CN104749883A - 一种光刻胶 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光刻胶，属于光刻技术领域。该光刻胶包括以下重量分数的组分：碱溶性树脂10%-60%、热固性树脂2%-30%、光聚合单体5%-30%、光引发剂0.5%-8%、溶剂20%-80%以及颜料0.1%-5%。在紫外光条件下，上述配比的光刻胶中的光引发剂能够引发光聚合单体发生光交联固化反应形成高聚物；在受热条件下，热固性树脂自身热交联固化以及与碱溶性树脂中的羧酸基团发生热交联固化反应。这样的组成，使得光刻胶可以先经曝光、在碱水溶液中显影形成图案；然后进行热固化，使得该光刻胶形成更加致密和稳定的交联结构，极大减少了其在酸性或碱性金属蚀刻液中的溶胀溶解能力，从而能够使制备的光刻胶达到即耐酸又耐碱的性能，即避免了固化的光刻胶被金属蚀刻液溶解而造成图案缺陷的问题。
Description
技术领域
本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种光刻胶。
背景技术
光刻胶又称光致抗蚀剂，其在光束照射下，能够发生交联固化或者降解反应。由于光刻胶发生光交联固化反应后，具有不被金属蚀刻液侵蚀的特性，常将其用于金属蚀刻领域。具体为：将光刻胶喷涂在金属基板上，然后使用掩膜板覆盖在喷涂有光刻胶的金属基板上，对金属基板进行曝光，金属基板上接收光照的曝光区内的光刻胶发生交联固化反应，光刻胶固化后的区域具有了不被显影液清洗以及被金属蚀刻液侵蚀的特性。经过显影后，金属基板上未曝光部分被显影液清洗，曝光部分得到保留。再使用金属蚀刻液侵蚀该金属基板，金属基板上无光刻胶覆盖的部位得到蚀刻，而被固化的光刻胶覆盖的部位得到保护，不被蚀刻。最后，使用剥离液将曝光区固化的光刻胶剥离，原来的金属基板得到和掩膜板相对应的图案。
目前，常用的光刻胶为粘稠状的、具有流动性质的液体混合物。该类光刻胶包括以下组分：碱溶性树脂、光聚合单体、光引发剂、溶剂以及颜料。将该光刻胶置于紫外灯下，光引发剂吸收能量产生自由基，从而引发光聚合单体发生交联固化反应，形成光刻胶薄膜。
在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：
如果将现有技术光刻胶置于碱性金属蚀刻液中时，碱性金属蚀刻液将与碱溶性树脂发生降解反应，从而导致所形成的光刻胶薄膜被碱性金属蚀刻液所剥离。因此对于需要进行碱性蚀刻的金属基板（例如，铝基板），则无法使用该光刻胶来进行保护。所以该类光刻胶耐酸不耐碱的特性，使其适用性较局限。
发明内容
为了解决现有技术的光刻胶不耐碱的问题，本发明实施例提供了一种光刻胶。所述技术方案如下：
本发明实施例提供了一种光刻胶，所述光刻胶包括以下重量分数的组分：碱溶性树脂10%-60%、热固性树脂2%-30%、光聚合单体5%-30%、光引发剂0.5%-8%、溶剂20%-80%以及颜料0.1%-5%。
具体地，作为优选，所述碱溶性树脂为(甲基)丙烯酸共聚树脂和/或酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂。
具体地，所述(甲基)丙烯酸共聚树脂由乙烯系不饱和单体和丙烯系不饱和单体中的至少一种与(甲基)丙烯酸进行共聚合反应得到。
具体地，所述乙烯系不饱和单体、所述丙烯系不饱和单体带有如下基团：
R为氢或甲基；
R1为苯基、羟基苯基、甲基苯基、乙基苯基、萘基或腈基；
R2、R3均为碳原子数为1-8的烷基、碳原子数为1-8的羟烷基、二烷基胺烷基、苯基、苄基或月桂酯基，所述二烷基胺烷基中所述烷基的碳原子数为1-8；
R4为碳原子数为3-8的烷基。
具体地，所述酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂由甲醇、乙醇、碳原子数为3-10的伯醇、碳原子数为3-10的仲醇中的至少一种与苯乙烯马来酸酐共聚树脂进行酯化反应得到。
具体地，所述热固性树脂为环氧树脂、酚醛树脂。
具体地，作为优选，所述光聚合单体选自乙烯系不饱和单体和/或丙烯系不饱和单体。
具体地，作为优选，所述溶剂选自脂类溶剂、醚类溶剂、醇类溶剂、酮类溶剂、芳香类溶剂、石油系溶剂中的至少一种。
作为优选，所述光刻胶还包括以下重量分数的组分：热固化剂0%-8%、助剂0%-5%，所述热固化剂选自咪唑及其衍生物、胺基化合物、磷化合物中的至少一种。
具体地，所述助剂选自稳定剂、流平剂、消泡剂、防缩孔剂、附着力促进剂以及表面爽滑剂中的至少一种。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明实施例提供的光刻胶，包括以下重量分数的组分：碱溶性树脂10%-60%、热固性树脂2%-30%、光聚合单体5%-30%、光引发剂0.5%-8%、溶剂20%-80%以及颜料0.1%-5%。上述配比的光刻胶，通过在紫外光条件下，光引发剂吸收光能产生自由基，来引发光聚合单体发生光交联固化反应形成高聚物；然后在高温（受热）条件下，热固性树脂不仅能够自身发生热交联固化反映，还能够与碱溶性树脂中的羧酸基团发生热交联固化反应，进一步增加了该光刻胶的交联密度，从而使得固化后的光刻胶能够避免被碱攻击而分解。光交联固化反应-热交联固化反应二者结合，使得该光刻胶形成更加致密和稳定的交联结构，极大减少了其在碱性金属蚀刻液中的溶解溶胀能力，从而能够使制备的光刻胶达到即耐酸又耐碱的性能，即避免了固化的光刻胶被金属蚀刻液溶解而造成图案缺陷的问题。此外，本发明实施例提供的光刻胶能够很容易使用相应的剥离液剥离清洗去除，不会残留在金属基板表面。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明实施方式作进一步地详细描述。
本发明实施例采用如下方法对所述光刻胶进行性能测试：
附着力：
将显影后的金属基板放入180℃的烘箱中后烘处理10分钟，冷却至室温后，对光刻胶薄膜划百格，然后使用3M胶带撕扯3次，观察表面状况以评价光刻胶对基材的附着力。
评价标准：完全没有脱落为优；脱落面积小于或等于划格面积的5%为良；脱落面积小于或等于划格面积的15%为中；脱落面积大于15%为差。
解析度：
将烘烤的金属基板使用解析度测试底片进行UV曝光，然后在1%的NaCO3进行显影（显影温度30℃，压力1.8kg/cm2，时间40s），观察显影后的线路解析状况以评价解析度。
评价标准：能解析40μm以下线路为优；能解析40-60μm线路为良；能解析60-100μm线路为中；能解析100μm以上线路为差。
耐酸能力：
将显影后的金属基板放入180℃的烘箱中后烘处理10分钟，再将后烘的金属基板放入酸性氯化铁蚀刻液（50℃）。蚀刻30min后取出水洗，吹干，观察油墨表面变化情况。
评价标准：没有任何缺陷为优；缺陷面积小于或等于总面积的5%为良；缺陷面积小于或等于总面积的15%为中；缺陷面积大于15%为差。
耐碱能力：
将显影后的金属基板放入180℃的烘箱中后烘处理10分钟，再将后烘的基板放入碱性蚀刻液（45℃，25%氢氧化钠水溶液）中进行蚀刻，蚀刻30min后取出水洗，吹干，观察油墨表面变化情况。由于铜和不锈钢基材不受碱蚀刻，因此在铜、不锈钢基材上不做耐碱蚀刻测试。
评价标准：没有任何缺陷为优；缺陷面积小于或等于总面积的5%为良；缺陷面积小于或等于总面积的15%为中；缺陷面积大于15%为差。
剥离性能：
将蚀刻后的光刻胶薄膜放浸入40℃的二甲基亚砜溶液中，测试该光刻胶被完全剥离时所用的时间。
评价标准：剥离时间小于或等于2min为优；剥离时间为2-5min良；剥离时间为5-10min中；剥离时间大于或等于10min为差。
实施例1：
本发明实施例提供了一种光刻胶，所述光刻胶包括以下重量分数的组分：碱溶性树脂10%-60%、热固性树脂2%-30%、光聚合单体5%-30%、光引发剂0.5%-8%、溶剂20%-80%以及颜料0.1%-5%。
上述配比的光刻胶，在使用重量分数为20%-80%的溶剂作为反应介质的条件下，通过紫外光（或者其它光束能量）照射，光引发剂能够吸收光能产生自由基，来引发光聚合单体发生光交联固化反应形成高聚物；然后在高温条件下，热固性树脂不仅自身可发生热交联固化反应，还能够与碱溶性树脂中的羧酸基团发生热交联固化反应，进一步增加了该光刻胶的交联密度。光交联固化-热交联固化反应二者结合，使得该光刻胶形成更加致密和稳定的交联结构，极大减少了其在酸性或碱性金属蚀刻液中的溶胀溶解能力，从而能够使制备的光刻胶达到即耐酸又耐碱的性能，避免了固化的光刻胶被金属蚀刻液溶解而造成图案缺陷的问题。
可见，本发明实施例所提供的光刻胶由于同时通过光交联固化反应和热交联固化反应，使得其内部结构更加致密，其附着力、解析度、耐蚀刻性、以及剥离性能均能得到显著提高。本发明实施例所提供的光刻胶的应用范围得到了拓宽，且由于原料简单易得，价格低廉，进一步增加了本发明实施例提供的光刻胶的适用范围，使其具有较高的经济实用型。
上述即耐酸性蚀刻液又耐碱性蚀刻液的光刻胶布置于金属基板上，经过光引发交联固化及热引发交联固化反应后，该光刻胶在金属基板上形成致密度非常好的光刻胶薄膜。该光刻胶薄膜所具有耐酸耐碱的特性，使其能够应用在更广范围的金属蚀刻液中，且适用于更广范围的金属基板（例如，铝、铜以及不锈钢等）上进行蚀刻。经过蚀刻后的该光刻胶薄膜通过采用常规溶剂（即剥离液）（例如，N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜等）即可剥离，最终在金属基板上形成所期望的图案。可见，使用相应的剥离液即可将本发明实施例提供的光刻胶容易地剥离清洗并去除，防止固化后的光刻胶残留在金属基板（或其他基板）的表面。
具体地，作为优选，所述碱溶性树脂为(甲基)丙烯酸共聚树脂和/或酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂，本发明实施例中，碱溶性树脂的重量为光刻胶重量份的10%-60%，优选20%-40%。
其中，所述(甲基)丙烯酸共聚树脂由乙烯系不饱和单体和丙烯系不饱和单体中的至少一种与(甲基)丙烯酸进行共聚合反应得到。其中，该(甲基)丙烯酸共聚树脂的重均分子量为10000-200000，优选50000-150000；其酸值为50-250，优选100-200。
由于树脂的重均分子量的大小对其物理性能与加工性能都有重要的影响。树脂的重均分子量只有达到某数值后，才能表现出一定的物理性能。因此，树脂的重均分子量能够作为加工过程中各种工艺条件的选择依据。而本发明实施例中将(甲基)丙烯酸共聚树脂作为光刻胶的基体材料，其对光刻胶的硬度、附着力、解析度和耐蚀刻性等均有重要的影响。基于此，本发明实施例将(甲基)丙烯酸共聚树脂的重均分子量控制在10000-200000，优选50000-150000，上述重均分子量的(甲基)丙烯酸共聚树脂更利于所制备的光刻胶具有更优的硬度、附着力、解析度和耐蚀刻性。
优选地，所述乙烯系不饱和单体、所述丙烯系不饱和单体带有如下基团：
R为氢或甲基；
R1为苯基、羟基苯基、甲基苯基、乙基苯基、萘基或腈基；
R2、R3均为碳原子数为1-8的烷基、碳原子数为1-8的羟烷基、二烷基胺烷基、苯基、苄基或月桂酯基，所述二烷基胺烷基中所述烷基的碳原子数为1-8；
R4为碳原子数为3-8的烷基。
本发明实施例选用带有上述基团的乙烯系不饱和单体和丙烯系不饱和单体是为了控制所制备的(甲基)丙烯酸共聚树脂的重均分子量在期望的10000-200000之间。
具体地，作为优选，所述酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂通过甲醇、乙醇、碳原子数为3-10的伯醇、碳原子数为3-10的仲醇来进行酯化。其中该酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂的重均分子量为10000-200000，优选20000-150000；其酸值为50-250，优选100-200。
该酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂的具体合成方法包括：将马来酸酐和苯乙烯进行聚合反应得到苯乙烯马来酸酐共聚树脂；然后在催化剂存在的条件下，将甲醇、乙醇、碳原子数为3-10的伯醇、碳原子数为3-10的仲醇中的至少一种与苯乙烯马来酸酐共聚树脂中的酸酐基团进行酯化反应，得到酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂。
所述碳原子数为3-10的伯醇、碳原子数为3-10的仲醇选自如下物质中的至少一种，例如：丙醇、丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、壬醇、癸醇、异丙醇、仲丁醇、仲戊醇、仲己醇、仲庚醇、仲辛醇、仲壬醇、仲癸醇等。优选甲醇、丁醇、仲丁醇、仲辛醇，且不限以上醇类。
对上述甲醇、乙醇、碳原子数为3-10的伯醇以及碳原子数为3-10的仲醇的具体限定，是为了要保证与苯乙烯马来酸酐共聚树脂进行酯化反应的醇是液体状态，溶液状态的醇不仅作为酯化反应的反应物且还能作为反应介质，不仅能使反应更加温和，对于提高酯化反应的反应速率是十分有益的。
具体地，作为优选，所述热固性树脂为环氧树脂、酚醛树脂。该热固性树脂的重量为该光刻胶重量的2%-30%，优选10%-20%。
该热固性树脂优选环氧树脂，例如：双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、酚醛环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂，更优选地，该热固性树脂为双酚A型环氧树脂或酚醛环氧树脂，且不限以上树脂种类。
具体地，作为优选，所述光聚合单体选自乙烯系不饱和单体和/或丙烯系不饱和单体。该光聚合单体重量为该光刻胶重量的5%-30%，优选10%-20%。
本发明实施例中，所述光聚合单体选自以下物质中的至少一种，例如：（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸羟乙酯、（甲基）丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、单（甲基）丙烯酸聚乙二醇酯等单官能（甲基）丙烯酸酯类；1,3-丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,4-丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,6-丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、甘油二（甲基）丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯，己二醇丙烯酸二酯、聚乙二醇200二（甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇400二（甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇600二（甲基）丙烯酸酯等二官能（甲基）丙烯酸酯类；甘油三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇单羟基三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯等三官能（甲基）丙烯酸酯类；季戊四醇四丙烯酸酯等四官能（甲基）丙烯酸酯类；二季戊四醇单羟基五（甲基）丙烯酸酯等高官能（甲基）丙烯酸酯类。但不限以上种类。上述光聚合单体均为常见的光聚合单体，可以理解的是，其它的光聚合单体也能够用在本发明实施例中。
本发明实施例中，所述光引发剂重量为该光刻胶重量的0.5%-8%，优选1%-5%。具体地，作为优选，所述光引发剂选自苯偶姻类、苯乙酮类、胺基苯乙酮类、酰基膦氧化物类、二苯甲酮类、蒽醌类、噻吨酮类、三芳基咪唑二聚体类、吖啶类、二苯基钛茂类、叔胺类光引发剂中的至少一种。例如：苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻二甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻正丁醚等苯偶姻及苯偶姻烷基醚,α-羟甲基苯偶姻醚；苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、1,1-二氯苯乙酮等苯乙酮类、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮、2-二甲氨基-2-苄基-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮、N,N-二甲基胺基苯乙酮等胺基苯乙酮类；2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦、酰基膦氧化物、三甲基苯甲酰膦酸二乙酯、三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、双苯甲酰基苯基氧化膦等酰基膦氧化物类；二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4,4'-二(二乙氨基)二苯甲酮（米氏酮）、4,4'-二(二甲氨基)二苯甲酮等二苯甲酮类；2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基基蒽醌、1-氯蒽醌等蒽醌类；2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等噻吨酮类；2,2',4,4'-四（2-氯苯基）-5,5'-二（3,4-二甲氧基苯基）二咪唑和2,2',5-三（2-氯苯基）-4-（3,4-二甲氧基苯基-4',5'-二苯基二咪唑等2,4,5-三芳基咪唑二聚体类；9-苯基吖啶、1,7-双（9-吖啶基）庚烷等吖啶类；樟脑醌；氟化二苯基钛茂和双（五氟苯基）钛茂等钛茂类；三乙基胺、三乙醇胺等叔胺类，但不限以上光引发剂种类。
具体地，作为优选，所述溶剂选自脂类溶剂、醚类溶剂、醇类溶剂、酮类溶剂、芳香类溶剂、石油系溶剂中的至少一种。该溶剂的重量为所述光刻胶重量的20-80%，优选40%-60%。
本发明实施例中，溶剂作为上述交联固化反应的介质，不仅能够使反应更加温和，易控制；且使得所制备的光刻胶达到理想的粘度，利于喷涂、辊涂或丝印到金属基板上。
具体地，该溶剂可选自如下物质中的至少一种：例如：乙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、乙二醇单丁醚醋酸酯、二乙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、乙二醇单丁醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单乙醚醋酸酯或丙二醇单丁醚醋酸酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯等酯类溶剂；乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚等醚类溶剂；正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇等醇类溶剂；丁酮、环己酮、异佛尔酮等酮类溶剂；甲苯、二甲苯等芳香溶剂；石脑油、氧化石脑油、溶剂石脑油等石油系溶剂。优选丙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、丁酮、丙二醇单甲醚，但不限以上化合物。
本发明实施例中，所述的颜料为常用着色颜料，如酞青绿、酞青蓝、结晶紫等，但不限以上化合物。该颜料的重量为该光刻胶重量的0.1%-5%，优选0.5%-2%。颜料能够使得所制备的光刻胶识别度更高，便于其在金属蚀刻领域中的应用。
具体地，作为优选，所述光刻胶还包括以下重量分数的组分：热固化剂0%-8%、助剂0%-5%，所述热固化剂选自咪唑及其衍生物、胺基化合物、磷化合物中的至少一种。
本发明实施例中，使用热固化剂的目的在于促进热交联固化反应的快速进行，提高反应速率。具体的，所述热固化剂选自以下物质中的至少一种，例如咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、2-巯基苯并咪唑、1-氰基乙基-2-苯基咪唑等咪唑衍生物；三聚氰胺、二氰基二酰胺、苯基二甲胺等胺基化合物；三苯基磷等磷化合物等，但不限于以上化合物。热固化促进剂用量为总质量比的0%-8%，优选0.1%-5%。
具体地，作为优选，所述助剂选自稳定剂、流平剂、消泡剂、防缩孔剂、附着力促进剂以及表面爽滑剂中的至少一种。该助剂的重量为该光刻胶重量的0%-5%，优选0.5%-2%。
通过上述配比（尤其是优选的配比）的各组份组成的光刻胶，通过光固化-热固化形成光刻胶薄膜，能够耐酸性溶液攻击和碱性溶液攻击，同时满足酸性蚀刻工艺和碱性蚀刻工艺的要求，且满足不同金属基板的需求。同时，所形成的光刻胶薄膜对不同金属基材良好的附着力，且能够被常规溶剂所剥离具有易剥离性的特点。该光刻胶能够在金属基板上形成所期望的图案，具有较高解析度。可见，本发明实施例提供的光刻胶适应性广泛，具有较高的工业价值。
实施例2
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：丙烯酸与甲基丙烯酸甲酯的共聚树脂（重均分子量为100,000，酸值为180）25%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯13%、双酚A环氧树脂8%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮1.5%以及2-异丙基噻吨酮0.5%、丙二醇甲醚醋酸酯40%以及丁酮10%、2-巯基苯并咪唑0.5%、酞青绿0.1%、稳定剂1.4%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。将本发明实施例提供的光刻胶采用辊涂的方法分别涂覆到三种金属基板上（该金属基板为铜、铝以及不锈钢金属基板），将涂覆好的金属基板放入100℃的烘箱中前烘处理8分钟，表面干燥后得到厚度为15微米的光刻胶薄膜。使用100mJ/cm2的UV光对该光刻胶薄膜进行曝光，然后用1%的NaCO3进行显影（显影温度30℃，压力1.8kg/m2，时间40s），获得和掩模板相对应的光刻胶图案。将显影后的金属基板放入180℃的烘箱中后烘处理10分钟，再将后烘处理过的金属基板放入酸性蚀刻液中或者碱性蚀刻液中进行蚀刻，再使用有机溶剂对蚀刻后的金属基板进行去膜处理，最后得到带有与掩模板相对应的图案的金属基板。
对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，测试结果如表1所示：
表1辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
在与本发明实施例提供的光刻胶同样的配比参数（余量使用溶剂来进行补充）及操作条件下，又制备了两种对比光刻胶，其中，第一对比光刻胶的组分中不包括热固性树脂，第二对比光刻胶的组分中不包括光聚合单体。将第一对比光刻胶采用与实施例2相同的性能测试方法进行性能测试，第一对比光刻胶测试结果如表2所示：
表2辊涂在不同金属基板上的第一对比光刻胶的性能测试表
将第二对比光刻胶采用辊涂的方法分别涂覆到三种金属基板上（该金属基板为铜、铝以及不锈钢金属基板），将涂覆好的金属基板放入100℃的烘箱中前烘处理8分钟，表面干燥后得到厚度为15微米的光刻胶薄膜。再将金属基板放入180℃的烘箱中后烘处理10分钟，再将后烘处理过的金属基板放入酸性蚀刻液中或者碱性蚀刻液中进行蚀刻，再使用有机溶剂对蚀刻后的金属基板进行去膜处理。由于该第二对比光刻胶中不包括光聚合单体，即不包括光固化组成成分，因此曝光后显影将使光刻胶被洗脱，无法对基板起保护作用达到刻蚀出图案的目的；如果跳过曝光显影步骤直接进行后烘热固化处理，则光刻胶全部固化，也无法形成图案；最终得到的金属基板均不能形成预设图案。基于该第二对比光刻胶无法形成图案，在此无法对其解析度进行测定。第二对比光刻胶的测试结果如表3所示：
表3辊涂在不同金属基板上的第二对比光刻胶的性能测试表
由表1、表2和表3可知，第一对比光刻胶和第二对比光刻胶的耐酸/耐碱性蚀刻的能力较差，无法同时满足耐酸性蚀刻和碱性蚀刻的要求。而本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例3
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：甲基丙烯酸与苯乙烯的共聚树脂（重均分子量为50,000，酸值为50）10%以及仲丁醇酯化的苯乙烯马来酸酐的共聚树脂（重均分子量为30,000，酸值为170）30%、二季戊四醇六丙烯酸酯10%、双酚A环氧树脂8%以及1,2-环氧环戊烷2%、2-异丙基噻吨酮8%、丙二醇甲醚醋酸酯22%、苯基二甲胺3%、酞青蓝2%、流平剂5%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表4所示：
表4辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表4可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例4
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：仲丁醇酯化的苯乙烯马来酸酐的共树脂（重均分子量为30,000，酸值为170）40%以及甲醇、仲辛醇及癸醇共同酯化的苯乙烯马来酸酐的共聚物（甲醇、仲辛醇及癸醇的使用量（相对于马来酸酐单体的量）分别为10%、70%、20%；重均分子量为150,000，酸值为250）20%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯5%、酚醛环氧树脂（F44，环氧当量210-250）5%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮0.5%、丁酮20%、2-苯基咪唑8%、结晶紫0.5%、消泡剂1%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表5所示：
表5辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表5可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例5
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：丙烯酸与甲基丙烯酸甲酯的共聚树脂（重均分子量为100,000，酸值为180）20%以及仲丁醇酯化的苯乙烯马来酸酐的共聚物（重均分子量为30,000，酸值为170）20%、二季戊四醇六丙烯酸酯15%、为酚醛环氧树脂（F44，环氧当量210-250）10%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮3%以及2-异丙基噻吨酮1%、丙二醇甲醚醋酸酯23%、酞青绿5%、防缩孔剂3%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表6所示：
表6辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表6可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例6
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：丙烯酸与甲基丙烯酸甲酯的共聚树脂（重均分子量为100,000，酸值为180）10%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯10%以及二季戊四醇六丙烯酸酯20%、双酚A环氧树脂（E44，环氧当量210-250）15%以及酚醛环氧树脂（F44，环氧当量210-250）10%以及1,2-环氧环戊烷5%、2-异丙基噻吨酮0.5%、丙二醇甲醚醋酸酯22.5%、2-巯基苯并咪唑5%、酞青绿1%、附着力促进剂3%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表7所示：
表7辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表7可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例7
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：丙烯酸与甲基丙烯酸甲酯的共聚树脂（重均分子量为100,000，酸值为180）9%以及仲丁醇酯化的苯乙烯马来酸酐的共聚物（重均分子量为30,000，酸值为170）8%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯7%以及二季戊四醇六丙烯酸酯6%、双酚A环氧树脂（E44，环氧当量210-250）2%以及酚醛环氧树脂（F44，环氧当量210-250）3%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮2%以及2-异丙基噻吨酮1%、丙二醇甲醚醋酸酯60%、2-巯基苯并咪唑0.5%、酞青绿0.2%、流平剂1.3%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表8所示：
表8辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表8可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例8
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：丙烯酸与甲基丙烯酸甲酯的共聚树脂（重均分子量为100,000，酸值为180）12%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯5%、双酚A环氧树脂（E44，环氧当量210-250）2%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮0.5%、丙二醇甲醚醋酸酯80%、2-巯基苯并咪唑0.1%、酞青绿0.1%、流平剂0.3%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表9所示：
表9辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表9可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例9
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：丙烯酸与甲基丙烯酸甲酯的共聚树脂（重均分子量为100,000，酸值为180）24%以及仲丁醇酯化的苯乙烯马来酸酐的共聚物（重均分子量为30,000，酸值为170）1%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯13%、双酚A环氧树脂（E44，环氧当量210-250）10%以及酚醛环氧树脂（F44，环氧当量210-250）5%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮2%以及2-异丙基噻吨酮3%、丙二醇甲醚醋酸酯40%、2-巯基苯并咪唑0.5%、酞青绿0.1%、稳定剂1.4%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表10所示：
表10辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表10可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例10
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：丙烯酸与甲基丙烯酸甲酯的共聚树脂（重均分子量为100,000，酸值为180）1%以及仲丁醇酯化的苯乙烯马来酸酐的共聚物（重均分子量为30,000，酸值为170）29%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯20%、双酚A环氧树脂（E44，环氧当量210-250）20%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮1%、丙二醇甲醚醋酸酯28.4%、2-巯基苯并咪唑0.5%、酞青绿0.1%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表11所示：
表11辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表11可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例11
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：丙烯酸与甲基丙烯酸甲酯的共聚树脂（重均分子量为100,000，酸值为180）20%以及仲丁醇酯化的苯乙烯马来酸酐的共聚物（重均分子量为30,000，酸值为170）10%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯10%以及二季戊四醇六丙烯酸酯5%、双酚A环氧树脂（E44，环氧当量210-250）6%以及酚醛环氧树脂（F44，环氧当量210-250）4%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮1.5%以及苯乙酮0.5%、醋酸乙酯38%以及甲苯3%、2-巯基苯并咪唑0.5%、酞青绿0.1%、附着力促进剂1.4%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表12所示：
表12辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表12可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
实施例12
本发明实施例提供了一种光刻胶，该光刻胶包括以下重量分数的组分：甲基丙烯酸与苯乙烯的共聚物（重均分子量为50,000，酸值为50）13%以及甲醇、仲辛醇及癸醇共同酯化的苯乙烯马来酸酐的共聚物（甲醇、仲辛醇及癸醇的使用量（相对于马来酸酐单体的量）分别为10%、70%、20%；重均分子量为150,000，酸值为250）12%、三羟甲基丙烷丙烯酸三酯13%、双酚A环氧树脂（E44，环氧当量210-250）5%以及酚醛环氧树脂（F44，环氧当量210-250）5%以及1,2-环氧环戊烷5%、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮2%以及苯乙酮3%、醋酸乙酯40%、2-巯基苯并咪唑0.5%、酞青绿0.1%、附着力促进剂1.4%。
通过将上述配比的各组分进行均匀混合后过滤，即可得到本发明实施例提供的光刻胶。对本发明实施例提供的光刻胶进行性能测试，（其性能测试方法与实施例2中所期望的光刻胶的性能测试方法相同），测试结果如表13所示：
表13辊涂在不同金属基板上的光刻胶的性能测试表
由表13可知，本发明实施例提供的所期望的光刻胶具有优良的耐酸/耐碱性蚀刻的性能。而且本发明实施例提供的光刻胶在铜、铝和不锈钢等金属基材上均具有较优的附着力、解析度以及剥离性能。因此，本发明实施例提供的光刻胶适用性广泛，具有较高的工业价值。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种光刻胶，其特征在于，所述光刻胶包括以下重量分数的组分：碱溶性树脂10%-60%、热固性树脂2%-30%、光聚合单体5%-30%、光引发剂0.5%-8%、溶剂20%-80%以及颜料0.1%-5%。
2.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述碱溶性树脂为(甲基)丙烯酸共聚树脂和/或酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂。
3.根据权利要求2所述的光刻胶，其特征在于，所述(甲基)丙烯酸共聚树脂由乙烯系不饱和单体和丙烯系不饱和单体中的至少一种与(甲基)丙烯酸进行共聚合反应得到。
4.根据权利要求3所述的光刻胶，其特征在于，所述乙烯系不饱和单体、所述丙烯系不饱和单体均带有如下基团：
R为氢或甲基；
R1为苯基、羟基苯基、甲基苯基、乙基苯基、萘基或腈基；
R2、R3均为碳原子数为1-8的烷基、碳原子数为1-8的羟烷基、二烷基胺烷基、苯基、苄基或月桂酯基，所述二烷基胺烷基中所述烷基的碳原子数为1-8；
R4为碳原子数为3-8的烷基。
5.根据权利要求2所述的光刻胶，其特征在于，所述酯化的苯乙烯马来酸酐共聚树脂由甲醇、乙醇、碳原子数为3-10的伯醇、碳原子数为3-10的仲醇中的至少一种与苯乙烯马来酸酐共聚树脂进行酯化反应得到。
6.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述热固性树脂为环氧树脂、酚醛树脂。
7.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述光聚合单体选自乙烯系不饱和单体和/或丙烯系不饱和单体。
8.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述溶剂选自脂类溶剂、醚类溶剂、醇类溶剂、酮类溶剂、芳香类溶剂、石油系溶剂中的至少一种。
9.根据权利要求1-8任一项所述的光刻胶，其特征在于，所述光刻胶还包括以下重量分数的组分：热固化剂0%-8%、助剂0%-5%，所述热固化剂选自咪唑及其衍生物、胺基化合物、磷化合物中的至少一种。
10.根据权利要求9所述的光刻胶，其特征在于，所述助剂选自稳定剂、流平剂、消泡剂、防缩孔剂、附着力促进剂以及表面爽滑剂中的至少一种。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310745302.7A CN104749883B (zh) | 2013-12-30 | 2013-12-30 | 一种光刻胶 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310745302.7A CN104749883B (zh) | 2013-12-30 | 2013-12-30 | 一种光刻胶 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104749883A true CN104749883A (zh) | 2015-07-01 |
| CN104749883B CN104749883B (zh) | 2022-04-01 |
Family
ID=53589790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310745302.7A Active CN104749883B (zh) | 2013-12-30 | 2013-12-30 | 一种光刻胶 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN104749883B (zh) |
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|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
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