CN104596796A - 吸移部件的位置调整方法及样本处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能正确调整吸移管与装置的一定位置的相对位置、且能够避免碰撞吸移部件的吸移部件的位置调整方法及样本处理装置。此样本处理装置具有能够安装移液管吸头C的分装部件31a、以及移动分装部件31a的移动构件。分装部件31a具有吸移管部件31b和电容传感器35。将位置调整用具安装到样本容器设置部件，使分装部件31a在位置调整用具上方水平移动，读取此期间电容传感器35的检测值。根据检出的电容变化，探索设于位置调整用具的突出部件的位置，并将其设为基准位置。

Description

吸移部件的位置调整方法及样本处理装置

技术领域

本发明涉及一种用于吸移采自受检者的样本的吸移部件的位置调整方法及使用所述位置调整方法的样本处理装置。

背景技术

样本处理装置已知有血细胞分析装置、尿中有形成分分析装置、血液凝固测定装置、免疫分析装置、生化分析装置、基因扩增检测装置和涂片标本制备装置等。这些样本处理装置都有用于吸移样本或试剂的吸管，将此吸管定位于样本容器或试剂容器上方后下移，吸管插入样本容器或试剂容器，吸移样本或试剂。

生产这种样本处理装置时，制造所使用的零部件时的零部件尺寸和组装时的安装尺寸等的尺寸可能会有所差异，很难将吸管准确地定位于样本容器或试剂容器上方。这种样本处理装置如果不能将吸管准确定位，则吸管会碰到样本容器或试剂容器、甚至装置主机等，可能造成吸移不良或吸管损坏。

特开（日本专利公开）平11-160326号公报（Japanese Patent Publication No. H11-160326）中公开了一种能够调整吸移管（吸管）位置的分装装置。上述专利文献所公开的分装装置有可拆装（拆卸、安装）地安装有吸移管吸头的吸头安装部件，此吸头安装部件与分装泵之间设有堵塞检测部件。分装装置配备有带插孔的定位检测部件。调整吸移管位置时，安装了吸移管吸头的吸头安装部件（吸移管）从定位检测部件上方下移，堵塞检测部件检测吸移管与定位检测部件之间有无冲突。当吸移管前端进入插孔时，吸移管与定位检测部件无冲撞，当吸移管前端在插孔之外时，吸移管与定位检测部件发生冲撞。在水平方向不同位置的数处实施这种有无冲撞的检查，以此纠正吸移管的水平方向位置。

发明内容

[发明要解决的课题]

然而，日本专利公开（特开）平11-160326号公报中公开的分装装置为了在水平方向调整吸移管位置，会使吸移管与定位检测部件多次碰撞，可能造成吸移管变形或损坏，或吸移管吸头从吸头安装部件脱落。

[解决课题的技术手段]

为了解决上述问题，本发明第一形态的吸移部件的位置调整方法是一种用于样本处理装置中的吸移部件的位置调整方法，该样本处理装置具有从容器吸移样本或试剂的吸移部件、以及针对所述吸移部件设置的电容传感器，该方法具有以下步骤：在配置于一定位置的、具有导电性的位置调整部件上方移动所述吸移部件；获取移动所述吸移部件期间所述电容传感器检测到的电容；根据获取的电容的变化，设定表示所述吸移部件的基准位置的基准位置信息。

本发明第一形态的样本处理装置具有从收纳液体的容器吸移液体的吸移部件；针对所述吸移部件设置的电容传感器；移动所述吸移部件的移动构件；控制部件；所述控制部件根据所述吸移部件在配置于一定位置的、具有导电性的位置调整部件上方移动期间所述电容传感器检测到的电容变化，设定表示所述吸移部件的基准位置的基准位置信息。

如此，让吸移部件在位置调整部件上方水平移动，用此期间检测到的电容变化对吸移部件水平方向的位置进行调整，由此，不必让吸移部件碰撞位置调整部件等，能够防止吸移部件变形或损坏等。

在上述形态中还可以如下设置：所述样本处理装置具有能够放置收纳液体的容器的容器设置部件，所述容器设置部件能够装上或拆下所述位置调整部件，所述控制部件根据所述吸移部件在安装在所述容器设置部件的所述位置调整部件上方移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化，设定所述基准位置信息。以此，能够更加准确地调整吸移部件相对于容器设置部件的位置。

在上述形态中还可以如下设置：将所述电容传感器置于所述位置调整部件的相当于所述基准位置的部位上方时所述电容传感器检测到的电容与将所述电容传感器置于所述位置调整部件的其他部位上方时所述电容传感器检测到的电容不同。以此，监视吸移部件在位置调整部件上方水平移动时电容传感器的检测值即可知道基准位置。

在上述形态中还可以如下设置：所述位置调整部件具有从平坦的上面的一部分突出出来的突出部件，所述突出部件相当于所述基准位置。以此，能够简化位置调整部件的结构，同时根据电容的变化检测出基准位置。

在上述形态中还可以如下设置：所述电容传感器能够检测出液面接触所述吸移部件时的电容的变化。以此能够将电容传感器作为液面传感器加以利用。

在上述形态中还可以如下设置：所述控制部件控制所述移动构件使所述吸移部件在所述位置调整部件上方在第一水平方向移动，根据所述吸移部件在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化，确定所述基准位置的第一水平方向分量值，再控制所述移动构件使所述吸移部件在所述位置调整部件上方在与所述第一水平方向交叉的第二水平方向移动，根据所述吸移部件在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化，确定所述基准位置的第二水平方向分量值，将确定的所述第一水平方向分量值和所述第二水平方向分量值设定为所述基准位置信息。以此就能确定水平方向上的基准位置座标。

在上述形态中还可以如下设置：所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在所述位置调整部件上方一边改变所述第二水平方向的位置，一边数次在所述第一水平方向移动，根据所述吸移部件数次在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容变化，确定所述基准位置的第一水平方向分量值，控制所述移动构件，使所述吸移部件在所述位置调整部件上方一边改变所述第一水平方向的位置，一边数次在所述第二水平方向移动，根据所述吸移部件数次在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容变化，确定所述基准位置的第二水平方向分量值。以此就能准确确定基准位置的第一水平方向分量和第二水平方向分量。

在上述形态中还可以如下设置：所述控制部件在所述第一水平方向的数个位置分别累加所述吸移部件数次在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测出的电容，根据各累加值，确定所述基准位置的第一水平方向分量值，在所述第二水平方向的数个位置分别累加所述吸移部件数次在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测出的电容，根据各累加值，确定所述基准位置的第二水平方向分量值。

在上述形态中还可以如下设置：所述控制部件实施简单探索处理和详细探索处理，所述简单探索处理是指所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在所述位置调整部件上方水平移动，根据所述吸移部件水平移动期间所述电容传感器每隔第一距离检测出的电容，确定所述基准位置的大致位置；所述详细探索处理是指所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在所述位置调整部件上方的、包括所述简单探索处理确定的所述基准位置的大致位置在内的水平区域内水平移动，根据所述吸移部件水平移动期间所述电容传感器每隔短于所述第一距离的第二距离检测出的电容，确定所述基准位置的详细位置。以此就能在通过简单探索处理快速确定基准位置的大致位置的基础上，通过详细探索处理确定基准位置的详细位置。

在上述形态中还可以如下设置：在所述简单探索处理中，所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在第一探索区水平移动，在所述详细探索处理中，所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在小于所述第一探索区的第二探索区水平移动。以此，在简单探索处理中粗略地探索广泛的第一探索区，在详细探索处理中详细地探索狭小的第二探索区，能够快速地进行基准位置的探索。

在上述形态中还可以如下设置：在所述简单探索处理中，所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在距所述位置调整部件第一距离的上方移动，在所述详细探索处理中，所述控制部件控制所述移动构件，让所述吸移部件在距所述位置调整部件比所述第一距离短的第二距离的上方移动。以此就能在简单探索处理中切实防止吸移部件与位置调整部件发生碰撞，在详细探索处理中能够精确探索基准位置。

在上述形态中还可以如下设置：所述控制部件在所述简单探索处理之后，实施高度设定处理，即垂直方向移动所述吸移部件，使所述吸移部件接触所述位置调整部件，设定所述吸移部件的基准高度；然后根据所述高度设定处理设定的基准高度，决定所述详细探索处理中吸移部件的高度，实施所述详细探索处理。以此就能使详细探索处理中的吸移部件的高度准确设定为吸移部件和位置调整部件不会碰撞、且吸移部件和位置调整部件很接近的高度。

另外，本发明另一形态下的样本处理装置具有：从收纳液体的容器吸移液体的吸移部件；针对所述吸移部件设置的，能够非接触地检测出所述吸移部件和位置调整部件之间的距离变化的传感器；移动所述吸移部件的移动构件；以及控制部件；所述控制部件根据所述吸移部件在配置于一定位置的位置调整部件上方移动期间的所述传感器的检测结果，设定表示所述吸移部件的基准位置的基准位置信息。

【发明效果】

通过本项发明，可以在不碰触吸移部件的情况下准确调整吸移管与装置的一定位置的相对位置。

附图说明

图1为实施方式涉及的样本处理装置的外观结构的斜视示意图；

图2为实施方式涉及的样本处理装置的内部结构的平面示意图；

图3为分装部件的吸移管部件安装有吸移管吸头时的侧面状态截面图；

图4为反应容器的结构斜视图；

图5为实施方式涉及的样本处理装置的结构框图；

图6为示意性地显示基准位置信息的设定处的样本处理装置的内部平面图；

图7A为吸头设置部件用的位置调整用具的斜视图；

图7B为吸头废弃部件用的位置调整用具的斜视图；

图7C为样本容器设置部件和试剂容器设置部件用的位置调整用具的斜视图；

图7D为反应部件用的位置调整用具的斜视图；

图8为自动位置调整处理的步骤流程图；

图9为说明突出部件的位置探索概要的示意图；

图10为说明简单位置探索处理中位置调整顺序的样本处理装置的内部平面图；

图11A为简单位置探索处理步骤的流程图（前半部分）；

图11B为简单位置探索处理步骤的流程图（后半部分）；

图12A为说明X轴方向的简单位置探索的示意图；

图12B为说明Y轴方向的简单位置探索的示意图；

图13A为Y轴正方向和Y轴反方向的电容检测值与Y轴方向位置的关系图；

图13B为Y轴正方向和Y轴反方向的累加电容与Y轴方向位置的关系图；

图14为说明详细位置探索处理中位置调整顺序的样本处理装置内部平面图；

图15A为详细位置探索处理步骤的流程图（前半部分）；

图15B为详细位置探索处理步骤的流程图（后半部分）。

具体实施方式

下面参照附图说明本发明的优选实施方式。

下面参照附图就本实施方式涉及的样本处理装置1进行说明。

<样本处理装置的结构>

下面就本实施方式涉及的样本处理装置的结构进行说明。图1为样本处理装置1的外观结构的斜视示意图。

样本处理装置1通过LAMP法（ Loop-mediated Isothermal Amplification，环介导等温扩增法）对切除组织内的来源于癌的基因（mRNA）进行核酸扩增，测定伴随扩增产生的溶液混浊，以此进行检测。LAMP法的细节在美国专利第6410278号公报中已经公开。

样本处理装置1具有由触摸屏构成的显示输入部件1a、跨前面和上面的机盖1b。机盖1b能够以轴1c为中心轴旋转，它通过锁具1d切换为上锁状态和非锁状态。当机盖1b为非锁状态时，操作人员能够在图1所示状态下向上转动机盖1b，打开样本处理装置1的上方，接触样本处理装置1内部。

图2为样本处理装置1的内部结构的平面示意图。

样本处理装置1内部具有样本容器设置部件10、试剂容器设置部件20、分装部件31a、移动构件30、吸头设置部件40、反应部件50、吸头废弃部件60。

吸头设置部件40和吸头废弃部件60配置于样本处理装置1内部右侧，前后并列，吸头设置部件40在后，吸头废弃部件60在前。样本容器设置部件10和试剂容器设置部件20配置于样本处理装置1内部左右方向（X轴方向）的中央附近，前后方向（Y轴方向）排列配置，样本容器设置部件10在前，试剂容器设置部件20在后。反应部件50配置于样本处理装置1内部的左侧。

样本容器设置部件10的上面有上部有开口的16个安放孔11。安放孔11左右方向排列2个，前后方向排列8个。这16个安放孔11中最后面的两个安放孔11（即与试剂容器设置部件20相邻的两个安放孔11）中放置装质控品的两个样本容器，该质控品用于确认应该扩增的核酸正常扩增、不该扩增的核酸未正常扩增。

安放孔11中放置有装有预先对切除组织进行前处理（均质化、离心分离）后制备出的可溶提取液（以下称“样本”）的样本容器、以及装稀释后样本的样本容器。关于从切除组织制备可溶提取液（核酸扩增反应用试样）的前处理，可以使用美国专利申请公开第2006/0121515号说明书中公开的方法。此时，盛放由同一切除组织制备的样本的样本容器和盛放稀释该样本获得的稀释样本的样本容器放置在左右相邻的安放孔11。

绘制标准曲线时，测定样本前（比如刚刚启动装置时）在一定安放孔11放入装有校准品的样本容器，其中该校准品含有一定浓度的靶基因，将被作为绘制标准曲线的基准。此时，与后述样本测定同样地进行测定，绘制标准曲线。

试剂容器设置部件20上面有上部有开口的三个安放孔21、22。更具体而言，两个安放孔21在前面左右并列，此两个安放孔21中，左边的安放孔21后面设置有一个安放孔22。左前方的安放孔21放入装有含细胞角蛋白19（CK19）引物的引物试剂的试剂容器，右前方的安放孔21放入装有含β肌动蛋白（β-actin）引物的引物试剂的试剂容器。后面的安放孔22放装有含酶的酶试剂的试剂容器，该酶用于促进核酸扩增反应，且在CK19的核酸扩增反应和β肌动蛋白的核酸扩增反应中均能使用。另外，有时只进行有关CK19的样本测定，不进行有关β肌动蛋白的样本测定，此时，β肌动蛋白引物试剂不放入右侧的安放孔21。

移动构件30包括臂部件31、X轴方向延伸的轴32、Y轴方向延伸的轴33和移动臂部件31的步进式电机32a、33a、34a（参照图5）。臂部件31由轴32支撑，能够向X轴方向移动，且包含臂部件31和轴32的构件能够在轴33的支撑下在Y轴方向移动。臂部件31上装有两个能够相对于臂部件31分别单独上下（Z轴方向）移动的分装部件31a。分装部件31a下端（Z轴负方向一端）有安装有移液管吸头C的吸移管部件31b。

吸头设置部件40设有三个能够放置收纳36支移液管吸头C的架41的架放置部件42。移动构件30的臂部件31在样本处理装置1内向X轴方向和Y轴方向移动，分装部件31a向Z轴方向移动，由此将移液管吸头C安装于吸移管部件31b下端。

图3为分装部件31a的吸移管部件31b安装有移液管吸头C时的状态的侧面截面图。分装部件31a如图3所示，吸移管部件31b前端可拆装地嵌在移液管吸头C的上部开口处。吸移管部件31b上侧设有气密性地固定吸移管部件31b底端的气缸部件31c和连接气缸部件31c的活塞驱动部件31d。

吸移管部件31b轴心有贯通孔311连通移液管吸头C，气缸部件31c连通贯通孔311并具有用于收纳活塞312的气缸孔313。活塞驱动部件31d在气缸孔313内往复运动活塞312，使移液管吸头C吸移和排出（分装）液体，液体的分装量取决于活塞312的移动量。

针对分装部件31a设置有电容传感器35。此电容传感器35连接到吸移管部件31b，吸移管部件31b用作电容传感器35的探针（即电极）。移液管吸头C由含碳的导电塑料构成，在吸移管部件31b安装有移液管吸头C的状态下，吸移管部件31b和移液管吸头C起电极的作用，当液面触及移液管吸头C时电容发生变化，电容传感器35能够检测出这种变化，以此便能够检测液面。

下面参照图2就吸头废弃部件60进行说明。吸头废弃部件60有两个废弃孔61。这两个废弃孔61中设有横向延伸的缺口61a。每当吸移和排出样本或试剂的作业完成时，安装在移动构件30的移液管吸头C便被丢弃到吸头废弃部件60。废弃移液管吸头C时，安装了移液管吸头C的吸移管部件31b插入吸头废弃部件60的废弃孔61，整个移液管吸头C置于吸头废弃部件60上表面的下方后，横向移动，吸移管部件31b到达缺口61a。此后，分装部件31a上移，移液管吸头C碰触缺口61a，从吸移管部件31b脱落。

反应部件50具备八个前后排列的反应检测区51。八个反应检测区51分别具有反应容器设置部件511和合盖构件512。

反应容器设置部件511上面有两个上部开口的安放孔511a。两个安放孔511a放置混合试剂和样本用的反应容器M。

图4为反应容器M的结构斜视图。

反应容器M具有容器主体M11和盖部M21，容器主体M11和盖部M21通过两个连接部件M31可转动地连接在一起。容器主体M11有两个上下延伸的收纳部件M12，收纳部件M12上部通过开口M13向上开口。容器主体M11有上下贯通的两个孔M14。

盖部M21设置有两个凸形的盖M22和两个爪M24。连接部件M31弯折，使盖部M21向图4的圆弧形箭头方向翻折，两个爪M24分别与孔M14啮合，则左侧的盖M22与左侧的收纳部件M12嵌合，该收纳部件M12被密封，右侧的盖M22与右侧的收纳部件M12嵌合，该收纳部件M12被密封起来。

操作人员在如图4所示开口M13开放的状态下将反应容器M放入反应容器设置部件511。此反应容器M放入反应容器设置部件511时，使图4右侧的收纳部件M12和左侧的收纳部件M12分别收入图2的反应容器设置部件511的左侧的安放孔511a和右侧的安放孔511a。

反应容器设置部件511下方设有发光部件和受光部件，发光部件的光透过收纳部件M12被受光部件接受。如此进行样本的光学测定。

图5为样本处理装置1的结构框图。

样本处理装置1由测定单元2和信息处理单元3构成。

测定单元2具有图3所示分装部件31a、检测部件201和移动构件30。检测部件201包括上述发光部件和受光部件。分装部件31a包括活塞驱动部件31d和电容传感器35。移动构件30包括：旋转驱动轴32，使臂部件31向X轴方向移动的步进式电机32a、旋转驱动轴33，使臂部件31向Y轴方向移动的步进式电机33a、以及使分装部件31a向Z轴方向移动的步进式电机34a。

信息处理单元3具有CPU301、ROM302、RAM303、硬盘304、I/O接口305和图1所示显示输入部件1a。

CPU301执行存储在ROM302的计算机程序和下载到RAM303中的计算机程序。RAM303用于读取存储在ROM302和硬盘304的计算机程序。在执行这些计算机程序时，RAM303还作为CPU301的工作空间使用。

硬盘304存有操作系统和应用程序等供CPU301执行的各种计算机程序及执行该计算机程序所使用的数据。

显示输入部件1a是触摸屏式显示器，用于接受操作人员的输入，显示图像以便向操作人员提示信息。I/O接口305连接CPU301、显示输入部件1a和测定单元2各个部件。CPU301从连接I/O接口305的这些构件接收信号，并控制这些构件。

下面参照图2就样本测定作业进行说明。

测定样本时，操作人员通过显示输入部件1a登录测定指令，对充当测定对象的切除组织进行均质化、离心分离和稀释等前处理，制备样本。

然后，操作人员打开机盖1b，将装有所制备的样本的样本容器和装有稀释此样本所得到的稀释样本的样本容器放入样本容器设置部件10的一定安放孔11。将装CK19引物试剂的试剂容器和装β肌动蛋白引物试剂的试剂容器放入安放孔21，将装酶试剂的试剂容器放入安放孔22，将反应容器M放入反应部件50的一定反应容器设置部件511。然后，操作人员盖上机盖1b开始测定。CK19是一种一般存在于上皮细胞中而不存在于淋巴结中的蛋白质，但癌转移后，会在淋巴结中出现。扩增CK19的mRNA就能检测出存在于切除组织内的来源于癌的基因。β肌动蛋白是一种在各种组织中表达的蛋白质，扩增β肌动蛋白的mRNA就能确认基因扩增是否正常进行。

测定开始后，臂部件31被移动构件30从原点位置（样本处理装置1内的右前方位置）移到吸头设置部件40上方，两个分装部件31a分别置于移液管吸头C的上方。

在此，就分装部件31a的定位进行说明。分装部件31a的定位中使用存在硬盘304的基准位置信息。在基准位置信息中，针对样本处理装置1内部的多处分别设定了基准位置。图6为示意性地显示基准位置信息的设定处的样本处理装置1内部平面图。图中，带斜线的圆圈表示基准位置信息的设定处。左右并列的一对标记分别表示左右并列的一对分装部件31a的位置，用左右并列的两个标记表示的一对位置为一组，构成一个设定处。如图所示，基准位置信息的设定处有：吸头设置部件40六处、吸头废弃部件60一处、样本容器设置部件10一处、试剂容器设置部件20一处及反应部件50二处，共计11处。

在分装部件31a的定位中，使用分装部件31a的移动目的地部位（样本容器设置部件10、试剂容器设置部件20、吸头设置部件40、反应部件50和吸头废弃部件60中的某一个）的设定处的基准位置信息。比如，如上所述，分装部件31a定位于吸头设置部件40时，使用移动目的地的架放置部件42的相应的基准位置信息。在此，一个架放置部件42上设有两个设定处，因此，可以利用两个基准位置信息的某一个（或二者）。

基准位置信息是表示设定处的基准位置的信息，具体而言，是步进式电机32a和33a将分装部件31a从原点位置移到所述基准位置的脉冲数。在分装部件31a的定位中，从硬盘304读取与移动目的地的部位相对应的设定处的基准位置信息，根据此基准位置信息和从基准位置到目标位置的相对位置信息，求出步进式电机32a和33a的脉冲数，步进式电机32a和33a驱动此脉冲数，将分装部件31a定位于目标位置。

分装部件31a如此置于吸头设置部件40上方后，各分装部件31a向下移动，移液管吸头C安装到吸移管部件31b。

各分装部件31a安装移液管吸头C后，臂部件31由移动构件30移到试剂容器设置部件20上方。此时，试剂容器设置部件20的一个设定处所对应的基准位置信息从硬盘304读取出来，进行分装部件31a的定位。

在吸移试剂时，根据测定项目的不同，有时两个分装部件31a均吸移CK19引物试剂，有时一个分装部件31a吸移CK19引物试剂，另一个分装部件31a吸移β肌动蛋白引物试剂。

两个分装部件31a均吸移CK19引物试剂时，一个分装部件31a置于CK19引物试剂容器上方。然后，此分装部件31a下移，一个移液管吸头C前端放入CK19引物试剂容器，从试剂容器吸移CK19引物试剂。此时，电容传感器35进行液面检测，分装部件31a下降到距检测到液面的高度一定距离的下方后，吸移试剂。此分装部件31a上升，移液管吸头C从试剂容器脱离后，另一个分装部件31a置于CK19引物试剂容器上方。在此状态下，该分装部件31a下移，另一移液管吸头C前端插入CK19引物试剂容器，与一个分装部件31a同样地从试剂容器吸移CK19引物试剂。如此，将CK19引物试剂填充于两个移液管吸头C。

一个分装部件31a吸移CK19引物试剂，另一个分装部件31a吸移β肌动蛋白引物试剂时，一个分装部件31a置于CK19引物试剂容器上方，另一个分装部件31a置于β肌动蛋白引物试剂容器上方。在此状态下，两个分装部件31a向下移动，一个移液管吸头C前端插入CK19引物试剂容器，另一个移液管吸头C前端插入β肌动蛋白引物试剂容器，两个分装部件31a同时从试剂容器分别吸移CK19引物试剂和β肌动蛋白引物试剂。如此，两个移液管吸头C中分别填充有CK19引物试剂和β肌动蛋白引物试剂。

在各分装部件31a吸移CK19引物试剂（或β肌动蛋白引物试剂）后，臂部件31由移动构件30移动到反应部件50上方，两个分装部件31a置于一个反应容器M的两个开口M13上方。此时，从硬盘304读取反应部件50的两个设定处所对应的两个基准位置信息中的某一个，进行分装部件31a的定位。

分装部件31a置于反应部件50上方后，各分装部件31a下移，移液管吸头C前端插入所述反应容器M的两个收纳部件M12，CK19引物试剂（或β肌动蛋白引物试剂）排出至各收纳部件M12。然后，各分装部件31a上移。另外，有时不是向同一反应容器M的两个收纳部件M12分装试剂，而是向两个反应容器M的收纳部件M12分装试剂。

引物试剂排出后，臂部件31由移动构件30移到吸头废弃部件60上方，各分装部件31a分别置于两个废弃孔61上方。此时，从硬盘304读取吸头废弃部件60的设定处所对应的基准位置信息，进行分装部件31a的定位。

分装部件31a置于吸头废弃部件60上方后，这些分装部件31a便向下移动，两个移液管吸头C插入废弃孔61，臂部件31再向右移动，各吸移管部件31b置于缺口61a。此后，各分装部件31a向上移动，移液管吸头C被废弃。

反复进行上述移液管吸头安装、引物试剂吸移、引物试剂排出和吸头废弃作业，将引物试剂分装到所有反应容器M。

引物试剂分装完成后，臂部件31被移动构件30移到吸头设置部件40上方，与上述同样地，各分装部件31a上安装新的移液管吸头C。

各分装部件31a装上移液管吸头C后，移动构件30将臂部件31移到试剂容器设置部件20上方，一个分装部件31a被置于酶试剂容器上方。在此状态下，此分装部件31a下移，一个移液管吸头C前端插入酶试剂容器，检测到酶试剂的液面后，从试剂容器吸移酶试剂。此分装部件31a上升，移液管吸头C离开试剂容器后，另一个分装部件31a被置于酶试剂容器上方。在此状态下，此分装部件31a下移，另一个移液管吸头C前端插入酶试剂容器，检测到酶试剂的液面后，从试剂容器吸移酶试剂。如此，两个移液管吸头C中填充入酶试剂。

各分装部件31a吸移酶试剂后，移动构件30将臂部件31移到反应部件50上方，各分装部件31a被置于一个反应容器M的两个开口M13上方。在此状态下，各分装部件31a下移，移液管吸头C前端插入所述反应容器M的两个收纳部件M12，酶试剂排出至各收纳部件M12。然后，各分装部件31a上移。

排出酶试剂后，在反应容器M的各收纳部件M12对引物试剂和酶试剂进行搅拌，再由移动构件30将臂部件31移至吸头废弃部件60上方，与上述同样地，废弃装在各分装部件31a的移液管吸头C。

反复进行上述移液管吸头安装、酶试剂吸移、酶试剂排出和移液管吸头废弃作业，将酶试剂分装到所有反应容器M。

酶试剂分装完成后，臂部件31由移动构件30移到吸头设置部件40上方，与上述同样地，各分装部件31a安装新的移液管吸头C。

各分装部件31a装上移液管吸头C后，臂部件31由移动构件30移到样本容器设置部件10上方，各个分装部件31a被置于左右并排的两个样本容器上方。此时，从硬盘304读取样本容器设置部件10的一个设定处所对应的基准位置信息，进行分装部件31a的定位。

分装部件31a置于样本容器设置部件10上方后，各分装部件31a下移，各移液管吸头C前端分别插入两个样本容器，检测到样本及稀释样本的液面后，分别从样本容器吸移样本和稀释样本。然后，各分装部件31a上移，移液管吸头C离开样本容器。

在各分装部件31a吸移样本和稀释样本后，与上述同样地，移动构件30将臂部件31移到反应部件50上方，各分装部件31a被置于一个反应容器M的两个开口M13上方。在此状态下，各分装部件31a下移，移液管吸头C前端插入所述反应容器M的两个收纳部件M12，向一个收纳部件M12排出样本，向另一个收纳部件M12排出稀释样本。然后，各分装部件31a上移。根据情况不同，有时也会向两个反应容器M的收纳部件M12分别分装样本和稀释样本，而不是向同一个反应容器M的两个收纳部件M12分别分装样本和稀释样本。

样本和稀释样本排出后，在反应容器M的各收纳部件M12对样本（稀释样本）和试剂进行搅拌，然后，臂部件31由移动构件30移至吸头废弃部件60上方，与上述同样地，废弃装在各分装部件31a的移液管吸头C。

反复进行上述移液管吸头安装、样本和稀释样本吸移、样本和稀释样本排出、以及移液管吸头废弃作业，将样本和稀释样本分装到所有反应容器M。

接着，关于反应容器M，通过反应部件50，向图4箭头方向翻折盖部M21，两个收纳部件M12被盖M22密封。在此状态下，由反应容器设置部件511下方的帕尔贴模块（Peltier  module，无图示）将反应容器M内的温度加热到20~65℃，通过LAMP反应使靶基因（mRNA）的核酸扩增。然后，如上所述，发光部件发出的光透过反应容器M的收纳部件M12，被受光部件接收。此时，根据受光部件的检测信号实时获取核酸扩增反应时收纳部件M12内的浊度。根据获取的浊度和预先由校准品测定结果绘制的标准曲线，自扩增上升时间获取靶基因浓度。至此样本测定结束。

如上所述，在样本测定作业中，样本处理装置1通过移动构件将分装部件31a移至吸头设置部件40的架41、样本容器设置部件10的样本容器、试剂容器设置部件的试剂容器、反应部件的反应容器和吸头废弃部件，在水平方向上进行定位。如果这种分装部件31a的定位不正确的话，就不能正确将移液管吸头C安装到分装部件31a，不能从样本容器或试剂容器正常吸移样本或试剂，不能正常地将样本或试剂排出到反应容器，不能正确废弃移液管吸头C。因此，本实施方式涉及的样本处理装置1在生产后的工厂调试工序中要进行如下自动位置调整处理。另外，不仅可以在工厂的调试工序中实施自动位置调整处理，在样本处理装置1设置到医疗机构（医院、检验中心等）后，还可以由售后服务人员在维护作业中进行自动位置调整处理，还可以在修理出现故障的样本处理装置1后的调试作业中进行自动位置调整处理。

<自动位置调整处理>

在自动位置调整处理中，在上述样本处理装置1内的数个设定处（参照图6）进行分装部件31a的位置调整。在各设定处，左右并列的两个分装部件31a同时进行位置调整。

吸头设置部件40在三个架放置部件42上分别设置了前侧和后侧两个设定处。吸头废弃部件60则以废弃孔61为设定处。样本容器设置部件10以前端的两个安放孔11为设定处，试剂容器设置部件20以安放CK19引物试剂容器和β肌动蛋白引物试剂容器的安放孔21为设定处。在反应部件50，以前端的反应检测区51的两个安放孔511a和后端的反应检测区51的两个安放孔511a为设定处。

在自动位置调整处理中，使用诸如碳素钢等的导电体制成的位置调整用具。图7A至图7D为位置调整用具的斜视图。图7A显示的是吸头设置部件40用的位置调整用具，图7B显示的是吸头废弃部件60用的位置调整用具，图7C显示的是样本容器设置部件10和试剂容器设置部件20用的位置调整用具，图7D显示的是反应部件50用的位置调整用具。如图7A至图7D所示，吸头设置部件40用的位置调整用具J1为能够插入架放置部件42的形状，吸头废弃部件60用的位置调整用具J2为能够插入废弃孔61的形状，样本容器设置部件10和试剂容器设置部件20用的位置调整用具J3为能够插入安放孔11和21的形状，反应部件50用的位置调整用具J4为能够插入反应容器设置部件511的形状。各位置调整用具J1至J4的上面为平坦的面J11至J41，从各个平坦的面J11至J41起设有向上突出的圆柱形的突出部件J12至J42。各突出部件J12至J42的上端面分别为平坦形状，各突出部件J12至J42面积相同且具有同样的形状。这些突出部件J12至J42上端面的外形为与吸移管部件31b的下端面具有相同直径的圆形。

在自动位置调整处理的准备阶段，工作人员要将上述位置调整用具J1至J4安装到样本处理装置1。此时，工作人员在吸头设置部件40将三个位置调整用具J1装到各架放置部件42，在吸头废弃部件60将两个位置调整用具J2装到各废弃孔61，在样本容器设置部件10将两个位置调整用具J3装到前端的两个安放孔11，在试剂容器设置部件20将两个位置调整用具J3装到两个安放孔21，在反应部件50将两个位置调整用具J4分别装到前端的反应容器设置部件511和后端的反应容器设置部件511。在本实施方式中，分装部件31a不安装移液管吸头C并在此状态下进行自动位置调整处理。然而，移液管吸头C具有导电性，充当了电容传感器35的电极，因此，也可以用安装了移液管吸头C的分装部件31a进行自动位置调整处理。

如此安装完位置调整用具J1至J4后，工作人员操作显示输入部件1a，指示开始自动位置调整处理。CPU301收到开始自动位置调整处理的指示后，进行如下自动位置调整处理。

图8为自动位置调整处理的步骤流程图。

CPU301在自动位置调整处理开始后首先实施大致探索各突出部件J12至J42的位置的简单位置探索处理（步骤S1），然后，再进行详细探索各突出部件J12至J42的位置的详细位置探索处理（步骤S2）。如此，在本实施方式中，分两个阶段探索各突出部件J12至J42的位置。简单位置探索处理和详细位置探索处理中，探索各突出部件J12至J42的位置时使用电容传感器35。

图9为说明探索突出部件J12至J42的位置的概要示意图。简单位置探索处理是指控制移动构件30，在各设定处，在能够涵盖尺寸差异范围的大探索范围—即简单探索区SA1内移动分装部件31a，通过电容传感器35搜索(scan)简单探索区SA1。简单探索区SA1是如下得到的范围：在缘于样本处理装置1的零部件的尺寸公差（tolerance）、组装精度、位置调整用具J1至J4的安装精度等的尺寸差异的范围上再加上富余的一部分所得到的范围，突出部件J12至J42的位置也包含在其中。通过此简单位置探索处理粗略地探索位置调整用具J1至J4的突出部件J12至J42的位置。在此简单位置探索处理中，也检测出突出部件J12至J42的高度。

另一方面，详细位置探索处理是指在各设定处设定包括通过简单位置探索处理探索出的突出部件J12至J42的位置（以下称“大致位置”）在内的小探索范围——即详细探索区SA2，控制移动构件30在详细探索区SA2内移动分装部件31a，用电容传感器35搜索详细探索区SA2。通过此详细位置探索处理详细探索位置调整用具J1至J4的突出部件J12至J42的位置。在详细位置探索处理中探索到的位置被定为位置调整用具J1至J4的突出部件J12至J42的位置。

详细位置探索处理结束后，CPU301便将表示如上探索到的位置调整用具J1至J4的突出部件J12至J42的位置的位置信息存入硬盘304，更新基准位置信息（步骤S3）。表示突出部件J12至J42的位置的位置信息是步进式电机32a及33a将分装部件31a从原点位置移到突出部件J12至J42位置的脉冲数、以及步进式电机34a从一定基准高度下移分装部件31a的脉冲数。

上述基准位置信息更新后，CPU301结束自动位置调整处理。

下面详细说明简单位置探索处理。简单位置探索处理中，在上述设定处依次探索突出部件J12至J42的位置。图10为说明简单位置探索处理中位置调整顺序的样本处理装置1的内部平面图。如图10所示，在简单位置探索处理中，先探索吸头废弃部件60的探索处，再从吸头设置部件40的最前面的设定处到最后一个设定处依次探索，然后，探索试剂容器设置部件20的设定处，再探索样本容器设置部件10的设定处，而后依次探索反应部件50的前侧探索处和后侧探索处。图中圆圈围起来的数字表示探索顺序号。

图11A和图11B为简单位置探索处理步骤的流程图。在简单位置探索处理中，首先CPU301选择第一个设定处（即吸头废弃部件60的设定处）（步骤S101）。接着，CPU301控制步进式电机32a和33a，将两个分装部件31a置于所选择的探索处的X方向简单探索初始位置（步骤S102）。

图12A为说明X轴方向的简单位置探索的示意图。如图所示，X方向简单探索初始位置是简单探索区SA1的右前角位置。分装部件31a置于此位置后，CPU301控制步进式电机34a，将各分装部件31a置于一定高度（步骤S103）。此高度是在产品尺寸差异的基础上再加上富余的一部分所得到的，该高度使吸移管部件31b下端位于高于突出部件J12至J42上端3~5mm处。

然后，CPU301控制步进式电机32a，以一定速度（以下称“简单探索速度”）向左（以下称“X轴正方向”）移动分装部件31a，读取此期间内电容传感器35的一定取样周期（以下称“简单探索取样周期”）的检测值，并将其存入CPU301的内部存储器中（步骤S104）。以此，以简单探索速度和简单探索取样周期决定X轴方向的一定距离（以下称“简单探索取样距离”），每隔该距离便间歇性地读取电容传感器35的检测值。

上述搜索作业到达简单探索区SA1的左端时，CPU301控制步进式电机32a，以简单探索速度向右（以下称“X轴反方向”）移动分装部件31a，读取此期间内电容传感器35的简单探索取样周期的检测值，并将其存入CPU301的内部存储器（步骤S105）。以此，每隔X轴方向的简单探索取样距离便间歇性地读取电容传感器35的检测值。

上述搜索作业到达简单探索区SA1的右端时，CPU301判断探索作业是否已完成至简单探索区SA1后端（步骤S106）。当探索尚未完成至简单探索区SA1后端时（步骤S106为否），CPU301控制步进式电机33a，向后移动分装部件31a一定距离（步骤S107）。在此向后移动期间的电容传感器35的检测值不读取。

分装部件31a向后移动一定距离后，CPU301返回步骤S104的处理，再次进行步骤S104（X轴正方向的简单搜索）和S105（X轴反方向的简单搜索）的处理。

在步骤S106，当探索作业已经完成至简单探索区SA1后端时（步骤S106为是），CPU301将处理移到步骤S108。另外，在本实施方式中，X轴正方向和X轴反方向的简单搜索次数各为三次。但是，X轴正方向和X轴反方向的简单搜索次数不限于此。

图12B为说明Y轴方向的简单位置探索的示意图。最后的X轴反方向的简单探索完成时，分装部件31a被置于简单探索区SA1的右后角（以下称“Y方向简单探索初始位置”）。在分装部件31a置于此位置的状态下，CPU301控制步进式电机33a，以简单探索速度向前（以下称“Y轴正方向”）移动分装部件31a，读取此期间内的电容传感器35的简单探索取样周期的检测值，并将其存入CPU301的内部存储器（步骤S108）。以此，每隔Y轴方向的简单探索取样距离就间歇性地读取电容传感器35的检测值。

上述搜索到达简单探索区SA1前端时，CPU301控制步进式电机33a，以简单探索速度向后（以下称“Y轴反方向”）移动分装部件31a，读取此期间电容传感器35的简单探索取样周期的检测值，并将其存入CPU301的内部存储器（步骤S109）。如此，每隔Y轴方向的简单探索取样距离就间歇性地读取电容传感器35的检测值。

上述搜索到达简单探索区SA1后端时，CPU301判断探索作业是否已经完成至简单探索区SA1左端（步骤S110）。当探索尚未完成至简单探索区SA1左端时（步骤S110为否），CPU301控制步进式电机32a，向左移动分装部件31a一定距离（步骤S111）。此向左移动期间的电容传感器35的检测值不读取。

分装部件31a向左移动一定距离后，CPU301返回步骤S108的处理，再次进行步骤S108（Y轴正方向的简单搜索）和S109（Y轴反方向的简单搜索）的处理。

如果在步骤S110中探索已经完成至简单探索区SA1左端时（步骤S110为是），CPU301将处理移到步骤S112。另外，在本实施方式中，Y轴正方向和Y轴反方向的简单搜索次数各为三次。但是，Y轴正方向和Y轴反方向的简单搜索次数不限于此。

图13A为Y轴正方向和Y轴反方向的电容检测值与Y轴方向位置的关系图，图13B为在Y轴方向各个位置累加Y轴正方向搜索所得到的电容的检测值而得出的累加电容、以及在Y轴方向各个位置累加Y轴反方向搜索所得到的电容的检测值而得出的累加电容与Y轴方向位置的关系图。

Y轴正方向和Y轴反方向的三次搜索获得图13A曲线所示电容的检测值。在图13A，实线曲线表示Y轴正方向搜索所得到的电容，虚线曲线表示Y轴反方向搜索所得到的电容。简单探索位置调整用具J1的突出部件J12的位置时，电容传感器35的探针——即吸移管部件31b和位置调整用具J1的距离在突出部件J12最短。位置调整用具J1的整体均由导电体制成，因此，假设在位置调整用具J1上方有一个水平面，则关于在此水平面检测出的电容强度，紧邻突出部件J12的上方处最大。在本实施方式中，边在水平方向移动吸移管部件31b边检测电容，因此，相对于吸移管部件31b的移动，电容的检测值会有所滞后。因此，如图13A所示，在Y轴正方向和Y轴反方向的电容检测结果中，峰值位置有所不同。即，Y轴正方向的电容检测结果的峰值的位置比突出部件J12的位置靠前，Y轴反方向的电容检测结果的峰值的位置比突出部件J12的位置靠后。此外，突出部件J12的突出量越大，检测出的电容的峰值越明显，能够更正确地进行测定。

CPU301在X轴方向的各个位置累加X轴正方向三次搜索所得到的电容的检测值，获取X轴正方向的累加电容，在X轴方向的各个位置累加X轴反方向三次搜索所得到的电容的检测值，获取X轴反方向的累加电容，在Y轴方向的各个位置累加Y轴正方向三次搜索所得到的电容的检测值，获取Y轴正方向的累加电容，在Y轴方向的各个位置累加Y轴反方向三次搜索所得到的电容的检测值，获取Y轴反方向的累加电容，将X轴正方向和X轴反方向以及Y轴正方向和Y轴反方向的累加电容存入CPU301的内部存储器（步骤S112）。例如，在图13A所示Y轴正方向三次搜索所得到的电容检测值中，累加Y轴方向同一位置的三个检测值。就Y轴方向的所有检测位置进行如此检测值的累加，CPU301由此获取Y轴正方向的累加电容（参照图13B）。此外，在图13A所示Y轴反方向三次搜索所得到的电容检测值中，累加Y轴方向同一位置的三个检测值。就Y轴方向的所有检测位置进行如此检测值的累加，CPU301由此获取Y轴反方向的累加电容（参照图13B）。同样，就X轴正方向和X轴反方向也获取累加电容。另外，在图13B中，实线曲线表示Y轴正方向搜索所获得的累加电容，虚线曲线表示通过Y轴反方向搜索获得的累加电容。

然后，CPU301在步骤S113确定X轴正方向累加电容峰值上的X轴方向的位置和X轴反方向累加电容峰值上的X轴方向的位置，求出两个峰值的X轴方向的中间位置（X轴方向坐标的平均值），获取此中间位置信息作为X轴方向的大致位置信息（步进式电机32a将分装部件31a从原点位置移到突出部件J12的脉冲数）。同样，CPU301在步骤S113确定Y轴正方向累加电容峰值上的Y轴方向的位置和Y轴反方向累加电容峰值上的Y轴方向的位置，求出两个峰值的Y轴方向的中间位置（Y轴方向坐标的平均值），获取此中间位置信息作为Y轴方向的大致位置信息（步进式电机33a将分装部件31a从原点位置移到突出部件J12的脉冲数）。另外，通过降低搜索时分装部件31a的水平方向的移动速度，还能够缩小图13A所示峰值位置与突出部件J12位置之间的偏差。但是，在Y轴正方向和Y轴反方向的检测中以同样速度移动分装部件31a，则Y轴正方向和Y轴反方向上电容传感器对移动距离的应答滞后的程度是一样的，因此，在Y轴正方向和Y轴反方向的检测中，实际上能够使峰值位置与突出部件J12位置之间的偏差量一致。因此，求出Y轴正方向和Y轴反方向的各峰值位置的中间位置就能够正确获得突出部件J12的位置。采取此方法，即使在提高搜索时分装部件31a的水平方向的移动速度的状态下，也能精确地确定突出部件J12的位置，因此能够高效地进行自动位置调整处理。

接着，CPU301控制步进式电机32a和33a，将分装部件31a移到获取的大致位置上，再控制步进式电机34a，下移各分装部件31a，直至两个分装部件31a的吸移管部件31b下端接触到位置调整用具J1的突出部件J12上端（步骤S114）。以此，获取吸移管部件31b下端接触到位置调整用具J1的突出部件J12上端时分装部件31a的Z轴方向的基准位置信息（步进式电机34a从一定基准高度下移分装部件31a，直至吸移管部件31b下端接触到位置调整用具J1的突出部件J12上端所需要的脉冲数）。

CPU301将如上获得的X轴方向和Y轴方向的大致位置信息以及Z轴方向的基准位置信息存入硬盘304（步骤S115）。

接下来，CPU301判断是否已获取最后一个设定处（即反应部件50后侧的设定处）的大致位置信息（步骤S116），若尚未获取最后一个设定处的大致位置信息（步骤S116为否），则选择下一个设定处（步骤S117），将处理返回步骤S102。另外，从一个设定处向下一个设定处移动分装部件31a时，分装部件31a不返回原点位置，直接将分装部件31a向下一个设定处移动。反复进行上述处理，获取所有设定处的大致位置信息。

在步骤S116中如果已经获取了最后一个设定处的大致位置信息时（步骤S116为是），CPU301结束简单位置探索处理，将处理返回自动位置调整处理（主程序）。

下面就详细位置探索处理进行详细说明。详细位置探索处理中，与简单位置探索处理一样，在上述设定处依次探索突出部件J12至J42的位置。图14为说明详细位置探索处理中位置调整顺序的样本处理装置1内部平面图。如图14所示，在详细位置探索处理中，从吸头设置部件40最后面的设定处向最前面的设定处依次探索，然后，探索试剂容器设置部件20的设定处，再探索样本容器设置部件10的设定处，而后依次探索反应部件50的后侧的探索处和前侧的探索处，最后探索吸头废弃部件60的探索处。图中圆圈围起来的数字表示探索顺序号。

图15A和图15B为详细位置探索处理步骤的流程图。在详细位置探索处理中，首先，CPU301选择第一个设定处（即吸头设置部件40最后侧的设定处）（步骤S201），从硬盘304读取所选择的设定处的大致位置信息和Z轴方向的基准位置信息，用大致位置信息设定详细探索区SA2（步骤S202）。

详细探索区SA2设定为以大致位置为中心的一定尺寸的矩形区域。如上所述，详细探索区SA2比简单探索区SA1小。

接着，CPU301控制步进式电机32a和33a，将两个分装部件31a置于所选择的探索处的X方向详细探索初始位置（步骤S203）。X方向详细探索初始位置在详细探索区SA2的右前角位置。

然后，CPU301控制步进式电机34a，将各分装部件31a置于比读取的Z轴方向基准位置信息所表示的基准高度高一定距离（如1mm）的位置（步骤S204）。此高度低于简单位置探索处理中分装部件31a的高度（即吸移管部件31b下端与突出部件J12至J42上端的距离短）。

然后，CPU301控制步进式电机32a，以一定速度（以下称“详细探索速度”）向X轴正方向移动分装部件31a，读取此期间内电容传感器35的一定取样周期（以下称“详细探索取样周期”）的检测值，并将其存入CPU301的内部存储器中（步骤S205）。详细探索速度小于简单探索速度。详细探索取样周期比简单探索取样周期长，以便进行与简单探索同样数量的取样。如此，以详细探索速度和详细探索取样周期决定X轴方向的一定距离（以下称“详细探索取样距离”），每隔该一定距离就间歇性地读取电容传感器35的检测值。

上述搜索到达详细探索区SA2的左端时，CPU301控制步进式电机32a，以详细探索速度向X轴反方向移动分装部件31a，读取此期间内电容传感器35的一定取样周期的检测值，并将其存入CPU301的内部存储器中（步骤S206）。如此，每隔X轴方向的详细探索取样距离就间歇性地读取电容传感器35的检测值。

上述搜索到达详细探索区SA2的右端时，CPU301判断探索是否已经完成至详细探索区SA2后端（步骤S207）。当探索尚未完成至详细探索区SA2后端时（步骤S207为否），CPU301控制步进式电机33a，向后移动分装部件31a一定距离（步骤S208）。此向后移动期间的电容传感器35的检测值不读取。

分装部件31a向后移动一定距离后，CPU301返回步骤S205的处理，再次进行步骤S205（X轴正方向的详细搜索）和S206（X轴反方向的详细搜索）的处理。

在步骤S207，当探索已经完成至详细探索区SA2后端时（步骤S207为是），CPU301将处理移到步骤S209。另外，在本实施方式中，X轴正方向和X轴反方向的详细搜索次数各为三次。但是，X轴正方向和X轴反方向的详细搜索次数不限于此。

如上所述，详细探索速度小于简单探索速度，详细探索取样周期长于简单探索取样周期。在此，如上所述，详细探索和简单探索中进行同样数量的取样，但因为详细探索区SA2小于简单探索区SA1，所以详细探索取样距离短于简单探索取样距离。因此，在详细位置探索处理中，比简单位置探索处理更详细地探索突出部件J12至J42的位置。

最后的X轴反方向的详细位置探索完成后，分装部件31a被移到原点位置（步骤S209）。在X轴方向的探索中，向X轴方向的正反两个方向移动，而在Y轴方向则只向后方这一个方向移动。因此，受到间隙（backlash，指丝杠（feed screw）或齿轮等的间隙）的影响等，在Y轴方向，CPU301掌握的吸移管部件31b的位置和实际的吸移管部件31b的位置之间有可能产生微小的差异。在此，在详细位置探索中，X轴方向探索完成后让分装部件31a返回原点位置，这样就能让CPU301掌握的吸移管部件31b的位置和实际的吸移管部件31b的位置再次重合，因此在继续进行的Y轴方向的探索中，能够进行更加正确的位置探索。为提高探索速度，本步骤在简单探索中省略了。

分装部件31a如上移到原点位置后，被置于详细探索区SA2的右前角（以下称“Y方向详细探索初始位置”）（步骤S210）。在分装部件31a置于此Y方向详细探索初始位置的状态下，CPU301控制步进式电机33a，以详细探索速度向Y轴反方向移动分装部件31a，读取此期间内电容传感器35的详细探索取样周期的检测值，并将其存入CPU301的内部存储器（步骤S211）。以此，每隔Y轴方向的详细探索取样距离就间歇性地读取电容传感器35的检测值。

上述搜索到达详细探索区SA2后端时，CPU301控制步进式电机33a，以详细探索速度向Y轴正方向移动分装部件31a，读取此期间电容传感器35的一定取样周期的检测值，并将其存入CPU301的内部存储器（步骤S212）。如此，每隔Y轴方向的详细探索取样距离就间歇性地读取电容传感器35的检测值。

上述搜索到达详细探索区SA2前端时，CPU301判断探索是否已经完成至详细探索区SA2左端（步骤S213）。如果探索尚未完成至详细探索区SA2左端（步骤S213为否），CPU301控制步进式电机32a，向左移动分装部件31a一定距离（步骤S214）。此向左移动期间的电容传感器35的检测值不读取。

分装部件31a向左移动一定距离后，CPU301返回步骤S211的处理，再次进行步骤S211（Y轴反方向的详细搜索）和S212（Y轴正方向的详细搜索）的处理。

在步骤S213，当探索已经完成至详细探索区SA2左端时（步骤S213为是），CPU301将处理推移到步骤S215。另外，在本实施方式中，Y轴反方向和Y轴正方向的详细搜索次数各为三次。但是，Y轴反方向和Y轴正方向的详细搜索次数不限于此。

CPU301在X轴方向的各个位置累加X轴正方向三次详细搜索所得到的电容的检测值，获取X轴正方向的累加电容，在X轴方向的各个位置累加X轴反方向三次详细搜索所得到的电容的检测值，获取X轴反方向的累加电容，在Y轴方向的各个位置累加Y轴反方向三次详细搜索所得到的电容的检测值，获取Y轴反方向的累加电容，在Y轴方向的各个位置累加Y轴正方向三次详细搜索所得到的电容的检测值，获取Y轴正方向的累加电容，将X轴正方向和X轴反方向以及Y轴正方向和Y轴反方向的累加电容存入CPU301的内部存储器（步骤S215）。此处理与简单位置探索处理中的步骤S111的处理相同。

然后，CPU301在步骤S216确定X轴正方向累加电容峰值上的X轴方向的位置和X轴反方向累加电容峰值上的X轴方向的位置，求出两个峰值的X轴方向的中间位置（X轴方向坐标的平均值），获取此中间位置信息作为X轴方向的基准位置信息（步进式电机32a将分装部件31a从原点位置移到突出部件J12的脉冲数）。同样，CPU301在步骤S216确定Y轴正方向累加电容峰值上的Y轴方向位置和Y轴反方向累加电容峰值上的Y轴方向位置，求出两个峰值的Y轴方向的中间位置（Y轴方向坐标的平均值），获取此中间位置信息作为Y轴方向的基准位置信息（步进式电机33a将分装部件31a从原点位置移到突出部件J12的脉冲数）。

接下来，CPU301判断是否已获取最后一个设定处（即吸头废弃部件60的设定处）的基准位置信息（步骤S217），若尚未获取最后一个设定处的基准位置信息（步骤S217为否），则选择下一个设定处（步骤S218），将处理返回步骤S202。另外，从一个设定处向下一个设定处移动分装部件31a时，分装部件31a不返回原点位置，直接将分装部件31a向下一个设定处移动。反复进行上述处理，获取所有设定处的基准位置信息。

在步骤S217，如果已获取最后一个设定处的基准位置信息（步骤S217为是），则CPU301结束详细位置探索处理，将处理返回自动位置调整处理（主程序）。

如上详述，在本实施方式涉及的样本处理装置1中，不会让分装部件31a从前后方向或左右方向撞到位置调整用具J1至J4，而是让分装部件31a在位置调整用具J1至J4上方水平移动，用在此期间电容传感器35检出的电容变化设定分装部件31a的基准位置，因此，能够防止分装部件31a的变形或破损等。

（其他实施方式）

在上述实施方式的描述中，在样本容器设置部件10、试剂容器设置部件20、吸头设置部件40、反应部件50和吸头废弃部件60安装位置调整用具J1至J4，根据分装部件31a在此位置调整用具J1至J4上方水平移动期间电容传感器35检测出的电容的变化，探索设在位置调整用具J1至J4的突出部件J12至J42的位置，并将其作为基准位置，但不限于此。比如，也可以直接在样本处理装置1的机壳中靠近样本容器设置部件10、试剂容器设置部件20、吸头设置部件40、反应部件50和吸头废弃部件60的位置分别设置由导体制成的、不能拆装的突起，让分装部件31a在此突起上方移动，根据此期间检出的电容的变化，探索所述突起的位置，并以此为基准位置。

在上述实施方式的描述中，在生产样本处理装置1后的调试工序中由样本处理装置1实施自动位置调整处理，但不限于此。也可以在样本处理装置1提供给用户后，定期地，例如在每天启动样本处理装置1后或每周一次，让样本处理装置1进行自动位置调整处理。以此，用户使用样本处理装置1时，即使由于分装部件31a的位置偏移等造成定位异常，也能够轻易回到正常的定位精度。

在上述实施方式的描述中，在位置调整用具J1至J4设置突出部件J12至J42，分装部件31a在位置调整用具J1至J4上方水平移动期间检测出的电容会因突出部件J12至J42的存在而发生变化，根据此变化探索突出部件J12至J42的位置，但不限于此。也可以使位置调整用具上有凹部，或者是在位置调整用具的一部分设置由绝缘体制成的部位，以此取代突出部件J12至J42，使分装部件31a在位置调整用具J1至J4上方水平移动期间检测出的电容发生变化，根据此变化探索所述凹部或所述绝缘体制成的部位的位置。

在上述实施方式的描述中，在自动位置调整处理中，通过简单位置探索处理和详细位置探索处理两个阶段探索突出部件J12至J42的位置，但不限于此。比如也可以进行一次突出部件J12至J42的位置探索，将这一次探索所获得的位置定为基准位置。

在上述实施方式的描述中，分别在简单位置探索处理和详细位置探索处理中对X轴方向和Y轴方向各搜索数次（三次），在每个X轴方向和Y轴方向位置累加数次搜索获得的电容检测值，求出累加电容，根据此累加电容探索突出部件J12至J42的位置，但不限于此。也可以从对X轴方向和Y轴方向各搜索数次所获得的电容检测值中选择一次搜索的电容检测值，根据选择的该电容检测值探索突出部件J12至J42的位置。此外，也可以不单独进行X轴方向的搜索和Y轴方向的搜索，而是交互进行X轴方向的搜索和Y轴方向的搜索。比如，也可以使分装部件31a在水平面内通过Z字形（zig zag）移动来进行搜索，或通过旋涡状移动来进行搜索等。

在上述实施方式的描述中，在自动位置调整处理中不将移液管吸头C装在能拆装移液管吸头C的吸移管部件31b上，将该吸移管部件31b作为电容传感器35的探针加以利用，但不限于此。也可以用装有移液管吸头C的吸移管部件31b作为探针，由此进行自动位置调整处理。也可以不采用能拆装移液管吸头C的结构，而是将电容传感器接在具有不可拆卸的吸管的吸移部件上，用所述吸管作为探针，由此进行自动位置调整处理。

在上述实施方式的描述中，在自动位置调整处理中，用电容传感器35探索设于位置调整用具J1至J4中设置的突出部件J12至J42的位置，但也可以用压力传感器、超声波传感器和光学传感器等其他传感器非接触性地探索设于位置调整用具J1至J4的突出部件J12至J42的位置。此外，这些传感器可以如上述实施方式所述地兼用作检测分装部件31a或移液管吸头C接触液面的传感器，因而有助于装置的小型化。

在上述实施方式的描述中，在X轴方向的简单位置探索中，在搜索X轴正方向后搜索X轴反方向，在Y轴方向的简单位置探索中，搜索Y轴正方向后搜索Y轴反方向，在X轴方向的详细位置探索中，搜索X轴正方向后搜索X轴反方向，在Y轴方向的详细位置探索中，搜索Y轴反方向后搜索Y轴正方向，但不限于此。也可以在简单位置探索和详细位置探索中在搜索X轴正方向后搜索X轴反方向，搜索Y轴正方向后搜索Y轴反方向。此外，也可以在简单位置探索中先搜索正反方向其中任意一个方向，同样，在详细位置探索中，也可以先搜索正反方向中的任意一个方向。关于该搜索方向的顺序，还可以在某一设定处使简单位置探索和详细位置探索中的顺序颠倒过来，在另一设定处则不在简单位置探索和详细位置探索颠倒。

在上述实施方式的描述中，样本处理装置1为基因扩增检测装置，但不限于此。也可以在血细胞分析装置（血细胞计数装置）、尿中有形成分分析装置、血液凝固测定装置、免疫分析装置、生化分析装置和涂片标本制备装置等具有吸移部件的、基因扩增检测装置之外的其他样本处理装置中进行吸移部件的自动位置调整。

Claims (14)

1.一种用于具有从容器吸移样本或试剂的吸移部件以及针对所述吸移部件设置的电容传感器的样本处理装置中的吸移部件的位置调整方法，包括以下步骤：

在配置于一定位置的、具有导电性的位置调整部件上方移动所述吸移部件；

获取移动所述吸移部件期间所述电容传感器检测到的电容；

根据获取的电容的变化，设定表示所述吸移部件的基准位置的基准位置信息。

2. 一种样本处理装置，包括：

从收纳液体的容器吸移液体的吸移部件；

针对所述吸移部件设置的电容传感器；

移动所述吸移部件的移动构件；以及

控制部件；

所述控制部件根据所述吸移部件在配置于一定位置的、具有导电性的位置调整部件上方移动期间所述电容传感器检测到的电容变化，设定表示所述吸移部件的基准位置的基准位置信息。

3. 根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于：

还包括能够放置收纳液体的容器的容器设置部件；

所述容器设置部件能够装上或拆下所述位置调整部件；

所述控制部件根据所述吸移部件在安装在所述容器设置部件的所述位置调整部件上方移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化，设定所述基准位置信息。

4. 根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于：

将所述电容传感器置于所述位置调整部件的相当于所述基准位置的部位上方时所述电容传感器检测到的电容与将所述电容传感器置于所述位置调整部件的其他部位上方时所述电容传感器检测到的电容不同。

5. 根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于：

所述位置调整部件具有从平坦的上面的一部分突出出来的突出部件，所述突出部件相当于所述基准位置。

6. 根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于：

所述电容传感器能够检测出液面接触所述吸移部件时的电容的变化。

7. 根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于：

所述控制部件控制所述移动构件使所述吸移部件在所述位置调整部件上方在第一水平方向移动，根据所述吸移部件在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化，确定所述基准位置的第一水平方向分量值；

再控制所述移动构件使所述吸移部件在所述位置调整部件上方在与所述第一水平方向交叉的第二水平方向移动，根据所述吸移部件在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化，确定所述基准位置的第二水平方向分量值；

将确定的所述第一水平方向分量值和所述第二水平方向分量值设定为所述基准位置信息。

8. 根据权利要求7所述的样本处理装置，其特征在于：

所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在所述位置调整部件上方一边改变所述第二水平方向的位置，一边数次在所述第一水平方向移动，根据所述吸移部件数次在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容变化，确定所述基准位置的第一水平方向分量值；

所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在所述位置调整部件上方一边改变所述第一水平方向的位置，一边数次在所述第二水平方向移动，根据所述吸移部件数次在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容变化，确定所述基准位置的第二水平方向分量值。

9. 根据权利要求8所述的样本处理装置，其特征在于：

所述控制部件在所述第一水平方向的数个位置分别累加所述吸移部件数次在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测出的电容，根据各累加值，确定所述基准位置的第一水平方向分量值，

所述控制部件在所述第二水平方向的数个位置分别累加所述吸移部件数次在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测出的电容，根据各累加值，确定所述基准位置的第二水平方向分量值。

10. 根据权利要求2至9其中任意一项所述的样本处理装置，其特征在于：

所述控制部件实施简单探索处理和详细探索处理；

所述简单探索处理是指所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在所述位置调整部件上方水平移动，根据所述吸移部件水平移动期间所述电容传感器每隔第一距离检测出的电容，确定所述基准位置的大致位置；

所述详细探索处理是指所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在所述位置调整部件上方的、包括所述简单探索处理确定的所述基准位置的大致位置在内的水平区域内水平移动，根据所述吸移部件水平移动期间所述电容传感器每隔短于所述第一距离的第二距离检测出的电容，确定所述基准位置的详细位置。

11. 根据权利要求10所述的样本处理装置，其特征在于：

在所述简单探索处理中，所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在第一探索区水平移动；

在所述详细探索处理中，所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在小于所述第一探索区的第二探索区水平移动。

12. 根据权利要求10所述的样本处理装置，其特征在于：

在所述简单探索处理中，所述控制部件控制所述移动构件，使所述吸移部件在距所述位置调整部件第一距离的上方移动；

在所述详细探索处理中，所述控制部件控制所述移动构件，让所述吸移部件在距所述位置调整部件比所述第一距离短的第二距离的上方移动。

13. 根据权利要求12所述的样本处理装置，其特征在于：

所述控制部件在所述简单探索处理之后，实施高度设定处理，即垂直方向移动所述吸移部件，使所述吸移部件接触所述位置调整部件，设定所述吸移部件的基准高度；然后根据所述高度设定处理设定的基准高度，决定所述详细探索处理中吸移部件的高度，实施所述详细探索处理。

14. 一种样本处理装置，包括：

从收纳液体的容器吸移液体的吸移部件；

针对所述吸移部件设置的、能够非接触地检测出所述吸移部件和位置调整部件之间的距离变化的传感器；

移动所述吸移部件的移动构件；以及

控制部件；

所述控制部件根据所述吸移部件在配置于一定位置的位置调整部件上方移动期间的所述传感器的检测结果，设定表示所述吸移部件的基准位置的基准位置信息。