示出第2部件22配置在可移动范围的中央的状态。图9的(C)示出第2部件22配置在可移动范围的最+X侧的端部的状态。
在以下的说明中，将图9的(A)所示的第2部件22的位置适宜地称为第1端部位置，将图9的(B)所示的第2部件22的位置适宜地称为中央位置，将图9的(C)所示的第2部件22的位置适宜地称为第2端部位置。另外，如图9的(B)所示，第2部件22配置在中央位置的状态包括第2部件22配置在原点的状态。
在本实施方式中，根据第2部件22的可移动范围的尺寸来确定开口35的尺寸，以使得来自射出面12的曝光用光EL通过开口35。第2部件22的可移动范围的尺寸包含关于X轴方向的、第1端部位置与第2端部位置之间的距离。以使得即使第2部件22沿X轴方向移动，来自射出面12的曝光用光EL也能够照射到第2部件22上的方式，确定开口35的X轴方向的尺寸。
在图9中，关于X轴方向的开口35的尺寸W35比曝光用光EL(投影区域PR)的尺寸Wpr和第2部件22的可移动范围的尺寸(Wa+Wb)之和大。尺寸W35被确定为如下大小，即：即使在第2部件22在第1端部位置与第2端部位置之间移动的情况下，来自射出面12的曝光用光EL也不会被遮挡的大小。由此，即使第2部件22移动，来自射出面12的曝光用光EL也能够不被第2部件22遮挡地照射在衬底P(物体)上。
接下来，对采用具有上述构成的曝光装置EX对衬底P进行曝光的方法进行说明。
在从液浸部件5离开的衬底更换位置，进行将曝光前的衬底P搬入(装载)至衬底载台2(第1保持部)的处理。在衬底载台2从液浸部件5离开的期间的至少一部分中，将计测载台3以与终端光学元件13及液浸部件5相对的方式配置。控制装置6进行从液体供给部31的液体LQ的供给和从流体回收部27的液体LQ的回收，并在计测载台3上形成液浸空间LS。
在曝光前的衬底P被装载在衬底载台2上，且利用计测载台3的计测处理结束后，控制装置6以使得终端光学元件13及液浸部件5与衬底载台2(衬底P)相对的方式使衬底载台2移动。在终端光学元件13及液浸部件5与衬底载台2(衬底P)相对的状态下，与从液体供给部31的液体LQ的供给并行地进行从流体回收部27的液体LQ的回收，由此以光路K中充满液体LQ的方式，在终端光学元件13及液浸部件5与衬底载台2(衬底P)之间形成液浸空间LS。
在本实施方式中，与从液体供给部31的液体LQ的供给及从流体回收部27的液体LQ的回收并行地进行从液体回收部24的液体LQ的回收。
控制装置6开始进行衬底P的曝光处理。控制装置6在衬底P上已形成液浸空间LS的状态下从照明系统IL射出曝光用光EL。照明系统IL通过曝光用光EL对光罩M进行照明。来自光罩M的曝光用光EL经由投影光学系统PL及射出面12与衬底P之间的液浸空间LS的液体LQ而照射到衬底P上。由此，衬底P被经由终端光学元件13的射出面12与衬底P之间的液浸空间LS的液体LQ而从射出面12射出的曝光用光EL曝光，并将光罩M的图案的像投影到衬底P上。
本实施方式的曝光装置EX是一边使光罩M与衬底P沿规定的扫描方向同步移动、一边将光罩M的图案的像投影到衬底P上的扫描型曝光装置(所谓的扫描步进机(scanning-stepper))。在本实施方式中，使衬底P的扫描方向(同步移动方向)为Y轴方向，使光罩M的扫描方向(同步移动方向)也作为Y轴方向。控制装置6使衬底P相对于投影光学系统PL的投影区域PR沿Y轴方向移动，并与该衬底P沿Y轴方向的移动同步地，一边使光罩M相对于照明系统IL的照明区域IR沿Y轴方向移动、一边经由投影光学系统PL和衬底P上的液浸空间LS的液体LQ对衬底P照射曝光用光EL。
图10是示出保持在衬底载台2上的衬底P的一例的图。在本实施方式中，在衬底P上，多个作为曝光对象区域的曝光区域S以矩阵状配置。
控制装置6一边使保持在第1保持部上的衬底P相对于从终端光学元件13的射出面12射出的曝光用光EL沿Y轴方向(扫描方向)移动，一边经由射出面12与衬底P之间的液浸空间LS的液体LQ并通过从射出面12射出的曝光用光EL对衬底P的多个曝光区域S的每一个依次进行曝光。
为了对例如衬底P的1个曝光区域S进行曝光，在已形成液浸空间LS的状态下，控制装置6使衬底P相对于从射出面12射出的曝光用光EL(投影光学系统PL的投影区域PR)沿Y轴方向移动，并且与该衬底P沿Y轴方向的移动同步地，一边使光罩M相对于照明系统IL的照明区域IR沿Y轴方向移动，一边经由投影光学系统PL和衬底P上的液浸空间LS的液体LQ对该曝光区域S照射曝光用光EL。由此，将光罩M的图案的像投影到该曝光区域S中，从而该曝光区域S被从射出面12射出的曝光用光EL曝光。
在该曝光区域S的曝光结束后，控制装置6为了开始下一曝光区域S的曝光，在已形成液浸空间LS的状态下使衬底P沿着XY平面内与Y轴交叉的方向(例如X轴方向、或是在XY平面内相对于X轴及Y轴方向倾斜的方向等)移动，使下一曝光区域S移动到曝光开始位置。然后，控制装置6开始下一曝光区域S的曝光。
控制装置6在衬底P(衬底载台2)上已形成液浸空间LS的状态下，一边重复进行如下动作，一边对衬底P的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述动作为：一边使曝光区域相对于来自射出面12的曝光用光EL所照射的位置(投影区域PR)沿Y轴方向移动一边对该曝光区域进行曝光的动作；和在该曝光区域曝光后，在衬底P(衬底载台2)上已形成液浸空间LS的状态下，以使得下一曝光区域配置于曝光开始位置的方式使衬底P沿XY平面内与Y轴方向交叉的方向(例如X轴方向、或在XY平面内相对于X轴及Y轴方向倾斜的方向等)移动的动作。
在以下的说明中，将为了对曝光区域进行曝光而在衬底P(衬底载台2)上已形成液浸空间LS的状态下使衬底P(曝光区域)相对于来自射出面12的曝光用光EL所照射的位置(投影区域PR)沿Y轴方向移动的动作适宜地称为扫描移动动作。此外，将某曝光区域的曝光结束后且在衬底P(衬底载台2)上已形成液浸空间LS的状态下，在到下一曝光区域的曝光开始之前的期间使衬底P在XY平面内移动的动作适宜地称为步进移动动作。
在本实施方式中，扫描移动动作包括从某曝光区域S配置在曝光开始位置的状态起到成为配置在曝光结束位置的状态的、衬底P沿Y轴方向移动的动作。步进移动动作包括从某曝光区域S配置在曝光结束位置的状态起到成为下一曝光区域S配置在曝光开始位置的状态的、衬底P沿XY平面内与Y轴方向交叉的方向移动的动作。
曝光开始位置包括为了某曝光区域S的曝光而该曝光区域S的关于Y轴方向的一端部通过投影区域PR的时刻的、衬底P的位置。曝光结束位置包括经曝光用光EL照射了的该曝光区域S的关于Y轴方向的另一端部通过投影区域PR的时刻的、衬底P的位置。
曝光区域S的曝光开始位置包括用于对该曝光区域S进行曝光的扫描移动动作开始位置。曝光区域S的曝光开始位置包括用于将该曝光区域S配置在曝光开始位置的步进移动动作结束位置。
曝光区域S的曝光结束位置包括用于对该曝光区域S进行曝光的扫描移动动作结束位置。曝光区域S的曝光结束位置包括用于在该曝光区域S的曝光结束后将下一曝光区域S配置到曝光开始位置的步进移动动作开始位置。
在以下的说明中，将为了某曝光区域S的曝光而进行扫描移动动作的期间适宜地称为扫描移动期间。在以下的说明中，将为了从某曝光区域S的曝光结束到下一曝光区域S的曝光开始而进行步进移动动作的期间适宜地称为步进移动期间。
扫描移动期间包括从某曝光区域S的曝光开始到曝光结束的曝光期间。步进移动期间包括从某曝光区域S的曝光结束到下一曝光区域S的曝光开始的、衬底P的移动期间。
在扫描移动动作中，从射出面12射出曝光用光EL。在扫描移动动作中，向衬底P(物体)照射曝光用光EL。在步进移动动作中，不从射出面12射出曝光用光EL。在步进移动动作中，不向衬底P(物体)照射曝光用光EL。
控制装置6一边重复扫描移动动作和步进移动动作，一边对衬底P的多个曝光区域S的每一个依次进行曝光。另外，扫描移动动作是主要关于Y轴方向的等速移动。步进移动动作包括加减速度移动。例如，从某曝光区域S的曝光结束起到下一曝光区域S的曝光开始为止期间的步进移动动作包括关于Y轴方向的加减速移动及关于X轴方向的加减速移动的一方或双方。
另外，在扫描移动动作及步进移动动作的至少一部分中，存在液浸空间LS的至少一部分形成在衬底载台2(罩盖部件T)上的情况。在扫描移动动作及步进移动动作的至少一部分中，存在液浸空间LS以跨着衬底P和衬底载台2(罩盖部件T)的方式形成的情况。若在衬底载台2和计测载台3接近或接触的状态下进行衬底P的曝光，则在扫描移动动作及步进移动动作的至少一部分中，存在液浸空间LS以跨着衬底载台2(罩盖部件T)和计测载台3的方式形成的情况。
控制装置6根据衬底P上的多个曝光区域S的曝光条件对驱动系统15进行控制，以使衬底P(衬底载台2)移动。多个曝光区域S的曝光条件由例如称为曝光配方(recipe)的曝光控制信息规定。曝光控制信息存储在存储装置7中。
曝光条件(曝光控制信息)包括多个曝光区域S的排列信息(衬底P中多个曝光区域S各自的位置)。此外，曝光条件(曝光控制信息)包括多个曝光区域S各自的尺寸信息(关于Y轴方向的尺寸信息)。
如图10所示，在衬底P上设有曝光区域S的列。在本实施方式中，曝光区域S的列由在衬底P中沿X轴方向配置的多个曝光区域S形成。一列包括沿X轴方向配置的多个曝光区域S。
在衬底P上设有多个曝光区域S的列。曝光区域S的列在衬底P中沿Y轴方向配置有多个。在图10所示的例子中，在衬底P上设有曝光区域S的列Ga～列Gj。列Ga在多个列Ga～Gj中配置在最-Y侧。关于Y轴方向，列Gb配置在列Ga的相邻位置。列Gb配置在列Ga的+Y侧。关于Y轴方向，列Gc配置在列Gb的相邻位置。列Gc配置在列Gb的+Y侧。同样，列Gd～Gj沿Y轴方向配置。
在图10所示的例子中，列Ga、Gj分别包括在衬底P中沿X轴方向配置的6个曝光区域S。列Gb、Gi分别包括在衬底P中沿X轴方向配置的10个曝光区域S。列Gc、Gd、Ge、Gf、Gg、Gh分别包括在衬底P中沿X轴方向配置的12个曝光区域S。
控制装置6根据存储在存储装置7中的曝光条件(曝光控制信息)，一边以规定的移动条件使衬底P移动，一边对多个曝光区域S的每一个依次进行曝光。衬底P(物体)的移动条件包括移动速度、加速度、移动距离、移动方向、及XY平面内的移动轨迹的至少一个。
作为一例，在本实施方式中，在衬底P的多个曝光区域S中，最先进行列Ga的曝光区域S的曝光。在本实施方式中，最先对列Ga所包含的多个曝光区域S的每一个依次进行曝光。在对列Ga所包含的多个曝光区域S的每一个依次进行曝光时，控制装置6一边以使得投影光学系统PL的投影区域PR与衬底P沿着图10中箭头Sr所示的移动轨迹相对移动的方式使衬底载台2移动，一边向投影区域PR照射曝光用光EL，从而经由液体LQ对列Ga的多个曝光区域S的每一个用曝光用光EL依次曝光。控制装置6一边重复扫描移动动作和步进移动动作，一边对列Ga所包含的多个曝光区域S的每一个依次曝光。
在本实施方式中，在列Ga所包含的多个曝光区域S的每一个被依次曝光后，进行列Gb的曝光区域S的曝光。控制装置6在形成了液浸空间LS的状态下一边重复扫描移动动作和步进移动动作，一边对列Gb所包含的多个曝光区域S的每一个依次曝光。
列Gb所包含的多个曝光区域S的每一个被依次曝光后，进行对列Gc的曝光区域S的每一个的曝光。同样地，对列Gd～列Gj各自所包含的多个曝光区域S的每一个依次进行曝光。
列Gj所包含的多个曝光区域S的每一个被依次曝光后，衬底载台2移动到衬底更换位置，进行将曝光后的衬底P从衬底载台2(第1保持部)搬出(卸载)的处理。
以下，重复上述处理，对多个衬底P依次曝光。
在本实施方式中，第2部件22在衬底P的曝光处理的至少一部分中移动。第2部件22例如在形成了液浸空间LS的状态下，与衬底P(衬底载台2)的步进移动动作的至少一部分并行地移动。第2部件22例如在形成了液浸空间LS的状态下，与衬底P(衬底载台2)的扫描移动动作的至少一部分并行地移动。与第2部件22的移动并行地从射出面12射出曝光用光EL。另外，在扫描移动动作中，第2部件22也可以不移动。即，第2部件22也可以不与从射出面12射出曝光用光EL并行地移动。第2部件22也可以在例如衬底P(衬底载台2)进行步进移动动作时以使得第2部件22与衬底P(衬底载台2)的相对移动(相对速度、相对加速度)变小的方式移动。此外，第2部件22也可以在衬底P(衬底载台2)进行扫描移动动作时以使得第2部件22与衬底P(衬底载台2)的相对移动(相对速度、相对加速度)变小的方式移动。
图11是示意性地示出一边使衬底P进行包含+X轴方向的成分在内的步进移动、一边对某列G所包含的曝光区域S1、曝光区域S2及曝光区域S3的每一个依次进行曝光时的衬底P的移动轨迹的一例的图。曝光区域S1、S2、S3沿X轴方向配置。
如图11所示，当曝光区域S1、S2、S3被曝光时，衬底P在终端光学元件13之下依次在路径Tp1、路径Tp2、路径Tp3、路径Tp4及路径Tp5中移动，其中，路径Tp1是从位置d1到相对于该位置d1在+Y侧相邻的位置d2之间的路径；路径Tp2是从位置d2到相对于该位置d2在+X侧相邻的位置d3之间的路径；路径Tp3是从位置d3到相对于该位置d3在-Y侧相邻的位置d4之间的路径；路径Tp4是从位置d4到相对于该位置d4在+X侧相邻的位置d5之间的路径；路径Tp5是从位置d5到相对于该位置d5在+Y侧相邻的位置d6之间的路径。位置d1、d2、d3、d4、d5、d6是XY平面内的位置。
路径Tp1的至少一部分是与Y轴平行的直线。路径Tp3的至少一部分是与Y轴平行的直线。路径Tp5的至少一部分包含与Y轴平行的直线。路径Tp2包含经由位置d2.5的曲线。路径Tp4包含经由位置d4.5的曲线。位置d1包含路径Tp1的起始点，位置d2包含路径Tp1的终点。位置d2包含路径Tp2的起始点，位置d3包含路径Tp2的终点。位置d3包含路径Tp3的起始点，位置d4包含路径Tp3的终点。位置d4包含路径Tp4的起始点，位置d5包含路径Tp4的终点。位置d5包含路径Tp5的起始点，位置d6包含路径Tp5的终点。路径Tp1是衬底P沿+Y轴方向移动的路径。路径Tp3是衬底P沿-Y轴方向移动的路径。路径Tp5是衬底P沿+Y轴方向移动的路径。路径Tp2及路径Tp4是衬底P沿着以+X轴方向为主成分的方向移动的路径。
当在形成了液浸空间LS的状态下衬底P在路径Tp1中移动时，经由液体LQ向曝光区域S1照射曝光用光EL。当在形成了液浸空间LS的状态下衬底P在路径Tp3中移动，经由液体LQ向曝光区域S2照射曝光用光EL。当在形成了液浸空间LS的状态下衬底P在路径Tp5中移动时，经由液体LQ向曝光区域S3照射曝光用光EL。当衬底P在路径Tp2及路径Tp4中移动时，不照射曝光用光EL。
衬底P在路径Tp1中移动的动作、在路径Tp3中移动的动作以及在路径Tp5中移动的动作分别包括扫描移动动作。此外，衬底P在路径Tp2中移动的动作及在路径Tp4中移动的动作分别包括步进移动动作。
即，衬底P在路径Tp1中移动的期间、在路径Tp3中移动的期间以及在路径Tp5中移动的期间分别为扫描移动期间(曝光期间)。衬底P在路径Tp2中移动的期间及在路径Tp4中移动的期间分别为步进移动期间。
图12是示出第2部件22的动作的一例的示意图。图12是从上表面25侧观察到的第2部件22的图。当衬底P位于图11中的位置d1时，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在图12的(A)所示的位置。当衬底P位于位置d2时，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在图12的(B)所示的位置。即，在衬底P的从位置d1向位置d2的扫描移动动作中，第2部件22沿着与衬底P的步进移动方向(+X轴方向)相反的-X轴方向移动。当衬底P位于位置d2.5时，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在图12的(C)所示的位置。当衬底P位于位置d3时，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在图12的(D)所示的位置。即，在衬底P的从位置d2向位置d3的步进移动动作中，第2部件22沿着与衬底P的步进移动方向(+X轴方向)相同的+X轴方向移动。当衬底P位于位置d4时，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在图12的(E)所示的位置。即，在衬底P的从位置d3向位置d4的扫描移动动作中，第2部件22沿着与衬底P的步进移动方向(+X轴方向)相反的-X轴方向移动。当衬底P位于位置d4.5时，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在图12的(F)所示的位置。当衬底P位于位置d5时，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在图12的(G)所示的位置。即，在衬底P的从位置d4向位置d5的步进移动动作中，第2部件22沿着与衬底P的步进移动方向(+X轴方向)相同的+X轴方向移动。当衬底P位于位置d6时，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在图12的(H)所示的位置。即，在衬底P的从位置d5向位置d6的扫描动作移动中，第2部件22沿着与衬底P的步进移动方向(+X轴方向)相反的-X轴方向移动。
在本实施方式中，图12的(A)、图12的(D)、图12的(G)所示的第2部件22的位置包括第2端部位置。图12的(B)、图12的(E)、图12的(H)所示的第2部件22的位置包括第1端部位置。图12的(C)、图12的(F)所示的第2部件22的位置包括中央位置。
在以下的说明中，图12的(A)、图12的(D)、图12的(G)所示的第2部件22的位置为第2端部位置，图12的(B)、图12的(E)、图12的(H)所示的第2部件22的位置为第1端部位置，图12的(C)、图12的(F)所示的第2部件22的位置为中央位置。
当衬底P在路径Tp1中移动时，第2部件22以从图12的(A)所示的状态向图12的(B)所示的状态变化的方式沿-X轴方向移动。即，第2部件22从第2端部位置经中央位置向第1端部位置移动。当衬底P在路径Tp2中移动时，第2部件22以从图12的(B)所示的状态经图12的(C)所示的状态向图12的(D)所示的状态变化的方式沿+X轴方向移动。即，第2部件22从第1端部位置经中央位置向第2端部位置移动。当衬底P在路径Tp3中移动时，第2部件22以从图12的(D)所示的状态向图12的(E)所示的状态变化的方式沿-X轴方向移动。即，第2部件22从第2端部位置经中央位置向第1端部位置移动。当衬底P在路径Tp4中移动时，第2部件22以从图12的(E)所示的状态经图12的(F)所示的状态向图12的(G)所示的状态变化的方式沿+X轴方向移动。即，第2部件22从第1端部位置经中央位置向第2端部位置移动。当衬底P在路径Tp5中移动时，第2部件22以从图12的(G)所示的状态向图12的(H)所示的状态变化的方式沿-X轴方向移动。即，第2部件22从第2端部位置经中央位置向第1端部位置移动。
即，在本实施方式中，第2部件22在衬底P沿着路径Tp2移动期间的至少一部分中以使得第2部件22与衬底P的相对移动变小的方式在+X轴方向移动。换言之，第2部件22在衬底P进行包括+X轴方向的成分在内的步进移动动作期间的至少一部分中以使得关于X轴方向的第2部件22与衬底P的相对速度变小的方式沿+X轴方向移动。同样地，第2部件22在衬底P沿着路径Tp4移动期间的至少一部分中以使得关于X轴方向的第2部件22与衬底P的相对速度变小的方式沿+X轴方向移动。
此外，在本实施方式中，第2部件22在衬底P沿着路径Tp3移动期间的至少一部分中沿-X轴方向移动。由此，在衬底P沿路径Tp3的移动后且在路径Tp4中移动过程中，即使第2部件22沿+X轴方向移动，曝光用光EL也能够通过开口35。衬底P在路径Tp1、Tp5中移动的情况也是一样。
即，在衬底P重复进行扫描移动动作和包括+X轴方向成分的步进移动动作的情况下，在步进移动动作中，第2部件22以使得第2部件22与衬底P的相对速度变小的方式从第1端部位置向第2端部位置沿+X轴方向移动，在扫描移动动作中，第2部件22从第2端部位置向第1端部位置返回，以便在下一步进移动动作中第2部件22能够再次沿+X轴方向移动。即，在衬底P进行扫描移动动作的期间的至少一部分中，第2部件22沿-X轴方向移动，因此开口35的尺寸能够被抑制在所需的最小限度。
此外，在本实施方式中，即使第2部件22配置于第1端部位置(第2端部位置)，流体回收部27的至少一部分也能够与衬底P(物体)持续相对。由此，例如在步进移动动作中，流体回收部27能够对衬底P(物体)上的液体LQ进行回收。
另外，在上述说明中，一边使衬底P沿+Y轴方向移动一边对曝光区域(例如S1)进行扫描曝光之后的步进移动动作中的第2部件22的动作、与一边使衬底P沿-Y轴方向移动一边对曝光区域(例如S2)进行扫描曝光之后的步进移动动作中的第2部件22的动作是相同的，但是也可以不同。在上述的说明中，例如，衬底P在路径Tp2中移动时的第2部件22的动作(图12的(B)～图12的(C)～图12的(D))与衬底P在路径Tp4中移动时的第2部件22的动作(图12的(E)～图12的(F)～图12的(G))是相同的，但是也可以不同。例如，衬底P在路径Tp2中移动时的、第2部件22沿+X轴方向的移动距离与衬底P在路径Tp4中移动时的、第2部件22沿+X轴方向的移动距离也可以不同。例如，在一边使衬底P沿+Y轴方向移动一边对曝光区域(例如S1)进行扫描曝光之后的步进移动动作中，可以使第2部件22沿+X轴方向不移动；或是也可以使得一边使衬底P沿+Y轴方向移动一边对曝光区域(例如S1)进行扫描曝光之后的步进移动动作中的、第2部件22沿+X轴方向的移动距离，小于一边使衬底P沿-Y轴方向移动一边对曝光区域(例如S2)进行扫描曝光之后的步进移动动作中的、第2部件22沿+X轴方向的移动。
此外，在上述说明中，衬底P沿+Y轴方向移动的扫描移动动作中的第2部件22的动作与衬底沿-Y轴方向移动的扫描移动动作中的第2部件22的动作是相同的，但是也可以不同。例如，衬底P在路径Tp1中移动时的第2部件22的动作(图12的(A)～图12的(B))与衬底P在路径Tp3中移动时的第2部件22的动作(图12的(G)～图12的(H))是相同的，但是也可以不同。
图13是示出相对于终端光学元件13(投影区域PR)的、第2部件22的位置的一例的图。图13的(A)示出第2部件22配置在第2端部位置的例子。图13的(B)示出第2部件22配置在第2端部位置与中央位置之间的位置的例子。图13的(C)示出第2部件22配置在中央位置的例子。图13的(D)示出第2部件22配置在第1端部位置与中央位置之间的位置的例子。图13的(E)示出第2部件22配置在第1端部位置的例子。
在以下的说明中，将图13的(A)所示的第2部件22的位置适宜地称为位置Jr。将图13的(B)所示的第2部件22的位置适宜地称为位置Jrm。将图13的(C)所示的第2部件22的位置适宜地称为位置Jm。将图13的(D)所示的第2部件22的位置适宜地称为位置Jsm。将图13的(E)所示的第2部件22的位置适宜地称为位置Js。
控制装置6能够控制驱动装置32，从而以规定的移动条件使第2部件22移动。第2部件22的移动条件包括移动方向、移动速度、加速度及移动距离中的至少一个。控制装置6能够控制第2部件22的移动方向、移动速度、加速度及移动距离中的至少一个。
控制装置6能够控制驱动装置32，从而使第2部件22相对于终端光学元件13(投影区域PR)的位置不同。控制装置6能够使第2部件22停止在位置Jr、位置Jrm、位置Jm、位置Jsm及位置Js中的至少一处。控制装置6能够使第2部件22在位置Jr、位置Jrm、位置Jm、位置Jsm及位置Js中所选择出的2个位置之间移动。控制装置6不限于位置Jr、位置Jrm、位置Jm、位置Jsm及位置Js，也可以使第2部件22停止在上述位置以外的任意位置。
第2部件22在关于X轴方向确定了的可移动范围(可动范围)内移动。
图13的(A)示出的第2部件22的位置Jr是第2部件22的可动范围内最靠+X侧的端部位置(第2端部位置)。图13的(E)所示的第2部件22的位置Js是第2部件22的可动范围内最靠-X侧的端部位置(第1端部位置)。图13的(C)所示的第2部件22的位置Jm是第2部件22的可动范围内的中央位置(中央位置)。图13的(B)所示的第2部件22的位置Jrm是第2部件22的可动范围内的、位置Jr与位置Jm之间的位置。图13的(D)所示的第2部件22的位置Jsm是第2部件22的可动范围内的、位置Js与位置Jm之间的位置。
位置Jm与位置Jr之间的、第2部件22的移动距离比位置Jm与位置Jrm之间的、第2部件22的移动距离长。位置Jm与位置Js之间的、第2部件22的移动距离比位置Jm与位置Jsm之间的、第2部件22的移动距离长。
另外，在利用图11及图12说明的例子中，衬底P位于位置d1、d3、d5时，第2部件22配置在位置Jr(第2端部位置)。衬底P位于位置d1、d3、d5时，第2部件22也可以配置在位置Jrm，还可以配置在位置Jm(中央位置)。
另外，在利用图11及图12说明的例子中，衬底P位于位置d2、d4、d6时，第2部件22配置在位置Js(第1端部位置)。衬底P位于位置d2、d4、d6时，第2部件22也可以配置在位置Jsm，还可以配置在位置Jm(中央位置)。
此外，在本实施方式中，衬底P位于位置d2.5、d4.5时，第2部件22也可以配置在与位置Jm(中央位置)不同的位置。即，衬底P位于位置d2.5、d4.5时，第2部件22也可以配置在例如位置Jsm，还可以配置在位置Jrm。
如上所述，在本实施方式中，在衬底P中，在对一列(例如列Gc)中所包含的沿X轴方向配置的多个曝光区域S的每一个依次曝光之后，进行与该列(例如列Gc)不同的列(例如列Gd)的曝光区域S的曝光。此外，在衬底P中，在对一列(例如列Gc)所包含的沿X轴方向配置的多个曝光区域S的每一个依次曝光之前，进行与该列(例如列Gc)不同的列(例如列Gb)的曝光区域S的曝光。
在本实施方式中，控制装置6对驱动装置32进行控制，以使得从同一列(例如列Gc)所包含的某曝光区域S的曝光结束起到该列(例如列Gc)所包含的另一曝光区域S的曝光开始为止的衬底P的步进移动期间中的第2部件22的动作(移动方式)、与从某列(例如列Gc)的某曝光区域S的曝光结束起到另一列(例如列Gd)的曝光区域S的曝光开始为止的衬底P的步进移动期间中的第2部件22的动作(移动方式)不同。
在以下的说明中，将从同一列(例如列Ga)所包含的某曝光区域(例如曝光区域Sa3)的曝光结束起到该列(列Ga)所包含的另一曝光区域(例如曝光区域Sa4)的曝光开始为止的衬底P的步进移动期间适宜地称为曝光区域Sa3、Sa4间的第1步进移动期间。此外，在以下的说明中，将从某列(例如列Ge)的某曝光区域(例如曝光区域Se12)的曝光结束起到另一列(例如列Gf)的某曝光区域(例如曝光区域Sf1)的曝光开始为止的衬底P的步进移动期间适宜地称为曝光区域Se12、Sf1间的第2步进移动期间。
第1步进移动期间包括所谓的X步进移动期间。即，在第1步进移动期间进行的步进移动动作包括所谓的X步进移动动作。第2步进移动期间包括所谓的Y步进移动期间。即，在第2步进移动期间进行的步进移动动作包括所谓的Y步进移动动作。Y步进移动期间中的、衬底P(衬底载台2)在XY平面内的移动距离大多比X步进移动期间中的、衬底P(衬底载台2)在XY平面内的移动距离长。
另外，Y步进移动期间中的衬底P(衬底载台2)的移动距离也可以比X步进移动期间中的衬底P(衬底载台2)的移动距离短。另外，Y步进移动期间中的衬底P(衬底载台2)的移动距离也可以与X步进移动期间中的衬底P(衬底载台2)的移动距离实质上相等。
图14是示意性示出同一列(例如列Gc)所包含的多个曝光区域Sc1～Sc4的每一个被依次曝光的状态的一例的图。关于X轴方向，曝光区域Sc4配置在曝光区域Sc3的相邻位置。关于X轴方向，曝光区域Sc3配置在曝光区域Sc2的相邻位置。关于X轴方向，曝光区域Sc2配置在曝光区域Sc1的相邻位置。曝光区域Sc4与曝光区域Sc3相比配置在+X侧。曝光区域Sc3与曝光区域Sc2相比配置在+X侧。曝光区域Sc2与曝光区域Sc1相比配置在+X侧。
控制装置6在形成了液体LQ的液浸空间LS的状态下，一边以使得衬底P相对于投影光学系统PL的投影区域PR沿图14中的箭头Sra所示的移动轨迹相对移动的方式重复进行扫描移动动作和步进移动动作，一边对列Gc所包含的多个曝光区域Sc1～Sc4的每一个经由液体LQ依次曝光。
图15是示意性示出曝光区域Sc1～Sc4的每一个被依次曝光时的第2部件22的动作(移动方式)的一例的图。
图15的(A)示出衬底P配置在曝光区域Sc1的曝光结束位置(曝光区域Sc1的扫描移动动作结束位置、曝光区域Sc1、Sc2间的步进移动动作开始位置)的状态。
图15的(B)示出衬底P配置在曝光区域Sc2的曝光开始位置(曝光区域Sc2的扫描移动动作开始位置、曝光区域Sc1、Sc2间的步进移动动作结束位置)的状态。
图15的(C)示出衬底P配置在曝光区域Sc2的曝光结束位置(曝光区域Sc2的扫描移动动作结束位置、曝光区域Sc2、Sc3间的步进移动动作开始位置)的状态。
图15的(D)示出衬底P配置在曝光区域Sc3的曝光开始位置(曝光区域Sc3的扫描移动动作开始位置、曝光区域Sc2、Sc3间的步进移动动作结束位置)的状态。
对曝光区域Sc1的曝光进行说明。为了曝光区域Sc1的曝光，控制装置6在从曝光区域Sc1的曝光开始到该曝光区域Sc1的曝光结束期间进行至少包括沿-Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。在用于曝光区域Sc1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。如图15的(A)所示，在曝光区域Sc1的曝光结束时，第2部件22配置在位置Jr。在用于曝光区域Sc1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22开始从位置Js的移动，并沿+X轴方向移动直到到达位置Jr。
接下来，对曝光区域Sc1、Sc2间的步进移动进行说明。在用于曝光区域Sc1的曝光的衬底P的扫描移动动作结束后，进行曝光区域Sc1、Sc2间的衬底P的步进移动动作。在本实施方式中，在从曝光区域Sc1的曝光结束到曝光区域Sc2的曝光开始期间，控制装置6进行至少包括沿-X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。在曝光区域Sc1、Sc2间的衬底P的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(-X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。在本实施方式中，在曝光区域Sc1、Sc2间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。如图15的(B)所示，在曝光区域Sc1、Sc2间的步进移动结束时，第2部件22配置在位置Js。在曝光区域Sc1、Sc2间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22开始从位置Jr的移动，并沿-X轴方向移动直到到达位置Js。
接下来，对曝光区域Sc2的曝光进行说明。在曝光区域Sc1、Sc2间的衬底P的步进移动动作结束后，进行用于曝光区域Sc2的曝光的衬底P的扫描移动动作。为了曝光区域Sc2的曝光，控制装置6在从曝光区域Sc2的曝光开始到该曝光区域Sc2的曝光结束期间进行至少包括向+Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。在用于曝光区域Sc2的曝光的衬底P的扫描移动期间中，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。如图15的(C)所示，在曝光区域Sc2的曝光结束时，第2部件22配置在位置Jr。在用于曝光区域Sc2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22开始从位置Js的移动，并沿+X轴方向移动直到到达位置Jr。
接下来，对曝光区域Sc2、Sc3之间的步进移动进行说明。在用于曝光区域Sc2的曝光的衬底P的扫描移动动作结束后，进行曝光区域Sc2、Sc3间的衬底P的步进移动动作。在本实施方式中，在从曝光区域Sc2的曝光结束到曝光区域Sc3的曝光开始期间，控制装置6进行至少包括沿-X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。在曝光区域Sc2、Sc3间的衬底P的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22沿着衬底P的移动方向(-X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。在本实施方式中，在曝光区域Sc2、Sc3间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。如图15的(D)所示，在曝光区域Sc2、Sc3间的步进移动结束时，第2部件22配置在位置Js。在曝光区域Sc2、Sc3间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22开始从位置Jr的移动，并沿着-X轴方向移动直到到达位置Js。
接下来，对曝光区域Sc3的曝光进行说明。在本实施方式中，用于曝光区域Sc3的曝光的衬底P的步进移动动作、以及第2部件22的动作(移动方式)与用于曝光区域Sc1的曝光的衬底P的步进移动动作、以及第2部件22的动作(移动方式)是同样的。即，在曝光区域Sc3的曝光开始到该曝光区域Sc3的曝光结束期间，进行至少包括向-Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。此外，在用于曝光区域Sc3的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。
接下来，对曝光区域Sc3、Sc4间的步进移动进行说明。在本实施方式中，曝光区域Sc3、Sc4间的步进移动动作、以及第2部件22的动作(移动方式)与曝光区域Sc1、Sc2间的步进移动动作、以及第2部件22的动作(移动方式)是同样的。即，在从曝光区域Sc3的曝光结束到曝光区域Sc4的曝光开始期间，进行至少包括沿-X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。此外，在曝光区域Sc3、Sc4间的衬底P的步进移动期间中，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。
接下来，对曝光区域Sc4的曝光进行说明。在本实施方式中，用于曝光区域Sc4的曝光的衬底P的步进移动动作、以及第2部件22的动作(移动方式)与用于曝光区域Sc2的曝光的衬底P的步进移动动作、以及第2部件22的动作(移动方式)是同样的。即，在从曝光区域Sc4的曝光开始到该曝光区域Sc4的曝光结束期间，进行至少包括沿+Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。此外，在用于曝光区域Sc4的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。
以下，在对同一列Gc所包含的多个曝光区域Sc的每一个依次曝光的情况下，关于衬底P(衬底载台2)及第2部件22，控制装置6进行与参照图15的(A)～图15的(D)说明过的动作同样的动作。
如上所述，在本实施方式中，在同一列Gc所包含的曝光区域Sc、Sc间的衬底P的第1步进移动期间，第2部件22关于X轴方向向一侧(+X侧)移动。此外，在第1步进移动期间，衬底P至少关于X轴方向向一侧(+X侧)移动。
在本实施方式中，在同一列Gc所包含的曝光区域Sc、Sc间的衬底P的第1步进移动期间，第2部件22可以持续移动。即，在衬底P从列Gc的曝光区域Sc(例如Sc1)的曝光结束位置移动到下一曝光区域Sc(例如Sc2)的曝光开始位置期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的移动速度也可以不为零。换言之，在第1步进移动期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)也可以不停止。
在本实施方式中，在从曝光区域Sc(例如Sc1)的曝光开始到该曝光区域Sc(Sc1)的曝光结束的曝光期间(用于曝光区域Sc的曝光的扫描移动期间)，第2部件22也可以持续移动。
在本实施方式中，分别在从曝光区域Sc(例如Sc1)的曝光开始到该曝光区域Sc(Sc1)的曝光结束的曝光期间(用于曝光区域Sc的曝光的扫描移动期间)、曝光区域Sc、Sc间(例如Sc1、Sc2间)的衬底P的第1步进移动期间、以及从下一曝光区域Sc(例如Sc2)的曝光开始到曝光结束的曝光期间(用于曝光区域Sc2的曝光的扫描移动期间)中，第2部件22也可以持续移动。
另外，在曝光区域Sc的曝光期间的至少一部分中，第2部件22也可以相对于终端光学元件13(第1部件21)停止。
另外，在某列(例如列Gc)所包含的曝光区域Sc、Sc间的衬底P的第1步进移动期间的至少一部分中，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)也可以停止。
图16是示出在某列(例如列Gc)的曝光区域S(例如曝光区域Sc4)被曝光后、对与该列不同的列(例如列Gd)的曝光区域S(例如曝光区域Sd1)进行曝光的状态的一例的图。关于Y轴方向，包含曝光区域Sd1的列Gd配置在包含曝光区域Sc4的列Gc的相邻位置。列Gd配置在与列Gc相比的+Y侧。
关于Y轴方向，曝光区域Sd1的位置与曝光区域Sc4的位置不同。曝光区域Sd1配置在与曝光区域Sc4相比的+Y侧。关于X轴方向，曝光区域Sd1的位置与曝光区域Sc4的位置不同。曝光区域Sd1配置在与曝光区域Sc4相比的+X侧。另外，关于X轴方向，曝光区域Sd1的位置与曝光区域Sc4的位置也可以相同，还可以曝光区域Sd1配置在曝光区域Sc4的-X侧。
关于X轴方向，曝光区域Sd2配置在曝光区域Sd1的相邻位置。关于X轴方向，曝光区域Sd3配置在曝光区域Sd2的相邻位置。曝光区域Sd2配置在与曝光区域Sd1相比的-X侧。曝光区域Sd3配置在与曝光区域Sd2相比的-X侧。
控制装置6在形成了液体LQ的液浸空间LS的状态下，一边以使得衬底P相对于投影光学系统PL的投影区域PR沿图16中的箭头Srb所示的移动轨迹相对移动的方式重复进行扫描移动动作和步进移动动作，一边在对列Gc所包含的曝光区域Sc4经由液体LQ曝光后，对列Gd所包含的曝光区域Sd1经由液体LQ进行曝光。此外，在列Gd所包含的曝光区域Sd1被曝光后，该列Gd所包含的多个曝光区域Sd2、Sd3经由液体LQ被依次曝光。
图17是示意性地示出列Gc所包含的曝光区域Sc4被曝光后且列Gd所包含的曝光区域Sd1将被曝光时的第2部件22的动作(移动方式)的一例的图。
图17的(A)示出衬底P配置在曝光区域Sc4的曝光结束位置(曝光区域Sc4的扫描移动动作结束位置、曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动动作开始位置)的状态。
图17的(B)示出衬底P配置在从曝光区域Sc4的曝光结束位置向曝光区域Sd1的曝光开始位置(曝光区域Sd1的扫描移动动作开始位置)移动的途中的状态。
图17的(C)示出衬底P配置在曝光区域Sd1的曝光开始位置(曝光区域Sd1的扫描移动动作开始位置、曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动动作结束位置)的状态。
图17的(D)示出衬底P配置在曝光区域Sd1的曝光结束位置(曝光区域Sd1的扫描移动动作结束位置、曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动动作开始位置)的状态。
图17的(E)示出衬底P配置在曝光区域Sd2的曝光开始位置(曝光区域Sd2的扫描移动动作开始位置、曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动动作结束位置)的状态。
关于曝光区域Sc4的曝光进行说明。例如参照图15说明的那样，在从曝光区域Sc4的曝光开始到该曝光区域Sc4的曝光结束的期间，进行至少包括沿+Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。在用于曝光区域Sc4的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。如图17的(A)所示，在曝光区域Sc4的曝光结束时，第2部件22配置在位置Jr。在用于曝光区域Sc4的曝光的扫描移动期间，第2部件22可以持续移动。另外，也可以在用于曝光区域Sc4的曝光的扫描移动期间的至少一部分中，第2部件22停止。
接下来对曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动进行说明。在用于曝光区域Sc4的曝光的衬底P的扫描移动动作结束后，进行曝光区域Sc4、Sd1间的衬底P的步进移动动作。
在本实施方式中，从列Gc的曝光区域Sc4的曝光结束到列Gd的曝光区域Sd1的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)比从同一列Gc所包含的曝光区域Sc(例如曝光区域Sc2)的曝光结束到下一曝光区域Sc(例如曝光区域Sc3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)长。
此外，在本实施方式中，从列Gc的曝光区域Sc4的曝光结束位置到列Gd的曝光区域Sd1的曝光开始位置的衬底P的步进移动距离比从同一列Gc所包含的曝光区域Sc(例如曝光区域Sc2)的曝光结束位置到下一曝光区域Sc(例如曝光区域Sc3)的曝光开始位置的衬底P的步进移动距离长。
在本实施方式中，在从曝光区域Sc4的曝光结束到曝光区域Sd1的曝光开始期间，控制装置6进行至少包括沿-X轴方向及-Y轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。在本实施方式中，曝光区域Sc4、Sd1间的衬底P的步进移动动作包括图17的(A)及图17的(B)所示的衬底P至少沿X轴方向移动的第1动作、以及图17的(B)及图17的(C)所示的衬底P主要沿Y轴方向移动的第2动作。在第1动作中，从图17的(A)所示的状态向17(B)所示的状态变化。在第2动作中，从图17的(B)所示的状态向17(C)所示的状态变化。第1动作包含衬底P至少沿X轴方向移动。在本实施方式中，第1动作在包括衬底P沿-X轴方向移动的同时，还包括衬底P沿+Y轴方向及-Y轴方向的一方或双方移动。第2动作包括衬底P沿Y轴方向移动。第2动作包括与第1动作相比、关于X轴方向的衬底P的动作(移动距离、移动速度及加速度的至少一个)小的情况。在本实施方式中，第2动作包括衬底P沿-Y轴方向移动且沿X轴方向实质上不移动的情况。另外，在第2动作中，衬底P也可以一边沿Y轴方向移动一边沿X轴方向移动。例如，也可以以使得第2动作中的关于X轴方向的衬底P的动作比第1动作中的关于X轴方向的衬底P的动作小的方式，使衬底P动作。
即，在本实施方式中，在从曝光区域Sc4的曝光结束到曝光区域Sd1的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，控制装置6进行使衬底P至少沿-X轴方向移动的第1动作和使衬底P主要沿-Y轴方向移动的第2动作。
在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)中的进行衬底P的第1动作的期间，第2部件22沿衬底P的移动方向(-X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)中的、进行衬底P的第1动作期间，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。如图17的(B)所示，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动动作的途中(第1动作的结束)，第2部件22配置在位置Js。换言之，在曝光区域Sc4的曝光结束后且曝光区域Sd1的曝光开始前，第2部件22配置在位置Js。在进行衬底P的第1动作期间，第2部件22开始从位置Jr的移动，并沿-X轴方向移动直到到达位置Js。
在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)中的、进行衬底P的第2动作期间，第2部件22不移动。换言之，在进行衬底P的第2动作期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)停止。在进行衬底P的第2动作期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的相对速度为零。即，在衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)中的、衬底P沿X轴方向实质上不移动(或者沿X轴方向的动作小)的期间，第2部件22沿X轴方向不移动。在进行第2动作的期间，第2部件22的位置维持在位置Js。
另外，在进行衬底P的第1动作的期间的至少一部分中，第2部件22也可以停止。另外，在进行衬底P的第2动作的期间的至少一部分中，第2部件22也可以移动。
另外，在曝光区域Sc4、Sd1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，可以在衬底P的第1动作之后进行第2动作，也可以在衬底P的第2动作之后进行第1动作。另外，在曝光区域Sc4、Sd1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，也可以交替地进行衬底P的第1动作与第2动作。
此外，在第2步进移动期间，也可以不分第1动作和第2动作地进行衬底P的动作。例如，在第2载台移动期间，也可以使衬底P沿X轴方向和Y轴方向持续动作。该情况下，在例如从图17的(A)的状态向图17的(C)的状态变化期间，也可以使第2部件22沿-X轴方向持续动作。
接下来对曝光区域Sd1的曝光进行说明。在曝光区域Sc4、Sd1间的衬底P的步进移动动作结束后，进行用于曝光区域Sd1的曝光的衬底P的扫描移动动作。为了曝光区域Sd1的曝光，控制装置6在从曝光区域Sd1的曝光开始到该曝光区域Sd1的曝光结束期间，进行至少包括沿-Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。
在本实施方式中，在用于曝光区域Sd1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22不移动。换言之，在用于曝光区域Sd1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)停止。在用于曝光区域Sd1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的相对速度为零。即，在衬底P沿X轴方向实质上不移动的、用于曝光区域Sd1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22沿X轴方向不移动。如图17的(C)所示，在曝光区域Sd1的曝光开始时，第2部件22配置在位置Js。如图17的(D)所示，在曝光区域Sd1的曝光结束时，第2部件22配置在位置Js。即，在用于曝光区域Sd1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22的位置被维持在位置Js。
另外，在用于曝光区域Sd1的曝光的衬底P的扫描移动期间的至少一部分中，第2部件22也可以移动。
接下来对曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动进行说明。在用于曝光区域Sd1的曝光的衬底P的扫描移动动作结束后，进行曝光区域Sd1、Sd2间的衬底P的步进移动动作。在本实施方式中，在从曝光区域Sd1的曝光结束到曝光区域Sd2的曝光开始期间，控制装置6进行至少包含沿+X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。在曝光区域Sd1、Sd2间的衬底P的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(+X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。在本实施方式中，在曝光区域Sd1、Sd2间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。如图17的(E)所示，在曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动结束时，第2部件22配置在位置Jr。在曝光区域Sd1、Sd2间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22开始从位置Js的移动，并沿+X轴方向移动直到到达位置Jr。
接下来，对曝光区域Sd2的曝光进行说明。在曝光区域Sd1、Sd2间的衬底P的步进移动动作结束后，进行用于曝光区域Sd2的曝光的衬底P的扫描移动动作。在从曝光区域Sd2的曝光开始到该曝光区域Sd2的曝光结束期间，进行至少包含沿+Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。此外，在用于曝光区域Sd2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。
接下来，对曝光区域Sd2、Sd3间的步进移动进行说明。在从曝光区域Sd2的曝光结束到曝光区域Sd3的曝光开始期间，进行至少包含沿+X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。此外，在曝光区域Sd2、Sd3间的衬底P的步进移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。
以下，在对同一列Gd所包含的多个曝光区域Sd的每一个依次进行曝光的情况下，关于衬底P(衬底载台2)及第2部件22，控制装置6进行与参照图17的(C)～图17的(E)说明过的动作同样的动作。
如参照图15～图17所说明的那样，在本实施方式中，从某列(例如列Gc)所包含的曝光区域S(例如曝光区域Sc2)的曝光结束到与该列相同的列(列Gc)所包含的下一曝光区域S(例如曝光区域Sc3)的曝光开始的衬底P的第1步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从某列(例如列Gc)的曝光区域S(例如曝光区域Sc4)的曝光结束到与该列不同的列(例如列Gd)的曝光区域S(例如曝光区域Sd1)的曝光开始的衬底P的第2步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)是不同的。
在本实施方式中，作为一例，在第1步进移动期间，第2部件22持续移动；在第2步进移动期间的部分期间(进行第2动作的期间)内，第2部件22的移动停止。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始和曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置不同。在本实施方式中，如图17的(A)所示，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始，第2部件22配置在位置Jr。如图17的(D)所示，在曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22配置在位置Js。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束和曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置不同。在本实施方式中，如图17的(C)所示，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束，第2部件22配置在位置Js。如图17的(E)所示，在曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束，第2部件22配置在位置Jr。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)和曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22的移动方向是不同的。在本实施方式中，如图17的(A)、图17的(B)及图17的(C)所示，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。即，在第2步进移动期间，第2部件22沿-X轴方向移动。如图17的(D)及图17的(E)所示，在曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。即，在第1步进移动期间，第2部件22沿+X轴方向移动。
在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)和曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22的移动距离可以实质上相等，也可以不同。第1步进移动期间中的、第2部件22的移动距离与第2步进移动期间中的、第2部件22的移动距离相比可以长，也可以短。例如，在第1步进移动期间，第2部件22在位置Js与位置Jr之间移动的情况下，在第2步进移动期间，第2部件22可以在位置Jr与位置Jsm之间移动，也可以在位置Jr与位置Jm之间移动，还可以在位置Jr与位置Jrm之间移动。此外，在第2步进移动期间，第2部件22也可以在位置Jrm与位置Js之间移动，也可以在位置Jrm与位置Jsm之间移动，也可以在位置Jrm与位置Jm之间移动。此外，例如在第2步进移动期间，第2部件22在位置Jr与位置Js之间移动的情况下，在第1步进移动期间，第2部件22可以在位置Js与位置Jrm之间移动，也可以在位置Js与位置Jm之间移动，也可以在位置Js与位置Jsm之间移动。此外，在第2步进移动期间，第2部件22也可以在位置Jsm与位置Jr之间移动，也可以在位置Jsm与位置Jrm之间移动，也可以在位置Jsm与位置Jm之间移动。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)和曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22的移动速度可以实质上相等，也可以不同。第1步进移动期间中的第2部件22的移动速度与第2步进移动期间中的第2部件22的移动速度相比既可以高，也可以低。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Sc4、Sd1间的步进移动期间(第2步进移动期间)和曝光区域Sd1、Sd2间的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22的加速度(减速度)可以实质上相等，也可以不同。第1步进移动期间中的第2部件22的加速度与第2步进移动期间中的第2部件22的加速度相比既可以高，也可以低。
在本实施方式中，第2部件22能够沿X轴方向移动，第1、第2步进移动期间中的第2部件22的移动方向包含关于X轴方向的第2部件22的移动方向。同样，在本实施方式中，第1、第2步进移动期间中的第2部件22的移动距离包括关于X轴方向的第2部件22的移动距离。第1、第2步进移动期间中的第2部件22的移动速度包含关于X轴方向的第2部件22的移动速度。第1、第2步进移动期间中的第2部件22的加速度包含关于X轴方向的第2部件22的加速度。
另外，第2部件22也可以在XY平面内的至少2个方向上能够移动。例如，第2部件22能够分别沿X轴方向及Y轴方向移动。在第1步进移动期间和第2步进移动期间，XY平面内的、第2部件22相对于终端光学元件13的移动方向可以不同，移动距离也可以不同，移动速度也可以不同，加速度(减速度)也可以不同。
另外，第2部件22也可以沿X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ这6个方向能够移动。在第1步进移动期间和第2步进移动期间，这6个方向上的、第2部件22相对于终端光学元件13的移动方向可以不同，移动距离也可以不同，移动速度也可以不同，加速度(减速度)也可以不同。
另外，在第2步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。即，在第2步进移动期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的移动速度也可以不为零。换言之，在第2步进移动期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)也可以不停止。
此外，第2部件22也可以在第1步进移动期间及第2步进移动期间双方持续移动。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Sc4的从曝光开始到曝光结束的曝光期间(用于曝光区域Sc4的曝光的曝光期间)、及曝光区域Sc4、Sd1间的第2步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。此外，在曝光区域Sc4的从曝光开始到曝光结束的曝光期间(用于曝光区域Sc4的曝光的曝光期间)、曝光区域Sc4、Sd1间的第2步进移动期间、及曝光区域Sd1的从曝光开始到曝光结束的曝光期间(用于曝光区域Sd1的曝光的曝光期间)，第2部件22也可以持续移动。
另外，也可以在第1步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动停止，在第2步进移动期间的至少一部分中第2部件22的移动停止。第1步进移动期间中的第2部件22的移动停止时间与第2步进移动期间中的第2部件22的移动停止时间可以不同。例如，第2步进移动期间中的第2部件22的移动停止时间可以比第1步进移动期间中的第2部件22的移动停止时间长。另外，第2步进移动期间中的第2部件22的移动停止时间可以比第1步进移动期间中的第2部件22的移动停止时间短。
另外，在本实施方式中，在同一列Gc所包含的曝光区域Sc、Sc间的衬底P的第1步进移动期间，第2部件22沿-X轴方向移动。此外，在同一列Gd所包含的曝光区域Sd、Sd间的衬底P的第1步进移动期间，第2部件22沿+X轴方向移动。在从列Gc的曝光区域Sc4的曝光结束到列Gd的曝光区域Sd1的曝光开始的、衬底P的第2步进移动期间，第2部件22既可以沿例如-X轴方向移动，也可以向-X轴方向及+X轴方向两侧移动。
如以上所说明的那样，根据本实施方式，由于设置有能够在第1部件21的下方移动的第2部件22，所以在形成了液浸空间LS的状态下，即使衬底P等物体在XY平面内移动，也能够抑制例如液体LQ从液浸部件5与物体之间的空间流出或是在物体上残留液体LQ的情况。此外，还能够抑制液浸空间LS的液体LQ中产生气泡(气体部分)。
此外，在本实施方式中，由于在同一列所包含的曝光区域S的曝光结束到该列所包含的曝光区域S的曝光开始的、衬底P的第1步进移动期间中的第2部件22的动作(移动方式)、与从某列的曝光区域S的曝光结束到与该列不同的列的曝光区域S的曝光开始的、衬底P的第2步进移动期间中的第2部件22的动作(移动方式)不同，所以能够抑制液体LQ从液浸空间LS流出的情况、在衬底P(物体)上残留液体LQ的情况以及在液体LQ中产生气泡的情况中的至少一种情况。在衬底P的第1步进移动动作(第1步进移动期间中的衬底P的移动方式)与第2步进移动动作(第2步进移动期间中的衬底P的移动方式)不同的情况下，根据该衬底P的移动方式来确定第2部件22的动作(移动方式)，由此能够抑制液体LQ的流出等。
因此，能够抑制曝光不良的产生及不良器件的产生。
此外，在本实施方式中，第2部件22具有流体回收部27，所以能够抑制在液体回收部27的下表面与衬底P(物体)的上表面之间形成的第2界面LG2的形状变化。由此，能够抑制液浸空间LS的液体LQ从液浸部件5与衬底P(物体)之间的空间流出、在衬底P(物体)上残留液体LQ的情况。
此外，在本实施方式中，以使得与衬底P(物体)的相对移动(相对速度、相对加速度)变小的方式使第2部件22移动，由此在形成了液浸空间LS的状态下，即使物体以高速度移动，也能够抑制液体LQ从液浸空间LS流出、在衬底P(物体)上残留液体LQ、在液体LQ中产生气泡的情况。
此外，在本实施方式中，第1部件21配置在终端光学元件13的周围的至少一部分中，因此在形成了液浸空间LS的状态下，即使在物体移动或是第2部件22移动的情况下，也能够抑制在终端光学元件13与第1部件21之间压力变动、液体LQ的第3界面LG3的形状大幅变动的情况。因此，能够抑制例如在液体LQ中产生气泡、对终端光学元件13作用过剩的力的情况。此外，在本实施方式中，由于第1部件21实质上不移动，所以能够抑制在终端光学元件13与第1部件21之间压力大幅变动、液体LQ的第1界面LG1的形状大幅变动的情况。
另外，第1部件21也可以能够移动。另外，第1部件21也可以相对于终端光学元件13移动。第1部件21也可以相对于X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ这6个方向中的至少一个方向移动。例如，为了调整终端光学元件13与第1部件21之间的位置关系、或是调整第1部件21与第2部件22之间的位置关系，第1部件21也可以移动。此外，也可以与衬底P(物体)的移动的至少一部分并行地使第1部件21移动。例如，也可以在XY平面内移动比第2部件22短的距离。此外，第1部件21以比第2部件22低的速度移动也可以。此外，第1部件21以比第2部件22低的加速度移动也可以。
此外，在本实施方式中，对用于形成液浸空间LS的液体LQ进行供给的液体供给部31配置在第1部件21上，对衬底P(物体)上的液体LQ进行回收的流体回收部2配置在与第1部件21隔着间隙配置的第2部件22上。由此，通过从流体回收部27回收流体(液体LQ及气体的一方或双方)，即使第2部件22的温度变化，也能够抑制第1部件21的温度变化。因此能够抑制从液体供给部31供给的液体LQ的温度变化。
此外，在本实施方式中，从液体供给部31供给的液体LQ以与第1部件21的内侧面28及下表面23接触的方式流动。通过该液体LQ抑制第1部件21的温度变化。此外，通过该液体LQ调整第1部件21的温度。此外，从液体供给部31供给的液体LQ以与第2部件22的上表面25及下表面26接触的方式流动。通过该液体LQ抑制第2部件22的温度变化。此外，通过该液体LQ调整第2部件22的温度。
另外，也可以配置对第1部件21的温度进行调整的第1温度调整装置。第1温度调整装置可以包括配置在例如第1部件21的外表面上的帕尔贴元件。第1温度调整装置也可以包括向形成在第1部件21内部的流路供给温度调整用流体(液体及气体的一方或双方)的供给装置。另外，也可以配置对第2部件22的温度进行调整的第2温度调整装置。第2温度调整装置也可以包括配置在第2部件22的外表面的帕尔贴元件，还可以包括向形成在第2部件22内部的流路供给温度调整用流体的供给装置。
另外，在本实施方式中，也可以根据第2部件22的移动条件调整从液体供给部31的液体供给量。此外，也可以根据第2部件22的位置调整从液体供给部31的液体供给量。例如，第2部件22配置在第1端部位置及第2端部位置的至少一方时从液体供给部31的液体供给量也可以被调整成比第2部件22配置在中央位置时从液体供给部31的液体供给量多。此外，当第2部件22从第2端部位置向第1端部位置移动时，从相对于光路K配置在+X侧的液体供给部31的液体供给量也可以比从配置在-X侧的液体供给部31的液体供给量多。此外，第2部件22从第1端部位置向第2端部位置移动时，从相对于光路K配置在-X侧的液体供给部31的液体供给量也可以比从配置在+X侧的液体供给部31的液体供给量多。这样能够抑制在液体LQ中产生气体。
另外，在本实施方式中，为了抑制由衬底P的步进移动动作引起的液体LQ的残留、流出等，相对于衬底P的步进移动动作，能够使第2部件22沿步进方向(X轴方向)移动。但是，在衬底P的扫描移动动作及步进移动动作的至少一方，也可以使第2部件22沿扫描方向(Y轴方向)移动，以使得扫描方向(Y轴方向)上的、第2部件22与衬底P(物体)的相对速度差变小。
＜第2实施方式＞
关于第2实施方式进行说明。在以下的说明中，对与上述实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记并简化或省略其说明。
图18示意性示出在某列(例如列Ge)的曝光区域S(例如曝光区域Se2)被曝光后、对与该列不同的列(例如列Gf)的曝光区域S(例如曝光区域Sf1)进行曝光的状态的一例的图。关于Y轴方向，包含曝光区域Sf1的列Gf配置在包含曝光区域Se2的列Ge的相邻位置。列Gf配置在列Ge的+Y侧。
关于Y轴方向，曝光区域Sf1的位置与曝光区域Se2的位置不同。曝光区域Sf1与曝光区域Se2相比配置在+Y侧。关于X轴方向，曝光区域Sf1的位置与曝光区域Se2的位置不同。曝光区域Sf1与曝光区域Se2相比配置在+X侧。在本实施方式中，曝光区域Se2的+X侧的边界与曝光区域Sf1的-X侧的边界之间的、关于X轴方向的距离比曝光区域Sf2(曝光区域Se2、Sf1)的关于X轴方向的尺寸大。
关于X轴方向，曝光区域Sf2配置在曝光区域Sf1的相邻位置。关于X轴方向，曝光区域Sf3配置在曝光区域Sf2的相邻位置。关于X轴方向，曝光区域Sf4配置在曝光区域Sf3的相邻位置。曝光区域Sf2与曝光区域Sf1相比配置在-X侧。曝光区域Sf3与曝光区域Sf2相比配置在-X侧。曝光区域Sf4与曝光区域Sf3相比配置在-X侧。
控制装置6在形成了液体LQ的液浸空间LS的状态下，一边以使得衬底P相对于投影光学系统PL的投影区域PR沿图18中的箭头Src所示的移动轨迹相对地移动的方式重复进行扫描移动动作和步进移动动作，一边经由液体LQ对列Ge所包含的曝光区域Se1、Se2进行曝光，而后经由液体LQ对列Gf所包含的曝光区域Sf1进行曝光。此外，在列Gf所包含的曝光区域Sf1被曝光后，该列Gf所包含的多个曝光区域Sf2、Sf3、Sf4经由液体LQ被依次曝光。另外，衬底P相对于投影光学系统PL的投影区域PR也可以沿图18中的箭头Src2所示的移动轨迹相对地移动。
图19是示意性地示出在列Ge所包含的曝光区域Se2被曝光后、列Gf所包含的曝光区域Sf1被曝光时的第2部件22的动作(移动方式)的一例的图。
图19的(A)示出衬底P配置在曝光区域Se2的曝光结束位置(曝光区域Se2的扫描移动动作结束位置、曝光区域Se2、Sf1间的步进移动动作开始位置)的状态。
图19的(B)示出衬底P配置在从曝光区域Se2的曝光结束位置向曝光区域Sf1的曝光开始位置(曝光区域Sf1的扫描移动动作开始位置)移动途中的状态。
图19的(C)示出衬底P配置在曝光区域Sf1的曝光开始位置(曝光区域Sf1的扫描移动动作开始位置、曝光区域Se2、Sf1间的步进移动动作结束位置)的状态。
图19的(D)示出衬底P配置在曝光区域Sf1的曝光结束位置(曝光区域Sf1的扫描移动动作结束位置、曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动动作开始位置)的状态。
关于曝光区域Se2的曝光进行说明。为了曝光区域Se2的曝光，控制装置6在从曝光区域Se2的曝光开始到该曝光区域Se2的曝光结束期间进行至少包含沿+Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。在用于曝光区域Se2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。如图19的(A)所示，在曝光区域Se2的曝光结束时刻，第2部件22配置在位置Jr。
接下来对曝光区域Se2、Sf1间的步进移动进行说明。曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作在用于曝光区域Se2的曝光的、衬底P的扫描移动动作结束后进行。
从列Ge的曝光区域Se2的曝光结束到列Gf的曝光区域Sf1的曝光开始的、衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)比从同一列Ge所包含的曝光区域Se(例如曝光区域Se1)的曝光结束到下一曝光区域Se(例如曝光区域Se2)的曝光开始的、衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)长。
此外，从列Ge的曝光区域Se2的曝光结束位置到列Gf的曝光区域Sf1的曝光开始位置的、衬底P的步进移动距离比从同一列Ge所包含的曝光区域Se(例如曝光区域Se1)的曝光结束位置到下一曝光区域Se(例如曝光区域Se2)的曝光开始位置的、衬底P的步进移动距离长。
曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作包含衬底P至少沿X轴方向移动的动作。曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作包含衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向移动的动作、和衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿-Y轴方向移动的动作。
在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(-X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。在本实施方式中，在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。在衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22开始从位置Jr的移动，并沿-X轴方向移动直到到达位置Js。
在本实施方式中，曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作包括如图19的(A)及图19的(B)所示的、衬底P主要沿Y轴方向移动的第2动作、和如图19的(B)及图19的(C)所示的、衬底P沿X轴方向及Y轴方向双方移动的第1动作。第2动作包含衬底P主要沿+Y轴方向移动的动作。第1动作包含衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿-Y轴方向移动的动作。第1动作中的关于X轴方向的、衬底P的移动距离比第2动作中的关于X轴方向的、衬底P的移动距离大。如图19的(B)所示，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动动作的途中(第2动作的结束)，第2部件22配置在位置Jr。如图19的(C)所示，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动动作的结束(曝光区域Sf1的曝光开始)时，第2部件22配置在位置Js。
另外，曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作也可以包含衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向及-Y轴方向的一方或双方移动的动作、和衬底P一边沿+X轴方向移动一边沿+Y轴方向及-Y轴方向的一方或双方移动的动作。
在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间，在衬底P沿-X轴方向及+X轴方向移动的情况下，第2部件22既可以只沿-X轴方向移动，也可以沿-X轴方向及+X轴方向双方移动。例如，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间，在衬底P沿-X轴方向及+X轴方向移动的情况下，第2部件22也可以以使得与衬底P的相对速度变小的方式沿-X轴方向及+X轴方向双方移动。
在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22可以持续移动。在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。
接下来对曝光区域Sf1的曝光进行说明。为了曝光区域Sf1的曝光，控制装置6在从曝光区域Sf1的曝光开始到该曝光区域Sf2的曝光结束期间进行至少包含沿-Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。
在本实施方式中，在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22不移动。在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22的位置被维持在位置Js。如图19的(C)所示，在曝光区域Sf1的曝光开始时刻，第2部件22配置在位置Js。如图19的(D)所示，在曝光区域Sf1的曝光结束，第2部件22还配置在位置Js。
另外，在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间的至少一部分中，第2部件22也可以移动。另外，在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22也可以持续移动。控制装置6也可以控制驱动装置32，以使得在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22关于X轴方向移动，且在曝光区域Sf1的曝光结束时刻，第2部件22配置在位置Js。
接下来对曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动进行说明。在从曝光区域Sf1的曝光结束到曝光区域Sf2的曝光开始期间，进行至少包含沿+X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。此外，在曝光区域Sf1、Sf2间的衬底P的步进移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。
接下来对曝光区域Sf2的曝光进行说明。在曝光区域Sf1、Sf2间的衬底P的步进移动动作结束后，进行用于曝光区域Sf2的曝光的衬底P的扫描移动动作。在从曝光区域Sf2的曝光开始到该曝光区域Sf2的曝光结束期间，进行至少包含沿+Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。此外，在用于曝光区域Sf2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。
以下，在对同一列Gf所包含的多个曝光区域Sf的每一个依次曝光的情况下，关于衬底P(衬底载台2)及第2部件22，进行与上述动作同样的动作。
在本实施方式中，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始与在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置也是不同的。在本实施方式中，如图19的(A)所示，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始时刻，第2部件22配置在位置Jr。如图19的(D)所示，在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始时刻，第2部件22配置在位置Js。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束时刻与在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置是不同的。在本实施方式中，如图19的(C)所示，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束时刻，第2部件22配置在位置Js。在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻，第2部件22配置在位置Jr。
在本实施方式中，从某列Gf所包含的曝光区域Sf1的曝光结束到与该列为同一列的列Gf所包含的下一曝光区域Sf2的曝光开始的衬底P的第1步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)与从某列Ge的曝光区域Se2的曝光结束到与该列为不同列的列Gf的曝光区域Sf1的曝光开始的衬底P的第2步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)也是不同的。
例如，也可以是，在第1步进移动期间第2部件22持续移动，在第2步进移动期间的至少一部分，第2部件22的移动停止。
此外，在第1步进移动期间与第2步进移动期间中，第2部件22的移动方向也可以不同。在本实施方式中，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。即，在第2步进移动期间，第2部件22沿-X轴方向移动。在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。即，在第1步进移动期间，第2部件22沿+X轴方向移动。
此外，在第1步进移动期间与第2步进移动期间，第2部件22的移动距离也可以不同。第2步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的移动距离与第1步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的移动距离相比既可以长，也可以短。例如，可以是，在第2步进移动期间，第2部件22在位置Jr与位置Js之间移动，在第1步进移动期间，第2部件22在位置Jrm与位置Jsm之间移动。也可以是，在第2步进移动期间，第2部件22在位置Jrm与位置Jsm之间移动，在第1步进移动期间，第2部件22在位置Jr与位置Js之间移动。
此外，在第1步进移动期间与第2步进移动期间，第2部件22的移动速度也可以不同。第2步进移动期间的第2部件22相对于终端光学元件13的移动速度与第1步进移动期间的第2部件22相对于终端光学元件13的移动速度相比既可以高，也可以低。
此外，在第1步进移动期间与第2步进移动期间，第2部件22的加速度(减速度)也可以不同。第2步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的加速度与第1步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的加速度相比既可以高，也可以低。
此外，在曝光区域Se1、Se2间的第1步进移动期间，第2部件22可以持续移动。此外，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。此外，在曝光区域Sf1、Sf2间的第1步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。此外，在第1步进移动期间及第2步进移动期间双方，第2部件22也可以持续移动。
此外，在从曝光区域Se2的曝光开始到曝光结束的曝光期间和曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。
此外，也可以在从曝光区域Se2的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动动作期间)、曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间以及从曝光区域Sf1的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动动作期间)，第2部件22持续移动。
此外，在曝光区域Se1、Se2间的第1步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。此外，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。此外，在曝光区域Sf1、Sf2间的第1步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。
此外，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间的至少一部分中第2部件22的移动停止的情况下，在该第2步进移动期间中的、衬底P沿Y轴方向移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。
此外，也可以是，在从曝光区域Se2的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动期间)，第2部件22持续移动，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动停止。
此外，也可以是，在从曝光区域Se2的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动期间)及从曝光区域Sf1的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动期间)，第2部件22持续移动，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动停止。
如以上所说明的那样，在本实施方式中，也是以使得衬底P的第1步进移动期间中的第2部件22的动作(移动方式)与衬底P的第2步进移动期间中的第2部件22的动作(移动方式)不同的方式控制驱动装置32，由此抑制液体LQ从液浸空间LS的流出等。因此能够抑制曝光不良的产生及不良器件的产生。
＜第3实施方式＞
关于第3实施方式进行说明。在以下的说明中，对于与上述实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图20是示意性示出在某列(例如列Ge)的曝光区域S(例如曝光区域Se2)被曝光后、进行与该列不同的列(例如列Gf)的曝光区域S(例如曝光区域Sf1)的曝光的状态的一例的图。关于Y轴方向，包含曝光区域Sf1的列Gf配置在包含曝光区域Se2的列Ge的相邻位置。
列Gf配置在列Ge的+Y侧。
控制装置6在形成了液体LQ的液浸空间LS的状态下，一边以使得衬底P相对于投影光学系统PL的投影区域PR沿着图20中的箭头Srd所示的移动轨迹相对移动的方式反复进行扫描移动动作和步进移动动作，一边经由液体LQ对列Ge所包含的曝光区域Se1、Se2进行曝光，而后经由液体LQ对列Gf所包含的曝光区域Sf1进行曝光。此外，在列Gf所包含的曝光区域Sf1被曝光后，该列Gf所包含的多个曝光区域Sf2、Sf3、Sf4经由液体LQ被依次曝光。
图21是示意性地示出在列Ge所包含的曝光区域Se2被曝光后、列Gf所包含的曝光区域Sf1被曝光时的第2部件22的动作(移动方式)的一例的图。
图21的(A)示出衬底P配置在曝光区域Se2的曝光结束位置(曝光区域Se2的扫描移动动作结束位置、曝光区域Se2、Sf1间的步进移动动作开始位置)的状态。
图21的(B)示出衬底P配置在曝光区域Sf1的曝光开始位置(曝光区域Sf1的扫描移动动作开始位置、曝光区域Se2、Sf1间的步进移动动作结束位置)的状态。
图21的(C)示出衬底P配置在从曝光区域Sf1的曝光结束位置向曝光区域Sf2的曝光开始位置(曝光区域Sf2的扫描移动动作开始位置)移动的途中的状态。
图21的(D)示出衬底P配置在曝光区域Sf2的曝光开始位置(曝光区域Sf2的扫描移动动作开始位置、曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动动作结束位置)的状态。
关于曝光区域Se2的曝光进行说明。为了曝光区域Se2的曝光，控制装置6在从曝光区域Se2的曝光开始到该曝光区域Se2的曝光结束期间进行至少包含沿+Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。在用于曝光区域Se2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。如图21的(A)所示，在曝光区域Se2的曝光结束时刻，第2部件22配置在位置Jr。
接下来，对曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动进行说明。曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作在用于曝光区域Se2的曝光的衬底P的扫描移动动作结束后进行。
从列Ge的曝光区域Se2的曝光结束到列Gf的曝光区域Sf1的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)比从同一列Ge所包含的曝光区域Se(例如曝光区域Se1)的曝光结束到下一曝光区域Se(例如曝光区域Se2)的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)长。
此外，从列Ge的曝光区域Se2的曝光结束位置到列Gf的曝光区域Sf1的曝光开始位置的衬底P的步进移动距离比从同一列Ge所包含的曝光区域Se(例如曝光区域Se1)的曝光结束位置到下一曝光区域Se(例如曝光区域Se2)的曝光开始位置的衬底P的步进移动距离长。
曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作包含衬底P至少沿X轴方向移动的动作。曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作包含衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向移动的动作、和衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿-Y轴方向移动的动作。
在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(-X轴方向)移动。第2部件22以与衬底P的相对速度变小的方式移动。在本实施方式中，在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。如图21的(B)所示，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动结束(曝光区域Sf1的曝光开始)时，第2部件22配置在位置Js。
另外，曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作也可以包含衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向及-Y轴方向的一方或双方移动的动作、和衬底P一边沿+X轴方向移动一边沿+Y轴方向及-Y轴方向的一方或双方移动的动作。
在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间中，在衬底P沿-X轴方向及+X轴方向移动的情况下，第2部件22既可以只沿-X轴方向移动，也可以沿-X轴方向及+X轴方向双方移动。例如，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间，在衬底P沿-X轴方向及+X轴方向移动的情况下，第2部件22以与衬底P的相对速度变小的方式沿-X轴方向及+X轴方向双方移动。
在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22可以持续移动。在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。
接下来对曝光区域Sf1的曝光进行说明。为了曝光区域Sf1的曝光，控制装置6在从曝光区域Sf1的曝光开始到该曝光区域Sf1的曝光结束期间进行至少包含沿+Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22不移动。在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22的位置被维持在位置Js。如图21的(B)及图21的(C)所示，在曝光区域Sf1的曝光开始及曝光结束这两个时刻，第2部件22都配置在位置Js。
另外，在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间的至少一部分中，第2部件22也可以移动。另外，在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22也可以持续移动。控制装置6也可以控制驱动装置32，以使得在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22关于X轴方向移动，在曝光区域Sf1的曝光结束时刻，第2部件22配置在位置Js。
接下来对曝光区域Sf1、Sf2间的衬底P的步进移动进行说明。曝光区域Sf1、Sf2间的衬底P的步进移动动作在用于曝光区域Sf1的曝光的衬底P的扫描移动动作结束后进行。
在从曝光区域Sf1的曝光结束到曝光区域Sf2的曝光开始期间，控制装置6进行至少包含沿+X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。在曝光区域Sf1、Sf2间的衬底P的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(+X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。在本实施方式中，如图21的(C)及图21的(D)所示，在曝光区域Sf1、Sf2间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。
接下来对曝光区域Sf2的曝光进行说明。如图21的(D)所示，在曝光区域Sf2的曝光开始时刻，第2部件22配置在位置Jr。在从曝光区域Sf2的曝光开始到该曝光区域Sf2的曝光结束期间，控制装置6进行至少包含沿-Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。在本实施方式中，在用于曝光区域Sf2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。
以下，在对同一列Gf所包含的多个曝光区域Sf的每一个依次曝光的情况下，控制装置6关于衬底P(衬底载台2)及第2部件22进行与上述同样的动作。
在本实施方式中，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始与在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置也是不同的。在本实施方式中，如图21的(A)所示，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始，第2部件22配置在位置Jr。如图21的(C)所示，在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22配置在位置Js。
此外，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束与在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置是不同的。在本实施方式中，如图21的(B)所示，在曝光区域Se2、Sf1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束，第2部件22配置在位置Js。如图21的(D)所示，在曝光区域Sf1、Sf2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束，第2部件22配置在位置Jr。
在本实施方式中，从某列Gf所包含的曝光区域Sf1的曝光结束到与该列为同一列的列Gf所包含的下一曝光区域Sf2的曝光开始的衬底P的第1步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)与从某列Ge的曝光区域Se2的曝光结束到与该列不同的列Gf的曝光区域Sf1的曝光开始的衬底P的第2步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)是不同的。
另外，也可以在第1步进移动期间中，第2部件22持续移动，在第2步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动停止。
此外，在第1步进移动期间和第2步进移动期间，第2部件22的移动方向既可以相同，也可以不同。在本实施方式中，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间，第2部件22至少沿-X轴方向移动。在曝光区域Se1、Se2间的第1步进移动期间，第2部件22沿-X轴方向移动。在曝光区域Sf1、Sf2间的第1步进移动期间，第2部件22沿+X轴方向移动。
此外，在第1步进移动期间与第2步进移动期间，第2部件22的移动距离可以不同。第2步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的移动距离与第1步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的移动距离相比既可以长，也可以短。
此外，在第1步进移动期间与第2步进移动期间，第2部件22的移动速度可以不同。第2步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的移动速度与第1步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的移动速度相比既可以高，也可以低。
此外，在第1步进移动期间与第2步进移动期间，第2部件22的加速度(减速度)可以不同。第2步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的加速度与第1步进移动期间中的第2部件22相对于终端光学元件13的加速度相比既可以高，也可以低。
此外，在曝光区域Se1、Se2间的第1步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。此外，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。此外，在曝光区域Sf1、Sf2间的第1步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。此外，在第1步进移动期间及第2步进移动期间双方，第2部件22也可以持续移动。
此外，在从曝光区域Se2的曝光开始到曝光结束的曝光期间、和曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间，第2部件22也可以持续移动。
此外，在从曝光区域Se2的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动动作期间)、曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间、以及从曝光区域Sf1的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动动作期间)，第2部件22也可以持续移动。
此外，在曝光区域Se1、Se2间的第1步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。此外，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。此外，在曝光区域Sf1、Sf2间的第1步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。
此外，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间的至少一部分中，在第2部件22的移动停止的情况下，在该第2步进移动期间中的、衬底P沿Y轴方向移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。
此外，也可以是，在从曝光区域Se2的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动期间)，第2部件22持续移动，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动停止。
此外，也可以是，在从曝光区域Se2的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动期间)以及从曝光区域Sf1的曝光开始到曝光结束的曝光期间(扫描移动期间)，第2部件22持续移动，在曝光区域Se2、Sf1间的第2步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动停止。
如以上所说明，在本实施方式中，也是以使得衬底P的第1步进移动期间中的第2部件22的动作(移动方式)与衬底P的第2步进移动期间中的第2部件22的动作(移动方式)不同的方式控制驱动装置32，由此控制液体LQ从液浸空间LS的流出等。因此，能够抑制曝光不良的产生、以及不良器件的产生。
另外，在上述第2及第3实施方式中，在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作中，也可以使第2部件22动作以使得第2部件22遮挡曝光用光EL的光路。在上述第2及第3实施方式中，由于在曝光区域Se2、Sf1间的衬底P的步进移动动作中，衬底P沿-X轴方向的移动距离长，所以，也可以使第2部件22移动，使得第2部件22的开口35的+X侧端部与投影区域PR的+X侧端部相比位于-X侧。但是，在曝光区域Sf1的曝光开始时，必须使第2部件22移动到不遮挡曝光用光EL的光路的位置。
＜第4实施方式＞
对第4实施方式进行说明。在以下的说明中，对于与上述实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图22是示意性地示出在某列(例如列Gi)的曝光区域S(例如曝光区域Si2)被曝光后、进行与该列不同的列(例如列Gj)的曝光区域S(例如曝光区域Sj1)的曝光的状态的一例的图。关于Y轴方向，包含曝光区域Sj1的列Gj配置在包含曝光区域Si2的列Gi的相邻位置。列Gj与列Gi相比配置在+Y侧。
关于Y轴方向，曝光区域Sj1的位置与曝光区域Si2的位置不同。曝光区域Sj1与曝光区域Si2相比配置在+Y侧。关于X轴方向，曝光区域Sj1的位置与曝光区域Si2的位置不同。曝光区域Sj1与曝光区域Si2相比配置在+X侧。在本实施方式中，曝光区域Si2的+X侧的边界与曝光区域Sj1的-X侧的边界之间的、关于X轴方向的距离比曝光区域Sj2(曝光区域Si2、Sj1)的关于X轴方向的尺寸大。
关于X轴方向，曝光区域Sj2配置在曝光区域Sj1的相邻位置。关于X轴方向，曝光区域Sj3配置在曝光区域Sj2的相邻位置。关于X轴方向，曝光区域Sj4配置在曝光区域Sj3的相邻位置。曝光区域Sj2与曝光区域Sj1相比配置在-X侧。曝光区域Sj3与曝光区域Sj2相比配置在-X侧。曝光区域Sj4与曝光区域Sj3相比配置在-X侧。
控制装置6在形成了液体LQ的液浸空间LS的状态下，一边以使得衬底P相对于投影光学系统PL的投影区域PR沿图22中的箭头Sre所示的移动轨迹相对移动的方式重复进行扫描移动动作和步进移动动作，一边经由液体LQ对列Gi所包含的曝光区域Si1、Si2依次进行曝光，而后经由液体LQ对列Gj所包含的曝光区域Sj1进行曝光。此外，在列Gj所包含的曝光区域Sj1被曝光后，该列Gj所包含的多个曝光区域Sj2、Sj3、Sj4经由液体LQ被依次曝光。
在本实施方式中，关于Y轴方向的、列Gi的曝光区域Si(Si1、Si2)的尺寸Wi与关于Y轴方向的、列Gj的曝光区域Sj(Sj1～Sj4)的尺寸Wj不同。在本实施方式中，尺寸Wj比尺寸Wi小。在尺寸为Wi的曝光区域Si(Si1、Si2)被依次曝光后，尺寸为Wj的曝光区域Sj(曝光区域Sj1～Sj4)被依次曝光。
在本实施方式中，控制装置6对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Si1的曝光结束到曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)与从曝光区域Sj1的曝光结束到曝光区域Sj2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
此外，在本实施方式中，控制装置6对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Si1的曝光结束到曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)与从曝光区域Si2的曝光结束到曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
此外，在本实施方式中，控制装置6对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Si2的曝光结束到曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)与从曝光区域Sj1的曝光结束到曝光区域Sj2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
图23是示意性地示出在列Gi所包含的曝光区域Si1、Si2被曝光后后、列Gj所包含的曝光区域Sj1～Sj4被曝光时的第2部件22的动作(移动方式)的一例的图。
图23的(A)示出衬底P配置在曝光区域Si2的曝光结束位置(曝光区域Si2的扫描移动动作结束位置、曝光区域Si2、Sj1间的步进移动动作开始位置)的状态。
图23的(B)示出衬底P配置在曝光区域Sj1的曝光开始位置(曝光区域Sj1的扫描移动动作开始位置、曝光区域Si2、Sj1间的步进移动动作结束位置)的状态。
图23的(C)示出衬底P配置在曝光区域Sj1的曝光结束位置(曝光区域Sj1的扫描移动动作结束位置、曝光区域Sj1、Sj2间的步进移动动作开始位置)的状态。
图23的(D)示出衬底P配置在曝光区域Sj2的曝光开始位置(曝光区域Sj2的扫描移动动作开始位置、曝光区域Sj1、Sj2间的步进移动动作结束位置)的状态。
图23的(E)示出衬底P配置在曝光区域Sj2的曝光结束位置(曝光区域Sj2的扫描移动动作结束位置、曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动动作开始位置)的状态。
图23的(F)示出衬底P配置在曝光区域Sj3的曝光开始位置(曝光区域Sj3的扫描移动动作开始位置、曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动动作结束位置)的状态。
对曝光区域Si1的曝光进行说明。为了曝光区域Si1的曝光，控制装置6在从曝光区域Si1的曝光开始到该曝光区域Si1的曝光结束期间进行至少包含沿-Y轴方向移动的衬底P的扫描移动动作。在用于曝光区域Si1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。
接下来对曝光区域Si1、Si2间的步进移动动作进行说明。曝光区域Si1、Si2间的衬底P的步进移动动作在用于曝光区域Si1的曝光的衬底P的扫描移动动作结束后进行。
曝光区域Si1、Si2间的衬底P的步进移动动作包含衬底P至少沿X轴方向移动的动作。曝光区域Si1、Si2间的衬底P的步进移动动作包含衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿-Y轴方向移动的动作、和衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向移动的动作。
在曝光区域Si1、Si2间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(-X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。在曝光区域Si1、Si2间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。
接下来对曝光区域Si2的曝光进行说明。为了曝光区域Si2的曝光，控制装置6在从曝光区域Si2的曝光开始到该曝光区域Si2的曝光结束期间进行至少包含沿+Y轴方向移动的衬底P的扫描移动动作。在用于曝光区域Si2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Js向位置Jr移动。如图23的(A)所示，在曝光区域Si2的曝光结束时刻，第2部件22配置在位置Jr。
接下来对曝光区域Si2、Sj1间的步进移动进行说明。在用于曝光区域Si2的曝光的衬底P的扫描移动动作结束后，进行曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动动作。
从列Gi的曝光区域Si2的曝光结束到列Gj的曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)与从同一列Gi所包含的曝光区域Si(例如曝光区域Si1)的曝光结束到下一曝光区域Si(例如曝光区域Si2)的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)相比长。
此外，从列Gi的曝光区域Si2的曝光结束到列Gj的曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)与从同一列Gj所包含的曝光区域Sj(例如曝光区域Sj1)的曝光结束到下一曝光区域Sj(例如曝光区域Sj2)的曝光开始的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)相比长。
此外，从列Gi的曝光区域Si2的曝光结束位置到列Gj的曝光区域Sj1的曝光开始位置的、衬底P的步进移动距离与从同一列Gi所包含的曝光区域Si(例如曝光区域Si1)的曝光结束位置到下一曝光区域Si(例如曝光区域Si2)的曝光开始位置的、衬底P的步进移动距离相比长。
此外，从列Gi的曝光区域Si2的曝光结束位置到列Gj的曝光区域Sj1的曝光开始位置的、衬底P的步进移动距离与从同一列Gj所包含的曝光区域Sj(例如曝光区域Sj1)的曝光结束位置到下一曝光区域Sj(例如曝光区域Sj2)的曝光开始位置的、衬底P的步进移动距离相比长。
曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动动作包含衬底P至少沿X轴方向移动的动作。曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动动作包含衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向移动的动作、和衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿-Y轴方向移动的动作。
在曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(-X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。在曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22从位置Jr向位置Js移动。如图23的(B)所示，在曝光区域Si2、Sj1间的步进移动结束(曝光区域Sj1的曝光开始)时，第2部件22配置在位置Js。
另外，曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动动作也可以包含衬底P一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向及-Y轴方向的一方或双方移动的动作、和衬底P一边沿+X轴方向移动一边沿+Y轴方向及-Y轴方向的一方或双方移动的动作。
在曝光区域Si2、Sj1间的第2步进移动期间，在衬底P沿-X轴方向及+X轴方向移动的情况下，第2部件22既可以只沿-X轴方向移动，也可以沿-X轴方向及+X轴方向双方移动。例如，在曝光区域Si2、Sj1间的第2步进移动期间，在衬底P沿-X轴方向及+X轴方向移动的情况下，第2部件22可以以使得与衬底P的相对速度变小的方式沿-X轴方向及+X轴方向双方移动。
在曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)，第2部件22可以持续移动。在曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动期间(第2步进移动期间)的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。
另外，在本实施方式中，在曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动动作中，也可以使第2部件22动作以使得第2部件22遮挡曝光用光EL的光路。在本实施方式中，由于在曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动动作中，衬底P的沿-X轴方向的移动距离长，所以也可以使第2部件22动作，以使得第2部件22的开口35的+X侧端部与投影区域PR的+X侧端部相比位于-X侧。但是，在曝光区域Sj1的曝光开始时，必须使第2部件22移动到不遮挡曝光用光EL的光路的位置。
接下来对曝光区域Sj1的曝光进行说明。用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动动作在曝光区域Si2、Sj1间的衬底P的步进移动动作结束后进行。
从列Gj的曝光区域Sj(例如曝光区域Sj1)的曝光开始到该曝光区域Sj(曝光区域Sj1)的曝光结束的衬底P的扫描移动期间比从列Gi所包含的曝光区域Si(例如曝光区域Si1)的曝光开始到该曝光区域Si(曝光区域Si1)的曝光结束的衬底P的扫描移动期间短。
此外，从列Gj的曝光区域Sj(例如曝光区域Sj1)的曝光开始位置到该曝光区域Sj(曝光区域Sj1)的曝光结束位置的衬底P的扫描移动距离比从列Gi所包含的曝光区域Si(例如曝光区域Si1)的曝光开始位置到该曝光区域Si(曝光区域Si1)的曝光结束位置的衬底P的扫描移动距离短。
在本实施方式中，在用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22不移动。换言之，在用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)停止。在用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的相对速度为零。即，在衬底P沿X轴方向实质上不移动的、用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22沿X轴方向不移动。在用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22的位置被维持在位置Js。如图23的(B)及图23的(C)所示，在曝光区域Sj1的曝光开始及曝光结束双方，第2部件22配置在位置Js。
另外，在用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动期间的至少一部分中，第2部件22也可以移动。另外，在用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22也可以持续移动。控制装置6也可以对驱动装置32进行控制，以使得在用于曝光区域Sj1的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22关于X轴方向移动，在曝光区域Sj1的曝光结束时刻，第2部件22配置在位置Js。
接下来对曝光区域Sj1、Sj2间的衬底P的步进移动进行说明。在本实施方式中，在从曝光区域Sj1的曝光结束到曝光区域Sj2的曝光开始期间，控制装置6进行至少包含沿+X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。在曝光区域Sj1、Sj2间的衬底P的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(+X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。
如图23的(C)所示，在曝光区域Sj1、Sj2间的步进移动动作开始，第2部件22配置在位置Js。在本实施方式中，在曝光区域Sj1、Sj2间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Js向位置Jrm移动。如图23的(D)所示，在曝光区域Sj1、Sj2间的步进移动动作结束时刻，第2部件22配置在位置Jrm。在曝光区域Sj1、Sj2间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22开始从位置Js的移动，并沿+X轴方向移动直到到达位置Jrm。
接下来对曝光区域Sj2的曝光进行说明。在曝光区域Sj1、Sj2间的衬底P的步进移动动作结束后，进行用于曝光区域Sj2的曝光的衬底P的扫描移动动作。在本实施方式中，在从曝光区域Sj2的曝光开始到该曝光区域Sj2的曝光结束期间，控制装置6进行至少包含沿+Y轴方向移动的衬底P的扫描移动动作。
在本实施方式中，在用于曝光区域Sj2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Jrm向位置Jsm移动。如图23的(E)所示，在曝光区域Sj2的曝光结束时刻，第2部件22配置在位置Jsm。在用于曝光区域Sj2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22开始从位置Jrm的移动，并沿-X轴方向移动直到到达位置Jsm。
在用于曝光区域Sj2的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22可以持续移动。在用于曝光区域Sj2的曝光的衬底P的扫描移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动也可以停止。
接下来对曝光区域Sj2、Sj3间的衬底P的步进移动进行说明。在本实施方式中，在从曝光区域Sj2的曝光结束到曝光区域Sj3的曝光开始期间，控制装置6进行至少包含沿+X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。在曝光区域Sj2、Sj3间的衬底P的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(+X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。
在本实施方式中，在曝光区域Sj2、Sj3间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Jsm向位置Jrm移动。如图23的(F)所示，在曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动结束(曝光区域Sj3的曝光开始)时，第2部件22配置在位置Jrm。在曝光区域Sj2、Sj3间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22开始从位置Jsm的移动，并沿+X轴方向移动直到到达位置Jrm。
接下来对曝光区域Sj3的曝光进行说明。用于曝光区域Sj3的曝光的衬底P的扫描移动动作在曝光区域Sj2、Sj3间的衬底P的步进移动动作结束后进行。在本实施方式中，在从曝光区域Sj3的曝光开始到该曝光区域Sj3的曝光结束期间，控制装置6进行至少包含沿-Y轴方向的移动的衬底P的扫描移动动作。
在本实施方式中，在用于曝光区域Sj3的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22从位置Jrm向位置Jsm移动。在用于曝光区域Sj3的曝光的衬底P的扫描移动期间，第2部件22开始从位置Jrm的移动，并沿-X轴方向移动直到到达位置Jsm。
接下来对曝光区域Sj3、Sj4间的衬底P的步进移动进行说明。在曝光区域Sj3、Sj4间的步进移动动作开始，第2部件22配置在位置Jsm。在曝光区域Sj3、Sj4间的步进移动动作结束时刻，第2部件22配置在位置Jrm。
在从曝光区域Sj3的曝光结束到曝光区域Sj4的曝光开始期间，控制装置6进行至少包含沿+X轴方向的移动的衬底P的步进移动动作。在曝光区域Sj3、Sj4间的衬底P的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向(+X轴方向)移动。第2部件22以使得与衬底P的相对速度变小的方式移动。
在曝光区域Sj3、Sj4间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22从位置Jsm向位置Jrm移动。在曝光区域Sj3、Sj4间的衬底P的步进移动期间(第1步进移动期间)，第2部件22开始从位置Jsm的移动，并沿+X轴方向移动直到到达位置Jrm。
以下，在对同一列Gj所包含的多个曝光区域Sj的每一个依次进行曝光的情况下，控制装置6关于衬底P(衬底载台2)及第2部件22使之进行与上述同样的动作。
在本实施方式中，在曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置是不同的。在本实施方式中，在曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22配置在位置Jr。在曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22配置在位置Jsm。在本实施方式中，在曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，原点(中心位置Jm)与第2部件22之间的距离是不同的。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置是不同的。在本实施方式中，在曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻，第2部件22配置在位置Js。在曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻，第2部件22配置在位置Jrm。在本实施方式中，在曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，原点(中心位置Jm)与第2部件22之间的距离是不同的。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置是不同的。在本实施方式中，在曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始，第2部件22配置在位置Jr。在曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，第2部件22配置在位置Jsm。在本实施方式中，在曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的开始与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的开始，原点(中心位置Jm)与第2部件22之间的距离是不同的。
此外，在本实施方式中，在曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束时刻与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻，第2部件22相对于终端光学元件13(第1部件21)的位置是不同的。在本实施方式中，在曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束时刻，第2部件22配置在位置Js。在曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻，第2部件22配置在位置Jrm。在本实施方式中，在曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间(第2步进移动期间)的结束时刻与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间(第1步进移动期间)的结束时刻，原点(中心位置Jm)与第2部件22之间的距离是不同的。
如上所述，在本实施方式中，从尺寸为Wi的曝光区域Si1的曝光结束到尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从尺寸为Wj的曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)是不同的。
此外，在本实施方式中，从尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从尺寸为Wj的曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)是不同的。
在本实施方式中，从尺寸为Wi的曝光区域Si1的曝光结束到尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离、与从尺寸为Wj的曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离是不同的。在本实施方式中，在从尺寸为Wi的曝光区域Si1的曝光结束到尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间，第2部件22在位置Jr与位置Jm之间移动。在从尺寸为Wj的曝光区域Sj2的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj3的曝光开始的衬底P的步进移动期间，第2部件22在位置Jrm与位置Jsm之间移动。在本实施方式中，从尺寸为Wj的曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离比从尺寸为Wi的曝光区域Si1的曝光结束到尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离短。另外，曝光区域Sj1、Sj2间(Sj2、Sj3间)的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离与曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离相比既可以长，也可以实质上相等。
此外，在本实施方式中，从尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离、与从尺寸为Wj的曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离是不同的。在本实施方式中，在从尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间，第2部件22在位置Jr与位置Jm之间移动。在从尺寸为Wj的曝光区域Sj2的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj3的曝光开始的衬底P的步进移动期间，第2部件22在位置Jrm与位置Jsm之间移动。在本实施方式中，从尺寸为Wj的曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离比从尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的第2部件22的移动距离短。另外，曝光区域Sj1、Sj2间(Sj2、Sj3间)的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离与曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离相比既可以长，也可以实质上相等。
另外，第2部件22不仅可以沿X轴方向移动，还可以沿X轴方向及Y轴方向移动。第2部件22的移动距离可以是在该XY平面内的移动距离。此外，在第2部件22能够沿X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ这6个方向移动的情况下，第2部件22的移动距离也可以是该6个方向上的移动距离。
此外，在本实施方式中，从曝光区域Si1的曝光结束到曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动方向与从曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动方向也可以是不同的。
此外，在本实施方式中，从曝光区域Si2的曝光结束到曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动方向与从曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动方向也可以是不同的。
此外，在本实施方式中，从曝光区域Si1的曝光结束到曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动速度与从曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动速度也可以是不相同的。
例如，曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间中的、第2部件22的移动速度与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间中的、第2部件22的移动速度相比既可以低，也可以高。
此外，在本实施方式中，从曝光区域Si2的曝光结束到曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动速度与从曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的移动速度也可以是不同的。
例如，曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间中的、第2部件22的移动速度与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间中的、第2部件22的移动速度相比既可以低，也可以高。
另外，第2部件22不仅可以沿X轴方向移动，还可以沿X轴方向及Y轴方向移动。第2部件22的移动速度可以是该XY平面内的移动速度。此外，在第2部件22能够沿X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ这6个方向移动的情况下，第2部件22的移动速度也可以是沿这6个方向的移动速度。
此外，在本实施方式中，从曝光区域Si1的曝光结束到曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的加速度(减速度)与从曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的加速度(减速度)也可以是不同的。例如，曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间中的、第2部件22的加速度(减速度)与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间中的、第2部件22的加速度(减速度)相比既可以低，也可以高。
此外，在本实施方式中，从曝光区域Si2的曝光结束到曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的加速度(减速度)与从曝光区域Sj1(或Sj2)的曝光结束到曝光区域Sj2(或Sj3)的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的加速度(减速度)也可以是不同的。例如，曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间的第2部件22的加速度(减速度)与曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间的第2部件22的加速度(减速度)相比既可以低，也可以高。
另外，第2部件22不仅可以沿X轴方向移动，还可以沿X轴方向及Y轴方向移动。第2部件22的加速度(减速度)也可以是该XY平面内的加速度(减速度)。此外，在第2部件22能够沿X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ这6个方向移动的情况下，第2部件22的加速度(减速度)也可以是该6个方向上的加速度(减速度)。
另外，也可以是，在曝光区域Si1、Si2间的步进移动期间及曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间的一方的步进移动期间中，第2部件22持续移动，在另一方的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动停止。
另外，也可以是，在曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间及曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间的一方的步进移动期间，第2部件22持续移动，在另一方的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22的移动停止。
如以上所说明的那样，在本实施方式中，对驱动装置32进行控制，使得从尺寸为Wi的曝光区域Si1的曝光结束到尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从尺寸为Wj的曝光区域Sj1的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同，由此抑制液体LQ从液浸空间LS的流出等。因此，能够抑制曝光不良的产生、及不良器件的产生。
此外，在本实施方式中，对驱动装置32进行控制，使得从尺寸为Wi的曝光区域Si2的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj1的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从尺寸为Wj的曝光区域Sj1的曝光结束到尺寸为Wj的曝光区域Sj2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同，由此抑制液体LQ从液浸空间LS的流出等。因此，能够抑制曝光不良的产生、及不良器件的产生。
图24示意性地示出关于Y轴方向对尺寸为Wm的曝光区域Sm1、Sm2依次曝光、并关于Y轴方向对尺寸为Wn的曝光区域Sn1、Sn2依次曝光的例子。在图24中，尺寸Wn比尺寸Wm小。曝光区域Sm1、Sm2包含于列Gm。曝光区域Sn1、Sn2包含于列Gn。列Gn配置在列Gm的+Y侧。另外，列Gn也可以配置在列Gm的-Y侧。
在列Gm的曝光区域Sm1、Sm2被依次曝光后，列Gn的曝光区域Sn1、Sn2被依次曝光。另外，也可以在列Gn的曝光区域Sn1、Sn2被依次曝光后，列Gm的曝光区域Sm1、Sm2被依次曝光。
在图24所示的例子中，对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Sm1的曝光结束到曝光区域Sm2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从曝光区域Sn1的曝光结束到曝光区域Sn2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
图25示意性地示出关于Y轴方向尺寸为Wm的曝光区域Sm1、Sm2被依次曝光、关于Y轴方向尺寸为Wn的曝光区域Sn1、Sn2被依次曝光的例子。在图25中，尺寸Wn比尺寸Wm小。曝光区域Sm1、Sm2及曝光区域Sn1、Sn2包含在列Gmn中。在曝光区域Sm1、Sm2被依次曝光后，曝光区域Sn1、Sn2被依次曝光。另外，也可以在曝光区域Sn1、Sn2被依次曝光后，曝光区域Sm1、Sm2被依次曝光。
在图25所示的例子中，对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Sm1的曝光结束到曝光区域Sm2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从曝光区域Sn1的曝光结束到曝光区域Sn2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
图26示意性地示出关于Y轴方向尺寸为Wm的曝光区域Sm1、Sm2被依次曝光、关于Y轴方向尺寸为Wn的曝光区域Sn1、Sn2被依次曝光的例子。在图26中，尺寸Wn比尺寸Wm小。曝光区域Sm1包含于列Gm1。曝光区域Sm2包含于列Gm2。列Gm1与列Gm2不同。列Gm2配置在列Gm1的+Y侧。另外，列Gm2也可以配置在列Gm1的-Y侧。曝光区域Sn1包含于列Gn1。曝光区域Sn2包含于列Gn2。列Gn1与列Gn2不同。列Gn2配置在列Gn1的+Y侧。另外，列Gn2也可以配置在列Gn1的-Y侧。在图26所示的例子中，扫描移动方向也是Y轴方向。曝光区域Sm1、Sm2被依次曝光后，曝光区域Sn1、Sn2被依次曝光。另外，也可以列Gn的曝光区域Sn1、Sn2被依次曝光后，列Gm的曝光区域Sm1、Sm2被依次曝光。
在图26所示的例子中，对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Sm1的曝光结束到曝光区域Sm2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)与从曝光区域Sn1的曝光结束到曝光区域Sn2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
在图24、图25及图26所示的例子中，例如，曝光区域Sm1、Sm2间的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离可以比曝光区域Sn1、Sn2间的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离长。例如，也可以是，在曝光区域Sm1、Sm2间的步进移动期间，第2部件22在位置Jr与位置Js之间移动，在曝光区域Sn1、Sn2间的步进移动期间，第2部件22在位置Jrm与位置Jsm之间移动。
图27示意性地示出关于Y轴方向尺寸分别为Wp、Wq的曝光区域Sp、Sq被依次曝光，关于Y轴方向尺寸为Wr的曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光的例子。在图27中，尺寸Wq比尺寸Wp小。另外，尺寸Wq比尺寸Wp大也可以。在图27所示的例子中，尺寸Wr与尺寸Wp实质上相等。另外，尺寸Wr可以与尺寸Wq实质上相等。另外，尺寸Wr也可以与尺寸Wp、Wq不同。尺寸Wr与尺寸Wp、Wq相比既可以小，也可以大。尺寸Wr也可以比尺寸Wp及尺寸q的一方大且比另一方小。
曝光区域Sp、Sq包含于列Gpq。曝光区域Sr1、Sr2包含于列Gr。列Gpq配置在列Gr的+Y侧。另外，列Gpq也可以配置在列Gr的-Y侧。列Gpq的曝光区域Sp、Sq被依次曝光后，列Gr的曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光。另外，也可以是，列Gr的曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光后，列Gpq的曝光区域Sp、Sq被依次曝光。
在图27所示的例子中，对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Sp的曝光结束到曝光区域Sq的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从曝光区域Sr1的曝光结束到曝光区域Sr2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
图28示意性地示出关于Y轴方向尺寸分别为Wp、Wq的曝光区域Sp、Sq被依次曝光，关于Y轴方向尺寸为Wr的曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光的例子。在图28中，尺寸Wq比尺寸Wp小。另外，尺寸Wq也可以比尺寸Wp大。在图28所示的例子中，尺寸Wr与尺寸Wp实质上相等。另外，尺寸Wr也可以与尺寸Wq实质上相等。另外，尺寸Wr也可以与尺寸Wp、Wq不同。尺寸Wr与尺寸Wp、Wq相比既可以小，也可以大。尺寸Wr也可以比尺寸Wp及尺寸q的一方大且比另一方小。
曝光区域Sp、Sq及曝光区域Sr1、Sr2包含于列Gpqr中。列Gpqr的曝光区域Sp、Sq被依次曝光后、曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光。另外，也可以是，曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光后、曝光区域Sp、Sq被依次曝光。
在图28所示的例子中，对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Sp的曝光结束到曝光区域Sq的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)、与从曝光区域Sr1的曝光结束到曝光区域Sr2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
图29示意性地示出关于Y轴方向尺寸分别为Wp、Wq的曝光区域Sp、Sq被依次曝光、关于Y轴方向尺寸为Wr的曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光的例子。在图29中，尺寸Wq比尺寸Wp小。另外，尺寸Wq也可以比尺寸Wp大。在图29所示的例子中，尺寸Wr与尺寸Wp实质上相等。另外，尺寸Wr也可以与尺寸Wq实质上相等。另外，尺寸Wr也可以与尺寸Wp、Wq不同。尺寸Wr相对于尺寸Wp、Wq既可以小，也可以大。尺寸Wr也可以大于尺寸Wp及尺寸q的一方而小于另一方。
曝光区域Sp包含于列Gp。曝光区域Sq包含于列Gq。列Gp与列Gq不同。列Gq配置于列Gp的+Y侧。另外，列Gq也可以配置在列Gp的-Y侧。曝光区域Sr1包含于列Gr1。曝光区域Sr2包含于列Gr2。列Gr1与列Gr2不同。列Gr2配置在列Gr1的+Y侧。另外，列Gr2也可以配置在列Gr1的-Y侧。在图29所示的例子中，扫描移动方向为Y轴方向。曝光区域Sp、Sq被依次曝光后，曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光。另外，也可以是，在曝光区域Sr1、Sr2被依次曝光后，曝光区域Sp、Sq被依次曝光。
在图29所示的例子中，对驱动装置32进行控制，使得从曝光区域Sp的曝光结束到曝光区域Sq的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)与从曝光区域Sr1的曝光结束到曝光区域Sr2的曝光开始的衬底P的步进移动期间中的、第2部件22的动作(移动方式)不同。
在图27、图28及图29所示的例子中，例如，曝光区域Sr1、Sr2间的步进移动期间中的、第2部件22的移动距离也可以比曝光区域Sp、Sq间的步进移动期间中的第2部件22的移动距离长。例如，也可以是，在曝光区域Sr1、Sr2间的步进移动期间，第2部件22在位置Jr与位置Js之间移动，在曝光区域Sp、Sq间的步进移动期间，第2部件22在位置Jrm与位置Jsm之间移动。
＜第5实施方式＞
对第5实施方式进行说明。在以下的说明中，对于与上述实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图30是示出关于X轴方向的、衬底P(衬底载台2)的速度及第2部件22的速度与时间的关系的一例的图。在图30所示的图中，横轴为时间，纵轴为速度。在图30中，线LP表示衬底P(衬底载台2)的速度，线L22表示第2部件22的速度。线LR表示衬底P(衬底载台2)与第2部件22的相对速度。
在图30中，期间Tc是进行扫描移动动作的期间。在例如图11所示的例子中，期间Tc1对应于衬底P的从位置d1向位置d2的扫描移动期间，期间Tc2对应于衬底P的从位置d3向位置d4的扫描移动期间，期间Tc3对应于衬底P的从位置d5向位置d6的扫描移动期间。此外，期间Ts为进行步进移动动作的期间。在例如图11所示的例子中，期间Ts1对应于衬底P的从位置d2向位置d3的步进移动期间，期间Ts2对应于衬底P的从位置d4向位置d5的步进移动期间。
如图30所示，在本实施方式中，步进移动期间Ts中的关于X轴方向的、第2部件22的移动速度比衬底P(衬底载台2)的移动速度低。
另外，第2部件22的移动速度也可以与衬底P(衬底载台2)的移动速度实质上相等，还可以比衬底P(衬底载台2)的移动速度高。即，衬底P(衬底载台2)与第2部件22相比，既可以以高速移动，也可以以低速移动，还可以以相同的速度移动。
此外，如图30所示，在本实施方式中，步进移动期间Ts中的关于X轴方向的、第2部件22的加速度比衬底P(衬底载台2)的加速度低。另外，第2部件22的加速度也可以与衬底P(衬底载台2)的加速度相等，还可以比衬底P(衬底载台2)的加速度高。
此外，如图30所示，在本实施方式中，控制装置6对驱动装置32进行控制，使得在从曝光区域S(例如曝光区域S1)的曝光结束到下一曝光区域S(例如曝光区域S2)的曝光开始的衬底P的步进移动期间，第2部件22沿+X轴方向以第1移动条件移动，在从曝光区域S2的曝光开始到曝光结束的衬底P的曝光期间(扫描移动期间)，第2部件22沿-X轴方向以与第1移动条件不同的第2移动条件移动。
第1移动条件、第2移动条件包括第2部件22的移动速度。在本实施方式中，第1移动条件、第2移动条件包括关于X轴方向的、第2部件22的移动速度。
此外，第1移动条件、第2移动条件包括第2部件22的加速度(减速度)。在本实施方式中，第1移动条件、第2移动条件包括关于X轴方向的、第2部件22的加速度(减速度)。
例如，如图30所示，在步进移动期间Ts，第2部件22以速度(最高速度)Va移动。在扫描移动期间(曝光期间)Tc，第2部件22以速度(最高速度)Vb移动。
在本实施方式中，扫描移动期间(曝光期间)Tc中的第2部件22的移动速度Vb比步进移动期间Ts中的第2部件22的移动速度Va低。另外，在本实施方式中，第2部件22的移动速度包括相对于终端光学元件13的速度(相对速度)的绝对值。
此外，在本实施方式中，扫描移动期间(曝光期间)Tc中的第2部件22的加速度比步进移动期间Ts中的第2部件22的加速度低。另外，在本实施方式中，第2部件22的加速度包括相对于终端光学元件13的加速度的绝对值。
在本实施方式中，在扫描移动期间(曝光期间)Tc的至少一部分中，第2部件22以恒定速度移动。在本实施方式中，第2部件22在扫描移动期间(曝光期间)Tc的一部分中以恒定的速度Vb移动。在步进移动期间Ts的至少一部分中，第2部件22也可以以恒定速度移动。在扫描移动期间(曝光期间)Tc第2部件22以恒定速度移动的时间Tcc比在步进移动期间Ts第2部件22以恒定速度移动的时间长。
另外，在步进移动期间Ts中，第2部件22也可以不以恒定速度移动。另外，在扫描移动期间(曝光期间)Tc中，第2部件22也可以不以恒定速度移动。
此外，在本实施方式中，步进移动期间Ts中的关于X轴方向的第2部件22的移动距离比衬底P(衬底载台2)的移动距离短。例如，步进移动期间Ts中的第2部件22的移动距离可以是衬底P(衬底载台2)的移动距离的45～65％。例如，第2部件22的移动距离可以是衬底P(衬底载台2)的移动距离的45％、50％、55％、60％、65％中的任意一个。在本实施方式中，步进移动期间Ts中的第2部件22的移动距离为位置Jr与位置Jm之间的距离。此外，在本实施方式中，步进移动期间Ts中的关于X轴方向的第2部件22的移动距离比某曝光区域S的中心与相对于该曝光区域S关于X轴方向相邻的曝光区域S的中心之间的距离(距离A)短。例如，步进移动期间Ts中的第2部件22的移动距离可以是距离A的45～65％。例如，步进移动期间Ts中的第2部件22的移动距离可以是距离A的45％、50％、55％、60％、65％中的任意一个。此外，步进移动期间Ts中的关于X轴方向的第2部件22的移动距离比关于X轴方向的1个曝光区域S的尺寸(尺寸B)短。例如，步进移动动作中的第2部件22的移动距离可以是尺寸B的45～65％。例如，步进移动动作中的第2部件22的移动距离可以为尺寸B的45％、50％、55％、60％、65％中的任意一个。例如，在关于X轴方向的、曝光区域S的尺寸(尺寸B)为26mm的情况下，第2部件22的移动距离也可以约为14mm。
第2部件22的移动距离可以根据例如衬底P的表面条件来确定。衬底P的表面条件包含形成衬底P的表面的感光膜的表面上的液体LQ的接触角(后退接触角等)。此外，衬底P的表面条件包括形成衬底P的表面的保护膜(表面涂覆膜)的表面上的液体LQ的接触角(后退接触角等)。另外，衬底P的表面例如可以由防止反射膜形成。另外，第2部件22的移动距离也可以通过预备实验或是模拟手段求出，以抑制在步进移动动作中液体LQ从液浸空间LS的流出(残留)。
如以上所说明的那样，根据本实施方式，由于第2部件22以步进移动期间Ts中的第2部件22的移动条件与扫描移动期间(曝光期间)Tc中的第2部件22的移动条件不同的方式移动，所以能够抑制液体LQ从液浸空间LS的流出等。
在本实施方式中，步进移动期间Ts中的衬底P(衬底载台2)的移动与扫描移动期间(曝光期间)Tc中的衬底P(衬底载台2)的移动不同。因此，根据该衬底P(衬底载台2)的移动确定第2部件22的移动条件，由此抑制液体LQ的流出等。因此，能够抑制曝光不良的产生以及不良器件的产生。
图31A～图31C是示出步进移动期间Ts中的、关于X轴方向的衬底P(衬底载台2)的速度及第2部件22的速度与时间的关系的一例的图。在图31A～图31C所示的图中，横轴为时间，纵轴为速度。在图31A～图31C中，线LP表示衬底P(衬底载台2)的速度，线L22表示第2部件22的速度。
图31A示出在步进移动期间Ts衬底P向X轴方向的一侧(例如+X轴方向)以速度Vc移动的状态、及以速度Vd移动的状态的一例。速度Vd比速度Vc高。在图31A所示的例子中，在衬底P沿+X轴方向以速度Vc移动的状态下，第2部件22沿+X轴方向以加速度Ac移动。在衬底P沿+X轴方向以速度Vd移动的状态下，第2部件22沿+X轴方向以加速度Ad移动。加速度Ad比加速度Ac高。图31A示出在衬底P的低速移动区域中第2部件22以低加速度移动、在衬底P的高速移动区域中第2部件22以高加速度移动的例子。
图31B示出在步进移动期间Ts中、衬底P向X轴方向的一侧(例如+X轴方向)以速度Ve移动的状态、及以速度Vf移动的状态的一例。速度Vf比速度Ve高。在图31B所示的例子中，在衬底P沿+X轴方向以速度Ve移动的状态下，第2部件22沿+X轴方向以加速度Ae移动。在衬底P沿+X轴方向以速度Vf移动的状态下，第2部件22沿+X轴方向以加速度Af移动。加速度Af比加速度Ae低。图31B示出在衬底P的低速移动区域中第2部件22以高加速度移动、在衬底P的高速移动区域中第2部件22以低加速度移动的例子。
图31C示出在步进移动期间Ts、衬底P向X轴方向的一侧(例如+X轴方向)以速度Vg移动的状态、及以速度Vh移动的状态的一例。速度Vh比速度Vg高。在图31C所示的例子中，在衬底P沿+X轴方向以速度Vg移动的状态下，第2部件22沿+X轴方向以加速度Ag移动。在衬底P沿+X轴方向以速度Vh移动的状态下，第2部件22沿+X轴方向以加速度Ah移动。在本实施方式中，加速度Ag与加速度Ah实质上相等。在本实施方式中，第2部件22实质上以等加速度移动，直到从关于X轴方向的速度为零的状态及最大速度值(最高速度)的状态的一方变为另一方。
另外，图31A～图31C所示的衬底P(衬底载台2)的速度及第2部件22的速度与时间的关系不仅能够适用于参照图11、图14及图15所说明的步进移动期间，还能够适用于参照图16～图21所说明的步进移动期间(第1、第2步进移动期间)及参照图22～图29所说明的步进移动期间中的各个期间。
例如，在参照图16～图21所说明的实施方式的第2步进移动期间，衬底P例如沿+X轴方向以从速度Vj向比该速度Vj高的速度Vk变化的方式移动的情况下，在衬底P沿+X轴方向以速度Vj移动的状态下，第2部件22沿+X轴方向以加速度Aj移动，而在衬底P沿+X轴方向以速度Vk移动的状态下，第2部件22沿+X轴方向以比加速度Aj低的加速度Ak移动。另外，加速度Ak可以比加速度Aj高。此外，在例如参照图22及图23所说明的、曝光区域Si2、Sj1间的步进移动期间及曝光区域Sj2、Sj3间的步进移动期间的一方或双方中，能够使用参照图31A～图31C所说明的、衬底P(衬底载台2)的速度及第2部件22的速度与时间的关系。
图32A及图32B是示出扫描移动期间Tc中的、关于X轴方向的第2部件22的速度与时间的关系的一例的图。在图32A及图32B所示的图中，横轴为时间，纵轴为速度。在图32A及图32B中，线L22表示第2部件22的速度。
图32A示出在扫描移动期间Tc的一部分期间中，第2部件22以恒定速度Vm移动的例子。在扫描移动期间Tc的一部分期间中，第2部件22以速度Vm等速移动。在本实施方式中，速度Vm是扫描移动期间Tc中的第2部件22的最高速度。在图32A所示的例子中，第2部件22实质上以等加速度移动，直到从关于X轴方向的速度为零的状态及最大速度值(最高速度)的状态的一方变为另一方。另外，在扫描移动期间Tc的一部分期间中，第2部件22可以以比该扫描移动期间Tc中的最高速度低的速度等速移动。
图32B示出在扫描移动期间Tc的一部分期间中第2部件22以恒定速度Vn移动的例子。在扫描移动期间Tc的一部分期间中，第2部件22以速度Vn等速移动。在本实施方式中，速度Vn为扫描移动期间Tc中的第2部件22的最高速度。在图32B所示的例子中，第2部件22关于X轴方向从以速度Vn1移动的状态经以速度Vn2移动的状态变化成以速度(最高速度)Vn移动的状态。速度Vn1比速度Vn2低。在本实施方式中，第2部件22以速度Vn2移动期间的、第2部件22的加速度An2比第2部件22以速度Vn1移动期间的、第2部件22的加速度An1低。换言之，第2部件22在低速移动区域以高加速度移动，而在高速移动区域以低加速度移动。
另外，在上述第1～第5实施方式中，如图33所示，第1部件21的至少一部分可以与终端光学元件13的射出面12相对。在图33所示的变形例中，第1部件21具有配置在开口34周围的上表面44。在开口34的上端周围配置上表面44。在开口34的下端周围配置下表面23。上表面44的一部分与射出面12相对。此外，在图33所示的例子中，第2部件22的上表面25的一部分也与射出面12相对。
另外，如图34所示，第1部件的下表面23可以与射出面12相比配置在+Z侧。另外，关于Z轴方向的下表面23的位置(高度)与射出面12的位置(高度)可以实质上相等。第1部件的下表面23也可以配置在射出面12的-Z侧。
另外，在上述各实施方式中，液浸部件5除了开口35以外，没有使第1空间SP1与第2空间SP2流体性连接的流路。但是，例如也可以在相对于光路K而言开口35的外侧形成使第1空间SP1与第2空间SP2流体性连接的开口(孔)。
另外，在上述的各实施方式中，液浸部件5具有第2部件22的朝向+Z轴方向的上表面25隔着间隙而与在第1部件21的开口34的周围扩展的、朝向-Z轴方向的下表面23相对的结构。在变形例，液浸部件5S可以具有上述以外的结构。在一例中，液浸部件5S包括：配置在光学部件(终端光学元件13)的周围的至少一部分中的第1部件21S；配置在光学部件(终端光学元件13)的周围的至少一部分中的、具有流体回收部27S的可动的第2部件22S，如图35所示，能够配置第1部件21S和第2部件22S，使得在第1部件21S的能够供曝光用光EL通过的第1部件21S的开口34S的周围且在开口34S附近扩展的下表面23S不与第2部件22S相对。在另一例中，液浸部件5T包括：配置在光学部件(终端光学元件13)的周围的至少一部分中且具有流体回收部27T的第1部件21T；和配置在光学部件(终端光学元件13)的周围的至少一部分中的可动的第2部件22T，如图36所示，能够配置第1部件21S和第2部件22S，使得在第1部件21T的能够供曝光用光EL通过的第1部件21T的开口34T的周围且在开口34S附近扩展的下表面23S与第2部件22T的上表面25T相对。在图36的例子中，从第1部件21T的流体回收部27T回收来自与第1部件21T的下表面23T之间的空间的液体LQ、以及来自第2部件22T的下表面26T与物体(衬底P)之间的空间的液体LQ。在另一例，液浸部件5也可以具有下表面23及/或上表面25包括相对于Z轴倾斜的面的构成。
另外，在上述的各实施方式中，也可以在第1部件21上设置吸引口，该吸引口从第1部件21与终端光学元件13之间的空间吸引液体LQ和气体的至少一方。
另外，在上述的各实施方式中，也可以在第1部件21及第2部件22的至少一方上设置对第1空间SP1供给液体LQ的供给口。例如，可以在开口34与液体回收部24之间的、第1部件21的下表面23设置供给液体LQ的供给口。
另外，在上述的各实施方式中，控制装置6包括含CPU等在内的计算机系统。此外，控制装置6包括能够执行计算机系统与外部装置之间的通信的接口。存储装置7例如包括RAM等存储器、硬盘、CD-ROM等记录介质。在存储装置7中安装有控制计算机系统的操作系统(OS)，并存储有用于控制曝光装置EX的程序。
另外，也可以在控制装置6上连接能够输入输入信号的输入装置。输入装置包括键盘、鼠标等输入设备、或能够输入来自外部装置的数据的通信装置等。此外，也可以设置液晶显示器等显示装置。
包括记录在存储装置7中的程序在内的各种信息能够由控制装置(计算机系统)6读取。在存储装置7中记录有使控制装置6执行液浸曝光装置的控制的程序，所述液浸曝光装置用曝光用光经由液体对衬底进行曝光，所述液体充满射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的曝光用光的光路。
根据上述实施方式，记录在存储装置7中的程序使控制装置6执行：利用液浸部件形成液体的液浸空间，其中液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，用从射出面射出的曝光用光对在衬底中一个列所包含的沿着与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个依次进行曝光；在对一个列所包含的曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体对与一个列不同的列的曝光区域进行曝光；在衬底的曝光的至少一部分中使第2部件相对于第1部件移动，以使得从同一列所包含的第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从某列的第3曝光区域的曝光结束到另一列的第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
此外，根据上述实施方式，记录在存储装置7中的程序使控制装置6执行：利用液浸部件形成液体的液浸空间，其中液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在对第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为与第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中使第2部件相对于第1部件移动，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
此外，根据上述实施方式，记录在存储装置7中的程序使控制装置6执行：利用液浸部件形成液体的液浸空间，其中液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在对第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光，对关于扫描方向为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中使第2部件相对于第1部件移动，以使得从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间中的、第2部件的第1动作与从第3曝光区域的曝光结束到第4曝光区域的曝光开始的衬底的第2移动期间中的、第2部件的第2动作不同。
此外，根据上述实施方式，记录在存储装置7中的程序使控制装置6执行：利用液浸部件形成液体的液浸空间，其中液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光对衬底的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；在衬底的曝光的至少一部分中使第2部件相对于第1部件移动，以使得在从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的衬底的第1移动期间，第2部件向与扫描方向交叉的方向的一侧以第1移动条件移动，在从第2曝光区域的曝光开始到曝光结束的衬底的第2曝光期间中，第2部件向与扫描方向交叉的方向的另一侧以与第1移动条件不同的第2移动条件移动。
此外，根据上述实施方式，记录在存储装置7中的程序使控制装置6执行：利用液浸部件形成液体的液浸空间，其中液浸部件包括具有第1下表面且配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和具有隔着间隙而与第1下表面相对的第2上表面及能够与衬底相对的第2下表面且配置在曝光用光的光路周围的至少一部分中的第2部件；经由液浸空间的液体，利用从射出面射出的曝光用光对在衬底中一个列所包含的沿与扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个进行依次曝光；在对一个列所包含的曝光区域曝光前或曝光后，经由液浸空间的液体对与一个列不同的列的曝光区域进行曝光；在从某列的曝光区域的曝光结束到接下来被曝光的另一列的曝光区域的曝光开始的衬底的移动期间使第2部件相对于第1部件移动。
由于存储在存储装置7中的程序由控制装置6读取，所以衬底载台2、计测载台3及液浸部件5等曝光装置EX的各种装置协动，从而在形成了液浸空间LS的状态下执行衬底P的液浸曝光等各种处理。
另外，在上述各实施方式中，投影光学系统PL的终端光学元件13的射出面12侧(像面侧)的光路K被液体LQ充满。但是，投影光学系统PL也可以是例如国际公开第2004/019128号小册子所公开的那样、终端光学元件13的入射侧(物体面侧)的光路也被液体LQ充满的投影光学系统。
另外，在上述各实施方式中，液体LQ为水，但是也可以是水以外的液体。液体LQ优选相对于曝光用光EL具有透过性，相对于曝光用光EL具有高折射率，相对于形成投影光学系统PL或衬底P的表面的感光材料(光致抗蚀剂)等的膜稳定。例如，液体LQ可以是氢氟醚(HFE,Hydro Fluoro Ether)、过氟聚醚(PFPE,perfluoro-polyether)、Fomblin Oil等氟类液体。此外，作为液体LQ亦可使用各种流体，例如超临界流体。
另外，在上述各实施方式中，衬底P包括半导体器件制造用的半导体晶片。但是，衬底P也可以包含例如显示器件用的玻璃衬底、薄膜磁头用的陶瓷晶片、或曝光装置中使用的光罩或标线片的原版(合成石英、硅晶片)等。
另外，在上述各实施方式中，曝光装置EX是使光罩M和衬底P同步移动而对光罩M的图案进行扫描曝光的步进扫描方式的扫描型曝光装置(扫描步进机)。但是，曝光装置EX也可以是例如在光罩M和衬底P静止的状态下对光罩M的图案一次性曝光并使衬底P依次步进移动的步进重复方式的投影曝光装置(步进机)。
此外，曝光装置EX也可以是，在步进重复方式的曝光中，在第1图案与衬底P大致静止的状态下，利用投影光学系统将第1图案的缩小像转印到衬底P上之后，在第2图案与衬底P大致静止的状态下，利用投影光学系统将第2图案的缩小像与第1图案部分重叠地一次性曝光于衬底P上的曝光装置(拼接方式的一次曝光装置)。此外，拼接方式的曝光装置也可以是，在衬底P上对至少2个图案部分重叠地进行转印，并使衬底P依次移动的步进拼接方式的曝光装置。
此外，曝光装置EX也可以是例如美国专利第6611316号所公开的那样的、将2个光罩的图案经由投影光学系统在衬底上进行合成，并通过1次扫描曝光对衬底上的1个曝光区域几乎同时地进行双重曝光的曝光装置。此外，曝光装置EX也可以是近接方式的曝光装置、镜投影对准器等。
此外，在上述的各实施方式中，曝光装置EX也可以是美国专利第6341007号、美国专利第6208407号、美国专利第6262796号等公开的那样的、具有多个衬底载台的双载台型的曝光装置。例如，如图37所示，在曝光装置EX包括2个衬底载台2001、2002的情况下，能够与射出面12相对地配置的物体包括一方的衬底载台、保持在该一方的衬底载台的第1保持部上的衬底、另一方的衬底载台、及保持在该另一方的衬底载台的第1保持部上的衬底中的至少一个。
此外，曝光装置EX也可以是具有多个衬底载台和计测载台的曝光装置。
曝光装置EX可以是将半导体元件图案曝光在衬底P上的半导体元件制造用的曝光装置，也可以是液晶显示元件制造用或显示器制造用的曝光装置，还可以是用于制造薄膜磁头、拍摄元件(CCD)、微机械、MEMS、DNA芯片、或是标线片或光罩等的曝光装置。
另外，在上述实施方式中，采用了在具有透光性的衬底上形成规定的遮光图案(或相位图案、减光图案)的光透过型光罩。但是，也可以代替该光罩，采用例如美国专利第6778257号所公开的那样的、基于应曝光图案的电子数据形成透过图案或反射图案、或是发光图案的可变成形光罩(也称为电子光罩、主动光罩、或图像生成器)。此外，也可以代替具有不发光型图像显示元件的可变成形光罩，而是包括具有自发光型图像显示元件的图案形成装置。
在上述各实施方式中，曝光装置EX包括投影光学系统PL，但是在不使用投影光学系统PL的曝光装置及曝光方法中也能够使用在上述各实施方式中说明的构成要素。例如，在透镜等光学部件与衬底之间形成液浸空间，并经由该光学部件在衬底上照射曝光用光的曝光装置及曝光方法中，也可以使用在上述各实施方式中说明的构成要素。
此外，曝光装置EX也可以是例如国际公开第2001/035168号小册子所公开的那样、通过在衬底P上形成干渉条纹来将线与空间图案曝光在衬底P上的曝光装置(光刻系统)。
通过以能够确保规定的机械精度、电气精度、光学精度的方式组装包括上述各构成要素的各种子系统而制造出上述实施方式的曝光装置EX。为了确保这些各种精度，在该组装前后，关于各种光学系统进行用于达成光学精度的调制、关于各种机械系统进行用于达成机械精度的调制、关于各种电气系统进行用于达成电气精度的调制。由各种子系统组装曝光装置的工序包括各种子系统相互的机械连接、电气电路的布线连接、气压电路的配管连接等。在由该各种子系统组装曝光装置的工序之前，当然有各子系统各自的组装工序。在由各种子系统组装曝光装置的工序结束后，进行综合调制，以确保作为曝光装置整体的各种精度。另外，曝光装置的制造优选在对温度及洁净度等实施了管理的洁净室中进行。
如图38所示，经过进行微器件的功能、性能设计的步骤201、基于该设计步骤制造光罩(标线片)的步骤202、制造作为器件基材的衬底的步骤203、包括根据上述实施方式利用来自光罩图案的曝光用光对衬底进行曝光及使曝光了的衬底显影的衬底处理(曝光处理)的衬底处理步骤204、器件组装步骤(包括切割工序、接合工序、封装工序等加工过程)205、检查步骤206等而制造出半导体器件等微器件。
另外，上述各实施方式的要件可以合适地组合。此外，也存在有一部分构成要素没有使用的情况。此外，只要法令允许，援引在上述各实施方式及变形例中引用的涉及曝光装置等的所有公开公报及美国专利的公开内容并作为本文记载的一部分。
附图标记的说明
2…衬底载台、3…计测载台、5…液浸部件、6…控制装置、7…存储装置、12…射出面、13…终端光学元件、21…第1部件、22…第2部件、22S…支承部件、23…下表面、24…液体回收部、25…上表面、26…下表面、27…流体回收部、29…外侧面、30…内侧面、31…液体供给部、32…驱动装置、34…开口、35…开口、EL…曝光用光、EX…曝光装置、IL…照明系统、K…光路、LQ…液体、LS…液浸空间、P…衬底。

Claims (91)

1.一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光装置的特征在于，包括：
能够形成所述液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件，所述第1部件具有第1下表面，所述第2部件具有隔着间隙而与所述第1下表面相对的第2上表面以及能够与所述衬底相对的第2下表面；
能够使所述第2部件相对于所述第1部件移动的驱动装置；和
控制所述驱动装置的控制装置，
在所述衬底中一个列所包含的沿与所述扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个被依次曝光前或曝光后，进行对与所述一个列不同的列的曝光区域的曝光，
所述控制装置控制所述驱动装置，以使得从同一列所包含的第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间中的、所述第2部件的第1动作与从某列的第3曝光区域的曝光结束到另一列的第4曝光区域的曝光开始的所述衬底的第2移动期间中的、所述第2部件的第2动作不同，
还具有对所述液浸空间的液体的至少一部分进行回收的流体回收部，
所述流体回收部配置于所述第2部件。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第3曝光区域包含在与所述第1曝光区域相同的列中。
3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2曝光区域关于与所述扫描方向交叉的方向而配置在所述第1曝光区域的相邻位置。
4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
包含所述第4曝光区域的列关于所述扫描方向而配置在包含所述第3曝光区域的列的相邻位置。
5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的移动方向是不同的。
6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，
所述移动方向包含与所述扫描方向交叉的方向。
7.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间，所述第2部件关于与所述扫描方向交叉的方向而向一侧移动，
在所述第2移动期间，所述第2部件关于与所述扫描方向交叉的方向而向一侧及另一侧移动。
8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间，所述衬底关于与所述扫描方向交叉的方向而向一侧移动，
在所述第2移动期间，所述衬底关于与所述扫描方向交叉的方向而向一侧及另一侧移动。
9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的移动距离是不同的。
10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，
所述移动距离包括关于与所述扫描方向交叉的方向的移动距离。
11.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间开始时刻与所述第2移动期间开始时刻，所述第2部件相对于所述光学部件的位置是不同的。
12.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间结束时刻与所述第2移动期间结束时刻，所述第2部件相对于所述光学部件的位置是不同的。
13.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的移动速度是不同的。
14.根据权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，
所述移动速度包括关于与所述扫描方向交叉的方向的移动速度。
15.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的加速度是不同的。
16.根据权利要求15所述的曝光装置，其特征在于，
所述加速度包括关于与所述扫描方向交叉的方向的加速度。
17.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2部件在关于与所述扫描方向交叉的方向已确定的可动范围内移动。
18.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间，所述第2部件持续移动。
19.根据权利要求18所述的曝光装置，其特征在于，
在从所述第1曝光区域的曝光开始到曝光结束的第1曝光期间及所述第1移动期间，所述第2部件持续移动。
20.根据权利要求18所述的曝光装置，其特征在于，
在从所述第1曝光区域的曝光开始到曝光结束的第1曝光期间、所述第1移动期间、以及从所述第2曝光区域的曝光开始到曝光结束的第2曝光期间，所述第2部件持续移动。
21.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第2移动期间，所述第2部件持续移动。
22.根据权利要求21所述的曝光装置，其特征在于，
在从所述第3曝光区域的曝光开始到曝光结束的第3曝光期间及所述第2移动期间，所述第2部件持续移动。
23.根据权利要求21所述的曝光装置，其特征在于，
在从所述第3曝光区域的曝光开始到曝光结束的第3曝光期间、所述第2移动期间、以及从所述第4曝光区域的曝光开始到曝光结束的第4曝光期间，所述第2部件持续移动。
24.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第2移动期间的至少一部分中，所述第2部件停止。
25.根据权利要求24所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第2移动期间的至少一部分中，所述衬底沿与所述扫描方向实质上平行的方向移动，
所述第2部件在所述衬底沿与所述扫描方向实质上平行的方向移动的期间的至少一部分中停止。
26.根据权利要求24所述的曝光装置，其特征在于，
在从所述第3曝光区域的曝光开始到曝光结束的第3曝光期间，所述第2部件持续移动。
27.根据权利要求24中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
在从所述第3曝光区域的曝光开始到曝光结束的第3曝光期间、以及从所述第4曝光区域的曝光开始到曝光结束的第4曝光期间，所述第2部件持续移动。
28.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2移动期间比所述第1移动期间长。
29.一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光装置的特征在于，包括：
能够形成所述液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述光学部件的周围的一部分中的第2部件；
能够使所述第2部件相对于所述第1部件移动的驱动装置；和
控制所述驱动装置的控制装置，
在对在所述扫描方向上为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光前或曝光后，对在所述扫描方向上为与所述第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光，
所述控制装置控制所述驱动装置，以使得从所述第1曝光区域的曝光结束到所述第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间中的、所述第2部件的第1动作与从所述第3曝光区域的曝光结束到所述第4曝光区域的曝光开始的所述衬底的第2移动期间中的、所述第2部件的第2动作不同。
30.一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光装置的特征在于，包括：
能够形成所述液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述光学部件的周围的一部分中的第2部件；
能够使所述第2部件相对于所述第1部件移动的驱动装置；和
控制所述驱动装置的控制装置，
在对在所述扫描方向上分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光前或曝光后，对在所述扫描方向上为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光，
所述控制装置控制所述驱动装置，以使得从所述第1曝光区域的曝光结束到所述第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间中的、所述第2部件的第1动作与从所述第3曝光区域的曝光结束到所述第4曝光区域的曝光开始的所述衬底的第2移动期间中的、所述第2部件的第2动作不同。
31.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于，
沿所述扫描方向配置的多个曝光区域所形成的列在所述衬底上配置有多个，
所述第1曝光区域、第2曝光区域包含在同一列中。
32.根据权利要求31所述的曝光装置，其特征在于，
所述第3曝光区域、第4曝光区域包含在同一列中。
33.根据权利要求32所述的曝光装置，其特征在于，
包含所述第3曝光区域、第4曝光区域的列与包含所述第1曝光区域、第2曝光区域的列不同。
34.根据权利要求32所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1曝光区域、第2曝光区域与所述第3曝光区域、第4曝光区域包含在同一列中。
35.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于，
沿所述扫描方向配置的多个曝光区域所形成的列在所述衬底上配置有多个，
包含所述第1曝光区域的列与包含所述第2曝光区域的列不同，
包含所述第3曝光区域的列与包含所述第4曝光区域的列不同。
36.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的移动距离是不同的。
37.根据权利要求36所述的曝光装置，其特征在于，
所述移动距离包括关于与所述扫描方向交叉的方向的移动距离。
38.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间开始时刻与所述第2移动期间开始时刻，所述第2部件相对于所述光学部件的位置是不同的。
39.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间结束时刻与所述第2移动期间结束时刻，所述第2部件相对于所述光学部件的位置是不同的。
40.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的移动速度是不同的。
41.根据权利要求40所述的曝光装置，其特征在于，
所述移动速度包括关于与所述扫描方向交叉的方向的移动速度。
42.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的加速度是不同的。
43.根据权利要求42所述的曝光装置，其特征在于，
所述加速度包括关于与所述扫描方向交叉的方向的加速度。
44.根据权利要求29所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2部件在关于与所述扫描方向交叉的方向已确定的可动范围内移动。
45.根据权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，
沿所述扫描方向配置的多个曝光区域所形成的列在所述衬底上配置有多个，
所述第1曝光区域、第2曝光区域包含在同一列中。
46.根据权利要求45所述的曝光装置，其特征在于，
所述第3曝光区域、第4曝光区域包含在同一列中。
47.根据权利要求46所述的曝光装置，其特征在于，
包含所述第3曝光区域、第4曝光区域的列与包含所述第1曝光区域、第2曝光区域的列不同。
48.根据权利要求46所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1曝光区域、第2曝光区域与所述第3曝光区域、第4曝光区域包含在同一列中。
49.根据权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，
沿所述扫描方向配置的多个曝光区域所形成的列在所述衬底上配置有多个，
包含所述第1曝光区域的列与包含所述第2曝光区域的列不同，包含所述第3曝光区域的列与包含所述第4曝光区域的列不同。
50.根据权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的移动距离是不同的。
51.根据权利要求50所述的曝光装置，其特征在于，
所述移动距离包括关于与所述扫描方向交叉的方向的移动距离。
52.根据权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间开始时刻与所述第2移动期间开始时刻，所述第2部件相对于所述光学部件的位置是不同的。
53.根据权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间结束时刻与所述第2移动期间结束时刻，所述第2部件相对于所述光学部件的位置是不同的。
54.根据权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的移动速度是不同的。
55.根据权利要求54所述的曝光装置，其特征在于，
所述移动速度包括关于与所述扫描方向交叉的方向的移动速度。
56.根据权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间与所述第2移动期间，所述第2部件的加速度是不同的。
57.根据权利要求56所述的曝光装置，其特征在于，
所述加速度包括关于与所述扫描方向交叉的方向的加速度。
58.根据权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2部件在关于与所述扫描方向交叉的方向已确定的可动范围内移动。
59.根据权利要求1至58中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1移动期间，在所述衬底向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以第1速度移动的第1状态下，所述第2部件向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以第1加速度移动，
在所述衬底向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以比所述第1速度高的第2速度移动的第2状态下，所述第2部件向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以比所述第1加速度低的第2加速度移动。
60.根据权利要求1至58中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第2移动期间，在所述衬底向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以第3速度移动的第3状态下，所述第2部件向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以第3加速度移动，
在所述衬底向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以比所述第3速度高的第4速度移动的第4状态下，所述第2部件向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以比所述第3加速度低的第4加速度移动。
61.根据权利要求59所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第2曝光区域的曝光中，在所述衬底沿所述扫描方向移动的第2曝光期间，所述第2部件向与所述扫描方向交叉的方向的另一侧移动。
62.根据权利要求60所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第2曝光区域的曝光中，在所述衬底沿所述扫描方向移动的第2曝光期间，所述第2部件向与所述扫描方向交叉的方向的另一侧移动。
63.根据权利要求61所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第2曝光期间的至少一部分中，所述第2部件以恒定速度向与所述扫描方向交叉的方向的另一侧移动。
64.根据权利要求62所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第2曝光期间的至少一部分中，所述第2部件以恒定速度向与所述扫描方向交叉的方向的另一侧移动。
65.一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光装置的特征在于，包括：
能够形成所述液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述光学部件的周围的一部分中的第2部件；
能够使所述第2部件相对于所述第1部件移动的驱动装置；和
控制所述驱动装置的控制装置，
所述控制装置控制所述驱动装置，以使得在从第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间，所述第2部件向与所述扫描方向交叉的方向的一侧以第1移动条件移动，在从所述第2曝光区域的曝光开始到曝光结束的所述衬底的第2曝光期间，所述第2部件向与所述扫描方向交叉的方向的另一侧以与所述第1移动条件不同的第2移动条件移动，
还具有对所述液浸空间的液体的至少一部分进行回收的流体回收部，
所述流体回收部配置于所述第2部件。
66.根据权利要求65所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1移动条件、第2移动条件包括所述第2部件的移动速度。
67.根据权利要求66所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2曝光期间中的所述第2部件的移动速度比所述第1移动期间中的所述第2部件的移动速度低。
68.根据权利要求66所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2部件在所述第1移动期间及所述第2曝光期间的至少一部分中以恒定速度移动，
在所述第2曝光期间中所述第2部件以恒定速度移动的时间比在所述第1移动期间中所述第2部件以恒定速度移动的时间长。
69.根据权利要求65所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1移动条件、第2移动条件包括所述第2部件的加速度。
70.根据权利要求69所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2曝光期间中的所述第2部件的加速度比所述第1移动期间中的所述第2部件的加速度低。
71.一种曝光装置，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光装置的特征在于，包括：
能够形成所述液体的液浸空间的液浸部件，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述光学部件的周围的一部分中的第2部件；
能够使所述第2部件相对于所述第1部件移动的驱动装置；和
控制所述驱动装置的控制装置，
在所述衬底中一个列所包含的沿与所述扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个被依次曝光前或曝光后，进行对与所述一个列不同的列的曝光区域的曝光，
所述控制装置控制所述驱动装置，在从某列的曝光区域的曝光结束到接下来被曝光的另一列的曝光区域的曝光开始的所述衬底的移动期间，使所述第2部件相对于所述第1部件移动，
还具有对所述液浸空间的液体的至少一部分进行回收的流体回收部，
所述流体回收部配置于所述第2部件。
72.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2部件沿与所述光学部件的光轴实质上垂直的方向移动。
73.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
在所述衬底移动的期间的至少一部分中，所述第2部件沿所述衬底的移动方向移动。
74.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2部件以所述第2部件与所述衬底的相对速度变小的方式移动。
75.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2部件以所述第2部件与所述衬底的相对速度相较于所述第1部件与所述衬底的相对速度小的方式移动。
76.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2部件沿与所述扫描方向交叉的方向移动。
77.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1部件实质上不移动。
78.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述流体回收部的至少一部分能够与所述衬底相对。
79.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述流体回收部配置在所述第2下表面的周围的至少一部分中。
80.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
还具有供给用于形成所述液浸空间的所述液体的供给部。
81.根据权利要求80所述的曝光装置，其特征在于，
所述供给部配置于所述第1部件。
82.根据权利要求80所述的曝光装置，其特征在于，
还具有液体回收部，来自所述供给部的所述液体的至少一部分被供给到所述第1下表面与所述第2上表面之间的第1空间，所述液体回收部面向所述第1空间并对所述第1空间的所述液体进行回收。
83.根据权利要求82所述的曝光装置，其特征在于，
所述液体回收部配置于所述第1部件。
84.根据权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1部件还具有所述曝光用光能够通过的第1开口，
所述第2部件还具有所述曝光用光能够通过的第2开口。
85.根据权利要求84所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1开口比所述第2开口大。
86.一种器件制造方法，其特征在于，包括：
采用权利要求1至58、65至71中任一项所述的曝光装置对衬底进行曝光的步骤；和
使被曝光了的所述衬底显影的步骤。
87.一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光方法的特征在于，包括：
利用液浸部件形成所述液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述光学部件的周围的一部分中的第2部件；
经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述衬底中一个列所包含的沿与所述扫描方向交叉的方向配置的多个曝光区域的每一个依次曝光；
在对所述一个列所包含的所述曝光区域曝光前或曝光后，经由所述液浸空间的所述液体对与所述一个列不同的列的曝光区域进行曝光；
在所述衬底的曝光的至少一部分中，使所述第2部件相对于所述第1部件移动，以使得从同一列所包含的第1曝光区域的曝光结束到第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间中的、所述第2部件的第1动作与从某列的第3曝光区域的曝光结束到另一列的第4曝光区域的曝光开始的所述衬底的第2移动期间中的、所述第2部件的第2动作不同，
形成所述液浸空间包含从配置于所述第2部件的液体回收部回收所述液浸空间的液体的至少一部分。
88.一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光方法的特征在于，包括：
利用液浸部件形成所述液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述光学部件的周围的一部分中的第2部件；
经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述扫描方向上为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；
在对所述第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述扫描方向上为与所述第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；
在所述衬底的曝光的至少一部分中，使所述第2部件相对于所述第1部件移动，以使得从所述第1曝光区域的曝光结束到所述第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间中的、所述第2部件的第1动作与从所述第3曝光区域的曝光结束到所述第4曝光区域的曝光开始的所述衬底的第2移动期间中的、所述第2部件的第2动作不同。
89.一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光方法的特征在于，包括：
利用液浸部件形成所述液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件，所述第1部件具有第1下表面，所述第2部件具有隔着间隙而与所述第1下表面相对的第2上表面以及能够与所述衬底相对的第2下表面；
经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述扫描方向上为第1尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；
在对所述第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述扫描方向上为与所述第1尺寸不同的第2尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；
在所述衬底的曝光的至少一部分中，使所述第2部件相对于所述第1部件移动，以使得从所述第1曝光区域的曝光结束到所述第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间中的、所述第2部件的第1动作与从所述第3曝光区域的曝光结束到所述第4曝光区域的曝光开始的所述衬底的第2移动期间中的、所述第2部件的第2动作不同。
90.一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光方法的特征在于，包括：
利用液浸部件形成所述液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述光学部件的周围的一部分中的第2部件；
经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述扫描方向上分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；
在对所述第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述扫描方向上为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；
在所述衬底的曝光的至少一部分中，使所述第2部件相对于所述第1部件移动，以使得从所述第1曝光区域的曝光结束到所述第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间中的、所述第2部件的第1动作与从所述第3曝光区域的曝光结束到所述第4曝光区域的曝光开始的所述衬底的第2移动期间中的、所述第2部件的第2动作不同。
91.一种曝光方法，其一边使衬底相对于从光学部件的射出面射出的曝光用光沿扫描方向移动，一边经由所述射出面与所述衬底之间的液体并利用所述曝光用光对所述衬底的多个曝光区域的每一个依次进行曝光，所述曝光方法的特征在于，包括：
利用液浸部件形成所述液体的液浸空间，该液浸部件包括配置在所述光学部件的周围的至少一部分中的第1部件、和配置在所述曝光用光的光路的周围的至少一部分中的第2部件，所述第1部件具有第1下表面，所述第2部件具有隔着间隙而与所述第1下表面相对的第2上表面以及能够与所述衬底相对的第2下表面；
经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述扫描方向上分别为第1尺寸、第2尺寸的第1曝光区域、第2曝光区域依次曝光；
在对所述第1曝光区域、第2曝光区域曝光前或曝光后，经由所述液浸空间的所述液体，利用从所述射出面射出的所述曝光用光，对在所述扫描方向上为第3尺寸的第3曝光区域、第4曝光区域依次曝光；
在所述衬底的曝光的至少一部分中，使所述第2部件相对于所述第1部件移动，以使得从所述第1曝光区域的曝光结束到所述第2曝光区域的曝光开始的所述衬底的第1移动期间中的、所述第2部件的第1动作与从所述第3曝光区域的曝光结束到所述第4曝光区域的曝光开始的所述衬底的第2移动期间中的、所述第2部件的第2动作不同。
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